JPH06138424A - 空間光変調装置 - Google Patents
空間光変調装置Info
- Publication number
- JPH06138424A JPH06138424A JP4287896A JP28789692A JPH06138424A JP H06138424 A JPH06138424 A JP H06138424A JP 4287896 A JP4287896 A JP 4287896A JP 28789692 A JP28789692 A JP 28789692A JP H06138424 A JPH06138424 A JP H06138424A
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- JP
- Japan
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- spatial light
- light modulator
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コヒーレント光波面を制御する空間光変調装
置を提供する。 【構成】 少なくとも、位相変調型空間光変調器と前記
位相変調型空間光変調器の出射側に配置された位相マス
クとを備え、前記位相変調型空間光変調器に記録する位
相分布は、前記位相マスクに記録された位相分布の複素
共役な位相分布と所望の像を再生する位相分布との積で
与えられることを特徴とする。
置を提供する。 【構成】 少なくとも、位相変調型空間光変調器と前記
位相変調型空間光変調器の出射側に配置された位相マス
クとを備え、前記位相変調型空間光変調器に記録する位
相分布は、前記位相マスクに記録された位相分布の複素
共役な位相分布と所望の像を再生する位相分布との積で
与えられることを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コヒーレント光波面を
制御するための空間光変調装置に関する。
制御するための空間光変調装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、コヒーレント光の位相を変調する
手段として、液晶空間光変調器が広く利用されている。
例えば、Appl. Opt., 28(1989)4845-4852、Appl. Opt.,
30(1991)4622-4628、などでは、計算機ホログラムの記
録と再生についての実験結果が報告されている。
手段として、液晶空間光変調器が広く利用されている。
例えば、Appl. Opt., 28(1989)4845-4852、Appl. Opt.,
30(1991)4622-4628、などでは、計算機ホログラムの記
録と再生についての実験結果が報告されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、空間光変調器
の位相変調特性の非線形性のゆえに変調誤差が発生し、
空間光変調器からの再生波面には、必ずといってよいほ
ど、非回折成分が含まれる。この非回折成分は、像再生
に使用するレンズの集光作用により、フーリエ再生面上
でピークノイズを発生させる。ピークノイズは光軸上に
現れるため、所望の再生像に重なり、再生像の一部が認
識できなくなってしまう。
の位相変調特性の非線形性のゆえに変調誤差が発生し、
空間光変調器からの再生波面には、必ずといってよいほ
ど、非回折成分が含まれる。この非回折成分は、像再生
に使用するレンズの集光作用により、フーリエ再生面上
でピークノイズを発生させる。ピークノイズは光軸上に
現れるため、所望の再生像に重なり、再生像の一部が認
識できなくなってしまう。
【０００４】本発明はこのような問題点を解決するもの
であって、その目的は、簡便な手段により非回折成分を
変調して、再生面上のピークノイズを除くことにある。
であって、その目的は、簡便な手段により非回折成分を
変調して、再生面上のピークノイズを除くことにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の第１の空間光変
調装置装置は、コヒーレント光波面を制御する技術に関
し、少なくとも、位相変調型空間光変調器と、前記位相
型空間光変調器の出射側に配置された位相マスクとを備
え、前記位相変調型空間光変調器に記録する位相分布
は、前記位相マスクに記録された位相分布の複素共役な
位相分布と所望の像を再生する位相分布との積で与えら
れることを特徴とする。
調装置装置は、コヒーレント光波面を制御する技術に関
し、少なくとも、位相変調型空間光変調器と、前記位相
型空間光変調器の出射側に配置された位相マスクとを備
え、前記位相変調型空間光変調器に記録する位相分布
は、前記位相マスクに記録された位相分布の複素共役な
位相分布と所望の像を再生する位相分布との積で与えら
れることを特徴とする。
【０００６】本発明の第２の空間光変調装置は、コヒー
レント光波面を制御する技術に関し、少なくとも、振幅
変調型空間光変調器と、位相変調型空間光変調器と、前
記位相変調型空間光変調器の出射側に配置された位相マ
スクとを備え、前記位相変調型空間光変調器に記録する
位相分布は、前記位相マスクに記録された位相分布の複
素共役な位相分布と所望の像を再生する位相分布との積
で与えられることを特徴とする。
レント光波面を制御する技術に関し、少なくとも、振幅
変調型空間光変調器と、位相変調型空間光変調器と、前
記位相変調型空間光変調器の出射側に配置された位相マ
スクとを備え、前記位相変調型空間光変調器に記録する
位相分布は、前記位相マスクに記録された位相分布の複
素共役な位相分布と所望の像を再生する位相分布との積
で与えられることを特徴とする。
【０００７】本発明の第３の空間光変調装置は、前記第
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクのひ
とつのセルを前記位相変調型空間光変調器のひとつの画
素に対応させて配置したことを特徴とする。
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクのひ
とつのセルを前記位相変調型空間光変調器のひとつの画
素に対応させて配置したことを特徴とする。
【０００８】本発明の第４の空間光変調装置は、前記第
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクのひ
とつのセルを前記位相変調型空間光変調器の複数の画素
に対応させて配置したことを特徴とする。
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクのひ
とつのセルを前記位相変調型空間光変調器の複数の画素
に対応させて配置したことを特徴とする。
【０００９】本発明の第５の空間光変調装置は、前記第
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクに記
録された位相分布は、フーリエ再生面上で、ほぼ一様な
強度分布を再生する作用を有することを特徴とする。
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクに記
録された位相分布は、フーリエ再生面上で、ほぼ一様な
強度分布を再生する作用を有することを特徴とする。
【００１０】本発明の第６の空間光変調装置は、前記第
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクに記
録された位相分布は、フーリエ再生面上で、所望の再生
像から十分に離れた場所へ所望の強度分布を再生する作
用を有することを特徴とする。
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクに記
録された位相分布は、フーリエ再生面上で、所望の再生
像から十分に離れた場所へ所望の強度分布を再生する作
用を有することを特徴とする。
【００１１】本発明の第７の空間光変調装置は、前記第
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは、
前記位相変調型空間光変調器の出射側基板の一部に形成
されていることを特徴とする。
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは、
前記位相変調型空間光変調器の出射側基板の一部に形成
されていることを特徴とする。
【００１２】本発明の第８の空間光変調装置は、前記第
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは、
前記位相変調型空間光変調器の出射側基板とは別の基板
の一部に形成されていることを特徴とする。
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは、
前記位相変調型空間光変調器の出射側基板とは別の基板
の一部に形成されていることを特徴とする。
【００１３】本発明の第９の空間光変調装置は、前記第
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは表
面レリーフ型位相格子であることを特徴とする。
１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは表
面レリーフ型位相格子であることを特徴とする。
【００１４】本発明の第１０の空間光変調装置は、前記
第１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは
分布屈折率構造であることを特徴とする。
第１ないし第２の光学装置において、前記位相マスクは
分布屈折率構造であることを特徴とする。
【００１５】本発明の第１１の空間光変調装置は、前記
第１ないし第２の光学装置において、前記空間光変調器
は液晶空間光変調器であることを特徴とする。
第１ないし第２の光学装置において、前記空間光変調器
は液晶空間光変調器であることを特徴とする。
【００１６】
【実施例】以下では実施例にもとづき、本発明の内容に
ついて詳しく説明する。
ついて詳しく説明する。
【００１７】（実施例１）図１に構成を示す。コリメー
トされたレーザビームで位相変調型空間光変調器１０１
を照明する。位相変調型空間光変調器１０１の出射側基
板１０４の表面には位相マスク１０５が形成されてい
る。位相マスクを通過した再生波面はレンズ１０６のフ
ーリエ変換作用により、再生面上に像を再生する。図中
の１０２は入射側基板、１０３（斜線部）は液晶層であ
る。
トされたレーザビームで位相変調型空間光変調器１０１
を照明する。位相変調型空間光変調器１０１の出射側基
板１０４の表面には位相マスク１０５が形成されてい
る。位相マスクを通過した再生波面はレンズ１０６のフ
ーリエ変換作用により、再生面上に像を再生する。図中
の１０２は入射側基板、１０３（斜線部）は液晶層であ
る。
【００１８】本実施例で使用した位相変調型空間光変調
器は、ホモジニアス配向の液晶空間光変調器である（第
51回応物秋季講演会、26a-H-10参照）。この液晶空間光
変調器の位相変調特性を図５に示す。２π以上の位相変
化は得られているが、非線形性が存在する。この非線形
性が位相変調誤差につながり、非回折成分すなわちピー
クノイズを発生させる。
器は、ホモジニアス配向の液晶空間光変調器である（第
51回応物秋季講演会、26a-H-10参照）。この液晶空間光
変調器の位相変調特性を図５に示す。２π以上の位相変
化は得られているが、非線形性が存在する。この非線形
性が位相変調誤差につながり、非回折成分すなわちピー
クノイズを発生させる。
【００１９】このピークノイズを除くために、本発明で
は、液晶空間光変調器ならびに位相マスクへ記録する位
相分布を以下のように定めた。
は、液晶空間光変調器ならびに位相マスクへ記録する位
相分布を以下のように定めた。
【００２０】まず、位相マスクの位相分布をφmask、そ
の直後の波面をＷmaskとすると、 Ｗmask＝ｅｘｐ（ｊφmask） と書ける。ここで、ｊは虚数単位である。
の直後の波面をＷmaskとすると、 Ｗmask＝ｅｘｐ（ｊφmask） と書ける。ここで、ｊは虚数単位である。
【００２１】次に、再生したい像に対応する位相分布を
φimageとして、液晶空間光変調器に記録すべき位相分
布φLCを、次式の関係を満足するように与える。
φimageとして、液晶空間光変調器に記録すべき位相分
布φLCを、次式の関係を満足するように与える。
【００２２】φLC＝φimage−φmask この時、液晶空間光変調器の直後の回折波面すなわち変
調された成分ＷLCは、 ＷLC＝ｅｘｐ［ｊ（φimage−φmask）］ と書ける。
調された成分ＷLCは、 ＷLC＝ｅｘｐ［ｊ（φimage−φmask）］ と書ける。
【００２３】したがって、液晶空間光変調器を通過した
回折波面は位相マスクの直後では、ｅｘｐ（ｊ
φimage）となり、他方非回折波面は、ｅｘｐ（ｊφ
mask）となる。
回折波面は位相マスクの直後では、ｅｘｐ（ｊ
φimage）となり、他方非回折波面は、ｅｘｐ（ｊφ
mask）となる。
【００２４】本実施例で使用した位相マスクには、次に
２種類の位相分布を与えた。
２種類の位相分布を与えた。
【００２５】（１）ランダム位相分布 再生面上で非回折波面の強度を散らして、ピーク強度を
十分に小さくした。
十分に小さくした。
【００２６】（２）キノフォーム フーリエ反復計算（Opt. Eng., 23(1984)241-246参照）
により、回折波面が再生する像から十分離れた場所に非
回折波面の強度がくるように位相分布を計算した。
により、回折波面が再生する像から十分離れた場所に非
回折波面の強度がくるように位相分布を計算した。
【００２７】（１）、（２）いずれの場合にも、格子周
期は画素ピッチの整数倍にとって、いろいろと変えて試
してみた。
期は画素ピッチの整数倍にとって、いろいろと変えて試
してみた。
【００２８】位相マスクは、図３（ａ）に示すように、
表面レリーフ型位相格子として作製した。液晶空間光変
調器の基板に石英を用いて、この石英基板に、前もっ
て、反応性イオンエッチングにより位相格子を形成し
た。なお、図３（ｂ）に示すように、ガラス内部へのイ
オン交換等の手法により、屈折率分布構造として作製す
ることも可能である。
表面レリーフ型位相格子として作製した。液晶空間光変
調器の基板に石英を用いて、この石英基板に、前もっ
て、反応性イオンエッチングにより位相格子を形成し
た。なお、図３（ｂ）に示すように、ガラス内部へのイ
オン交換等の手法により、屈折率分布構造として作製す
ることも可能である。
【００２９】再生面上の強度分布の様子を図４に示し
た。図４（ａ）は、ランダム位相分布型の位相マスクを
使用した時の結果である。再生像を中央に得て、非回折
波面をほぼ再生領域いっぱいに広げることができた。図
４（ｂ）は、キノフォーム型の位相マスクを使用した時
の結果である。再生像を中央に得て、非回折波面を再生
像から離れた場所（再生領域の隅）に集中させることが
できた。この非回折波面がつくる強度分布は、開口マス
クにより除くことができる。図中の強度分布の断面図で
は、非回折波面がつくる強度分布を斜線で示した。
た。図４（ａ）は、ランダム位相分布型の位相マスクを
使用した時の結果である。再生像を中央に得て、非回折
波面をほぼ再生領域いっぱいに広げることができた。図
４（ｂ）は、キノフォーム型の位相マスクを使用した時
の結果である。再生像を中央に得て、非回折波面を再生
像から離れた場所（再生領域の隅）に集中させることが
できた。この非回折波面がつくる強度分布は、開口マス
クにより除くことができる。図中の強度分布の断面図で
は、非回折波面がつくる強度分布を斜線で示した。
【００３０】本実施例では、空間光変調器から発生する
非回折波面の位相を変調することにより、フーリエ再生
像面に現れるピークノイズを除くことができた。
非回折波面の位相を変調することにより、フーリエ再生
像面に現れるピークノイズを除くことができた。
【００３１】（実施例２）図２に構成を示す。コリメー
トされたレーザビームで振幅位相同時変調型空間光変調
器２０１を照明する。この振幅位相同時変調型空間光変
調器は、振幅変調型空間光変調器２０２と位相変調型空
間光変調器２０３が対応する画素をそろえて直列に接続
した構成である（第52回応物秋季講演会、10a-ZK-2参
照）。
トされたレーザビームで振幅位相同時変調型空間光変調
器２０１を照明する。この振幅位相同時変調型空間光変
調器は、振幅変調型空間光変調器２０２と位相変調型空
間光変調器２０３が対応する画素をそろえて直列に接続
した構成である（第52回応物秋季講演会、10a-ZK-2参
照）。
【００３２】位相変調型空間光変調器２０３の出射側基
板２０４の表面には位相マスク２０５が形成されてい
る。位相マスクを通過した再生波面はレンズ１０６のフ
ーリエ変換作用により、再生面上に像を再生する。
板２０４の表面には位相マスク２０５が形成されてい
る。位相マスクを通過した再生波面はレンズ１０６のフ
ーリエ変換作用により、再生面上に像を再生する。
【００３３】本実施例で使用した位相変調型空間光変調
器は、実施例１と同じく、ホモジニアス配向の液晶空間
光変調器である（第51回応物秋季講演会、26a-H-10参
照）。この液晶空間光変調器の位相変調特性を図５に示
す。２π以上の位相変化は得られているが、非線形性が
存在する。この非線形性が位相変調誤差につながり、非
回折成分すなわちピークノイズを発生させる。
器は、実施例１と同じく、ホモジニアス配向の液晶空間
光変調器である（第51回応物秋季講演会、26a-H-10参
照）。この液晶空間光変調器の位相変調特性を図５に示
す。２π以上の位相変化は得られているが、非線形性が
存在する。この非線形性が位相変調誤差につながり、非
回折成分すなわちピークノイズを発生させる。
【００３４】ピークノイズを除くための手段、原理につ
いては実施例１と同じであるので説明を省略する。
いては実施例１と同じであるので説明を省略する。
【００３５】本実施例では、空間光変調器から発生する
非回折波面の位相を変調することにより、フーリエ再生
像面に現れるピークノイズを除くことができた。
非回折波面の位相を変調することにより、フーリエ再生
像面に現れるピークノイズを除くことができた。
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、空間光変調器から発生
する非回折波面の位相を変調することにより、フーリエ
再生像面に現れるピークノイズを除くことができる。本
発明の空間光変調装置は、とくに、レーザマーキングの
ようなパターン再生の用途へ幅広く応用が可能である。
する非回折波面の位相を変調することにより、フーリエ
再生像面に現れるピークノイズを除くことができる。本
発明の空間光変調装置は、とくに、レーザマーキングの
ようなパターン再生の用途へ幅広く応用が可能である。
【図１】 本発明の実施例１の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図２】 本発明の実施例２の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図３】 位相マスクの形態を示す断面図である。
【図４】 位相マスクによるピークノイズ除去の効果を
説明する図である。
説明する図である。
【図５】 空間光変調器の位相変調特性を説明する図で
ある。
ある。
１０１・・・・・・位相変調型空間光変調器 １０２・・・・・・入射側基板 １０３・・・・・・液晶層 １０４・・・・・・出射側基板 １０５・・・・・・位相マスク １０６・・・・・・レンズ ２０１・・・・・・振幅位相同時変調型空間光変調器 ２０２・・・・・・振幅変調型空間光変調器 ２０３・・・・・・位相変調型空間光変調器 ２０４・・・・・・出射側基板 ２０５・・・・・・位相マスク
Claims (11)
- 【請求項１】コヒーレント光波面を制御する技術に関
し、少なくとも、位相変調型空間光変調器と、前記位相
型空間光変調器の出射側に配置された位相マスクとを備
え、前記位相変調型空間光変調器に記録する位相分布
は、前記位相マスクに記録された位相分布の複素共役な
位相分布と所望の像を再生する位相分布との積で与えら
れることを特徴とする空間光変調装置。 - 【請求項２】コヒーレント光波面を制御する技術に関
し、少なくとも、振幅変調型空間光変調器と、位相変調
型空間光変調器と、前記位相変調型空間光変調器の出射
側に配置された位相マスクとを備え、前記位相変調型空
間光変調器に記録する位相分布は、前記位相マスクに記
録された位相分布の複素共役な位相分布と所望の像を再
生する位相分布との積で与えられることを特徴とする空
間光変調装置。 - 【請求項３】前記位相マスクのひとつのセルを前記位相
変調型空間光変調器のひとつの画素に対応させて配置し
たことを特徴とする請求項１または２に記載の空間光変
調装置。 - 【請求項４】前記位相マスクのひとつのセルを前記位相
変調型空間光変調器の複数の画素に対応させて配置した
ことを特徴とする請求項１または２に記載の空間光変調
装置。 - 【請求項５】前記位相マスクに記録された位相分布は、
フーリエ再生面上で、ほぼ一様な強度分布を再生する作
用を有することを特徴とする請求項１または２に記載の
空間光変調装置。 - 【請求項６】前記位相マスクに記録された位相分布は、
フーリエ再生面上で、所望の再生像から十分に離れた場
所へ所望の強度分布を再生する作用を有することを特徴
とする請求項１または２に記載の空間光変調装置。 - 【請求項７】前記位相マスクは、前記位相変調型空間光
変調器の出射側基板の一部に形成されていることを特徴
とする請求項１または２に記載の空間光変調装置。 - 【請求項８】前記位相マスクは、前記位相変調型空間光
変調器の出射側基板とは別の基板の一部に形成されてい
ることを特徴とする請求項１または２に記載の空間光変
調装置。 - 【請求項９】前記位相マスクは表面レリーフ型位相格子
であることを特徴とする請求項１または２に記載の空間
光変調装置。 - 【請求項１０】前記位相マスクは分布屈折率構造である
ことを特徴とする請求項１または２に記載の空間光変調
装置。 - 【請求項１１】前記空間光変調器は液晶空間光変調器で
あることを特徴とする請求項１または２に記載の空間光
変調装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4287896A JPH06138424A (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | 空間光変調装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4287896A JPH06138424A (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | 空間光変調装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06138424A true JPH06138424A (ja) | 1994-05-20 |
Family
ID=17723120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4287896A Pending JPH06138424A (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | 空間光変調装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06138424A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0704721A2 (en) * | 1994-09-27 | 1996-04-03 | AT&T Corp. | Methods and apparatus for generating and displaying holographic images utilizing a laser pointer |
| US7209279B2 (en) | 2001-10-25 | 2007-04-24 | Hamamatsu Photonics K.K. | Phase modulating apparatus and phase modulating method |
| JP2008262181A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ホログラム記録再生装置 |
| WO2009072579A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Rohm Co., Ltd. | 光制御装置 |
| JP2009536747A (ja) * | 2006-05-11 | 2009-10-15 | ケンブリッジ・エンタープライズ・リミテッド | イメージ形成方法およびイメージ投影装置 |
-
1992
- 1992-10-26 JP JP4287896A patent/JPH06138424A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0704721A2 (en) * | 1994-09-27 | 1996-04-03 | AT&T Corp. | Methods and apparatus for generating and displaying holographic images utilizing a laser pointer |
| EP0704721A3 (en) * | 1994-09-27 | 1997-12-17 | AT&T Corp. | Methods and apparatus for generating and displaying holographic images utilizing a laser pointer |
| US7209279B2 (en) | 2001-10-25 | 2007-04-24 | Hamamatsu Photonics K.K. | Phase modulating apparatus and phase modulating method |
| JP2009536747A (ja) * | 2006-05-11 | 2009-10-15 | ケンブリッジ・エンタープライズ・リミテッド | イメージ形成方法およびイメージ投影装置 |
| JP2008262181A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ホログラム記録再生装置 |
| WO2009072579A1 (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-11 | Rohm Co., Ltd. | 光制御装置 |
| JP2009139587A (ja) * | 2007-12-05 | 2009-06-25 | Rohm Co Ltd | 光制御装置 |
| US8144384B2 (en) | 2007-12-05 | 2012-03-27 | Rohm Co., Ltd. | Light controller |
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