JPH06136582A - 洗浄方法 - Google Patents
洗浄方法Info
- Publication number
- JPH06136582A JPH06136582A JP30955592A JP30955592A JPH06136582A JP H06136582 A JPH06136582 A JP H06136582A JP 30955592 A JP30955592 A JP 30955592A JP 30955592 A JP30955592 A JP 30955592A JP H06136582 A JPH06136582 A JP H06136582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- washing
- far
- irradiation
- rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G1/00—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
- C23G1/24—Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with neutral solutions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】部品表面に付着した汚染物を除去する洗浄にお
いて、フロン液を使用しない精密な洗浄方法を提供す
る。 【構成】まず、被洗浄物を１８５ｎｍと２５４ｎｍを主
とした遠紫外線照射で予備処理し、次いでアルコール液
中で超音波洗浄をして、次いで前述の遠紫外線を再び照
射して後処理する。
いて、フロン液を使用しない精密な洗浄方法を提供す
る。 【構成】まず、被洗浄物を１８５ｎｍと２５４ｎｍを主
とした遠紫外線照射で予備処理し、次いでアルコール液
中で超音波洗浄をして、次いで前述の遠紫外線を再び照
射して後処理する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は表面に付着した汚染物を
除去する洗浄において、従来のフロン液を使用しないで
洗浄する方法に関するものである。
除去する洗浄において、従来のフロン液を使用しないで
洗浄する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の産業用機材、部品の洗浄は、洗浄
力が強く、あらゆる材質に使用可能なフロン液を使った
スクラバ式または超音波式のウエット洗浄法が一般的で
あった。
力が強く、あらゆる材質に使用可能なフロン液を使った
スクラバ式または超音波式のウエット洗浄法が一般的で
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】フロン洗浄法は、あら
ゆる材質に対して洗浄性能が良くて、被洗浄物に悪影響
を与えず洗浄液自身も不燃性で取扱い安全などのため、
ほとんどの分野で使用されてきたが、近年フロン液は地
球のオゾン層を破壊する原因であることがわかりフロン
液の生産中止が決定され、世界的にもフロン液に代わる
安全で性能のよい洗浄液または洗浄方式の開発が課題と
されている。
ゆる材質に対して洗浄性能が良くて、被洗浄物に悪影響
を与えず洗浄液自身も不燃性で取扱い安全などのため、
ほとんどの分野で使用されてきたが、近年フロン液は地
球のオゾン層を破壊する原因であることがわかりフロン
液の生産中止が決定され、世界的にもフロン液に代わる
安全で性能のよい洗浄液または洗浄方式の開発が課題と
されている。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄方法は、は
じめに波長１８５ｎｍと２５４ｎｍを主とした遠紫外線
を照射する。遠紫外線により有機汚染物の化学結合を切
断し、同時に遠紫外線で発生するオゾンによる酸化反応
で有機汚染物を灰化して除去したり、ぬれ性をよくす
る。
じめに波長１８５ｎｍと２５４ｎｍを主とした遠紫外線
を照射する。遠紫外線により有機汚染物の化学結合を切
断し、同時に遠紫外線で発生するオゾンによる酸化反応
で有機汚染物を灰化して除去したり、ぬれ性をよくす
る。
【０００５】次に、アルコール液による超音波洗浄やス
クラバ洗浄をすると、除去しにくい頑固な有機汚染物と
ともに無機汚染物も除去されやすくなり、性能アップし
た洗浄ができる。いろいろな種類のアルコールが使用で
きるがイソピルアルコールが一般的である。
クラバ洗浄をすると、除去しにくい頑固な有機汚染物と
ともに無機汚染物も除去されやすくなり、性能アップし
た洗浄ができる。いろいろな種類のアルコールが使用で
きるがイソピルアルコールが一般的である。
【０００６】アルコールは乾燥が早いが、最後にアルコ
ールによる薄い有機物被膜が残るのが欠点である。そこ
で、再び遠紫外線を照射すると残った薄い有機物被膜が
完全に除去され精密な洗浄ができる。なお、被洗浄物が
プラスチックやガラスの場合は遠紫外線とオゾンの作用
により、表面に水酸基（一ＯＨ）やカルボニル基（＝Ｃ
Ｏ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を発生させ表面改
質ができて，ぬれ性改善や密着性改善の働きをさせるこ
とができる。
ールによる薄い有機物被膜が残るのが欠点である。そこ
で、再び遠紫外線を照射すると残った薄い有機物被膜が
完全に除去され精密な洗浄ができる。なお、被洗浄物が
プラスチックやガラスの場合は遠紫外線とオゾンの作用
により、表面に水酸基（一ＯＨ）やカルボニル基（＝Ｃ
Ｏ）、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）を発生させ表面改
質ができて，ぬれ性改善や密着性改善の働きをさせるこ
とができる。
【０００７】なお、アルコールの代わりに純水で浄する
と、洗浄力が低下するとともに乾燥時に水シミを発生さ
せ、被洗浄物の材質によっては水との化学反応により頑
固な水シミが発生し、その後の遠紫外線照射でも除去で
きないという欠点があり不適切である。
と、洗浄力が低下するとともに乾燥時に水シミを発生さ
せ、被洗浄物の材質によっては水との化学反応により頑
固な水シミが発生し、その後の遠紫外線照射でも除去で
きないという欠点があり不適切である。
【０００８】
【実施例】表１は、表面が汚染された３０×３０ｍｍ寸
法のステンレス板を用いて、本発明を含む各種方法で洗
浄した結果の比較である。なお、表中で遠紫外線照射は
ＵＶ照射と記してある。
法のステンレス板を用いて、本発明を含む各種方法で洗
浄した結果の比較である。なお、表中で遠紫外線照射は
ＵＶ照射と記してある。
【０００９】
【表１】 Ａは表面が有機／無機物で汚染された未処理のステンレ
ス板である。協和界面（株）の接触角計による純水を用
いた接触角は１００度であり、２００倍の顕微鏡で表面
観察すると全体にわたって、うす黒い汚染物が付着して
いる状態であった。
ス板である。協和界面（株）の接触角計による純水を用
いた接触角は１００度であり、２００倍の顕微鏡で表面
観察すると全体にわたって、うす黒い汚染物が付着して
いる状態であった。
【００１０】これを図１に示すような波長１８５ｎｍと
２５４ｎｍの遠紫外線を主として放射する低圧水銀ラン
プ２を図２のように配置して、ステンレス板１の照射面
において２５４ｎｍの紫外線強度３０ｍＷ／ｃｍ２
（オーク製作所、ＵＶーＭＯ２メータ）オン濃度約１０
０ｐｐｍの条件で（荏原実業、ＥＧー２００１）２分間
照射すると、接触角が２８度に低下して表面の汚染物は
全体の約３／４と、少しだけ除去される。（表１のＢ）
しかし時間を延長して５分間照射しても、それ以上ほと
んど変化なく洗浄は進まない（表１のＣ）。これは有機
物の汚れは２分程度で充分除去できるが無機物は除去さ
れず残るからであると思われる。
２５４ｎｍの遠紫外線を主として放射する低圧水銀ラン
プ２を図２のように配置して、ステンレス板１の照射面
において２５４ｎｍの紫外線強度３０ｍＷ／ｃｍ２
（オーク製作所、ＵＶーＭＯ２メータ）オン濃度約１０
０ｐｐｍの条件で（荏原実業、ＥＧー２００１）２分間
照射すると、接触角が２８度に低下して表面の汚染物は
全体の約３／４と、少しだけ除去される。（表１のＢ）
しかし時間を延長して５分間照射しても、それ以上ほと
んど変化なく洗浄は進まない（表１のＣ）。これは有機
物の汚れは２分程度で充分除去できるが無機物は除去さ
れず残るからであると思われる。
【００１１】そこで、遠紫外線で１分照射後、図３に示
すようにステンレス板４を純水またアルコールの洗浄液
５に浸して超音波洗浄槽３で１０分間処理すると無機物
もほとんど除去される。しかし、アルコール液の場合は
乾燥後、薄い有機膜が形成され接触角は７０度（表１の
Ｅ）と比較的高くなる。また、純水の場合は乾燥後、水
シミが発生する（表１のＤ）。水シミは、その後、遠紫
外線を照射しても除去できない（表１のＦ）。
すようにステンレス板４を純水またアルコールの洗浄液
５に浸して超音波洗浄槽３で１０分間処理すると無機物
もほとんど除去される。しかし、アルコール液の場合は
乾燥後、薄い有機膜が形成され接触角は７０度（表１の
Ｅ）と比較的高くなる。また、純水の場合は乾燥後、水
シミが発生する（表１のＤ）。水シミは、その後、遠紫
外線を照射しても除去できない（表１のＦ）。
【００１２】最も効果的な洗浄は本発明の方法であり、
遠紫外線で１分間照射後、アルコール液中で超音波洗浄
を１０分間処理し、最後に、遠紫外線で再び２分間照射
する方法（表１のＧ）であった。表面は水シミもなく、
完全に汚れが除去されて接触角は２０度まで低下する。
なお、比較のため従来のフロン液に浸して超音波洗浄し
た結果が表１のＨである。洗浄後のステンレス板を表面
観察すると表１のＥと同程度の洗浄力であり、接触角も
７５度と高い。フロン洗浄においても乾燥後、フロンの
薄い膜が残るものと思われる。
遠紫外線で１分間照射後、アルコール液中で超音波洗浄
を１０分間処理し、最後に、遠紫外線で再び２分間照射
する方法（表１のＧ）であった。表面は水シミもなく、
完全に汚れが除去されて接触角は２０度まで低下する。
なお、比較のため従来のフロン液に浸して超音波洗浄し
た結果が表１のＨである。洗浄後のステンレス板を表面
観察すると表１のＥと同程度の洗浄力であり、接触角も
７５度と高い。フロン洗浄においても乾燥後、フロンの
薄い膜が残るものと思われる。
【００１３】表２は表面が汚染された１００×１００ｍ
ｍの大きさの石英ガラス板の洗浄比較結果である。
ｍの大きさの石英ガラス板の洗浄比較結果である。
【００１４】
【表２】 表１と同じ傾向であるが、純水洗浄の場合の水シミ発生
は金属の場合ほど目立たない。
は金属の場合ほど目立たない。
【００１５】なお、これらの応用としてウエット洗浄に
おいて、純水洗浄とアルコール洗浄を組み合わせた方法
や、他のフロン代替洗浄液使用の場合も、遠紫外線を併
用することでフロン液以上の精密洗浄が得られると思わ
れる。
おいて、純水洗浄とアルコール洗浄を組み合わせた方法
や、他のフロン代替洗浄液使用の場合も、遠紫外線を併
用することでフロン液以上の精密洗浄が得られると思わ
れる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明した如く、本発明の洗浄方法は
フロン液を使用しないため地球環境を破壊せず安全であ
り、従来のフロン洗浄以上の精密洗浄がえられた。更
に、被照射物の材質によっては遠紫外線照射によって表
面改質され、塗装のぬれ性改善や密着性改善の働きも付
加することができるなど多大の効果がえられる。
フロン液を使用しないため地球環境を破壊せず安全であ
り、従来のフロン洗浄以上の精密洗浄がえられた。更
に、被照射物の材質によっては遠紫外線照射によって表
面改質され、塗装のぬれ性改善や密着性改善の働きも付
加することができるなど多大の効果がえられる。
【図１】本発明に使用する遠紫外線ランプの分光図。
【図２】遠紫外線ランプの配置。
【図３】超音波洗浄槽の概略図。
１ 洗浄物 ２ ランプ ３ 洗浄槽 ４ 被洗浄物 ５ 洗浄液
Claims (1)
- 【請求項１】まず、被洗浄物を１８５ｎｍと２５４ｎｍ
を主とした遠紫外線照射で予備処理し、次いでアルコー
ル液中で超音波洗浄をして、次いで前述の遠紫外線を再
び照射して後処理することを特徴とする洗浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30955592A JPH06136582A (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | 洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30955592A JPH06136582A (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | 洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06136582A true JPH06136582A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=17994428
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30955592A Pending JPH06136582A (ja) | 1992-10-23 | 1992-10-23 | 洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06136582A (ja) |
-
1992
- 1992-10-23 JP JP30955592A patent/JPH06136582A/ja active Pending
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