JPH0614474Y2 - 露光装置における被露光部材保持装置 - Google Patents

露光装置における被露光部材保持装置

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JPH0614474Y2
JPH0614474Y2 JP1987132634U JP13263487U JPH0614474Y2 JP H0614474 Y2 JPH0614474 Y2 JP H0614474Y2 JP 1987132634 U JP1987132634 U JP 1987132634U JP 13263487 U JP13263487 U JP 13263487U JP H0614474 Y2 JPH0614474 Y2 JP H0614474Y2
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【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は、ウェハ,シャドウマスク等の被露光部材の
露光面に所定パターンを露光する露光装置の被露光部材
保持装置、特に被露光部材の吸着範囲を任意に設定可能
な汎用性がある被露光部材保持装置に関する。
〔従来の技術〕
半導体集積回路、シャドウマスクの製造工程において
は、フォトレジストを塗布したウェハ等の被露光部材に
所定のパターンを露光して焼付ける露光装置が用いられ
ている。この露光装置は、半導体集積回路、シャドウマ
スクの高密度化に伴い、0.1ミクロンオーダの高精度位
置決めが要求されるようになってきている。
このような高精度の位置決めを行うには、単に載置台を
送りねじで移動させる従来から公知の移動テーブル装置
では困難である。このため、送りねじによって移動され
るテーブルを粗動テーブルとして用い、この粗動テーブ
ル上に微小移動可能に支持された微動台を設け、この微
動台の絶対位置をレーザ測長機によって測定し、粗動テ
ーブルの動きの誤差を微動台を微小変位させて補正し、
精密な位置決めを行うようにすることが提案されてい
る。
そして、露光装置としては、縮小投影式の露光装置が一
般に採用されている。この縮小投影式の露光装置は、ウ
ェハ等の被露光部材に小さなパターンを1つづつ順に焼
付けて行く所謂ステップアンドリピート式となっている
ので、ウェハ等の被露光部材の受光面の平行度を高精度
に維持する必要があり、従ってウェハ等の被露光部材を
載置する載置テーブルの上面の平行度も高精度に維持す
る必要がある。
しかも、ウェハ,シャドウマスク等の被露光部材は表面
を損傷することなく吸着保持する必要があることから、
これらの保持装置として真空吸着チャックが採用されて
いる。
ところで、一般に縮小投影露光装置は、ウェハ,シャド
ウマスク等の生産ラインに組み込まれており、通常は1
種類のサイズのウェハ,シャドウマスク等を連続的に生
産するため、従来の縮小投影露光装置の被露光部材保持
装置としては、その真空吸着領域を可変する必要性がな
いことから真空吸着領域が固定されているのが実情であ
る。
〔考案が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記従来の被露光部材保持装置にあって
は、1種類のサイズの被露光部材を吸着保持する専用の
被露光部材保持装置としては、何ら問題がないが、縮小
投影露光装置を試作実験用の多用途機として使用する場
合には、種々のサイズ(例えばウェハでは2〜8イン
チ、シャドウマスクでは17×17インチ、20×18
インチ)の被露光部材に露光を行う関係で、これらの異
なるサイズの被露光部材に応じた吸着領域を有する複数
の真空吸着チャックを用意し、これらを被露光部材のサ
イズに応じて適宜選択して縮小投影露光装置の載置テー
ブルに載置する必要があり、真空吸着チャックの脱着に
手間が掛かると共に、真空吸着チャックの保管スペース
も必要となるうえ、その管理が面倒である等の問題点が
あった。
そこで、この考案は、上記従来例の問題点に着目してな
されたものであり、真空吸着領域を任意に変化させるこ
とが可能な露光装置における被露光部材保持装置を提供
することを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、この考案は、被露光部材の
露光面に所定パターンを露光する露光装置の載置テーブ
ルに、気体吸引手段に接続されるウェハ等の被露光部材
を吸着保持するチャックを配設した被露光部材保持装置
において、前記チャックは、内部に形成された前記気体
吸引手段に連通する吸引通路と、該吸引通路に個別に連
通されて上面に互いに独立して開口し、且つ前記載置テ
ーブルの中心から外方に向けて連接形成された複数の吸
着溝を有する複数の突条を備え、該突条の各吸着溝と前
記気体吸引手段との間に前記被露光部材の吸着面の面積
に応じて外部操作可能な複数の開閉弁を設けたことを特
徴としている。
〔作用〕
この考案においては、ウェハ,シャドウマスク等の被露
光部材を吸着保持するチャックに設けた突条の複数の吸
着溝と、これらと突条内を通じて連通する気体吸引手段
との間に介挿した開閉弁を閉状態とすることにより、こ
の閉状態とした開閉弁より気体吸引手段側とは反対側の
吸着溝を空気吸引手段から遮断する。したがって、閉状
態とする開閉弁を適宜選択することにより、被露光部材
の吸着領域を任意に変更することができる。
〔実施例〕
以下、この考案の実施例を図面に基づいて説明する。
まず、この考案を適用し得る縮小投影露光装置の概要を
第14図について説明する。
図中、101は縮小投影露光装置であって、ウェハ,シ
ャドウマスク等の被露光部材102を載置するステージ
103と、その上面に対向して固定配置された縮小レン
ズ104と、その上方位置に配置されたレチクル105
を載置するレチクル載置台106と、その上方位置に配
置された光源部107とを有しており、光源部107か
らの露光光線がレチクル105及び縮小レンズ104を
介して移動テーブル装置としてのXYZステージ103
上の被露光部材102に照射され、レチクル105に形
成された回路パターンを被露光部材102上に縮小投影
露光する。
XYZステージ103は、XYZ軸の3軸方向に移動可
能に構成され、Z軸方向に移動させることにより焦点調
整を行う。
縮小レンズ104を保持する筒体108の被露光部材1
02に対向する下端部には、露光光線を透過する透孔1
09と,その周囲に等角間隔で4つの空気吹き出しノズ
ル110が形成されている。各ノズル110は、共通の
空気供給源111に絞り112を介して接続されている
と共に、共通の差圧変換器113の一方の入力側に接続
されている。差圧変換変換器113の他方の入力側は、
絞り114を介して前記空気供給源111に接続されて
いると共に、大気に連通されている。これらノズル11
0,空気供給源111,絞り112,114及び差圧変
換器113で空気マイクロメータ115が構成されてい
る。
そして、差圧変換器113の検出信号が焦点調整制御装
置116に供給され、この制御装置116で目標値設定
器116aで予め設定した所定の目標値と比較してその
差値である偏差信号が増幅器等で構成される駆動回路1
16bに供給され、これにより、モータ等のアクチュエ
ータ117を作動させる駆動出力を形成し、これをXY
Zステージ103のZ軸駆動機構に供給してこれを駆動
し、ノズル110と被露光部材102との間の間隔を適
正値に調節する。
前記XYZステージ103の具体例は、第1図〜第8図
に示すように構成されている。
すなわち、1は方形の基台であって、送りねじ等の送り
機構によってXY方向に高速移動される粗動テーブル2
に固着されている。
基台1の中心部には、第4図,第5図及び第7図に示す
ように、上端面を閉塞した円筒体3が固着され、この円
筒体3の上面が平坦な制振面3aとされている。
また、基台1の円筒体3を挟む左右両側に傾斜案内部と
しての傾斜案内レール4L,4Rが平行に固着されてい
る。これら傾斜案内レール4L,4Rの夫々は、前端部
から後端部に向かうに従って順次高さが高くなるように
後ろ上がりに傾斜されている。
各傾斜案内レール4L,4Rには、方形枠状の斜面スラ
イダ5が前後方向に摺動自在に係合されている。斜面ス
ライダ5は、第5図及び第6図に示すように、4隅とそ
れらの前後方向の中間部との下面に夫々傾斜案内レール
4L,4Rと平行な傾斜取付面6が形成され、これら傾
斜取付面6に傾斜案内レール4L,4Rと係合するリニ
アボールベアリング7a〜7fが上面側に形成されたボ
ルト穴8内にボルト9を挿入して締結することにより、
固着されている。ここで、リニアボールベアリング7a
〜7fは、詳細説明はこれを省略するが、第9図に拡大
図示するように、上面板部10とその両側部から下方に
延長する袖部11と、これら袖部11の傾斜案内レール
4L,4Rの左右側壁に軸方向に延長して形成された転
動溝12と対向する位置に形成された転動溝13と、こ
れら転動溝13に連通して袖部11内に形成された循環
路14とを備え、転動溝12及び13で形成される転動
路及び循環路14内に多数のボール、ローラ等の転動体
15が保持器16で保持されて転動自在に挿入されてい
る。
一方、斜面スライダ5の4隅の上面には、上面が同一水
平面内となるように載置板17a〜17dがボルト締め
等の固着手段によって固着され、これら載置板17a〜
17dの上面に前後方向に延長する長円形の平坦面18
が形成され、これら平坦面18に保持器19によって整
列保持された転動体としての多数のボール20が載置さ
れている。保持器19は、第10図に拡大図示するよう
に、ボール20を挿通する多数の透孔19aを穿設した
平板部19bと、その下面外周面に形成された周鍔19
cとで断面コ字状に形成され、周鍔19cの下面に4つ
のボール19dが等間隔で配置され、これによって保持
器19と平坦面18との間の摩擦抵抗をより小さくする
と共に、周鍔19cと平坦面18との間の齧りを防止し
ている。
そして、斜面スライダ5が直線駆動機構20によって案
内レール4L,4Rに沿って斜動される。この直線駆動
機構20は、第7図に示すように、回転軸21aを案内
レール4L,4Rと平行になるように傾斜させて基台1
に固着されたステッピングモータ21と、その回転軸2
1aにカップリング22を介して連結されたボールねじ
23と、このボールねじ23に螺合し、且つ斜面スライ
ダ5の後端側の中央下面に取付けられたボールナット2
4とによって構成されている。
一方、斜面スライダ5のボール20の上面側に、被露光
部材102を吸着保持する載置台26が載置されてい
る。この載置台26は、第2図〜第4図に示すように、
上面に被露光部材102を吸着保持する被露光部材保持
装置27が形成されていると共に、下面の斜面スライダ
5のボール20に対向する4個所に突出部28a〜28
dが形成され、これら突出部28a〜28dに、第6図
及び第8図に示す下面が平坦面に形成された間座29a
〜29dがボルト等の固着手段で固着され、これら座間
29a〜29dが斜面スライダ5にボール20を介して
載置されている。
被露光部材保持装置27は、載置台26の上面に載置台
中心から外方に向け放射上に形成されたチャック載置座
27aと、これらチャック載置座27aに対応する位置
に透孔27bが穿設され、載置台26上にビス止めされ
たチャック位置決め板27cと、このチャック位置決め
板27cの透孔27b内に吸着保持された突条としての
長尺のチャック本体27d〜27d及び同様に突条
としての短尺のチャック本体27d〜27dとを備
えている。
各チャック本体27d〜27dは、第11図及び第
12図に示すように、下面に長手方向に沿う吸着溝27
eが形成されていると共に、内部にこの吸着溝27eと
連通する吸引通路27fが形成され、この吸引通路27
fに上面に開口する複数の吸着口27gが連通され、各
吸着口27gには、上面に形成された互いに独立した吸
着溝27hが連通され、さらに吸引通路27fの各吸着
口27g間に、開閉弁としてのスプール27iを気密に
嵌挿する貫通孔27jを有しこの貫通孔27jが吸引通
路27fに連通する関係で長手方向と直交する方向に貫
通して穿設されている。
スプール27iは、第13図(a)及び(b)に示すように、
中実の円柱体の中央部に環状溝で構成される連通部27
kが形成されていると共に、連通部27kの左側にスプ
ール27iの移動を抑制する弾性部材としてのOリング
27lを装着する環状溝27mが形成され、さらに両端
側に夫々ストッパを兼ねるE型止め輪27n27n
が装着された構成を有し、表面が黒色のレイデント処理
されて露光時に光の反射を防止すると共に、貫通孔27
jとの気密性と摺動性を高めるようにされている。
そして、第13図(a)に示すように止め輪27nがチ
ャック本体27の側面に当接している状態では、連通部
27kが吸引通路27fとは連通せず、連通部27kの
右側に隣接する外周面によって吸引通路27f間が遮断
され、逆に第13図(b)に示すようにスプール27iを
右動させて止め輪27nがチャック本体27の側面に
当接している状態では、連通部27kが吸引通路27f
に連通して吸引通路27fと吸着口27f,吸着溝27
hとの間が連通される。
一方、載置台26のチャック載置座27aには、チャッ
ク本体27d〜27dの吸着溝27eに連通すると
共に、裏面側に貫通する吸引孔26aが穿設され、これ
ら吸引孔26aが第1図に示すように載置台26の裏面
側に配設された配管26bに通じ、さらに配管26bが
外部の固定部に設けられた3方切換弁26cを介してコ
ンプレッサ等の気体吸引手段26dに接続されている。
また、第5図及び第8図に示すように、基台1の4隅に
支持台31a〜31dが固着され、支持台31a及び3
1b間に板ばね32a及び32bを介して凸状のX方向
微動体33Lが、支持台31c及び31d間に板ばね3
2c及び32dを介して凸状のX方向可動体33Rが夫
々X方向に微動自在に橋架され、これらX方向微動体3
3L及び33R間に板ばね34a〜34dを介してXY
方向微動体35がY方向に微動自在に橋架されている。
ここで、XY方向微動体35は、第7図及び第8図に示
すように、中心部に前記円筒体3を挿通する透孔36が
穿設されており、この透孔36が第7図に示すように上
面円板37によって閉塞され、この上面円板37の下面
に、下面に平坦な制振面38aを形成した円筒体38が
その制振面38を円筒体3の制振面3aと近接対向する
ように固着され、両制振面3a及び38a間にシリコン
オイル等の高粘度を有する制振材39が介在されて制振
部40が形成されている。
そして、X方向微動体33L及び33Rの外側に、これ
らと近接対向して電磁石41L及び41Rが、XY方向
微動体35の前後端部の外側に、これらと近接対向して
電磁石42F及び42Rが夫々基板1上に固定配置さ
れ、これら電磁石41L及び41R、42F及び42R
に対する通電量を制御することにより、X方向微動体3
3L,33R及びXY方向微動体35をX方向及びY方
向にサブミクロン単位で微動させる。
これら電磁石41L,41R及び42F,42Rによる
X方向微動体33L,33R及びXY方向微動体35の
微動調整は、載置台26の上面の第2図に示すY軸の正
方向側端部及びX軸の正方向側端部に夫々取付けた測長
ミラー44及び45に、これらと対向する位置に配設さ
れたレーザ測長機(図示せず)からのレーザ光を投射し
て、その反射光をレーザ測長機に入射させることによ
り、レーザ光の干渉によって載置台26の絶対距離を測
長し、その測長結果に基づき電磁石41L,41R及び
42F,42Rの制御回路で、励磁電流量を制御するこ
とにより、高精度の位置決めを行う。
そして、XY方向微動体35と載置台26の間座29a
〜29dとの間に弾性結合体としての板ばね47a〜4
7dが介挿されている。これら板ばね47a〜47dの
夫々は、第8図に示すように、略E字状に形成され、そ
の両側部48が間座29a〜29dに、中央部49がX
Y方向微動体35に夫々ビスによって固定されている。
したがって、板ばね47a〜47dによってXY方向微
動体35のXY方向の変位が載置台26に伝達されると
共に、載置台26を下方に付勢している。
さらに、載置台26の下面には、第1図及び第2図に示
すように、下方に垂下された支持片51が固着され、こ
の支持片51の先端部に永久磁石52が固着されてい
る。一方、基台1上には、支持片51と対向する支持片
53が植立され、この支持片53の上端部に永久磁石5
2と対向するホール素子等の近接スイッチ54が取付け
られ、この近接スイッチ54及び永久磁石52によって
載置台26のZ軸方向の原点位置が検出され、この原点
検出信号に基づき直線駆動機構20のステッピングモー
タ21に対する制御回路(図示せず)でステッピングモ
ータ21の回転を制御することにより、Z軸方向の位置
決めを高精度で行うことができる。
次に、上記実施例の動作について説明する。まず、載置
台26上の被露光部材保持装置27の吸着領域を載置す
るウェハ、CRTシャドウマスク、液晶マスク等の被露
光部材102の大きさに合わせて設定する。この吸着領
域の設定は、例えば第1図で鎖線図示の8インチ×8イ
ンチのマスク102を吸着保持する場合には、3方切換
弁26cを大気側に切換えた状態で、長尺のチャック本
体27d〜27dについては、被露光部材保持装置
27の中心側から2つ目までのスプール27iを、その
止め輪27nがチャック本体27d〜27dの側
面に当接する開位置とし、残りの外方側のスプール27
iを、その止め輪27nがチャック本体27d〜2
7dの側面に当接する閉位置とする。このようにする
ことにより、中心部から3番目迄の吸着口27g及び吸
着溝27hまでは吸引通路27f、吸引孔26a及び配
管26bを介して3方切換弁26cに接続されることに
なり、第4番目以降の吸着口27g及び吸着溝27hに
ついては、少なくとも第3番目のスプール27iによっ
て吸引通路27fが遮断されているので、3方切換弁2
6cとは切り離される。同様に、短尺のチャック本体2
7d〜27dについては、中心側の第1番目のスプ
ール27iのみを、その止め輪27nがチャック本体
27d〜27dの側面に当接する開位置とし、残り
のスプール27iを、その止め輪27nがチャック本
体27d〜27dの側面に当接する閉位置とするこ
とによって、中心側の第1番目の吸着口27g及び吸着
溝27hのみを3方切換弁26cに接続する。
この状態で、8インチ×8インチのマスク102をチャ
ック本体27d〜27d上に例えば図示しないロー
ディング装置によって位置決めしてローディングし、ロ
ーディングが完了した時点で3方切換弁26cを気体吸
引手段26d側に切換える。これにより、各チャック本
体27d〜27dがその下面の吸着溝27eから空
気が吸引されて、載置台26のチャック載置座27aに
真空吸着され、これと同時に各チャック本体27d
27dのマスク102によって完全に覆われる吸着口
27g及び吸着溝27hから空気が吸引されることにな
り、マスク102が真空吸着されてチャック本体27d
〜27d上に保持される。
このようにして被露光部材102が被露光部材保持装置
27に保持されると、被露光部材102に対する焦点調
整が実行される。この焦点調整は、空気供給源111か
ら圧力空気を絞り112を介してノズル110に供給し
て空気マイクロメータ115を作動状態とし、この状態
で焦点調整制御装置116を作動状態とする。
このように焦点調整制御装置116が作動状態となる
と、目標値設定機116aで予め設定された焦点調整目
標値と、差圧変換器113から出力される差圧検出信号
との差値でなる偏差信号が駆動回路116bに供給さ
れ、この駆動回路116bから出力されるパルス信号が
直線駆動機構20のステッピングモータ21に供給され
る。このため、第4図〜第7図に示すように、斜面スラ
イダ5が前方側に摺動している状態では、差圧検出信号
が目標値に対して小さく、ノズル110と被露光部材1
02との間隔が基準値より広いので、例えばステッピン
グモータ21を正転させる。このようにステッピングモ
ータ21が正転すると、その回転力がボールねじ23及
びボールナット24を介して斜面スライダ5に伝達され
るので、この斜面スライダ5がリニアガイドを構成する
案内レール4L,4Rに沿って後退する。この斜面スラ
イダ5の後退によって、斜面スライダ5の載置板17a
〜17dが上昇し、これらにボール20を介して載置さ
れている載置台26が上方に板ばね47a〜47dに抗
して移動する。このとき、斜面スライダ5の後退は、案
内レール4L,4Rに対してはこれに係合するリニアボ
ールベアンリング7a〜7fによって円滑な移動が補償
され、載置台26に対して保持器19によって保持され
た多数のボール20によって円滑な移動が補償されるの
で、斜面スライダ5の載置板17a〜17dの平坦面1
8の平行度が狂うことがなく、このため、載置台26の
平行度も狂うことなく、載置台26が上昇される。しか
も、斜面スライダ5の摩擦抵抗が少ないと供に、斜面ス
ライダ5は、載置台26の荷重のみを負担し、X方向微
動体33L,33R及びXY方向微動体35の荷重を負
担することはないので、これを駆動するステッピングモ
ータ21の回転トルクは小さなもので済み、さらに斜面
スライダ5自体が方形枠状に形成されて慣性質量が極め
て少ないので、ステッピングモータ21によって載置台
26をZ軸方向に高速移動させる際の慣性力を小さくす
ることができ、高精度の位置決めを行うことができる。
このようにして、載置台26が上昇することにより、被
露光部材102とノズル110との間の間隔が狭まり、
これが基準値と一致した時点で載置台26の上昇が停止
されて焦点調整を終了する。
逆に差圧検出信号の値が目標値より大きいときには、制
御装置116からステッピングモータ21を逆転駆動す
るパルス信号が出力され、ステッピングモータ21が逆
転して、斜面スライダ5を前進させて、載置台26を降
下させ、被露光部材102とノズル110との間隔を広
げ、これが基準位置に達したときに、その下降が停止さ
れて焦点調整を終了する。
この焦点調整を終了した状態で、被露光部材102のX
Y方向の位置調整を行うには、被露光部材102のXY
方向の移動距離が大きい場合には、粗動テーブル2を駆
動機構によって高速移動させて目標位置近傍に移動さ
せ、次いで電磁石41L,41R及び42F,42Rの
励磁コイルに通電してXY方向微動体35をXY方向に
微動させ、このXY方向微動体35の変位を板ばね47
a〜47dを介して載置台26に伝達することにより、
載置台26がXY方向に微動させる。この載置台26の
微動の絶対値をレーザ測長機(図示せず)で正確に測長
し、その測長結果に基づき電磁石41L,41R及び4
2F,42Rの励磁コイルへの通電量を制御することに
より、サブミクロンオーダの位置決めを行うことができ
る。
このように、XY方向の微動を行う駆動機構として、電
磁石を採用することにより、モータを使用する場合のよ
うに振動を発生することがなく、載置台26のXY方向
の移動の際にZ軸方向への位置ずれを防止することがで
きる。
また、粗動テーブル2を駆動機構によって高速移動させ
たときに、載置台26、X方向微動体33L,33R及
びXY方向微動体35等の慣性により、これらがXY平
面内で振動することになるが、XY方向微動体35と基
台1に固定された円筒体3との間に高粘度の制振材39
が介在されているので、大きな制振効果を発揮すること
ができる。この場合、制振部40が複合移動テーブルの
中心部に形成され、XY方向微動体35と円筒体3との
対向面積を広くとることができるので、移動テーブル全
体の構成を大型化することなく、大きな制振効果を発揮
させることができる。
そして、被露光部材102に対する露光処理が終了して
新たな被露光部材102に交換する場合には、3方切換
弁26cを大気側に切換えることにより、被露光部材保
持装置27による被露光部材102の真空吸着状態を解
除してから露光済みの被露光部材102を例えば図示し
ないアンローディング装置でチャック本体27d〜2
7d上から取り出し、新たな被露光部材102をチャ
ック本体27d〜27d上に載置する。このとき、
被露光部材102の大きさに変更があるときには、再度
被露光部材102の大きさに応じてスプール27iを操
作してこれに完全に覆われる吸着口27g及び吸着溝2
7hのみを3方切換弁26cに接続することにより吸着
領域を変更してから被露光部材102をチャック本体2
7d〜27d上に載置する。
なお、上記実施例においては、チャック本体27d
27dと位置決め用板27cとが別体である場合につ
いて説明したが、これに限定されるものではなく、両者
を一体に構成することもでき、要は上面に複数の吸着溝
を有する突条とその吸着溝と気体吸引手段との間の連通
及び遮断を外部操作可能な開閉弁とを備えていればよい
ものである。
また、突条としてのチャック本体27d〜27d
数は、8個に限らず任意数に選定することができると共
に、その断面形状も任意形状に選定することができ、さ
らにチャック本体は放射状に配置する場合に限らず露光
中心を中心として同心的に配置するようにしてもよい。
さらに、吸引通路を開閉する開閉弁としては、上例のス
プール弁に限らず、ロータリ弁を適用することもでき、
また開閉弁の切換えは手動操作に代えて電磁開閉弁等の
遠隔操作可能な開閉弁を適用し得ることは言うまでもな
い。
またさらに、開閉弁は吸引通路に設ける場合に限らず吸
引通路と吸着口との間に設けるようにしてもよい。
また、載置台26を載置するXYZステージとしては、
上記構成に限定されるものではなく、他の任意の構成す
るXYZステージを適用し得る。
さらに、上記実施例においては、基台1を高速移動可能
な粗動テーブル2に載置した場合について説明したが、
これに限らず基台1を固定部に固定配置する場合にもこ
の考案を適用し得るものである。
またさらに、上記実施例においては、この考案を縮小投
影露光装置に適用した場合について説明したが、これに
限定されるものではなく、他の露光装置にもこの考案を
適用し得ることは勿論である。
〔考案の効果〕
以上説明したように、この考案によれば、ウェハ、シャ
ドウマスク等の被露光部材を吸着保持するチャックが、
上面に開口する複数の吸着口を有し、これら吸着口が突
条内部に形成した吸引通路を介して気体吸引手段に接続
され、吸着口と気体吸引手段との間に外部操作可能な開
閉弁を設けた構成を有するので、開閉弁を外部操作する
ことにより、被露光部材の吸着領域を任意に設定するこ
とが可能となり、被露光部材のサイズが異なる場合であ
っても、これをチャックを交換することなく、容易に吸
着保持することができ、段取り替えの手間を格段に軽減
することができる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例を示す平面図、第2図及び
第3図は第1図の正面図及び右側面図、第4図は第1図
のIV−IV線断面図、第5図、第6図及び第7図は夫々第
4図のV−V線断面図、VI−VI線断面図及びVII−VII線
断面図、第8図は第1図のVIII−VIII線断面図、第9図
はリニアボールベアンリングと案内レールとの関係を示
す拡大断面図、第10図はボール保持器の拡大断面図、
第11図は第1図のXI−XI線における被露光部材保
持装置の拡大断面図、第12図は第1図のXII−XII線
における被露光部材保持装置の拡大断面図、第13図
(a)及び(b)は夫々第1図のXIII−XIII線における開閉
弁の開閉状態を示す拡大断面図、第14図はこの考案を
適用し得る縮小投影露光装置の一例を示す概略構成図で
ある。 図中、1は基台、2は粗動テーブル、4L,4Rは案内
レール、5は斜面スライダ、7a〜7fはリニアボール
ベアリング、21は直線駆動機構、22はステッピング
モータ、24はボールねじ、25はボールナット、26
は載置台、26aは吸引孔、26bは配管、26cは3
方切換弁、26dは気体吸引手段、27は被露光部材保
持装置、27aはチャック載置座、27cは位置決め
板、27d〜27dはチャック本体、27fは吸引
通路、27gは吸着口、27hは吸着溝、27iはスプ
ール、27jは貫通孔、27kは連通部、35はXY方
向微動体、41L,41R,42F,42Rは電磁石、
47a〜47dは板ばねである。

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】被露光部材の露光面に所定パターンを露光
    する露光装置の載置テーブルに、気体吸引手段に接続さ
    れるウェハ等の被露光部材を吸着保持するチャックを配
    設した被露光部材保持装置において、前記チャックは、
    内部に形成された前記気体吸引手段に連通する吸引通路
    と、該吸引通路に個別に連通されて上面に互いに独立し
    て開口し、且つ前記載置テーブルの中心から外方に向け
    て連接形成された複数の吸着溝を有する複数の突条を備
    え、該突条の各吸着溝と前記気体吸引手段との間に前記
    被露光部材の吸着面の面積に応じて外部操作可能な複数
    の開閉弁を設けたことを特徴とする露光装置における被
    露光部材保持装置。
  2. 【請求項2】開閉弁は、突条の長手方向と直角な方向に
    貫通し、且つ真空導通路に連通する貫通孔と、該貫通孔
    に摺動自在に内嵌され前記貫通孔と前記導通路間を連通
    する連通部を有するスプールとで構成され、前記スプー
    ルの少なくとも一端が前記突条の側面より吐出されてい
    る実用新案登録請求の範囲第1項記載の露光装置におけ
    る被露光部材保持装置。
  3. 【請求項3】チャックは、載置テーブルに真空吸着され
    るように構成されている実用新案登録請求の範囲第1項
    又は第2項記載の露光装置における被露光部材保持装
    置。
  4. 【請求項4】前記突条は前記載置テーブルの中心から放
    射状に延設されている実用新案登録請求の範囲第1項乃
    至第3項の何れかに記載の露光装置における被露光部材
    保持装置。
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