JPH06135934A - ピリジン誘導体又はその塩を含有するホスホリパーゼ▲a2▼阻害剤、抗炎症剤又は抗膵炎剤 - Google Patents
ピリジン誘導体又はその塩を含有するホスホリパーゼ▲a2▼阻害剤、抗炎症剤又は抗膵炎剤Info
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- JPH06135934A JPH06135934A JP36184892A JP36184892A JPH06135934A JP H06135934 A JPH06135934 A JP H06135934A JP 36184892 A JP36184892 A JP 36184892A JP 36184892 A JP36184892 A JP 36184892A JP H06135934 A JPH06135934 A JP H06135934A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ホスホリパーゼA2阻害剤、抗炎症剤及び抗
膵炎剤として有用なピリジン誘導体又はそれらの塩を提
供する。 【構成】 ピリジン誘導体又はそれらの塩、それらの製
造方法、それらを含有するホスホリパーゼA2阻害剤、
抗炎症剤及び抗膵炎剤並びに中間体としてのピリジン誘
導体である。
膵炎剤として有用なピリジン誘導体又はそれらの塩を提
供する。 【構成】 ピリジン誘導体又はそれらの塩、それらの製
造方法、それらを含有するホスホリパーゼA2阻害剤、
抗炎症剤及び抗膵炎剤並びに中間体としてのピリジン誘
導体である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はピリジン誘導体又はそれ
らの塩を含有するホスホリパーゼA2阻害剤、抗炎症剤
又は抗膵炎剤に関する。
らの塩を含有するホスホリパーゼA2阻害剤、抗炎症剤
又は抗膵炎剤に関する。
【0002】
【従来の技術】ジアミノトリフルオロメチルピリジン誘
導体としては例えば、米国特許第3,746,531号
及び同第3,962,263号各明細書などには、除草
剤の有効成分として、5位にトリフルオロメチル基を有
し、2位又は3位のどちらか一方に−NHCO−CF2
−T1基(T1は水素原子、塩素原子、弗素原子、アル
キル基又はハロアルキル基である)を有し、他方に−N
HCO−CF2−T2基(T2は水素原子、塩素原子、
弗素原子、アルキル基、ハロアルキル基又はアルキルカ
ルボニル基である。)又は,NHCOOT3基(T3は
C1−4の低級アルキル基又はフェニル基である)を有
するピリジンが開示されているが、本発明のピリジン誘
導体とは化学構造が異なる。又、米国特許第3,96
1,063号明細書などには、駆虫剤の有効成分とし
て、2位及び3位に−NHCSNHCOT4基(T4は
アルコキシ基である)を有するトリフルオロメチル置換
ピリジンが開示されているが、本発明のピリジン誘導体
とは化学構造が異なる。
導体としては例えば、米国特許第3,746,531号
及び同第3,962,263号各明細書などには、除草
剤の有効成分として、5位にトリフルオロメチル基を有
し、2位又は3位のどちらか一方に−NHCO−CF2
−T1基(T1は水素原子、塩素原子、弗素原子、アル
キル基又はハロアルキル基である)を有し、他方に−N
HCO−CF2−T2基(T2は水素原子、塩素原子、
弗素原子、アルキル基、ハロアルキル基又はアルキルカ
ルボニル基である。)又は,NHCOOT3基(T3は
C1−4の低級アルキル基又はフェニル基である)を有
するピリジンが開示されているが、本発明のピリジン誘
導体とは化学構造が異なる。又、米国特許第3,96
1,063号明細書などには、駆虫剤の有効成分とし
て、2位及び3位に−NHCSNHCOT4基(T4は
アルコキシ基である)を有するトリフルオロメチル置換
ピリジンが開示されているが、本発明のピリジン誘導体
とは化学構造が異なる。
【0003】
【発明の開示】本発明は、一般式(I)
【0004】
【化16】
【0005】〔式中、Aは−N(Ra)Xa基、−NH
Xb基、ニトロ基又はアミノ基であり、Xaは−CW1
R1基、−COCOR2基、−CW1NHCOR2基、
−C(=W1)W2R3基又は−CW1N(R4)R5
基であり、Xbは−(NH)1SO2R1基又は−CH
2Rb基であり、Z1は−NHY基、水素原子、ハロゲ
ン原子、−W5−Rc基又はアミノ基であり、Yは置換
されてもよいフェニル基、アルキル基、−CW3R
6基、−COCOR7基、−NHCOR7基、−C(=
W3)W4R8基、−(NH)mSO2R9基、−(N
H)mSO2OR10基又は−(NH)mSO2N(R
11)R12基であり、Z2は水素原子又はトリフルオ
ロメチル基であり、Z3は水素原子、トリフルオロメチ
ル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、−NHCO
Re基、シアノ基、−CORg基又はアルキル基であ
り、Z4は水素原子、トリフルオロメチル基、ハロゲン
原子、−W6−Rh基、−(NH)nSO2Ri基、−
NHRj基又はピペラジニル基であり、Raは水素原
子、アルキル基、アルキルカルボニル基又はアルコキシ
カルボニル基であり、Ra及びXaは互いに結合して隣
接する窒素原子と共に複素環を形成してもよく、Rbは
置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいシクロ
アルキル基又は置換されてもよいアルキル基であり、R
c及びRhは各々独立して、水素原子、置換されてもよ
いアルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換さ
れてもよいシクロアルキル基であり、Rg、Ri、
R1、R6及びR9は各々独立して、置換されてもよい
鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素基、
置換されてもよい多環式炭化水素基、置換されてもよい
単環式複素環基又は置換されてもよい多環式複素環基で
あり、Re、R2及びR7は各々独立して、置換されて
もよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置
換されてもよいフェニル基又は置換されてもよいフェノ
キシ基であり、R3、R8及びR10は各々独立して、
置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケ
ニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されても
よいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル基又
は置換されてもよいベンジル基であり、Rj、R4、R
5、R11及びR12は各々独立して、置換されてもよ
いアルキル基であり、W1、W2、W3、W4、W5及
びW6は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、
1、m及びnはそれぞれ0又は1であり、但し、(1)
Aが−N(Ra)Xa基(Raが水素原子であり)であ
り、Z1が−NHY基であり、Z2及びZ4が水素原子
であり、Z3がトリフルオロメチル基である組合せの場
合を除き、また(2)Aがニトロ基又はアミノ基のとき
Z1、Z2、Z3及びZ4の少なくとも2つは水素原子
以外の置換基を有する〕で表わされるピリジン誘導体又
はその塩を含有するホスホリパーゼA2阻害剤に関す
る。
Xb基、ニトロ基又はアミノ基であり、Xaは−CW1
R1基、−COCOR2基、−CW1NHCOR2基、
−C(=W1)W2R3基又は−CW1N(R4)R5
基であり、Xbは−(NH)1SO2R1基又は−CH
2Rb基であり、Z1は−NHY基、水素原子、ハロゲ
ン原子、−W5−Rc基又はアミノ基であり、Yは置換
されてもよいフェニル基、アルキル基、−CW3R
6基、−COCOR7基、−NHCOR7基、−C(=
W3)W4R8基、−(NH)mSO2R9基、−(N
H)mSO2OR10基又は−(NH)mSO2N(R
11)R12基であり、Z2は水素原子又はトリフルオ
ロメチル基であり、Z3は水素原子、トリフルオロメチ
ル基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、−NHCO
Re基、シアノ基、−CORg基又はアルキル基であ
り、Z4は水素原子、トリフルオロメチル基、ハロゲン
原子、−W6−Rh基、−(NH)nSO2Ri基、−
NHRj基又はピペラジニル基であり、Raは水素原
子、アルキル基、アルキルカルボニル基又はアルコキシ
カルボニル基であり、Ra及びXaは互いに結合して隣
接する窒素原子と共に複素環を形成してもよく、Rbは
置換されてもよいフェニル基、置換されてもよいシクロ
アルキル基又は置換されてもよいアルキル基であり、R
c及びRhは各々独立して、水素原子、置換されてもよ
いアルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換さ
れてもよいシクロアルキル基であり、Rg、Ri、
R1、R6及びR9は各々独立して、置換されてもよい
鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素基、
置換されてもよい多環式炭化水素基、置換されてもよい
単環式複素環基又は置換されてもよい多環式複素環基で
あり、Re、R2及びR7は各々独立して、置換されて
もよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置
換されてもよいフェニル基又は置換されてもよいフェノ
キシ基であり、R3、R8及びR10は各々独立して、
置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルケ
ニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換されても
よいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル基又
は置換されてもよいベンジル基であり、Rj、R4、R
5、R11及びR12は各々独立して、置換されてもよ
いアルキル基であり、W1、W2、W3、W4、W5及
びW6は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、
1、m及びnはそれぞれ0又は1であり、但し、(1)
Aが−N(Ra)Xa基(Raが水素原子であり)であ
り、Z1が−NHY基であり、Z2及びZ4が水素原子
であり、Z3がトリフルオロメチル基である組合せの場
合を除き、また(2)Aがニトロ基又はアミノ基のとき
Z1、Z2、Z3及びZ4の少なくとも2つは水素原子
以外の置換基を有する〕で表わされるピリジン誘導体又
はその塩を含有するホスホリパーゼA2阻害剤に関す
る。
【0006】一般式(I)中、Rg、Ri、R1、R6
及びR9に含まれる前記鎖式炭化水素基としてはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基などが挙げられ、前
記単環式炭化水素基としてはシクロアルキル基、シクロ
アルケニル基、フェニル基などが挙げられ、前記多環式
炭化水素基としては、ナフチル基、テトラヒドロナフチ
ル基、インダニル基のような縮合型多環式炭化水素基又
はアダマンチル基、ノルアダマンチル基、ノルボルナニ
ル基、ノルボルナノニル基のような架橋型多環式炭化水
素基が挙げられ、前記単環式複素環基としてはピロリル
基、フラニル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾ
リル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾ
リル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロリ
ニル基、ピロリジニル基、ジヒドロフラニル基、テトラ
ヒドロフラニル基、ジヒドロチエニル基、テトラヒドロ
チエニル基、ピラゾリニル基、ヒダントイニル基、オキ
サゾリニル基、イソオキサゾリニル基、イソオキサゾリ
ジニル基、チアゾリニル基、チアゾリジニル基、ジオキ
ソラニル基、ジチアラニル基、ピリジル基、ピリダジニ
ル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ジヒドロピリジ
ル基、テトラヒドロピリジル基、ピペリジニル基、ジヒ
ドロオキソピリダジニル基、テトラヒドロオキソピリダ
ジニル基、ジヒドロオキソピリミジニル基、テトラヒド
ロオキソピリミジニル基、ピペラジニル基、ジヒドロピ
ラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキサニル基、
ジヒドロジチイニル基、ジチアニル基、モルホリニル基
などが挙げられ、前記多環式複素環基としては、チエノ
チエニル基、ジヒドロシクロペンタチエニル基、インド
リル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンズ
オキサゾリル基、ベンズイソオキサゾリル基、ベンゾチ
アゾリル基、ベンズイミダゾリル基、テトラヒドロベン
ゾチエニル基、ジヒドロベンゾフラニル基、テトラヒド
ロベンズイソオキサゾリル基、ベンゾジオキソリル基、
キノリニル基、イソキノリニル基、ベンゾジオキサニル
基、キノキサリニル基のような縮合型多環式複素環基又
はキヌクリジニル基のような架橋型多環式複素環基が挙
げられる。Ra及びXaが結合して形成する複素環とし
ては2−ピロリドニル基などが挙げられる。
及びR9に含まれる前記鎖式炭化水素基としてはアルキ
ル基、アルケニル基、アルキニル基などが挙げられ、前
記単環式炭化水素基としてはシクロアルキル基、シクロ
アルケニル基、フェニル基などが挙げられ、前記多環式
炭化水素基としては、ナフチル基、テトラヒドロナフチ
ル基、インダニル基のような縮合型多環式炭化水素基又
はアダマンチル基、ノルアダマンチル基、ノルボルナニ
ル基、ノルボルナノニル基のような架橋型多環式炭化水
素基が挙げられ、前記単環式複素環基としてはピロリル
基、フラニル基、チエニル基、ピラゾリル基、イミダゾ
リル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾ
リル基、イソチアゾリル基、チアジアゾリル基、ピロリ
ニル基、ピロリジニル基、ジヒドロフラニル基、テトラ
ヒドロフラニル基、ジヒドロチエニル基、テトラヒドロ
チエニル基、ピラゾリニル基、ヒダントイニル基、オキ
サゾリニル基、イソオキサゾリニル基、イソオキサゾリ
ジニル基、チアゾリニル基、チアゾリジニル基、ジオキ
ソラニル基、ジチアラニル基、ピリジル基、ピリダジニ
ル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ジヒドロピリジ
ル基、テトラヒドロピリジル基、ピペリジニル基、ジヒ
ドロオキソピリダジニル基、テトラヒドロオキソピリダ
ジニル基、ジヒドロオキソピリミジニル基、テトラヒド
ロオキソピリミジニル基、ピペラジニル基、ジヒドロピ
ラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキサニル基、
ジヒドロジチイニル基、ジチアニル基、モルホリニル基
などが挙げられ、前記多環式複素環基としては、チエノ
チエニル基、ジヒドロシクロペンタチエニル基、インド
リル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンズ
オキサゾリル基、ベンズイソオキサゾリル基、ベンゾチ
アゾリル基、ベンズイミダゾリル基、テトラヒドロベン
ゾチエニル基、ジヒドロベンゾフラニル基、テトラヒド
ロベンズイソオキサゾリル基、ベンゾジオキソリル基、
キノリニル基、イソキノリニル基、ベンゾジオキサニル
基、キノキサリニル基のような縮合型多環式複素環基又
はキヌクリジニル基のような架橋型多環式複素環基が挙
げられる。Ra及びXaが結合して形成する複素環とし
ては2−ピロリドニル基などが挙げられる。
【0007】Rc及びRhに含まれる置換されてもよい
アルキル基、Rg、Ri、R1、R6及びR9に含まれ
る置換されてもよい鎖式炭化水素基、Re、R2及びR
7に含まれる置換されてもよいアルキル基及び置換され
てもよいアルコキシ基、R3、R8及びR10に含まれ
る置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアル
ケニル基及び置換されてもよいアルキニル基並びに
Rb、Rj、R4、R5、R11及びR12に含まれる
置換されてもよいアルキル基の置換基としてはハロゲン
原子、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ
基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、シクロア
ルケニル基、シクロアルケニルオキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基、
アルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキル基で置換
されたアミノ基などが挙げられ、それらの置換基又はそ
れらの置換基に付随する置換基の数は1ケであっても2
ケ以上であってもよく、2ケ以上の場合それらの置換基
は同一であっても異なってもよい。
アルキル基、Rg、Ri、R1、R6及びR9に含まれ
る置換されてもよい鎖式炭化水素基、Re、R2及びR
7に含まれる置換されてもよいアルキル基及び置換され
てもよいアルコキシ基、R3、R8及びR10に含まれ
る置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアル
ケニル基及び置換されてもよいアルキニル基並びに
Rb、Rj、R4、R5、R11及びR12に含まれる
置換されてもよいアルキル基の置換基としてはハロゲン
原子、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ
基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、シクロア
ルケニル基、シクロアルケニルオキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基、
アルキルカルボニルオキシ基、アリール基、アリールオ
キシ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキル基で置換
されたアミノ基などが挙げられ、それらの置換基又はそ
れらの置換基に付随する置換基の数は1ケであっても2
ケ以上であってもよく、2ケ以上の場合それらの置換基
は同一であっても異なってもよい。
【0008】また、Rb、Rc及びRhに含まれる置換
されてもよいフェニル基及び置換されてもよいシクロア
ルキル基、Rg、Ri、R1、R6及びR9に含まれる
置換されてもよい単環式炭化水素基、置換されてもよい
多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環基及
び置換されてもよい多環式複素環基、Re、R2及びR
7に含まれる置換されてもよいフェニル基及び置換され
てもよいフェノキシ基並びにR3、R8及びR10に含
まれる置換されてもよいシクロアルキル基、置換されて
もよいフェニル基及び置換されてもよいベンジル基の置
換基としてはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ
基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、シクロア
ルケニル基、シクロアルケニルオキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニ
ルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、アミノ基、アルキル基で置換されたアミノ基、
シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基などが挙げられ、
それら置換基又はそれらの置換基に付随する置換基の数
は1ケであっても2ケ以上であってもよく、2ケ以上の
場合それらの置換基は同一であっても異なってもよい。
されてもよいフェニル基及び置換されてもよいシクロア
ルキル基、Rg、Ri、R1、R6及びR9に含まれる
置換されてもよい単環式炭化水素基、置換されてもよい
多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環基及
び置換されてもよい多環式複素環基、Re、R2及びR
7に含まれる置換されてもよいフェニル基及び置換され
てもよいフェノキシ基並びにR3、R8及びR10に含
まれる置換されてもよいシクロアルキル基、置換されて
もよいフェニル基及び置換されてもよいベンジル基の置
換基としてはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、ハロアルコキシ基、アルキルチオ
基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、シクロア
ルケニル基、シクロアルケニルオキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、アルキルカルボニル基、アルキルカルボニ
ルオキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アリール
チオ基、アミノ基、アルキル基で置換されたアミノ基、
シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基などが挙げられ、
それら置換基又はそれらの置換基に付随する置換基の数
は1ケであっても2ケ以上であってもよく、2ケ以上の
場合それらの置換基は同一であっても異なってもよい。
【0009】一般式(I)中、A、Z1、Z3及びZ4
に含まれるアルキル基並びにアルキル部分としては、炭
素数1〜18のもの、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル
基、オクチル基、デシル基、ノナデシル基などが挙げら
れ、それらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも
含む。A、Z1、Z3及びZ4に含まれるアルケニル基
ならびにアルケニル部分としては、炭素数が2〜18の
もの、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、デセニル基、ノナデセニル
基などが挙げられ、またそれらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖
の構造異性のものも含む。A、Z1、Z3及びZ4に含
まれるアルキニル基並びにアルキニル部分としては、炭
素数が2〜18のもの、例えばエチニル基、プロピニル
基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、デシニ
ル基、ノナデシニル基などが挙げられ、またそれらは直
鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。A、
Z1、Z3及びZ4に含まれるシクロアルキル基並びに
シクロアルキル部分としては、炭素数3〜8のもの、例
えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙
げられる。A、Z1、Z3及びZ4に含まれるシクロア
ルケニル基並びにシクロアルケニル部分としては、炭素
数5〜8のもの、例えば、シクロペンテニル基、シクロ
ヘキセニル基、シクロオクテニル基などが挙げられる。
更にX及びYに含まれるハロゲン原子としては弗素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。X及
びYに含まれるアリール基並びにアリール部分として
は、フェニル基、チエニル基、フラニル基、ピリジル
基、ナフチル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフラニル
基、キノリニル基などが挙げられる。
に含まれるアルキル基並びにアルキル部分としては、炭
素数1〜18のもの、例えばメチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル
基、オクチル基、デシル基、ノナデシル基などが挙げら
れ、それらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも
含む。A、Z1、Z3及びZ4に含まれるアルケニル基
ならびにアルケニル部分としては、炭素数が2〜18の
もの、例えばビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペ
ンテニル基、ヘキセニル基、デセニル基、ノナデセニル
基などが挙げられ、またそれらは直鎖又は枝分れ脂肪鎖
の構造異性のものも含む。A、Z1、Z3及びZ4に含
まれるアルキニル基並びにアルキニル部分としては、炭
素数が2〜18のもの、例えばエチニル基、プロピニル
基、ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、デシニ
ル基、ノナデシニル基などが挙げられ、またそれらは直
鎖又は枝分れ脂肪鎖の構造異性のものも含む。A、
Z1、Z3及びZ4に含まれるシクロアルキル基並びに
シクロアルキル部分としては、炭素数3〜8のもの、例
えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペン
チル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙
げられる。A、Z1、Z3及びZ4に含まれるシクロア
ルケニル基並びにシクロアルケニル部分としては、炭素
数5〜8のもの、例えば、シクロペンテニル基、シクロ
ヘキセニル基、シクロオクテニル基などが挙げられる。
更にX及びYに含まれるハロゲン原子としては弗素原
子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。X及
びYに含まれるアリール基並びにアリール部分として
は、フェニル基、チエニル基、フラニル基、ピリジル
基、ナフチル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフラニル
基、キノリニル基などが挙げられる。
【0010】一般式(I)で表わされる化合物は、A、
Z1又はZ4にスルホニル基を含む場合、塩を形成して
もよく、それらの塩としては、医薬上許容されるもので
あればよく、例えば、カリウム塩、ナトリウム塩のよう
なアルカリ金属塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類
金属塩、トリエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシ
メチル)アミノメタン塩のような有機アミン塩などが挙
げられる。又、これらの塩の中で結晶水をもつものもあ
る。
Z1又はZ4にスルホニル基を含む場合、塩を形成して
もよく、それらの塩としては、医薬上許容されるもので
あればよく、例えば、カリウム塩、ナトリウム塩のよう
なアルカリ金属塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類
金属塩、トリエタノールアミン塩、トリス(ヒドロキシ
メチル)アミノメタン塩のような有機アミン塩などが挙
げられる。又、これらの塩の中で結晶水をもつものもあ
る。
【0011】一般式(I)で表わされる化合物中、以下
の化合物は新規である。 (1)一般式(I−1)
の化合物は新規である。 (1)一般式(I−1)
【0012】
【化17】
【0013】〔式中、A1は−N(Ra)Xa基又は−
NHXb基であり、Xaは−CW1R1基、−COCO
R2基、−CW1NHCOR2基、−C(=W1)W2
R3基又は−CW1N(R4)R5基であり、Xbは−
(NH)1SO2R1基又は−CH2Rb基であり、Z
1は−NHY基、水素原子、ハロゲン原子、−W5−R
c基又はアミノ基であり、Yは置換されてもよいフェニ
ル基、アルキル基、−CW3R6基、−COCOR
7基、−NHCOR7基、−C(=W3)W4R8基、
−(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2OR
10基又は−(NH)mSO2N(R11)R12基で
あり、Z4’は水素原子、ハロゲン原子、−W6−Rh
基、−(NH)nSO2Ri基、−NHRj基又はピペ
ラジニル基であり、Raは水素原子、アルキル基、アル
キルカルボニル基又はアルコキシカルボニル基であり、
Ra及びXaは互いに結合して隣接する窒素原子と共に
複素環を形成してもよく、Rbは置換されてもよいフェ
ニル基、置換されてもよいシクロアルキル基又は置換さ
れてもよいアルキル基であり、Rc及びRhは各々独立
して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換さ
れてもよいフェニル基又は置換されてもよいシクロアル
キル基であり、Ri、R1、R6及びR9は各々独立し
て、置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよ
い単環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素
基、置換されてもよい単環式複素環基又は置換されても
よい多環式複素環基であり、R2及びR7は各々独立し
て、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいア
ルコキシ基、置換されてもよいフェニル基又は置換され
てもよいフェノキシ基であり、R3、R8及びR10は
各々独立して、置換されてもよいアルキル基、置換され
てもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル
基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されても
よいフェニル基又は置換されてもよいベンジル基であ
り、Rj、R4、R5、R11及びR12は各々独立し
て、置換されてもよいアルキル基であり、W1、W2、
W3、W4、W5及びW6は各々独立して、酸素原子又
は硫黄原子であり、1、m及びnはそれぞれ0又は1で
あり、但し、A1が−N(Ra)Xa基であり、Raが
水素原子であり、かつ、Z4’が水素原子のとき、Z1
は水素原子、−NHY基(Yは置換されてもよいフェニ
ル基)又は−W5−Rc基である)で表わされるピリジ
ン誘導体又はその塩。
NHXb基であり、Xaは−CW1R1基、−COCO
R2基、−CW1NHCOR2基、−C(=W1)W2
R3基又は−CW1N(R4)R5基であり、Xbは−
(NH)1SO2R1基又は−CH2Rb基であり、Z
1は−NHY基、水素原子、ハロゲン原子、−W5−R
c基又はアミノ基であり、Yは置換されてもよいフェニ
ル基、アルキル基、−CW3R6基、−COCOR
7基、−NHCOR7基、−C(=W3)W4R8基、
−(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2OR
10基又は−(NH)mSO2N(R11)R12基で
あり、Z4’は水素原子、ハロゲン原子、−W6−Rh
基、−(NH)nSO2Ri基、−NHRj基又はピペ
ラジニル基であり、Raは水素原子、アルキル基、アル
キルカルボニル基又はアルコキシカルボニル基であり、
Ra及びXaは互いに結合して隣接する窒素原子と共に
複素環を形成してもよく、Rbは置換されてもよいフェ
ニル基、置換されてもよいシクロアルキル基又は置換さ
れてもよいアルキル基であり、Rc及びRhは各々独立
して、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換さ
れてもよいフェニル基又は置換されてもよいシクロアル
キル基であり、Ri、R1、R6及びR9は各々独立し
て、置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよ
い単環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素
基、置換されてもよい単環式複素環基又は置換されても
よい多環式複素環基であり、R2及びR7は各々独立し
て、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいア
ルコキシ基、置換されてもよいフェニル基又は置換され
てもよいフェノキシ基であり、R3、R8及びR10は
各々独立して、置換されてもよいアルキル基、置換され
てもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキニル
基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換されても
よいフェニル基又は置換されてもよいベンジル基であ
り、Rj、R4、R5、R11及びR12は各々独立し
て、置換されてもよいアルキル基であり、W1、W2、
W3、W4、W5及びW6は各々独立して、酸素原子又
は硫黄原子であり、1、m及びnはそれぞれ0又は1で
あり、但し、A1が−N(Ra)Xa基であり、Raが
水素原子であり、かつ、Z4’が水素原子のとき、Z1
は水素原子、−NHY基(Yは置換されてもよいフェニ
ル基)又は−W5−Rc基である)で表わされるピリジ
ン誘導体又はその塩。
【0014】(2)一般式(I−2)
【0015】
【化18】
【0016】〔式中、A2は−NHXa基又は−NHS
O2R1基、Xaは−CW1R1基、−COCOR
2基、−CW1NHCOR2基、−C(=W1)W2R
3基又は−CW1N(R4)R5基であり、Y’は−
(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2OR10
基又は−(NH)mSO2N(R11)R12基であ
り、Z3’は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ
ノ基、−NHCORe基、シアノ基、−CORg基又は
アルキル基であり、Z4”は水素原子又はトリフルオロ
メチル基であり、Rg、R1及びR9は各々独立して、
置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単
環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、
置換されてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい
多環式複素環基であり、Re及びR2は各々独立して、
置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコ
キシ基、置換されてもよいフェニル基又は置換されても
よいフェノキシ基であり、R3及びR10は各々独立し
て、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいア
ルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換され
てもよいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル
基又は置換されてもよいベンジル基であり、R4、
R5、R11及びR12は各々独立して、置換されても
よいアルキル基であり、W1及びW2は各々独立して、
酸素原子又は硫黄原子であり、mは0又は1であり、但
し、(1)Z3’が水素原子であるときZ4”はトリフ
ルオロメチル基であり、(2)Z3’がシアノ基又はア
ルキル基であるとき、Z4”は水素原子である〕で表わ
されるピリジン誘導体又はその塩。
O2R1基、Xaは−CW1R1基、−COCOR
2基、−CW1NHCOR2基、−C(=W1)W2R
3基又は−CW1N(R4)R5基であり、Y’は−
(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2OR10
基又は−(NH)mSO2N(R11)R12基であ
り、Z3’は水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミ
ノ基、−NHCORe基、シアノ基、−CORg基又は
アルキル基であり、Z4”は水素原子又はトリフルオロ
メチル基であり、Rg、R1及びR9は各々独立して、
置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単
環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、
置換されてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい
多環式複素環基であり、Re及びR2は各々独立して、
置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコ
キシ基、置換されてもよいフェニル基又は置換されても
よいフェノキシ基であり、R3及びR10は各々独立し
て、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいア
ルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換され
てもよいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニル
基又は置換されてもよいベンジル基であり、R4、
R5、R11及びR12は各々独立して、置換されても
よいアルキル基であり、W1及びW2は各々独立して、
酸素原子又は硫黄原子であり、mは0又は1であり、但
し、(1)Z3’が水素原子であるときZ4”はトリフ
ルオロメチル基であり、(2)Z3’がシアノ基又はア
ルキル基であるとき、Z4”は水素原子である〕で表わ
されるピリジン誘導体又はその塩。
【0017】(3)一般式(I−3)
【0018】
【化19】
【0019】〔式中、A4はニトロ基又はアミノ基であ
り、Z1’は−NHY’基、水素原子、ハロゲン原子、
−W5−Rc基又はアミノ基であり、Y’は−(NH)
mSO2R9基、−(NH)mSO2OR10基又は−
(NH)mSO2N(R11)R12基であり、
Z4'''はハロゲン原子、−W6−Rh基、−(NH)
nSO2Ri基、−NHRj基又はピペラジニル基であ
り、Rc、Rh、Ri、Rj、R9、R10、R11、
R12、m及びnは前述の通りであり、但し、Z4'''
がハロゲン原子又は−W6−Rh基であるとき、Z1’
は−NHY’基である〕で表わされるピリジン誘導体又
はその塩。
り、Z1’は−NHY’基、水素原子、ハロゲン原子、
−W5−Rc基又はアミノ基であり、Y’は−(NH)
mSO2R9基、−(NH)mSO2OR10基又は−
(NH)mSO2N(R11)R12基であり、
Z4'''はハロゲン原子、−W6−Rh基、−(NH)
nSO2Ri基、−NHRj基又はピペラジニル基であ
り、Rc、Rh、Ri、Rj、R9、R10、R11、
R12、m及びnは前述の通りであり、但し、Z4'''
がハロゲン原子又は−W6−Rh基であるとき、Z1’
は−NHY’基である〕で表わされるピリジン誘導体又
はその塩。
【0020】一般式(I−1)で表わされる化合物は例
えば次の反応〔A〕〜〔C〕のような方法で製造するこ
とができる。
えば次の反応〔A〕〜〔C〕のような方法で製造するこ
とができる。
【0021】反応〔A〕 A1が−N(Ra)Xa基で
あり、Raが水素原子である場合又はA1が−NHXb
基でありXbが−SO2R1基である場合
あり、Raが水素原子である場合又はA1が−NHXb
基でありXbが−SO2R1基である場合
【0022】
【化20】
【0023】(式中、Xa、Z1、Z4’、R1、
R2、R3、R4、R5、W1及びW2は前述の通りで
あり、Halはハロゲン原子である)
R2、R3、R4、R5、W1及びW2は前述の通りで
あり、Halはハロゲン原子である)
【0024】反応〔B〕 A1が−N(Ra)Xa基で
あり、Raがアルキル基、アルキルカルボニル基又はア
ルコキシカルボニル基である場合
あり、Raがアルキル基、アルキルカルボニル基又はア
ルコキシカルボニル基である場合
【0025】
【化21】
【0026】(式中、Xa、Z1及びZ4’は前述の通
りであり、Ra’はアルキル基、アルキルカルボニル基
又はアルコキシカルボニル基である)
りであり、Ra’はアルキル基、アルキルカルボニル基
又はアルコキシカルボニル基である)
【0027】反応〔C〕 A1が−NHXb基であり、
Xbが−CH2Rb基である場合
Xbが−CH2Rb基である場合
【0028】
【化22】
【0029】(式中、Z4’、Rbは前述の通りであ
り、Z1”は−NHY”基、水素原子、ハロゲン原子、
−W5−Rc基又はアミノ基であり、Y”はアルキル
基、−(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2O
R10基又は−(NH)mSO2N(R11)R12基
である)
り、Z1”は−NHY”基、水素原子、ハロゲン原子、
−W5−Rc基又はアミノ基であり、Y”はアルキル
基、−(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2O
R10基又は−(NH)mSO2N(R11)R12基
である)
【0030】前記反応〔A〕及び〔B〕の反応は通常溶
媒の存在下、必要により塩基を使用することにより、行
なわれる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類;クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、ト
リクロロエタン、n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの
環状又は非環状脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類;アセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類;ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非
プロトン性極性溶媒などが挙げられる。塩基としては無
機塩基、有機塩基のいずれでもよく、無機塩基として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物;無水炭酸カリウム、無水炭酸
カルシウムのようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の炭酸塩;水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素
化物;金属ナトリウムのようなアルカリ金属などが挙げ
られ、また有機塩基としてはピリジン、トリエチルアミ
ンなどが挙げられる。反応温度は通常−30〜+100
℃、望ましくは0〜60℃、反応時間は通常1〜24時
間、望ましくは1〜10時間である。
媒の存在下、必要により塩基を使用することにより、行
なわれる。溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類;クロロホ
ルム、四塩化炭素、塩化メチレン、ジクロロエタン、ト
リクロロエタン、n−ヘキサン、シクロヘキサンなどの
環状又は非環状脂肪族炭化水素類;ジエチルエーテル、
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類;ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類;アセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類;ジメチルホルムアミド、N−メチルピ
ロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの非
プロトン性極性溶媒などが挙げられる。塩基としては無
機塩基、有機塩基のいずれでもよく、無機塩基として
は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのよう
なアルカリ金属水酸化物;無水炭酸カリウム、無水炭酸
カルシウムのようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属
の炭酸塩;水素化ナトリウムのようなアルカリ金属水素
化物;金属ナトリウムのようなアルカリ金属などが挙げ
られ、また有機塩基としてはピリジン、トリエチルアミ
ンなどが挙げられる。反応温度は通常−30〜+100
℃、望ましくは0〜60℃、反応時間は通常1〜24時
間、望ましくは1〜10時間である。
【0031】前記反応〔A〕の反応において、HOOC
R1との反応では脱水縮合剤を存在させる必要があり、
その脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、N,N’−カルボニルジイミダゾール、1−エチ
ル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ドなどが挙げられる。
R1との反応では脱水縮合剤を存在させる必要があり、
その脱水縮合剤としては、ジシクロヘキシルカルボジイ
ミド、N,N’−カルボニルジイミダゾール、1−エチ
ル−3−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミ
ドなどが挙げられる。
【0032】前記反応〔A〕で得られる化合物中、例え
ば以下の化合物は、Xaに含まれるハロゲン原子がXa
に隣接する窒素原子と反応して複素環を形成することが
できる。
ば以下の化合物は、Xaに含まれるハロゲン原子がXa
に隣接する窒素原子と反応して複素環を形成することが
できる。
【0033】
【化23】
【0034】(式中、Z1、Z4’及びHalは前述の
通りであり、pは3又は4である)前記反応〔C〕の出
発物質は前記反応〔A〕により製造することができる。
前記反応〔C〕の反応は、水素化アルミニウムナトリウ
ム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ほう素テトラ
−n−ブチルアンモニウムなどの金属水素化物を用いる
方法、ジボランを用いる方法、パラジウム触媒或はニッ
ケル触媒等の存在下水素を用いた接触水素添加による方
法等が挙げられる。この還元反応に使用する溶媒は、還
元方法により任意に選択すればよく、一般的には、メタ
ノール、エタノールおよびプロパノールなどのアルコー
ル類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素、塩
化メチレンなどの脂肪族炭化水素類などが挙げられる。
反応温度は通常0〜100℃、反応時間は通常1〜24
時間である。
通りであり、pは3又は4である)前記反応〔C〕の出
発物質は前記反応〔A〕により製造することができる。
前記反応〔C〕の反応は、水素化アルミニウムナトリウ
ム、水素化アルミニウムリチウム、水素化ほう素テトラ
−n−ブチルアンモニウムなどの金属水素化物を用いる
方法、ジボランを用いる方法、パラジウム触媒或はニッ
ケル触媒等の存在下水素を用いた接触水素添加による方
法等が挙げられる。この還元反応に使用する溶媒は、還
元方法により任意に選択すればよく、一般的には、メタ
ノール、エタノールおよびプロパノールなどのアルコー
ル類、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ランなどのエーテル類、クロロホルム、四塩化炭素、塩
化メチレンなどの脂肪族炭化水素類などが挙げられる。
反応温度は通常0〜100℃、反応時間は通常1〜24
時間である。
【0035】一般式(I−2)で表わされる化合物は例
えば次の反応〔D〕のような方法で製造することができ
る。
えば次の反応〔D〕のような方法で製造することができ
る。
【0036】反応〔D〕
【0037】
【化24】 式中、A2、Y’、Z3’、Z4”、R1、R2、
R3、R4、R5、W1、W2及びHalは前述の通り
である)前記反応〔D〕の反応は、前記反応〔A〕と同
様に行うことができる。前記一般式(II−1)又は
(II−2)で表わされる化合物は、例えば次の反応
〔E〕のような方法で製造することができる。
R3、R4、R5、W1、W2及びHalは前述の通り
である)前記反応〔D〕の反応は、前記反応〔A〕と同
様に行うことができる。前記一般式(II−1)又は
(II−2)で表わされる化合物は、例えば次の反応
〔E〕のような方法で製造することができる。
【0038】反応〔E〕
【0039】
【化25】
【0040】(式中、Y’、Z1、Z3’、Z4’及び
Z4”は前述の通りである)前記反応〔E〕の還元反応
としては、鉄或は亜鉛と共に塩酸或は酢酸等の酸を用い
る方法、水硫化ナトリウム、水硫化カリウム、硫化ナト
リウム、硫化カリウム、ハイドロサルファイトナトリウ
ムを用いる方法、パラジウム触媒或はニッケル触媒等の
存在下水素を用いた接触水素添加による方法等が挙げら
れる。この還元反応に使用する溶媒は、還元方法によ
り、任意に選択すればよく、一般的には、メタノール、
エタノール及びプロパノールなどのアルコール類、水、
酢酸、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
アセトニトリルなどが挙げられる。反応温度は通常0〜
100℃、反応時間は通常1〜24時間である。
Z4”は前述の通りである)前記反応〔E〕の還元反応
としては、鉄或は亜鉛と共に塩酸或は酢酸等の酸を用い
る方法、水硫化ナトリウム、水硫化カリウム、硫化ナト
リウム、硫化カリウム、ハイドロサルファイトナトリウ
ムを用いる方法、パラジウム触媒或はニッケル触媒等の
存在下水素を用いた接触水素添加による方法等が挙げら
れる。この還元反応に使用する溶媒は、還元方法によ
り、任意に選択すればよく、一般的には、メタノール、
エタノール及びプロパノールなどのアルコール類、水、
酢酸、酢酸エチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
アセトニトリルなどが挙げられる。反応温度は通常0〜
100℃、反応時間は通常1〜24時間である。
【0041】一般式(III−1)又は(III−2)
で表わされる化合物は例えば次の反応〔F〕〜〔P〕に
より製造することができる。
で表わされる化合物は例えば次の反応〔F〕〜〔P〕に
より製造することができる。
【0042】反応〔F〕
【0043】
【化26】 (式中、Y、Rc、Rh、Hal、W5及びW6は前述
の通りであり、Qは−NHSO2Ri基、−NHRj基
又はピペラジニル基である)
の通りであり、Qは−NHSO2Ri基、−NHRj基
又はピペラジニル基である)
【0044】反応〔G〕
【0045】
【化27】 (式中、Rh、W6、Hal及びQは前述の通りであ
る)
る)
【0046】反応〔H〕
【0047】
【化28】 (式中、Rc、Rh、Hal、W5、W6及びQは前述
の通りであり、R9’は置換されてもよいアルキル基、
置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいシク
ロアルキル基又は置換されてもよいシクロアルケニル基
である)
の通りであり、R9’は置換されてもよいアルキル基、
置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいシク
ロアルキル基又は置換されてもよいシクロアルケニル基
である)
【0048】反応〔I〕
【0049】
【化29】 (式中、Rh、Hal、W6及びQは前述の通りであ
る)
る)
【0050】反応〔J〕
【0051】
【化30】 (式中、Rc及びW5は前述の通りである)
【0052】反応〔K〕
【0053】
【化31】 (式中、Y’は前述の通りである)
【0054】反応〔L〕
【0055】
【化32】 (式中、Y’、Re及びHalは前述の通りである)
【0056】反応〔M〕
【0057】
【化33】 (式中、Z3'''はハロゲン原子、−CORg基又はア
ルキル基であり、Y4は−SO2R9基、−SO2OR
10基又は−SO2N(R11)R12基であり、
Y’、Rg、R9、R10、R11及びR12は前述の
通りである)
ルキル基であり、Y4は−SO2R9基、−SO2OR
10基又は−SO2N(R11)R12基であり、
Y’、Rg、R9、R10、R11及びR12は前述の
通りである)
【0058】反応〔N〕
【0059】
【化34】 (式中、Z3”はハロゲン原子、シアノ基、−CORg
基又はアルキル基であり、Y3は−SO2R9’基であ
り、R9’は置換されてもよいアルキル基、置換されて
もよいアルケニル基、置換されてもよいシクロアルキル
基又は置換されてもよいシクロアルケニル基であり、R
gは前述の通りである)
基又はアルキル基であり、Y3は−SO2R9’基であ
り、R9’は置換されてもよいアルキル基、置換されて
もよいアルケニル基、置換されてもよいシクロアルキル
基又は置換されてもよいシクロアルケニル基であり、R
gは前述の通りである)
【0060】反応〔O〕
【0061】
【化35】 (式中、Y’及びHalは前述の通りである)
【0062】反応〔P〕
【0063】
【化36】 (式中、Y’及びReは前述の通りである)
【0064】前記反応〔F〕、〔G〕、〔H〕、
〔I〕、〔K〕、〔L〕、〔M〕、〔O〕又は〔P〕の
アミノ化工程(1)は、通常溶媒の存在下、必要により
塩基を使用することにより、行なわれる。溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンな
どの芳香族炭化水素類;クロロホルム、四塩化炭素、塩
化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、n−
ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状脂肪族
炭化水素類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類;アセトニトリル、プロピ
オニトリルなどのニトリル類;ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。塩
基としては前記反応〔A〕及び〔B〕で用いることので
きるものと同様のものでよい。反応温度は通常−30〜
+100℃、反応時間は通常1〜24時間である。
〔I〕、〔K〕、〔L〕、〔M〕、〔O〕又は〔P〕の
アミノ化工程(1)は、通常溶媒の存在下、必要により
塩基を使用することにより、行なわれる。溶媒として
は、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンな
どの芳香族炭化水素類;クロロホルム、四塩化炭素、塩
化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、n−
ヘキサン、シクロヘキサンなどの環状又は非環状脂肪族
炭化水素類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル類;アセトニトリル、プロピ
オニトリルなどのニトリル類;ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ランなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。塩
基としては前記反応〔A〕及び〔B〕で用いることので
きるものと同様のものでよい。反応温度は通常−30〜
+100℃、反応時間は通常1〜24時間である。
【0065】前記反応〔F〕のハロゲン交換工程は、通
常、フッ化カリウム、ヨウ化ナトリウムなどのハロゲン
化アルカリ、フッ化セシウムが使用される。溶媒として
はアセトン、2−ブタノン、エチレングリコール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、スルホラ
ン、アセトニトリル、ジメチルスルホン、アセトアミド
などが挙げられる。反応温度は通常室温〜200℃、反
応時間は1〜12時間である。又ハロゲン化水素を用い
てもよい。
常、フッ化カリウム、ヨウ化ナトリウムなどのハロゲン
化アルカリ、フッ化セシウムが使用される。溶媒として
はアセトン、2−ブタノン、エチレングリコール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、スルホラ
ン、アセトニトリル、ジメチルスルホン、アセトアミド
などが挙げられる。反応温度は通常室温〜200℃、反
応時間は1〜12時間である。又ハロゲン化水素を用い
てもよい。
【0066】前記反応〔F〕、〔G〕、〔H〕、〔I〕
又は〔J〕のRhW6化工程及びRcW5化工程は、通
常溶媒の存在下、塩基を使用することにより行なわれ
る。溶媒としてはジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、2−ブタノ
ンなどが挙げられる。塩基としてはナトリウムアミド、
炭酸カリウム、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、
水素化ナトリウム、ナトリウムなどが挙げられる。反応
温度は通常0〜100℃、反応時間は通常1〜10時間
である。
又は〔J〕のRhW6化工程及びRcW5化工程は、通
常溶媒の存在下、塩基を使用することにより行なわれ
る。溶媒としてはジメチルスルホキシド、ジメチルホル
ムアミド、テトラヒドロフラン、アセトン、2−ブタノ
ンなどが挙げられる。塩基としてはナトリウムアミド、
炭酸カリウム、トリエチルアミン、水酸化ナトリウム、
水素化ナトリウム、ナトリウムなどが挙げられる。反応
温度は通常0〜100℃、反応時間は通常1〜10時間
である。
【0067】前記反応〔G〕、〔H〕、〔I〕、
〔K〕、〔N〕又は〔O〕のアミノ化工程(2)は、通
常溶媒の存在下、塩基を使用することにより行なわれ
る。溶媒としては、ジメチルアセトアミド、1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒が挙げられる。塩基として
は、無機塩基、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのようなアルカリ金属水酸化物、無水炭酸カリウ
ム、無水炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属の炭酸塩
などが挙げられる。反応温度は通常、80〜150℃、
反応時間は通常1〜10時間である。
〔K〕、〔N〕又は〔O〕のアミノ化工程(2)は、通
常溶媒の存在下、塩基を使用することにより行なわれ
る。溶媒としては、ジメチルアセトアミド、1,3−ジ
メチル−2−イミダゾリジノン、ジメチルスルホキシド
などの非プロトン性極性溶媒が挙げられる。塩基として
は、無機塩基、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウムのようなアルカリ金属水酸化物、無水炭酸カリウ
ム、無水炭酸ナトリウムのようなアルカリ金属の炭酸塩
などが挙げられる。反応温度は通常、80〜150℃、
反応時間は通常1〜10時間である。
【0068】前記反応〔G〕、〔H〕、〔I〕、
〔K〕、〔L〕、〔N〕、〔O〕又は〔P〕のニトロ化
工程は通常溶媒の存在下、硝酸若しくは硝酸塩と反応さ
せることにより行われる。硝酸塩とは、硝酸ナトリウ
ム、硝酸カリウムなどであり、溶媒としては、硫酸、酢
酸、無水酢酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられる。反
応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常1〜10
時間である。
〔K〕、〔L〕、〔N〕、〔O〕又は〔P〕のニトロ化
工程は通常溶媒の存在下、硝酸若しくは硝酸塩と反応さ
せることにより行われる。硝酸塩とは、硝酸ナトリウ
ム、硝酸カリウムなどであり、溶媒としては、硫酸、酢
酸、無水酢酸、トリフルオロ酢酸などが挙げられる。反
応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常1〜10
時間である。
【0069】前記反応〔H〕、〔I〕及び〔O〕のハロ
ゲン化工程は、通常過剰のハロゲン化チオニル、ハロゲ
ン化リン等のハロゲン化剤と反応させることにより行わ
れる。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常
1〜10時間である。
ゲン化工程は、通常過剰のハロゲン化チオニル、ハロゲ
ン化リン等のハロゲン化剤と反応させることにより行わ
れる。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常
1〜10時間である。
【0070】前記反応〔H〕、〔I〕及び〔O〕のOH
化工程は、通常溶媒の存在下、塩基を使用することによ
り行われる。溶媒としてはメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ターシャリーブタノールなどのアルコ
ール類が用いられ、塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物が用いられ
る。反応温度は普通室温〜100℃、反応時間は1〜1
0時間である。
化工程は、通常溶媒の存在下、塩基を使用することによ
り行われる。溶媒としてはメタノール、エタノール、イ
ソプロパノール、ターシャリーブタノールなどのアルコ
ール類が用いられ、塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物が用いられ
る。反応温度は普通室温〜100℃、反応時間は1〜1
0時間である。
【0071】前記反応〔L〕及び〔P〕のReCO化工
程は、前記反応〔A〕の場合と同様に行うことができ
る。前記反応〔L〕又は〔P〕の還元工程は、前記反応
〔E〕と同様に行うことができる。前記反応〔M〕又は
〔N〕のスルホニル化工程は、前記反応〔A〕と同様に
行うことができる。
程は、前記反応〔A〕の場合と同様に行うことができ
る。前記反応〔L〕又は〔P〕の還元工程は、前記反応
〔E〕と同様に行うことができる。前記反応〔M〕又は
〔N〕のスルホニル化工程は、前記反応〔A〕と同様に
行うことができる。
【0072】前記反応〔H〕及び〔I〕中、一般式(I
V−1)で表わされる次の化合物は新規である。
V−1)で表わされる次の化合物は新規である。
【0073】
【化37】 (式中、Z1’及びZ4'''は前述の通りであり、但
し、Z4'''がハロゲン原子又は−W6Rh基であると
きZ1’は−NHY’基である〕で表わされる化合物。
し、Z4'''がハロゲン原子又は−W6Rh基であると
きZ1’は−NHY’基である〕で表わされる化合物。
【0074】一般式(I−3)で表わされる化合物は、
前記反応〔F〕〜〔J〕の方法及び〔E〕の方法によっ
て製造することができる。一般式(I−7)で表わされ
る化合物は、ホスホリパーゼA2阻害活性を有するジア
ミノトリフルオロメチルピリジン誘導体の中間体として
ヨーロッパ特許公開番号465913号明細書に記載の
化合物である。
前記反応〔F〕〜〔J〕の方法及び〔E〕の方法によっ
て製造することができる。一般式(I−7)で表わされ
る化合物は、ホスホリパーゼA2阻害活性を有するジア
ミノトリフルオロメチルピリジン誘導体の中間体として
ヨーロッパ特許公開番号465913号明細書に記載の
化合物である。
【0075】一般式(I−7)
【化38】 (式中、A4及びY’は前述の通りである)
【0076】前記一般式(I)で表わされ、一般式(I
−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−7)の化合
物に含まれない化合物は、公知化合物であるか、或は公
知の化合物から、前述した反応〔A〕〜〔P〕の方法に
準じて製造される。
−1)、(I−2)、(I−3)又は(I−7)の化合
物に含まれない化合物は、公知化合物であるか、或は公
知の化合物から、前述した反応〔A〕〜〔P〕の方法に
準じて製造される。
【0077】以下に本発明化合物の具体的合成例を記載
するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
するが、本発明はそれらに限定されるものではない。
【0078】合成例1 N−(6−クロロ−2−エチルスルホニルアミノ−5−
トリフルオロメチル−3−ピリジル)−シクロヘキサン
カルボキサミド(化合物No.4)の合成 (1)2,6−ジクロロ−3−トリフルオロメチルピリ
ジン25.0gとエタンスルホンアミド18.95gを
ジメチルスルホキシド250mlに溶解させ、さらに無
水炭酸カリウム39.93gを加えた。この混合溶液を
120〜130℃に加熱し、7時間反応させた。反応終
了後、反応物を水1リットル中へ注ぎ込み、エーテル5
00mlを加え、分液した。水層を分離後、濃塩酸で酸
性にし、析出結晶をろ別し、乾燥を行い、N−(6−ク
ロロ−3−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−エタ
ンスルホンアミドとN−(6−クロロ−5−トリフルオ
ロメチル−2−ピリジル)−エタンスルホンアミドの混
合物(生成比2:1)25.54gを得た。この混合物
10.0gをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
分離、精製し、融点113〜114℃のN−(6−クロ
ロ−3−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−エタン
スルホンアミド(中間体No.1)5.64gと融点1
67〜169℃のN−(6−クロロ−5−トリフルオロ
メチル−2−ピリジル)−エタンスルホンアミド(中間
体No.2)3.05gを得た。
トリフルオロメチル−3−ピリジル)−シクロヘキサン
カルボキサミド(化合物No.4)の合成 (1)2,6−ジクロロ−3−トリフルオロメチルピリ
ジン25.0gとエタンスルホンアミド18.95gを
ジメチルスルホキシド250mlに溶解させ、さらに無
水炭酸カリウム39.93gを加えた。この混合溶液を
120〜130℃に加熱し、7時間反応させた。反応終
了後、反応物を水1リットル中へ注ぎ込み、エーテル5
00mlを加え、分液した。水層を分離後、濃塩酸で酸
性にし、析出結晶をろ別し、乾燥を行い、N−(6−ク
ロロ−3−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−エタ
ンスルホンアミドとN−(6−クロロ−5−トリフルオ
ロメチル−2−ピリジル)−エタンスルホンアミドの混
合物(生成比2:1)25.54gを得た。この混合物
10.0gをシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて
分離、精製し、融点113〜114℃のN−(6−クロ
ロ−3−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−エタン
スルホンアミド(中間体No.1)5.64gと融点1
67〜169℃のN−(6−クロロ−5−トリフルオロ
メチル−2−ピリジル)−エタンスルホンアミド(中間
体No.2)3.05gを得た。
【0079】(2)前記工程(1)で得られたN−(6
−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−
エタンスルホンアミド4.47gと酢酸15mlの混合
物を80℃に加熱し均一溶液とした。さらに100〜1
10℃に加熱し、発煙硝酸(94%)2.28mlを滴
下し、同温度で7時間反応させた。反応液を80℃まで
放冷後、氷水100ml中へ注ぎ、析出結晶をろ別、水
洗、乾燥を行い、融点198〜199℃のN−(6−ク
ロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリ
ジル)−エタンスルホンアミド(後記化合物No.9
4)3.78gを得た。
−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)−
エタンスルホンアミド4.47gと酢酸15mlの混合
物を80℃に加熱し均一溶液とした。さらに100〜1
10℃に加熱し、発煙硝酸(94%)2.28mlを滴
下し、同温度で7時間反応させた。反応液を80℃まで
放冷後、氷水100ml中へ注ぎ、析出結晶をろ別、水
洗、乾燥を行い、融点198〜199℃のN−(6−ク
ロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリ
ジル)−エタンスルホンアミド(後記化合物No.9
4)3.78gを得た。
【0080】(3)前記工程(2)で得られたN−(6
−クロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)−エタンスルホンアミド1.0gと酢酸15
mlを60℃に加熱し、均一溶液とした。同温度で還元
鉄0.67gを少量ずつ添加した。添加後同温度で1時
間反応させた。反応終了後、反応液に水5mlを加え、
ろ過した。ろ液を氷水8ml中へ注ぎ込み、その溶液に
30%水酸化ナトリウム水溶液を加え、pH=5に調整
後、析出結晶をろ別、水洗、乾燥して融点180〜18
2℃のN−(3−アミノ−6−クロロ−5−トリフルオ
ロメチル−2−ピリジル)−エタンスルホンアミド(後
記化合物No.102)0.81gを得た。
−クロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)−エタンスルホンアミド1.0gと酢酸15
mlを60℃に加熱し、均一溶液とした。同温度で還元
鉄0.67gを少量ずつ添加した。添加後同温度で1時
間反応させた。反応終了後、反応液に水5mlを加え、
ろ過した。ろ液を氷水8ml中へ注ぎ込み、その溶液に
30%水酸化ナトリウム水溶液を加え、pH=5に調整
後、析出結晶をろ別、水洗、乾燥して融点180〜18
2℃のN−(3−アミノ−6−クロロ−5−トリフルオ
ロメチル−2−ピリジル)−エタンスルホンアミド(後
記化合物No.102)0.81gを得た。
【0081】(4)前記工程(3)で得られたN−(3
−アミノ−6−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)−エタンスルホンアミド0.50gを7ml
のテトラヒドロフランに溶解させ、室温下、シクロヘキ
サンカルボニルクロライド0.28gを滴下した。滴下
後一晩反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し、得
られた結晶をエーテルで洗浄し、融点211〜212℃
の目的物0.57gを得た。
−アミノ−6−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)−エタンスルホンアミド0.50gを7ml
のテトラヒドロフランに溶解させ、室温下、シクロヘキ
サンカルボニルクロライド0.28gを滴下した。滴下
後一晩反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し、得
られた結晶をエーテルで洗浄し、融点211〜212℃
の目的物0.57gを得た。
【0082】合成例2 N−{2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−5−ト
リフルオロメチル−3−ピリジル}−エタンスルホンア
ミド(化合物No.10)の合成 (1)2−クロロ−5−トリフルオロメチル−3−ニト
ロピリジン2.5g及び2,4−ジフルオロフェノール
1.3gを20mlの無水アセトンに溶解させ、室温
下、無水炭酸カリウム1.4gを添加した後、3時間加
熱還流下に反応させた。放冷後、100mlの塩化メチ
レンに抽出させ、2回水洗した後、抽出層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧留去し、得られ
たオイルをカラムクロマトグラフィーに付した。混合溶
媒(ヘキサン:酢酸エチル≒3:1)を用い、融点66
−68℃の2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−3
−ニトロ−5−トリフルオロメチルピリジン3.4gを
得た。
リフルオロメチル−3−ピリジル}−エタンスルホンア
ミド(化合物No.10)の合成 (1)2−クロロ−5−トリフルオロメチル−3−ニト
ロピリジン2.5g及び2,4−ジフルオロフェノール
1.3gを20mlの無水アセトンに溶解させ、室温
下、無水炭酸カリウム1.4gを添加した後、3時間加
熱還流下に反応させた。放冷後、100mlの塩化メチ
レンに抽出させ、2回水洗した後、抽出層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、塩化メチレンを減圧留去し、得られ
たオイルをカラムクロマトグラフィーに付した。混合溶
媒(ヘキサン:酢酸エチル≒3:1)を用い、融点66
−68℃の2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−3
−ニトロ−5−トリフルオロメチルピリジン3.4gを
得た。
【0083】(2)ハイドロサルファイトナトリウム2
0.9gを水200mlに溶解させ、攪拌下、前記工程
(1)で得られた2−(2,4−ジフルオロフェノキ
シ)−3−ニトロ−5−トリフルオロメチルピリジンの
テトラヒドロフラン溶液を10分間を要して滴下した。
3時間室温で攪拌した後、食塩を加えて飽和させ、20
0mlのテトラヒドロフランを追加して抽出した。抽出
層は再び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、減圧留去し、融点78〜81℃の3−アミノ
−2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−5−トリフ
ルオロメチルピリジン(後記化合物No.146)2.
0gを得た。
0.9gを水200mlに溶解させ、攪拌下、前記工程
(1)で得られた2−(2,4−ジフルオロフェノキ
シ)−3−ニトロ−5−トリフルオロメチルピリジンの
テトラヒドロフラン溶液を10分間を要して滴下した。
3時間室温で攪拌した後、食塩を加えて飽和させ、20
0mlのテトラヒドロフランを追加して抽出した。抽出
層は再び飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥、減圧留去し、融点78〜81℃の3−アミノ
−2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−5−トリフ
ルオロメチルピリジン(後記化合物No.146)2.
0gを得た。
【0084】(3)前記工程(2)で得られた3−アミ
ノ−2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−5−トリ
フルオロメチルピリジン0.58gを5mlのピリジン
に溶解させ、氷冷下、0.28gのエタンスルホニルク
ロライドを滴下した。滴下後、室温で1時間攪拌し、さ
らに2時間加熱還流させた後、放冷し、100mlの希
塩酸水中に注ぎ、50mlの塩化メチレンで抽出した。
抽出層を2回希塩酸水で洗浄した後、乾燥し、塩化メチ
レンを減圧留去して得られたオイル0.46gをカラム
クロマトグラフィーに付した。混合溶媒(ヘキサン:酢
酸エチル≒4:1)を展開液に用い、融点75〜77℃
の目的物0.20gを得た。
ノ−2−(2,4−ジフルオロフェノキシ)−5−トリ
フルオロメチルピリジン0.58gを5mlのピリジン
に溶解させ、氷冷下、0.28gのエタンスルホニルク
ロライドを滴下した。滴下後、室温で1時間攪拌し、さ
らに2時間加熱還流させた後、放冷し、100mlの希
塩酸水中に注ぎ、50mlの塩化メチレンで抽出した。
抽出層を2回希塩酸水で洗浄した後、乾燥し、塩化メチ
レンを減圧留去して得られたオイル0.46gをカラム
クロマトグラフィーに付した。混合溶媒(ヘキサン:酢
酸エチル≒4:1)を展開液に用い、融点75〜77℃
の目的物0.20gを得た。
【0085】合成例3 N−(2−エチルスルホニルアミノ−5−トリフルオロ
メチル−3−ピリジル)−ベンゼンスルホンアミド(化
合物No.14)の合成 (1)エタンスルホンアミド3.1gを50mlの無水
テトラヒドロフランに溶解させ、氷冷下で60%水素化
ナトリウム1.2gを添加した。添加終了後、1時間加
熱還流下に反応させた。放冷後、2−クロロ−3−ニト
ロ−5−トリフルオロメチルピリジン5.0gを加えた
後、7時間加熱還流下に反応させた。反応終了後、反応
物を水200ml中へ注ぎ、エーテルで水中の不溶解物
を抽出除去した後、水層を希塩酸で弱酸性にし、析出結
晶を濾別して乾燥し、融点160〜163℃のN−(3
−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エ
タンスルホンアミド3.6gを得た。
メチル−3−ピリジル)−ベンゼンスルホンアミド(化
合物No.14)の合成 (1)エタンスルホンアミド3.1gを50mlの無水
テトラヒドロフランに溶解させ、氷冷下で60%水素化
ナトリウム1.2gを添加した。添加終了後、1時間加
熱還流下に反応させた。放冷後、2−クロロ−3−ニト
ロ−5−トリフルオロメチルピリジン5.0gを加えた
後、7時間加熱還流下に反応させた。反応終了後、反応
物を水200ml中へ注ぎ、エーテルで水中の不溶解物
を抽出除去した後、水層を希塩酸で弱酸性にし、析出結
晶を濾別して乾燥し、融点160〜163℃のN−(3
−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エ
タンスルホンアミド3.6gを得た。
【0086】(2)前記工程(1)で得られたN−(3
−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エ
タンスルホンアミド1.5gをメタノール30mlに溶
解させ、これに5%−パラジウム/カーボン0.2gを
加え、水素加圧下で一晩撹拌しながら還元反応を行っ
た。反応終了後、5%−パラジウム/カーボンを濾別
し、溶媒を減圧留去し、得られた結晶をn−ヘキサンで
洗浄、乾燥し、融点118〜120℃のN−(3−アミ
ノ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エタンス
ルホンアミド1.2gを得た。
−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エ
タンスルホンアミド1.5gをメタノール30mlに溶
解させ、これに5%−パラジウム/カーボン0.2gを
加え、水素加圧下で一晩撹拌しながら還元反応を行っ
た。反応終了後、5%−パラジウム/カーボンを濾別
し、溶媒を減圧留去し、得られた結晶をn−ヘキサンで
洗浄、乾燥し、融点118〜120℃のN−(3−アミ
ノ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エタンス
ルホンアミド1.2gを得た。
【0087】前記工程(2)で得られたN−(3−アミ
ノ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エタンス
ルホンアミド1.0gを2mlのピリジンに溶解させ、
室温でベンゼンスルホニルクロライド0.72gを滴下
した。滴下後、同温度で2.5時間反応させた。反応終
了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、希塩酸水で洗浄
した。有機層を飽和食塩水で洗浄、芒硝で乾燥し、溶媒
を減圧留去した。得られた結晶をエーテル洗浄し、融点
158〜159℃の目的物0.69gを得た。
ノ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)エタンス
ルホンアミド1.0gを2mlのピリジンに溶解させ、
室温でベンゼンスルホニルクロライド0.72gを滴下
した。滴下後、同温度で2.5時間反応させた。反応終
了後、反応液を塩化メチレンで希釈し、希塩酸水で洗浄
した。有機層を飽和食塩水で洗浄、芒硝で乾燥し、溶媒
を減圧留去した。得られた結晶をエーテル洗浄し、融点
158〜159℃の目的物0.69gを得た。
【0088】合成例4 N−(5−ブロモ−2−エチルスルホニルアミノ−3−
ピリジル)−シクロヘキサンカルボキサミド(化合物N
o.76)の合成 (1)5−ブロモ−2−アミノピリジン25.9gを1
00mlのピリジンに溶解させ、氷冷下でエタンスルホ
ニルクロライド23.1gを滴下した。滴下後、室温で
−夜反応させた。反応終了後、反応物を水中へ注ぎ、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄、芒硝
で乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた結晶をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン
/酢酸エチル=1/1)で精製し、融点154〜155
℃のN−(5−ブロモ−2−ピリジル)−エタンスルホ
ンアミド31.0gを得た。
ピリジル)−シクロヘキサンカルボキサミド(化合物N
o.76)の合成 (1)5−ブロモ−2−アミノピリジン25.9gを1
00mlのピリジンに溶解させ、氷冷下でエタンスルホ
ニルクロライド23.1gを滴下した。滴下後、室温で
−夜反応させた。反応終了後、反応物を水中へ注ぎ、酢
酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄、芒硝
で乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた結晶をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン
/酢酸エチル=1/1)で精製し、融点154〜155
℃のN−(5−ブロモ−2−ピリジル)−エタンスルホ
ンアミド31.0gを得た。
【0089】(2)前記工程(1)で得られたN−(5
−ブロモ−2−ピリジル)−エタンスルホンアミド1
3.25gと70ml酢酸の混合物を85℃に加熱し、
均一溶液とした。同温度で発煙硝酸9.45gを10分
間で滴下した。滴下後、同温度で2時間反応させた。反
応終了後、室温まで冷却し、反応物を氷水中へ注いだ。
析出結晶をろ別、水洗、乾燥した。得られた結晶をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:塩化メチレ
ン)で精製し、融点131〜132℃のN−(5−ブロ
モ−3−ニトロ−2−ピリジル)−エタンスルホンアミ
ド7.58gを得た。
−ブロモ−2−ピリジル)−エタンスルホンアミド1
3.25gと70ml酢酸の混合物を85℃に加熱し、
均一溶液とした。同温度で発煙硝酸9.45gを10分
間で滴下した。滴下後、同温度で2時間反応させた。反
応終了後、室温まで冷却し、反応物を氷水中へ注いだ。
析出結晶をろ別、水洗、乾燥した。得られた結晶をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:塩化メチレ
ン)で精製し、融点131〜132℃のN−(5−ブロ
モ−3−ニトロ−2−ピリジル)−エタンスルホンアミ
ド7.58gを得た。
【0090】(3)前記工程(2)で得られたN−(5
−ブロモ−3−ニトロ−2−ピリジル)−エタンスルホ
ンアミド7.58gと75ml酢酸を60℃に加熱し均
一溶液とした。同温度で還元鉄1.37gを15分間隔
で4回投入した。投入後、同温度で1時間15分反応さ
せた。反応終了後、反応液に30mlの水を加えろ過し
た。ろ過残渣を20mlの水で洗浄し、洗浄液とろ液を
合わせて150mlの氷水中に注いだ。溶液中に30%
水酸化ナトリウム水溶液100mlを滴下し、析出結晶
をろ別、水洗、乾燥して融点167〜168℃のN−
(3−アミノ−5−ブロモ−2−ピリジル)−エタンス
ルホンアミド6.14gを得た。
−ブロモ−3−ニトロ−2−ピリジル)−エタンスルホ
ンアミド7.58gと75ml酢酸を60℃に加熱し均
一溶液とした。同温度で還元鉄1.37gを15分間隔
で4回投入した。投入後、同温度で1時間15分反応さ
せた。反応終了後、反応液に30mlの水を加えろ過し
た。ろ過残渣を20mlの水で洗浄し、洗浄液とろ液を
合わせて150mlの氷水中に注いだ。溶液中に30%
水酸化ナトリウム水溶液100mlを滴下し、析出結晶
をろ別、水洗、乾燥して融点167〜168℃のN−
(3−アミノ−5−ブロモ−2−ピリジル)−エタンス
ルホンアミド6.14gを得た。
【0091】(4)前記工程(3)で得られたN−(3
−アミノ−5−ブロモ−2−ピリジル)−エタンスルホ
ンアミド0.98gを20mlのテトラヒドロフランに
溶解させ、室温でシクロヘキサンカルボニルクロライド
0.56gを滴下した。滴下後、同温度で4時間反応さ
せた。反応終了後、溶媒を減圧留去した。得られた結晶
をカラムクロマトグラフィー(溶離液:塩化メチレン/
酢酸エチル=95/5)で精製し、融点140〜141
℃の目的物1.33gを得た。
−アミノ−5−ブロモ−2−ピリジル)−エタンスルホ
ンアミド0.98gを20mlのテトラヒドロフランに
溶解させ、室温でシクロヘキサンカルボニルクロライド
0.56gを滴下した。滴下後、同温度で4時間反応さ
せた。反応終了後、溶媒を減圧留去した。得られた結晶
をカラムクロマトグラフィー(溶離液:塩化メチレン/
酢酸エチル=95/5)で精製し、融点140〜141
℃の目的物1.33gを得た。
【0092】合成例5 N−(6−クロロ−2−メチルスルホニルアミノ−5−
トリフルオロメチル−3−ピリジル)シクロヘキサンカ
ルボキサミド(化合物No.3)の合成 (1)2,6−ジクロロ−3−トリフルオロメチルピリ
ジン50.0gとメタンスルホンアミド33.03gを
ジメチルスルホキシド500mlに溶解させ、さらに無
水炭酸カリウム79.86gを加えた。この混合溶液を
120〜130℃に加熱し、7時間反応させた。反応終
了後、反応物を水1.5リットル中へ注ぎ込み、エーテ
ル500mlを加え、分液した。水層を分離後、濃塩酸
で酸性にし、析出結晶をろ別し、乾燥を行い、N−(6
−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)メ
タンスルホンアミドとN−(6−クロロ−3−トリフル
オロメチル−2−ピリジル)メタンスルホンアミドの混
合物53.89gを得た。この混合物にジクロロメタン
270mlを加え、不溶結晶をろ取し、融点145℃の
N−(6−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリ
ジル)メタンスルホンアミド(中間体No.5)24.
85gを得た。
トリフルオロメチル−3−ピリジル)シクロヘキサンカ
ルボキサミド(化合物No.3)の合成 (1)2,6−ジクロロ−3−トリフルオロメチルピリ
ジン50.0gとメタンスルホンアミド33.03gを
ジメチルスルホキシド500mlに溶解させ、さらに無
水炭酸カリウム79.86gを加えた。この混合溶液を
120〜130℃に加熱し、7時間反応させた。反応終
了後、反応物を水1.5リットル中へ注ぎ込み、エーテ
ル500mlを加え、分液した。水層を分離後、濃塩酸
で酸性にし、析出結晶をろ別し、乾燥を行い、N−(6
−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)メ
タンスルホンアミドとN−(6−クロロ−3−トリフル
オロメチル−2−ピリジル)メタンスルホンアミドの混
合物53.89gを得た。この混合物にジクロロメタン
270mlを加え、不溶結晶をろ取し、融点145℃の
N−(6−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリ
ジル)メタンスルホンアミド(中間体No.5)24.
85gを得た。
【0093】(2)前記工程(1)で得られたN−(6
−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)メ
タンスルホンアミド15.0gと酢酸75mlの混合溶
液を100〜110℃に加熱後、同温度にて、発煙硝酸
(94%)8.1mlを滴下し、同温度にて3時間反応
させ、さらに発煙硝酸(94%)3mlを追加後、7時
間反応させた。反応液を室温まで放冷後、析出結晶をろ
別し、乾燥を行い、融点188℃のN−(6−クロロ−
3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)
メタンスルホンアミド(後記化合物No.92)4.0
1gを得た。
−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)メ
タンスルホンアミド15.0gと酢酸75mlの混合溶
液を100〜110℃に加熱後、同温度にて、発煙硝酸
(94%)8.1mlを滴下し、同温度にて3時間反応
させ、さらに発煙硝酸(94%)3mlを追加後、7時
間反応させた。反応液を室温まで放冷後、析出結晶をろ
別し、乾燥を行い、融点188℃のN−(6−クロロ−
3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−ピリジル)
メタンスルホンアミド(後記化合物No.92)4.0
1gを得た。
【0094】(3)前記工程(2)で得られたN−(6
−クロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)メタンスルホンアミド4.0gと酢酸40m
lを60℃に加熱し、均一溶液とした。同温度で還元鉄
2.8gを少量ずつ添加した。添加終了後同温度で1時
間反応させた。反応終了後、反応液に水20mlを加
え、濾過した。ろ液を氷水32ml中へ注ぎ込み、その
溶液に30%水酸化ナトリウム水溶液を加え、pH=5
に調整後、析出結晶をろ別、水洗、乾燥して融点245
(分解)℃のN−(3−アミノ−6−クロロ−5−トリ
フルオロメチル−2−ピリジル)メタンスルホンアミド
(後記化合物No.97)2.9gを得た。
−クロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)メタンスルホンアミド4.0gと酢酸40m
lを60℃に加熱し、均一溶液とした。同温度で還元鉄
2.8gを少量ずつ添加した。添加終了後同温度で1時
間反応させた。反応終了後、反応液に水20mlを加
え、濾過した。ろ液を氷水32ml中へ注ぎ込み、その
溶液に30%水酸化ナトリウム水溶液を加え、pH=5
に調整後、析出結晶をろ別、水洗、乾燥して融点245
(分解)℃のN−(3−アミノ−6−クロロ−5−トリ
フルオロメチル−2−ピリジル)メタンスルホンアミド
(後記化合物No.97)2.9gを得た。
【0095】(4)前記工程(2)で得られたN−(3
−アミノ−6−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)メタンスルホンアミド2.0gを40mlの
テトラヒドロフランに溶解させ、室温下、シクロヘキサ
ンカルボニルクロライド1.12gを滴下した。滴下後
8時間反応させた。反応終了後、氷水400ml中に反
応溶液を注ぎ込み、析出結晶をろ取、乾燥後エーテルで
洗浄し、融点211℃の目的物2.48gを得た。
−アミノ−6−クロロ−5−トリフルオロメチル−2−
ピリジル)メタンスルホンアミド2.0gを40mlの
テトラヒドロフランに溶解させ、室温下、シクロヘキサ
ンカルボニルクロライド1.12gを滴下した。滴下後
8時間反応させた。反応終了後、氷水400ml中に反
応溶液を注ぎ込み、析出結晶をろ取、乾燥後エーテルで
洗浄し、融点211℃の目的物2.48gを得た。
【0096】合成例6 N−(2−(4−フルオロフェニルチオ)−5−トリフ
ルオロメチル−3−ピリジル)ベンゼンスルホンアミド
(化合物No.42)の合成 (1)2−クロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチ
ルピリジン5.0gと4−フルオロチオフェノール3.
11gを50mlのアセトンに溶解させ、室温下、無水
炭酸カリウム3.35gを添加した後、5時間加熱還流
下に反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し、10
0mlのエーテルで抽出し、水洗後、抽出層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残さをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン:ジ
クロロメタン=9:1の留分より、融点66〜69℃の
2−(4−フルオロフェニルチオ)−3−ニトロ−5−
トリフルオロメチルピリジン5.63gを得た。
ルオロメチル−3−ピリジル)ベンゼンスルホンアミド
(化合物No.42)の合成 (1)2−クロロ−3−ニトロ−5−トリフルオロメチ
ルピリジン5.0gと4−フルオロチオフェノール3.
11gを50mlのアセトンに溶解させ、室温下、無水
炭酸カリウム3.35gを添加した後、5時間加熱還流
下に反応させた。反応終了後、溶媒を減圧留去し、10
0mlのエーテルで抽出し、水洗後、抽出層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去後、残さをシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン:ジ
クロロメタン=9:1の留分より、融点66〜69℃の
2−(4−フルオロフェニルチオ)−3−ニトロ−5−
トリフルオロメチルピリジン5.63gを得た。
【0097】(2)前記工程(2)で得られた2−(4
−フルオロフェニルチオ)−3−ニトロ−5−トリフル
オロメチルピリジン5.0gと酢酸50mlを60℃に
加熱し、同温度で還元鉄3.51gを少量ずつ添加し
た。添加終了後同温度で1時間反応させた。反応終了
後、酢酸エチル150mlを加えた後、吸引ろ過し、ろ
液に水を加え、分液した。有機層を分離し、水洗、乾燥
した。溶媒を減圧留去後、残査をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、ヘキサン:酢酸エチル=4:1
の留分より、融点93〜95℃の3−アミノ−2−(4
−フルオロフェニルチオ)−5−トリフルオロメチルピ
リジン3.91gを得た。
−フルオロフェニルチオ)−3−ニトロ−5−トリフル
オロメチルピリジン5.0gと酢酸50mlを60℃に
加熱し、同温度で還元鉄3.51gを少量ずつ添加し
た。添加終了後同温度で1時間反応させた。反応終了
後、酢酸エチル150mlを加えた後、吸引ろ過し、ろ
液に水を加え、分液した。有機層を分離し、水洗、乾燥
した。溶媒を減圧留去後、残査をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、ヘキサン:酢酸エチル=4:1
の留分より、融点93〜95℃の3−アミノ−2−(4
−フルオロフェニルチオ)−5−トリフルオロメチルピ
リジン3.91gを得た。
【0098】(3)前記工程(2)で得られた3−アミ
ノ−2−(4−フルオロフェニルチオ)−5−トリフル
オロメチルピリジン0.7gを5mlのピリジンに溶解
させ、氷冷下、ベンゼンスルホニルクロライド0.94
gを滴下した。滴下後一晩反応させた。反応終了後、ジ
クロロメタン100mlと希塩酸50mlを加え、分液
し、抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を留去し、残さを
エタノール100mlに溶解し、粉砕した水酸化カリウ
ム0.55gを加え、室温下、2時間反応させた。反応
終了後、エタノールを留去し、残査に水50mlを加
え、希塩酸にて酸性にし、酢酸エチルにて抽出した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去後、
残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1の留分より、融点78〜8
2℃の目的物0.97gを得た。
ノ−2−(4−フルオロフェニルチオ)−5−トリフル
オロメチルピリジン0.7gを5mlのピリジンに溶解
させ、氷冷下、ベンゼンスルホニルクロライド0.94
gを滴下した。滴下後一晩反応させた。反応終了後、ジ
クロロメタン100mlと希塩酸50mlを加え、分液
し、抽出した。有機層を乾燥後、溶媒を留去し、残さを
エタノール100mlに溶解し、粉砕した水酸化カリウ
ム0.55gを加え、室温下、2時間反応させた。反応
終了後、エタノールを留去し、残査に水50mlを加
え、希塩酸にて酸性にし、酢酸エチルにて抽出した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒を減圧留去後、
残さをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘ
キサン:酢酸エチル=4:1の留分より、融点78〜8
2℃の目的物0.97gを得た。
【0099】前記一般式(I−1)及び(I−3)の化
合物を製造する際に経由する一般式(IV−1)の化合
物の代表例を第1表に、一般式(I−2)の化合物を製
造する際に経由する一般式(IV−2)の化合物の代表
例を第2表に、また、一般式(I)に含まれるその他の
化合物を製造する際に経由する化合物の代表例を第3表
にそれぞれ記載する。
合物を製造する際に経由する一般式(IV−1)の化合
物の代表例を第1表に、一般式(I−2)の化合物を製
造する際に経由する一般式(IV−2)の化合物の代表
例を第2表に、また、一般式(I)に含まれるその他の
化合物を製造する際に経由する化合物の代表例を第3表
にそれぞれ記載する。
【0100】
【表1】
【0101】
【表2】
【0102】
【表3】
【0103】一般式(I)に含まれる式(I−1)の化
合物の具体例を第4表に、式(I−2)の化合物の具体
例を第5表に、式(I−3)の化合物の具体例を第6表
に、式(I−7)の化合物の具体例を第7表に、また一
般式(I)の化合物であって、式(I−1)、(I−
2)、(I−3)及び(I−7)に含まれない化合物の
具体例を第8表に、それぞれ記載する。
合物の具体例を第4表に、式(I−2)の化合物の具体
例を第5表に、式(I−3)の化合物の具体例を第6表
に、式(I−7)の化合物の具体例を第7表に、また一
般式(I)の化合物であって、式(I−1)、(I−
2)、(I−3)及び(I−7)に含まれない化合物の
具体例を第8表に、それぞれ記載する。
【0104】なお、表中のPhはフェニル基を表わし、
Phに続く( )は置換基及びその置換位置を表
す。
Phに続く( )は置換基及びその置換位置を表
す。
【0105】
【表4】
【0106】
【表5】
【0107】
【表6】
【0108】
【表7】
【0109】
【表8】
【0110】
【表9】
【0111】
【表10】
【0112】
【表11】
【0113】
【表12】
【0114】
【表13】
【0115】前記一般式(I)で表わされる本発明化合
物は、ホスホリパーゼA2阻害剤、抗炎症剤及び抗膵炎
剤の有効成分として有用である。ホスホリパーゼA2は
体内の様々な組織或は細胞から検出される。血小板や炎
症細胞中でホスホリパーゼA2は、刺激により分泌或は
活性化され、血小板活性化因子(PAF)やアラキドン
酸の代謝産物の産生に寄与すると言われている。アラキ
ドン酸の代謝産物は種々の病態、例えば、リューマチ様
関節炎、変形性関節炎、腱炎、滑液包炎、乾癖及び関連
する皮膚炎症のような炎症症状;アレルギー鼻炎、アレ
ルギー気管支喘息のような鼻・気管支気道障害症状;ア
レルギー結膜炎のような即時過敏性反応などに密接に関
連していることが明らかになっている。一方、膵臓から
分泌されるホスホリパーゼA2は腸内で活性化されて消
化作用を発揮するが、一旦膵内で活性化されると膵炎を
発症する要因の一つと考えられている。本発明化合物
は、ホスホリパーゼA2を阻害することにより、前述の
ような炎症症状、鼻・気管支気道障害症状、即時過敏性
反応、膵炎などのホスホリパーゼA2に関連する病態の
治療に有効であり、抗炎症剤、気管支噛息治療剤、抗ア
レルギー剤、抗膵炎剤、抗腎炎剤、抗多臓器障害剤など
として使用可能である。膵炎に対する効果に関しては、
本発明化合物は、蛋白分解酵素阻害剤、例えばメシル酸
ナファモスタット、メシル酸ガベキサート、メシル酸カ
モスタットのような他の薬剤と併用することでより有効
となることが期待できる。
物は、ホスホリパーゼA2阻害剤、抗炎症剤及び抗膵炎
剤の有効成分として有用である。ホスホリパーゼA2は
体内の様々な組織或は細胞から検出される。血小板や炎
症細胞中でホスホリパーゼA2は、刺激により分泌或は
活性化され、血小板活性化因子(PAF)やアラキドン
酸の代謝産物の産生に寄与すると言われている。アラキ
ドン酸の代謝産物は種々の病態、例えば、リューマチ様
関節炎、変形性関節炎、腱炎、滑液包炎、乾癖及び関連
する皮膚炎症のような炎症症状;アレルギー鼻炎、アレ
ルギー気管支喘息のような鼻・気管支気道障害症状;ア
レルギー結膜炎のような即時過敏性反応などに密接に関
連していることが明らかになっている。一方、膵臓から
分泌されるホスホリパーゼA2は腸内で活性化されて消
化作用を発揮するが、一旦膵内で活性化されると膵炎を
発症する要因の一つと考えられている。本発明化合物
は、ホスホリパーゼA2を阻害することにより、前述の
ような炎症症状、鼻・気管支気道障害症状、即時過敏性
反応、膵炎などのホスホリパーゼA2に関連する病態の
治療に有効であり、抗炎症剤、気管支噛息治療剤、抗ア
レルギー剤、抗膵炎剤、抗腎炎剤、抗多臓器障害剤など
として使用可能である。膵炎に対する効果に関しては、
本発明化合物は、蛋白分解酵素阻害剤、例えばメシル酸
ナファモスタット、メシル酸ガベキサート、メシル酸カ
モスタットのような他の薬剤と併用することでより有効
となることが期待できる。
【0116】本発明化合物は特に抗炎症剤及び/又は抗
膵炎剤として使用されるのが望ましい。
膵炎剤として使用されるのが望ましい。
【0117】試験例1 (ホスホリパーゼA2阻害作用、A法)
【0118】(1)基質の調製 卵製レシチン(和光純薬製)10mgに、グリセリン1
ml、50mMトリス−塩酸緩衝液(pH7.5)〔ト
リス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(ナカライテス
ク(株)製)を塩酸でpH7.5に調整〕2ml、15
0mM塩化カルシウム溶液(塩化カルシウムを50mM
トリス−塩酸緩衝液に溶解したもの)0.5ml及び
0.05%トリトン−X100(ナカライテスク(株)
製)溶液(トリトン−X100を50mMトリス−塩酸
緩衝液に溶解したもの)0.5mlを加え、メノウ乳鉢
にて分散させるか、超音波細胞破砕機(ヒート・システ
ムスーウルトラソニック・インク製モデルW−225)
にて5分間(30W)分散させたものを基質とした。
ml、50mMトリス−塩酸緩衝液(pH7.5)〔ト
リス(ヒドロキシメチル)アミノメタン(ナカライテス
ク(株)製)を塩酸でpH7.5に調整〕2ml、15
0mM塩化カルシウム溶液(塩化カルシウムを50mM
トリス−塩酸緩衝液に溶解したもの)0.5ml及び
0.05%トリトン−X100(ナカライテスク(株)
製)溶液(トリトン−X100を50mMトリス−塩酸
緩衝液に溶解したもの)0.5mlを加え、メノウ乳鉢
にて分散させるか、超音波細胞破砕機(ヒート・システ
ムスーウルトラソニック・インク製モデルW−225)
にて5分間(30W)分散させたものを基質とした。
【0119】(2)酵素 ブタ膵臓ホスホリパーゼA2〔ベーリンガー・マンハイ
ム・山ノ内製(161454・122416)〕を用い
た。
ム・山ノ内製(161454・122416)〕を用い
た。
【0120】(3)ホスホリパーゼA2活性の測定 96穴カルチャープレート(平底・住友ベークライトメ
ディカル社)に、基質40μl、被検化合物10mgを
ジメチルスルホキシド500μlに溶解後そこに50m
Mトリス−塩酸緩衝液500μ1を加えた溶液のうち5
μl及び20ng/mlの酵素液(酵素を50mMトリ
ス−塩酸緩衝液に希釈して調製)5μlを加え、37℃
で30分間反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪
酸量をACS−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−
アシルCoAオキシダーゼ)法〔NEFA C−テスト
ワコー(和光純薬製)のキットを使用〕により測定し
た。比色定量はマルチフォトメーター吸光度計(バイオ
ラド社モデル2550EIAリーダー)を用いて540
nmの波長により行なった。別途、ホスホリパーゼA2
最終濃度を2μg/ml、1μg/ml及び0.5μg
/mlとした上記と同様な実験(被検化合物無添加)を
行ない、ホスホリパーゼA2量に対する遊離脂肪酸量を
プロットした。被検化合物添加時の遊離脂肪酸量から検
量線に基いて見かけのホスホリパーゼA2量を求め、以
下の式により、被検化合物の酵素阻害率を算出した。そ
の結果を第9表に示す。
ディカル社)に、基質40μl、被検化合物10mgを
ジメチルスルホキシド500μlに溶解後そこに50m
Mトリス−塩酸緩衝液500μ1を加えた溶液のうち5
μl及び20ng/mlの酵素液(酵素を50mMトリ
ス−塩酸緩衝液に希釈して調製)5μlを加え、37℃
で30分間反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪
酸量をACS−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−
アシルCoAオキシダーゼ)法〔NEFA C−テスト
ワコー(和光純薬製)のキットを使用〕により測定し
た。比色定量はマルチフォトメーター吸光度計(バイオ
ラド社モデル2550EIAリーダー)を用いて540
nmの波長により行なった。別途、ホスホリパーゼA2
最終濃度を2μg/ml、1μg/ml及び0.5μg
/mlとした上記と同様な実験(被検化合物無添加)を
行ない、ホスホリパーゼA2量に対する遊離脂肪酸量を
プロットした。被検化合物添加時の遊離脂肪酸量から検
量線に基いて見かけのホスホリパーゼA2量を求め、以
下の式により、被検化合物の酵素阻害率を算出した。そ
の結果を第9表に示す。
【0121】酵素阻害率(%)=〔1−(被検化合物添
加時の遊離脂肪酸量から検量線に基いて求めた見かけの
ホスホリパーゼA2量/実際に添加したホスホリパーゼ
A2量)〕×100
加時の遊離脂肪酸量から検量線に基いて求めた見かけの
ホスホリパーゼA2量/実際に添加したホスホリパーゼ
A2量)〕×100
【0122】
【表14】
【0123】試験例2 (ホスホリパーゼA2阻害作用、B法)
【0124】(1)基質の調製 ジパルミトイルホスファチジルコリン(日油リポソーム
製)9.2mgをクロロホルム0.5mlで溶解したも
のに、コール酸ナトリウム(和光純薬製)32mgをメ
タノール0.5mlで溶解したものを加えて混合する。
その混合物の溶媒を窒素気流下で除去した後、250m
M塩化ナトリウム溶液〔塩化ナトリウムを100mMト
リス−塩酸緩衝液{トリス(ヒドロキシメチル)アミノ
メタン(ナカライテスク製)を塩酸でpH8.0に調
整}に溶解したもの〕2.5mlを加え、攪拌下に溶解
したものを基質とした。
製)9.2mgをクロロホルム0.5mlで溶解したも
のに、コール酸ナトリウム(和光純薬製)32mgをメ
タノール0.5mlで溶解したものを加えて混合する。
その混合物の溶媒を窒素気流下で除去した後、250m
M塩化ナトリウム溶液〔塩化ナトリウムを100mMト
リス−塩酸緩衝液{トリス(ヒドロキシメチル)アミノ
メタン(ナカライテスク製)を塩酸でpH8.0に調
整}に溶解したもの〕2.5mlを加え、攪拌下に溶解
したものを基質とした。
【0125】(2)酵素 ブタ膵臓ホスホリパーゼA2〔ベーリンガー・マンハイ
ム・山ノ内製(161454.122416)〕を用い
た。
ム・山ノ内製(161454.122416)〕を用い
た。
【0126】(3)ホスホリパーゼA2活性の測定 96穴カルチャープレートに、塩化カルシウム、牛血清
アルブミン(シグマ製)及びトリス−塩酸緩衝液(pH
8.0)を、それぞれ、25mM、4.5mg/ml及
び100mM含む溶液20μl、被検化合物10mgを
ジメチルスルホキシド500μlに溶解後、そこに20
0mMトリス−塩酸緩衝液500μl加えた溶液のうち
5μl及び10μg/mlの酵素液〔酵素を1mg/m
l牛血清アルブミン溶液(牛血清アルブミンを100m
Mトリス−塩酸緩衡液に溶解したもの)に溶解したも
の〕5μl及び基質20μlを加え、37℃で30分間
反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪酸量をAC
S−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−アシルCo
Aオキシダーゼ)法〔NEFA C−テストワコー(和
光純薬製)のキットを使用〕により測定した。比色定量
はマルチフォトメーター吸光度計(バイオラド社モデル
2550EIAリーダー)を用いて540nmの波長に
より行なった。別途、ホスホリパーゼA2最終濃度を1
μg/ml、0.75μg/ml、0.5μg/ml及
び0.25μg/mlとした上記と同様な実験(被検化
合物無添加)を行ない、ホスホリパーゼA2量に対する
遊離脂肪酸量をプロットした。被検化合物添加時の遊離
脂肪酸量から検量線に基いて見かけのホスホリパーゼA
2量を求め、以下の式により、被検化合物の酵素阻害率
を算出した。その結果を第10表に示す。
アルブミン(シグマ製)及びトリス−塩酸緩衝液(pH
8.0)を、それぞれ、25mM、4.5mg/ml及
び100mM含む溶液20μl、被検化合物10mgを
ジメチルスルホキシド500μlに溶解後、そこに20
0mMトリス−塩酸緩衝液500μl加えた溶液のうち
5μl及び10μg/mlの酵素液〔酵素を1mg/m
l牛血清アルブミン溶液(牛血清アルブミンを100m
Mトリス−塩酸緩衡液に溶解したもの)に溶解したも
の〕5μl及び基質20μlを加え、37℃で30分間
反応を行なった。反応終了後、遊離した脂肪酸量をAC
S−ACOD(アシルCoAシンテターゼ−アシルCo
Aオキシダーゼ)法〔NEFA C−テストワコー(和
光純薬製)のキットを使用〕により測定した。比色定量
はマルチフォトメーター吸光度計(バイオラド社モデル
2550EIAリーダー)を用いて540nmの波長に
より行なった。別途、ホスホリパーゼA2最終濃度を1
μg/ml、0.75μg/ml、0.5μg/ml及
び0.25μg/mlとした上記と同様な実験(被検化
合物無添加)を行ない、ホスホリパーゼA2量に対する
遊離脂肪酸量をプロットした。被検化合物添加時の遊離
脂肪酸量から検量線に基いて見かけのホスホリパーゼA
2量を求め、以下の式により、被検化合物の酵素阻害率
を算出した。その結果を第10表に示す。
【0127】酵素阻害率(%)=〔1−(被検化合物添
加時の遊離脂肪酸量から検量線に基いて求めた見かけの
ホスホリパーゼA2量/実際に添加したホスホリパーゼ
A2量)〕×100
加時の遊離脂肪酸量から検量線に基いて求めた見かけの
ホスホリパーゼA2量/実際に添加したホスホリパーゼ
A2量)〕×100
【0128】
【表15】
【0129】
【表16】
【0130】試験例3 (カラゲナン足蹠浮腫抑制作用)ウイスター系雄性ラッ
ト(体重100g前後)を用い、1群5匹とした。被検
化合物をツウィーン80〔ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレート(ナカライテスク(株)製)〕に混和
し、そこに蒸留水を加え、2%ツウィーン80懸濁液と
するか又は塩として水に溶解させたものを被検化合物が
25mg/kgとなるように経口投与した。1時間後、
生理食塩水に溶解した1%λ−カラゲナン溶液0.1m
lをラットの右後肢足蹠皮下に注射し、起炎した。3時
間後、足蹠容積測定装置(ウゴバシレ社製)を用いて足
蹠容積を測定し、起炎前値との差から求めた腫脹容積か
ら下記式により抑制率を算出し、第11表の結果を得
た。
ト(体重100g前後)を用い、1群5匹とした。被検
化合物をツウィーン80〔ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノオレート(ナカライテスク(株)製)〕に混和
し、そこに蒸留水を加え、2%ツウィーン80懸濁液と
するか又は塩として水に溶解させたものを被検化合物が
25mg/kgとなるように経口投与した。1時間後、
生理食塩水に溶解した1%λ−カラゲナン溶液0.1m
lをラットの右後肢足蹠皮下に注射し、起炎した。3時
間後、足蹠容積測定装置(ウゴバシレ社製)を用いて足
蹠容積を測定し、起炎前値との差から求めた腫脹容積か
ら下記式により抑制率を算出し、第11表の結果を得
た。
【0131】抑制率(%)=〔1−(被検化合物投与群
平均腫脹容積/対照群平均腫脹容積)〕×100
平均腫脹容積/対照群平均腫脹容積)〕×100
【0132】
【表17】
【0133】試験例4 (急性毒性) 投与ルート・経口 ddy系雄性マウス(体重25〜30g)を用い、1群
5匹とした。被検化合物をNa塩として、生理食塩水或
いは5%グルコース水溶液に溶かし、0.1ml/10
g体重の割合で経口投与を行った。投与後1週間にわた
り、死亡数/試験数を求め50%致死量LD50(mg
/kg)を推定し、第12表の結果を得た。
5匹とした。被検化合物をNa塩として、生理食塩水或
いは5%グルコース水溶液に溶かし、0.1ml/10
g体重の割合で経口投与を行った。投与後1週間にわた
り、死亡数/試験数を求め50%致死量LD50(mg
/kg)を推定し、第12表の結果を得た。
【0134】
【表18】
【0135】試験例5 (急性膵炎に対する効果)Crj−CD系雄性ラットを
用い、1群3匹とした。ラットに全身吸入麻酔器(モデ
ルEM−2及びフローセン専用気化器F型)を使用し
て、ハロタン(ヘキストジャパン(株)製)および亜酸
化窒素(住友精化(株)製)麻酔下で、十二指腸盲管法
に従って手術し、急性膵炎モデルを作成した。各薬剤
(Na塩に変換して試験に供した)は0.4ml/10
0g〜0.6ml/100gの割合で尾静脈内に、毎分
0.05mlの速度でポンプ(テクニコンAAIIプロ
ポーショニングポンプIII、日本テクニコン(株)
製)を使用して連続投与するかあるいは急速に投与し
た。非投与のものを対照群とし、化合物投与群は手術終
了6時間後に病理解剖学的検査を実施した。膵臓病変中
の点状出血病変、斑状出血病変、膵実質壊死及び腹腔内
脂肪系組織壊死の四項目について、それぞれの病変の程
度及び範囲に応じて0、0.5、1、2、3の5段階
(重篤なものを3とする)に点数化した。全項目の総和
を膵炎病変点数とした。下記の計算式により膵炎抑制率
(%)を求め、第13表の結果を得た。
用い、1群3匹とした。ラットに全身吸入麻酔器(モデ
ルEM−2及びフローセン専用気化器F型)を使用し
て、ハロタン(ヘキストジャパン(株)製)および亜酸
化窒素(住友精化(株)製)麻酔下で、十二指腸盲管法
に従って手術し、急性膵炎モデルを作成した。各薬剤
(Na塩に変換して試験に供した)は0.4ml/10
0g〜0.6ml/100gの割合で尾静脈内に、毎分
0.05mlの速度でポンプ(テクニコンAAIIプロ
ポーショニングポンプIII、日本テクニコン(株)
製)を使用して連続投与するかあるいは急速に投与し
た。非投与のものを対照群とし、化合物投与群は手術終
了6時間後に病理解剖学的検査を実施した。膵臓病変中
の点状出血病変、斑状出血病変、膵実質壊死及び腹腔内
脂肪系組織壊死の四項目について、それぞれの病変の程
度及び範囲に応じて0、0.5、1、2、3の5段階
(重篤なものを3とする)に点数化した。全項目の総和
を膵炎病変点数とした。下記の計算式により膵炎抑制率
(%)を求め、第13表の結果を得た。
【0136】膵炎抑制率(%)=〔1−(被検化合物投
与群の膵炎病変点数/対照群の膵炎病変点数)〕×10
0
与群の膵炎病変点数/対照群の膵炎病変点数)〕×10
0
【0137】
【表19】
【0138】本発明化合物を前記ホスホリパーゼA2に
関連する病態の治療のために投与する場合は、単独或は
薬理的に許容される担体などと混合して、経口的又は非
経口的な使用に適した製剤組成物、例えば、錠剤、粉末
包装剤、カプセル剤、顆粒剤、注射剤、軟膏、吸入剤、
坐剤等の形態で投与される。
関連する病態の治療のために投与する場合は、単独或は
薬理的に許容される担体などと混合して、経口的又は非
経口的な使用に適した製剤組成物、例えば、錠剤、粉末
包装剤、カプセル剤、顆粒剤、注射剤、軟膏、吸入剤、
坐剤等の形態で投与される。
【0139】経口的使用に適した製剤としては例えば錠
剤、カプセル剤、粉末剤、顆粒剤、トローチのような固
型組成物;シロップ懸濁液のような液状組成物等が挙げ
られる。錠剤、カプセル剤、粉末剤、顆粒剤、トローチ
のような固型組成物は、微結晶セルロース、アラビアゴ
ム、トラガントゴム、ゼラチン、ポリビニルピロリドン
のようなバインダー;澱粉、乳糖、カルボキシメチルセ
ルロースのような賦形剤;アルギン酸、コーンスター
チ、カルボキシメチルセルロースのような崩壊剤;ステ
アリン酸マグネシウム、軽質無水珪酸、コロイド2酸化
ケイ素のような潤滑剤;スクロースのような甘味剤;ペ
パーミント、サリチル酸メチルのようなフレーバー剤な
どを含有できる。シロップ、憲濁液のような液状組成物
は、ソルビトール、ゼラチン、メチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、落花生油のような植物油、レ
シチンのような乳化剤、その他必要があれば、甘味剤、
保存剤、着色剤およびフレーバー剤などを含有でき、こ
れらは、乾燥製剤としても提供できる。これらの製剤
は、有効成分化合物を1〜95重量%含むことが望まし
い。
剤、カプセル剤、粉末剤、顆粒剤、トローチのような固
型組成物;シロップ懸濁液のような液状組成物等が挙げ
られる。錠剤、カプセル剤、粉末剤、顆粒剤、トローチ
のような固型組成物は、微結晶セルロース、アラビアゴ
ム、トラガントゴム、ゼラチン、ポリビニルピロリドン
のようなバインダー;澱粉、乳糖、カルボキシメチルセ
ルロースのような賦形剤;アルギン酸、コーンスター
チ、カルボキシメチルセルロースのような崩壊剤;ステ
アリン酸マグネシウム、軽質無水珪酸、コロイド2酸化
ケイ素のような潤滑剤;スクロースのような甘味剤;ペ
パーミント、サリチル酸メチルのようなフレーバー剤な
どを含有できる。シロップ、憲濁液のような液状組成物
は、ソルビトール、ゼラチン、メチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、落花生油のような植物油、レ
シチンのような乳化剤、その他必要があれば、甘味剤、
保存剤、着色剤およびフレーバー剤などを含有でき、こ
れらは、乾燥製剤としても提供できる。これらの製剤
は、有効成分化合物を1〜95重量%含むことが望まし
い。
【0140】非経口的使用に適した製剤としては、例え
ば、注射剤等が挙げられる。注射剤としては、たとえば
塩の形で通常の注射用水などに溶かしてもよいし、懸濁
液又はエマルジョン(医学上許容しうる油又は液体の混
合物)の注射しうる形にすることができる。この場合、
抗菌剤のベンジルアルコールなど、抗酸化剤のアスコル
ビン酸など、医学上許容される緩衝液又は浸透圧調節の
ための試薬を含んでもよい。この注射剤は有効成分化合
物を0.1〜8重量%含むことが望ましい。局所的又は
経直腸的使用に適した製剤としては例えば吸入剤、軟
膏、坐剤等が挙げられる。吸入剤としては、本発明化合
物自体又は医学上許容される不活性担体とともにエアゾ
ル又はネブライザー用の溶液に溶解させるか或は吸入用
微粉末として、呼吸器管へ投与できる。吸入用微粉末の
場合、粒子は50ミクロン以下、好ましくは10ミクロ
ン以下である。またこれら吸入剤として使用する場合、
必要があれば他の抗喘息剤又は気管支拡張剤と併用する
ことも可能である。
ば、注射剤等が挙げられる。注射剤としては、たとえば
塩の形で通常の注射用水などに溶かしてもよいし、懸濁
液又はエマルジョン(医学上許容しうる油又は液体の混
合物)の注射しうる形にすることができる。この場合、
抗菌剤のベンジルアルコールなど、抗酸化剤のアスコル
ビン酸など、医学上許容される緩衝液又は浸透圧調節の
ための試薬を含んでもよい。この注射剤は有効成分化合
物を0.1〜8重量%含むことが望ましい。局所的又は
経直腸的使用に適した製剤としては例えば吸入剤、軟
膏、坐剤等が挙げられる。吸入剤としては、本発明化合
物自体又は医学上許容される不活性担体とともにエアゾ
ル又はネブライザー用の溶液に溶解させるか或は吸入用
微粉末として、呼吸器管へ投与できる。吸入用微粉末の
場合、粒子は50ミクロン以下、好ましくは10ミクロ
ン以下である。またこれら吸入剤として使用する場合、
必要があれば他の抗喘息剤又は気管支拡張剤と併用する
ことも可能である。
【0141】軟膏は通常使用される基剤等を添加し、慣
用の方法により調製される。軟膏は有効成分化合物を
0.1〜30重量%含むことが望ましい。
用の方法により調製される。軟膏は有効成分化合物を
0.1〜30重量%含むことが望ましい。
【0142】坐剤は、当業界において周知の製剤用担
体、例えばポリエチレングリコール、ラノリン、カカオ
脂、脂肪酸トリグリセライド等を含有してもよい。坐剤
は、有効成分化合物を1〜95重量%含むことが望まし
い。
体、例えばポリエチレングリコール、ラノリン、カカオ
脂、脂肪酸トリグリセライド等を含有してもよい。坐剤
は、有効成分化合物を1〜95重量%含むことが望まし
い。
【0143】前記経口的、非経口的、局所的又は経直腸
的な使用に適した製剤組成物は、公知の方法により、患
者に投与後、活性成分が急速に放出されるように、徐放
的に放出されるように、或は遅れて放出されるように製
剤化することができる。
的な使用に適した製剤組成物は、公知の方法により、患
者に投与後、活性成分が急速に放出されるように、徐放
的に放出されるように、或は遅れて放出されるように製
剤化することができる。
【0144】本発明化合物の投与量は化合物の種類、投
与方法、患者又は被処理動物の状況などに応じて変わる
ことは勿論であり、一定の条件の下における適量と投与
回数は専門医の判断によって決定されなければならない
が、成人1日当たり、約0.01g〜約10g、好まし
くは約0.05g〜約5gを投与するのが通常であろ
う。また前記吸入法における1回当たりの本発明化合物
の投与量は、約0.01mg〜約100mgが望まし
い。
与方法、患者又は被処理動物の状況などに応じて変わる
ことは勿論であり、一定の条件の下における適量と投与
回数は専門医の判断によって決定されなければならない
が、成人1日当たり、約0.01g〜約10g、好まし
くは約0.05g〜約5gを投与するのが通常であろ
う。また前記吸入法における1回当たりの本発明化合物
の投与量は、約0.01mg〜約100mgが望まし
い。
【0145】次に本発明のホスホリパーゼA2阻害剤、
抗炎症剤又は抗膵炎剤の具体的製剤例を挙げる。
抗炎症剤又は抗膵炎剤の具体的製剤例を挙げる。
【0146】 製剤例1(錠剤) (1)化合物No.3 200mg (2)乳糖 150mg (3)デンプン 30mg (4)ステアリン酸マグネシウム 6mg 以上(1)〜(4)の成分を1錠として、錠剤に成型す
る。
る。
【0147】 製剤例2(散剤・細粒剤) (1)化合物No.104 200mg (2)シュガーエステル(第一工業:DKエステルF−160)180mg (3)界面活性剤(日光ケミカルズ;デカグリーン1−L) 15mg (4)軽質無水珪酸 25mg 上記(1)を上記(3)が5%となる水溶液中で湿式粉
砕し、その後上記(2)を180mg添加し、これを凍
結乾燥にて乾燥する。乾燥したものを粉砕し、上記
(4)と混和する。以上を散剤或は細粒剤とする。また
これらをカプセルに封入し、カプセル剤とすることも可
能である。
砕し、その後上記(2)を180mg添加し、これを凍
結乾燥にて乾燥する。乾燥したものを粉砕し、上記
(4)と混和する。以上を散剤或は細粒剤とする。また
これらをカプセルに封入し、カプセル剤とすることも可
能である。
【0148】 製剤例3(硬ゼラチンカプセル剤) (1)化合物No.3 250mg (2)デンプン 200mg (3)ステアリン酸マグネシウム 10mg 以上(1)〜(3)の成分を、1錠として硬ゼラチンカ
プセルにつめ、硬ゼラチンカプセル剤とする。
プセルにつめ、硬ゼラチンカプセル剤とする。
【0149】 製剤例4(注射剤) (1)化合物No.104 1g (2)ブドウ糖 10g (3)注射用蒸留水 200ml 以上(1)〜(3)の成分を、注射剤の調製法に従って
注射剤とする。
注射剤とする。
【0150】 製剤例5(皮膚用外用軟膏剤) (1)化合物No.104 5g (2)白色ワセリン 25g (3)ステアリルアルコール 22g (4)プロピレングリコール 12g (5)ラウリン硫酸ナトリウム 1.5g (6)パラオキシ安息香酸エチル 0.025g (7)パラオキシ安息香酸プロピル 0.015g (8)精製水 100g 以上(1)〜(8)の成分を軟膏の一般的調製法により
調製し、皮膚用外用軟膏を得る。
調製し、皮膚用外用軟膏を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 401/04 207 8829−4C 409/12 213 8829−4C 413/12 213 8829−4C 231 8829−4C 417/12 213 9051−4C (72)発明者 木村 博彦 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内 (72)発明者 山元 一浩 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内 (72)発明者 久米 隆志 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内
Claims (10)
- 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 〔式中、Aは−N(Ra)Xa基、−NHXb基、ニト
ロ基又はアミノ基であり、Xaは−CW1R1基、−C
OCOR2基、、CW1NHCOR2基、−C(=
W1)W2R3基又は−CW1N(R4)R5基であ
り、Xbは−(NH)1SO2R1基又は−CH2Rb
基であり、Z1は−NHY基、水素原子、ハロゲン原
子、−W5−Rc基又はアミノ基であり、Yは置換され
てもよいフェニル基、アルキル基、−CW3R6基、−
COCOR7基、−NHCOR7基、−C(=W3)W
4R8基、−(NH)mSO2R9基、−(NH)mS
O2OR10基又は−(NH)mSO2N(R11)R
12基であり、Z2は水素原子又はトリフルオロメチル
基であり、Z3は水素原子、トリフルオロメチル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、−NHCORe基、
シアノ基、−CORg基又はアルキル基であり、Z4は
水素原子、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、−W
6−Rh基、−(NH)nSO2Ri基、−NHRj基
又はピペラジニル基であり、Raは水素原子、アルキル
基、アルキルカルボニル基又はアルコキシカルボニル基
であり、Ra及びXaは互いに結合して隣接する窒素原
子と共に複素環を形成してもよく、Rbは置換されても
よいフェニル基、置換されてもよいシクロアルキル基又
は置換されてもよいアルキル基であり、Rc及びRhは
各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル
基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよい
シクロアルキル基であり、Rg、Ri、R1、R6及び
R9は各々独立して、置換されてもよい鎖式炭化水素
基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換されても
よい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環
基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、Re、
R2及びR7は各々独立して、置換されてもよいアルキ
ル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよ
いフェニル基又は置換されてもよいフェノキシ基であ
り、R3、R8及びR10は各々独立して、置換されて
もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロ
アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換され
てもよいベンジル基であり、Rj、R4、R5、R11
及びR12は各々独立して、置換されてもよいアルキル
基であり、W1、W2、W3、W4、W5及びW6は各
々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、1、m及び
nはそれぞれ0又は1であり、但し、(1)Aが−N
(Ra)Xa基(Raが水素原子であり)であり、Z1
が−NHY基であり、Z2及びZ4が水素原子であり、
Z3がトリフルオロメチル基である組合せの場合を除
き、また(2)Aがニトロ基又はアミノ基のときZ1、
Z2、Z3及びZ4の少なくとも2つは水素原子以外の
置換基を有する〕で表わされるピリジン誘導体又はその
塩を含有するホスホリパーゼA2阻害剤。 - 【請求項2】 一般式(I) 【化2】 〔式中、Aは−N(Ra)Xa基、−NHXb基、ニト
ロ基又はアミノ基であり、Xaは−CW1R1基、−C
OCOR2基、−CW1NHCOR2基、−C(=
W1)W2R3基又は−CW1N(R4)R5基であ
り、Xbは−(NH)1SO2R1基又は−CH2Rb
基であり、Z1は−NHY基、水素原子、ハロゲン原
子、−W5−Rc基又はアミノ基であり、Yは置換され
てもよいフェニル基、アルキル基、−CW3R6基、−
COCOR7基、−NHCOR7基、−C(=W3)W
4R8基、−(NH)mSO2R9基、−(NH)mS
O2OR10基又は−(NH)mSO2N(R11)R
12基であり、Z2は水素原子又はトリフルオロメチル
基であり、Z3は水素原子、トリフルオロメチル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、−NHCORe基、
シアノ基、−CORg基又はアルキル基であり、Z4は
水素原子、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、−W
6−Rh基、−(NH)nSO2Ri基、−NHRj基
又はピペラジニル基であり、Raは水素原子、アルキル
基、アルキルカルボニル基又はアルコキシカルボニル基
であり、Ra及びXaは互いに結合して隣接する窒素原
子と共に複素環を形成してもよく、Rbは置換されても
よいフェニル基、置換されてもよいシクロアルキル基又
は置換されてもよいアルキル基であり、Rc及びRhは
各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル
基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよい
シクロアルキル基であり、Rg、Ri、R1、R6及び
R9は各々独立して、置換されてもよい鎖式炭化水素
基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換されても
よい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環
基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、Re、
R2及びR7は各々独立して、置換されてもよいアルキ
ル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよ
いフェニル基又は置換されてもよいフェノキシ基であ
り、R3、R8及びR10は各々独立して、置換されて
もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロ
アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換され
てもよいベンジル基であり、Rj、R4、R5、R11
及びR12は各々独立して、置換されてもよいアルキル
基であり、W1、W2、W3、W4、W5及びW6は各
々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、l、m及び
nはそれぞれ0又は1であり、但し、(1)Aが−N
(Ra)Xa基(Raが水素原子であり)であり、Z1
が−NHY基であり、Z2及びZ4が水素原子であり、
Z3がトリフルオロメチル基である組合せの場合を除
き、また(2)Aがニトロ基又はアミノ基のときZ1、
Z2、Z3及びZ4の少なくとも2つは水素原子以外の
置換基を有する〕で表わされるピリジン誘導体又はその
塩を含有する抗炎症剤。 - 【請求項3】 −般式(I) 【化3】 〔式中、Aは−N(Ra)Xa基、−NHXb基、ニト
ロ基又はアミノ基であり、Xaは−CW1R1基、−C
OCOR2基、−CW1NHCOR2基、−C(=
W1)W2R3基又は−CW1N(R4)R5基であ
り、Xbは−(NH)1SO2R1基又は−CH2Rb
基であり、Z1は−NHY基、水素原子、ハロゲン原
子、−W5−Rc基又はアミノ基であり、Yは置換され
てもよいフェニル基、アルキル基、−CW3R6基、−
COCOR7基、−NHCOR7基、−C(=W3)W
4R8基、−(NH)mSO2R9基、−(NH)mS
O2OR10基又は−(NH)mSO2N(R11)R
12基であり、Z2は水素原子又はトリフルオロメチル
基であり、Z3は水素原子、トリフルオロメチル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、−NHCORe基、
シアノ基、−CORg基又はアルキル基であり、Z4は
水素原子、トリフルオロメチル基、ハロゲン原子、−W
6−Rh基、−(NH)nSO2Ri基、−NHRj基
又はピペラジニル基であり、Raは水素原子、アルキル
基、アルキルカルボニル基又はアルコキシカルボニル基
であり、Ra及びXaは互いに結合して隣接する窒素原
子と共に複素環を形成してもよく、Rbは置換されても
よいフェニル基、置換されてもよいシクロアルキル基又
は置換されてもよいアルキル基であり、Rc及びRhは
各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル
基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよい
シクロアルキル基であり、Rg、Ri、R1、R6及び
R9は各々独立して、置換されてもよい鎖式炭化水素
基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置換されても
よい多環式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環
基又は置換されてもよい多環式複素環基であり、Re、
R2及びR7は各々独立して、置換されてもよいアルキ
ル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されてもよ
いフェニル基又は置換されてもよいフェノキシ基であ
り、R3、R8及びR10は各々独立して、置換されて
もよいアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
換されてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロ
アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換され
てもよいベンジル基であり、Rj、R4、R5、R11
及びR12は各々独立して、置換されてもよいアルキル
基であり、W1、W2、W3、W4、W5及びW6は各
々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、1、m及び
nはそれぞれ0又は1であり、但し、(1)Aが−N
(Ra)Xa基(Raが水素原子であり)であり、Z1
が−NHY基であり、Z2及びZ4が水素原子であり、
Z3がトリフルオロメチル基である組合せの場合を除
き、また(2)Aがニトロ基又はアミノ基のときZ1、
Z2、Z3及びZ4の少なくとも2つは水素原子以外の
置換基を有する〕で表わされるピリジン誘導体又はその
塩を含有する抗膵炎剤。 - 【請求項4】 一般式(I−1) 【化4】 〔式中、A1は−N(Ra)Xa基又は−NHXb基で
あり、Xaは−CW1R1基、−COCOR2基、−C
W1NHCOR2基、−C(=W1)W2R3基又は−
CW1N(R4)R5基であり、Xbは−(NH)1S
O2R1基又は−CH2Rb基であり、Z1は−NHY
基、水素原子、ハロゲン原子、−W5−Rc基又はアミ
ノ基であり、Yは置換されてもよいフェニル基、アルキ
ル基、−CW3R6基、−COCOR7基、−NHCO
R7基、−C(=W3)W4R8基、−(NH)mSO
2R9基、,(NH)mSO2OR10基又は−(N
H)mSO2N(R11)R12基であり、Z4’は水
素原子、ハロゲン原子、−W6−Rh基、−(NH)n
SO2Ri基、−NHRj基又はピペラジニル基であ
り、Raは水素原子、アルキル基、アルキルカルボニル
基又はアルコキシカルボニル基であり、Ra及びXaは
互いに結合して隣接する窒素原子と共に複素環を形成し
てもよく、Rbは置換されてもよいフェニル基、置換さ
れてもよいシクロアルキル基又は置換されてもよいアル
キル基であり、Rc及びRhは各々独立して、水素原
子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよいフ
ェニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であ
り、Ri、R1、R6及びR9は各々独立して、置換さ
れてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭
化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、置換さ
れてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい多環式
複素環基であり、R2及びR7は各々独立して、置換さ
れてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ
基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよい
フェノキシ基であり、R3、R8及びR10は各々独立
して、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよい
アルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換さ
れてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニ
ル基又は置換されてもよいベンジル基であり、Rj、R
4、R5、R11及びR12は各々独立して、置換され
てもよいアルキル基であり、W1、W2、W3、W4、
W5及びW6は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子で
あり、1、m及びnはそれぞれ0又は1であり、但し、
A1が−N(Ra)Xa基であり、Raが水素原子であ
り、かつ、Z4’が水素原子のとき、Z1は水素原子、
−NHY基(Yは置換されてもよいフェニル基)又は−
W5−Rc基である〕で表わされるピリジン誘導体又は
その塩。 - 【請求項5】 一般式(I−2) 【化5】 〔式中、A2は−NHXa基又は−NHSO2R1基、
Xaは−CW1R1基、−COCOR2基、−CW1N
HCOR2基、−C(=W1)W2R3基又は−CW1
N(R4)R5基であり、Y’は−(NH)mSO2R
9基、−(NH)mSO2OR10基又は−(NH)m
SO2N(R11)R12基であり、Z3’は水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、−NHCOR
e基、シアノ基、−CORg基又はアルキル基であり、
Z4”は水素原子又はトリフルオロメチル基であり、R
g、R1及びR9は各々独立して、置換されてもよい鎖
式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置
換されてもよい多環式炭化水素基、置換されてもよい単
環式複素環基又は置換されてもよい多環式複素環基であ
り、Re及びR2は各々独立して、置換されてもよいア
ルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されて
もよいフェニル基又は置換されてもよいフェノキシ基で
あり、R3及びR10は各々独立して、置換されてもよ
いアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換さ
れてもよいアルケニル基、置換されてもよいシクロアル
キル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されても
よいベンジル基であり、R4、R5、R11及びR12
は各々独立して、置換されてもよいアルキル基であり、
W1及びW2は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子で
あり、mは0又は1であり、但し、(1)Z3’が水素
原子であるときZ4”はトリフルオロメチル基であり、
(2)Z3’がシアノ基又はアルキル基であるとき
Z4”は水素原子である〕で表わされるピリジン誘導体
又はその塩。 - 【請求項6】 一般式(I−3) 【化6】 〔式中、A4はニトロ基又はアミノ基であり、Z1’は
−NHY’基、水素原子、ハロゲン原子、−W5−Rc
基又はアミノ基であり、Y’は−(NH)mSO2R9
基、−(NH)mSO2OR10基又は−(NH)mS
O2N(R11)R12基であり、Z4'''はハロゲン
原子、−W6−Rh基、−(NH)nSO2Ri基、−
NHRj基又はピペラジニル基であり、Rc及びRhは
各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル
基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよい
シクロアルキル基であり、Ri及びR9は各々独立し
て、置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよ
い単環式炭化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素
基、置換されてもよい単環式複素環基又は置換されても
よい多環式複素環基であり、R10は置換されてもよい
アルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換され
てもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアルキ
ル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよ
いベンジル基であり、Rj、R11及びR12は各々独
立して、置換されてもよいアルキル基であり、W5及び
W6は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子であり、m
及びnはそれぞれ0又は1であり、但し、Z4'''がハ
ロゲン原子又は−W6−Rh基であるときZ1’は−N
HY’基である〕で表わされるピリジン誘導体又はその
塩。 - 【請求項7】 一般式(I−4) 【化7】 〔式中、A2は−NHXa基又は−NHSO2R1基で
あり、Xaは−CW1R1基、−COCOR2基、−C
W1NHCOR2基、−C(=W1)W2R3基又は−
CW1N(R4)R5基であり、Z1は−NHY基、水
素原子、ハロゲン原子、−W5−Rc基又はアミノ基で
あり、Yはアルキル基、−CW3R6基、−COCOR
7基、−NHCOR7基、−C(=W3)W4R8基、
−(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2OR
10基又は−(NH)mSO2N(R11)R12基で
あり、Z4’は水素原子、ハロゲン原子、−W6−Rh
基、−(NH)nSO2Ri基、−NHRj基又はピペ
ラジニル基であり、Rc及びRhは各々独立して、水素
原子、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよい
フェニル基又は置換されてもよいシクロアルキル基であ
り、Ri、R1、R6及びR9は各々独立して、置換さ
れてもよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭
化水素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、置換さ
れてもよい単環式複素環基又は置換されてもよい多環式
複素環基であり、R2及びR7は各々独立して、置換さ
れてもよいアルキル基、置換されてもよいアルコキシ
基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよい
フェノキシ基であり、R3、R8及びR10は各々独立
して、置換されてもよいアルキル基、置換されてもよい
アルケニル基、置換されてもよいアルキニル基、置換さ
れてもよいシクロアルキル基、置換されてもよいフェニ
ル基又は置換されてもよいベンジル基であり、Rj、R
4、R5、R11及びR12は各々独立して、置換され
てもよいアルキル基であり、W1、W2、W3、W4、
W5及びW6は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子で
あり、m及びnはそれぞれ0又は1であり、但し、A2
が−NHXa基であり、かつ、Z4’が水素原子のと
き、Z1は水素原子又は−W5−Rc基である〕で表わ
されるピリジン誘導体又はその塩を製造する方法であっ
て、一般式(II−1) 【化8】 (式中、Z1及びZ4’は前述の通りである)で表わさ
れる化合物と一般式Hal−CW1R1(式中、W1及
びR1は前述の通りであり、Halはハロゲン原子であ
る)で表わされる化合物、一般式R1COOH(式中、
R1は前述の通りである)で表わされる化合物、一般式
(R1CO)2O(式中、R1は前述の通りである)で
表わされる化合物、一般式Hal−COCOR2(式
中、R2及びHalは前述の通りである)で表わされる
化合物、一般式R2CONCW1(式中、R2及びW1
は前述の通りである)で表わされる化合物、一般式Ha
l−C(=W1)W2R3(式中、R3、W1、W2及
びHalは前述の通りである)で表わされる化合物、一
般式Hal−CW1N(R4)R5(式中、R4、
R5、W1及びHalは前述の通りである)で表わされ
る化合物又は一般式Hal−SO2R1(式中、R1及
びHalは前述の通りである)で表わされる化合物とを
反応させることを特徴とする、前記ピリジン誘導体又は
その塩の製造方法。 - 【請求項8】 一般式(I−5) 【化9】 〔式中、A3は−N(Ra’)Xa基であり、Xaは−
CW1R1基、−COCOR2基、−CW1NHCOR
2基、−C(=W1)W2R3基又は−CW1N
(R4)R5基であり、Z1は−NHY基、水素原子、
ハロゲン原子、−W5−Rc基又はアミノ基であり、Y
はアルキル基、−CW3R6基、−COCOR7基、−
NHCOR7基、−C(=W3)W4R8基、−(N
H)mSO2R9基、−(NH)mSO2OR10基又
は−(NH)mSO2N(R11)R12基であり、Z
4’は水素原子、ハロゲン原子、−W6−Rh基、−
(NH)nSO2Ri基、−NHRj基又はピペラジニ
ル基であり、Ra’はアルキル基、アルキルカルボニル
基又はアルコキシカルボニル基であり、Rc及びRhは
各々独立して、水素原子、置換されてもよいアルキル
基、置換されてもよいフェニル基又は置換されてもよい
シクロアルキル基であり、Ri、R1、R6及びR9は
各々独立して、置換されてもよい鎖式炭化水素基、置換
されてもよい単環式炭化水素基、置換されてもよい多環
式炭化水素基、置換されてもよい単環式複素環基又は置
換されてもよい多環式複素環基であり、R2及びR7は
各々独立して、置換されてもよいアルキル基、置換され
てもよいアルコキシ基、置換されてもよいフェニル基又
は置換されてもよいフェノキシ基であり、R3、R8及
びR10は各々独立して、置換されてもよいアルキル
基、置換されてもよいアルケニル基、置換されてもよい
アルキニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置
換されてもよいフェニル基又は置換されてもよいベンジ
ル基であり、Rj、R4、R5、R11及びR12は各
々独立して、置換されてもよいアルキル基であり、
W1、W2、W3、W4、W5及びW6は各々独立し
て、酸素原子又は硫黄原子であり、m及びnはそれぞれ
0又は1である〕で表わされるピリジン誘導体又はその
塩を製造する方法であって、一般式 【化10】 (式中、Xa、Z1及びZ4’は前述の通りである)で
表わされる化合物と一般式Ra’−Hal(式中、
Ra’はアルキル基、アルキルカルボニル基又はアルコ
キシカルボニル基であり、Halはハロゲン原子であ
る)で表わされる化合物とを反応させることを特徴とす
る、前記ピリジン誘導体又はその塩の製造方法。 - 【請求項9】 一般式(I−6) 【化11】 〔式中、Z1”は−NHY”基、水素原子、ハロゲン原
子、−W5−Rc基又はアミノ基であり、Y”はアルキ
ル基、−(NH)mSO2R9基、−(NH)mSO2
OR10基又は−(NH)mSO2N(R11)R12
基であり、Z4’は水素原子、ハロゲン原子、−W6−
Rh基、−(NH)nSO2Ri基、−NHRj基又は
ピペラジニル基であり、Rbは置換されてもよいフェニ
ル基、置換されてもよいシクロアルキル基又は置換され
てもよいアルキル基であり、Rc及びRhは各々独立し
て、水素原子、置換されてもよいアルキル基、置換され
てもよいフェニル基又は置換されてもよいシクロアルキ
ル基であり、Ri及びR9は各々独立して、置換されて
もよい鎖式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭化水
素基、置換されてもよい多環式炭化水素基、置換されて
もよい単環式複素環基又は置換されてもよい多環式複素
環基であり、R10は置換されてもよいアルキル基、置
換されてもよいアルケニル基、置換されてもよいアルキ
ニル基、置換されてもよいシクロアルキル基、置換され
てもよいフェニル基又は置換されてもよいベンジル基で
あり、Rj、R11及びR12は各々独立して、置換さ
れてもよいアルキル基であり、W5及びW6は各々独立
して、酸素原子又は硫黄原子であり、m及びnはそれぞ
れ0又は1である〕で表わされるピリジン誘導体又はそ
の塩を製造する方法であって、一般式 【化12】 (式中、Rb、Z1”及びZ4’は前述の通りである)
で表わされる化合物を還元することを特徴とする、前記
ピリジン誘導体又はその塩の製造方法。 - 【請求項10】 一般式(I−2) 【化13】 〔式中、A2は−NHXa基又は−NHSO2R1基、
Xaは−CW1R1基、−COCOR2基、−CW1N
HCOR2基、−C(=W1)W2R3基又は−CW1
N(R4)R5基であり、Y’は−(NH)mSO2R
9基、−(NH)mSO2OR10基又は−(NH)m
SO2N(R11)R12基であり、Z3’は水素原
子、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、−NHCOR
e基、シアノ基、−CORg基又はアルキル基であり、
Z4”は水素原子又はトリフルオロメチル基であり、R
g、R1及びR9は各々独立して、置換されてもよい鎖
式炭化水素基、置換されてもよい単環式炭化水素基、置
換されてもよい多環式炭化水素基、置換されてもよい単
環式複素環基又は置換されてもよい多環式複素環基であ
り、Re及びR2は各々独立して、置換されてもよいア
ルキル基、置換されてもよいアルコキシ基、置換されて
もよいフェニル基又は置換されてもよいフェノキシ基で
あり、R3及びR10は各々独立して、置換されてもよ
いアルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置換さ
れてもよいアルキニル基、置換されてもよいシクロアル
キル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されても
よいベンジル基であり、R4、R5、R11及びR12
は各々独立して、置換されてもよいアルキル基であり、
W1及びW2は各々独立して、酸素原子又は硫黄原子で
あり、mは0又は1であり、但し、(1)Z3’が水素
原子であるときZ4”はトリフルオロメチル基であり、
(2)Z3’がシアノ基又はアルキル基であるとき、Z
4”は水素原子である〕で表わされるピリジン誘導体又
はその塩を製造する方法であって、一般式(II−2) 【化14】 (式中、Y’、Z3’及びZ4”は前述の通りである)
で表わされる化合物と一般式Hal−CW1R1(式
中、W1及びR1は前述の通りであり、Halはハロゲ
ン原子である)で表わされる化合物、一般式R1COO
H(式中、R1は前述の通りである)で表わされる化合
物、一般式(R1CO)2O(式中、R1は前述の通り
である)で表わされる化合物、一般式Hal−COCO
R2(式中、R2及びHalは前述の通りである)で表
わされる化合物、一般式R2CONCW1(式中、R2
及びW1は前述の通りである)で表わされる化合物、一
般式Hal−C(=W1)W2R3(式中、R3、
W1、W2及びHalは前述の通りである)で表わされ
る化合物、一般式Hal−CW1N(R4)R5(式
中、R4、R5、W1及びHalは前述の通りである)
で表わされる化合物又は一般式Hal−SO2R1(式
中、R1及びHalは前述の通りである)で表わされる
化合物とを反応させることを特徴とする、前記ピリジン
誘導体又はその塩の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36184892A JPH06135934A (ja) | 1991-12-27 | 1992-12-21 | ピリジン誘導体又はその塩を含有するホスホリパーゼ▲a2▼阻害剤、抗炎症剤又は抗膵炎剤 |
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36143091 | 1991-12-27 | ||
JP4-283417 | 1992-09-09 | ||
JP28341792 | 1992-09-09 | ||
JP3-361430 | 1992-09-09 | ||
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06135934A true JPH06135934A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=27337010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36184892A Pending JPH06135934A (ja) | 1991-12-27 | 1992-12-21 | ピリジン誘導体又はその塩を含有するホスホリパーゼ▲a2▼阻害剤、抗炎症剤又は抗膵炎剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH06135934A (ja) |
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