JPH06135871A - ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物の製造方法 - Google Patents
ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物の製造方法Info
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- JPH06135871A JPH06135871A JP4309809A JP30980992A JPH06135871A JP H06135871 A JPH06135871 A JP H06135871A JP 4309809 A JP4309809 A JP 4309809A JP 30980992 A JP30980992 A JP 30980992A JP H06135871 A JPH06135871 A JP H06135871A
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- JP
- Japan
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- hydroxynaphthyl
- bis
- acid
- methane compound
- producing
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-
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物を
選択的に合成する製造方法を提供する。 【構成】 ヒドロキシナフタレン類（Ｎ）とアルデヒド
類（Ｆ）とを反応モル比Ｆ／Ｎ＝０．５〜１．２、有機
溶媒中、金属触媒及び／又は酸触媒の存在下で反応させ
るビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物の製造方
法。
選択的に合成する製造方法を提供する。 【構成】 ヒドロキシナフタレン類（Ｎ）とアルデヒド
類（Ｆ）とを反応モル比Ｆ／Ｎ＝０．５〜１．２、有機
溶媒中、金属触媒及び／又は酸触媒の存在下で反応させ
るビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物の製造方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエポキシ樹脂硬化剤及び
高分子材料出発原料等に好適に利用できるビス（ヒドロ
キシナフチル）メタン化合物の製造方法に関する。
高分子材料出発原料等に好適に利用できるビス（ヒドロ
キシナフチル）メタン化合物の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フェノール樹脂は、ノボラック型フェノ
ール樹脂とレゾール型フェノール樹脂に大別され、その
何れもが有機又は無機基材の結合剤として優れた性能を
示している。
ール樹脂とレゾール型フェノール樹脂に大別され、その
何れもが有機又は無機基材の結合剤として優れた性能を
示している。
【０００３】近年、フェノール樹脂に対する要求性能
も、より高耐熱、高強度、低吸湿など厳しいものになっ
ている。これらの性能を向上させるために分子量分布の
狭いフェノール樹脂の合成あるいは、ナフタレン骨格な
どの縮環構造を有するフェノール樹脂の合成が検討され
ている。
も、より高耐熱、高強度、低吸湿など厳しいものになっ
ている。これらの性能を向上させるために分子量分布の
狭いフェノール樹脂の合成あるいは、ナフタレン骨格な
どの縮環構造を有するフェノール樹脂の合成が検討され
ている。
【０００４】フェノール樹脂にナフタレン骨格を導入す
るにはナフタレン環を複数有するビス（ヒドロキシナフ
チル）メタン化合物が必要となるが、これまでのところ
このような化合物を選択的に且つ高収率で合成する方法
は知られていなかった。
るにはナフタレン環を複数有するビス（ヒドロキシナフ
チル）メタン化合物が必要となるが、これまでのところ
このような化合物を選択的に且つ高収率で合成する方法
は知られていなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明はビス（ヒドロ
キシナフチル）メタン化合物を選択的に高収率で得る製
造方法を提供することを目的とする。
キシナフチル）メタン化合物を選択的に高収率で得る製
造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らはナフトール
類とアルデヒド類の反応を鋭意検討した結果、ナフトー
ル類とアルデヒド類を特定なモル比で特定な触媒の存在
下で反応させることによりビス（ヒドロキシナフチル）
メタン化合物を選択的に高収率で製造することができる
ことを見出し、この知見に基づいて本発明に到達した。
類とアルデヒド類の反応を鋭意検討した結果、ナフトー
ル類とアルデヒド類を特定なモル比で特定な触媒の存在
下で反応させることによりビス（ヒドロキシナフチル）
メタン化合物を選択的に高収率で製造することができる
ことを見出し、この知見に基づいて本発明に到達した。
【０００７】すなわち、本発明はヒドロキシナフタレン
類（Ｎ）とアルデヒド類（Ｆ）とを反応モル比 Ｆ／Ｎ
＝０．５〜１．２、有機溶媒中、金属触媒及び／又は酸
触媒の存在下で反応させることを特徴とするビス（ヒド
ロキシナフチル）メタン化合物の製造方法を提供する。
類（Ｎ）とアルデヒド類（Ｆ）とを反応モル比 Ｆ／Ｎ
＝０．５〜１．２、有機溶媒中、金属触媒及び／又は酸
触媒の存在下で反応させることを特徴とするビス（ヒド
ロキシナフチル）メタン化合物の製造方法を提供する。
【０００８】以下、本発明を更に詳細に説明する。
【０００９】本発明において、ヒドロキシナフタレン類
（Ｎ）とアルデヒド類（Ｆ）の反応モル比は、Ｆ／Ｎ＝
０．５〜１．２とする必要がある。アルデヒド類の割合
が上記範囲より小さいと、ヒドロキシナフタレン類の２
核体の生成が妨げられ、上記範囲よりも大きい場合、３
核体以上が生成して２核体の選択率が低下する。
（Ｎ）とアルデヒド類（Ｆ）の反応モル比は、Ｆ／Ｎ＝
０．５〜１．２とする必要がある。アルデヒド類の割合
が上記範囲より小さいと、ヒドロキシナフタレン類の２
核体の生成が妨げられ、上記範囲よりも大きい場合、３
核体以上が生成して２核体の選択率が低下する。
【００１０】ヒドロキシナフタレン類としては、１−ナ
フトール、２−ナフトール、２，７−ジヒドロキシナフ
タレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン及びそれらの
臭素化物を用いることができる。
フトール、２−ナフトール、２，７−ジヒドロキシナフ
タレン、１，６−ジヒドロキシナフタレン及びそれらの
臭素化物を用いることができる。
【００１１】アルデヒド類としては、ホルムアルデヒ
ド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、ベンズアルデヒド、パラヒドロキシベンズアル
デヒド、サリチルアルデヒドなど、フェノール樹脂合成
に用いられているものを用いることができる。
ド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、ベンズアルデヒド、パラヒドロキシベンズアル
デヒド、サリチルアルデヒドなど、フェノール樹脂合成
に用いられているものを用いることができる。
【００１２】反応を行う有機溶媒としては、アセトン、
メチルエチルケトンなどのケトン類、メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類、テトラヒドロフランなどの
エーテル類、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲ
ン化炭化水素類を用いることができる。有機溶媒の使用
量はヒドロキシナフタレン類とアルデヒド類の合計量１
００重量部に対して好ましくは１００〜１０００重量部
用いられる。
メチルエチルケトンなどのケトン類、メタノール、エタ
ノールなどのアルコール類、テトラヒドロフランなどの
エーテル類、クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲ
ン化炭化水素類を用いることができる。有機溶媒の使用
量はヒドロキシナフタレン類とアルデヒド類の合計量１
００重量部に対して好ましくは１００〜１０００重量部
用いられる。
【００１３】次に、本発明のビス（ヒドロキシナフチ
ル）メタン化合物の製造方法において、触媒として使用
される金属元素としては、マンガン、鉄、ニッケル、亜
鉛などの遷移金属、アルミニウム、ガリウムなどのＩＩ
ＩＡ族元素などが挙げられる。これらの金属は、これに
限定されるものではなく、また反応系においては単独又
は任意の２種類以上の混合物として使用できる。この金
属触媒は単独でも、酸触媒と併用しても用いることがで
きる。
ル）メタン化合物の製造方法において、触媒として使用
される金属元素としては、マンガン、鉄、ニッケル、亜
鉛などの遷移金属、アルミニウム、ガリウムなどのＩＩ
ＩＡ族元素などが挙げられる。これらの金属は、これに
限定されるものではなく、また反応系においては単独又
は任意の２種類以上の混合物として使用できる。この金
属触媒は単独でも、酸触媒と併用しても用いることがで
きる。
【００１４】金属触媒と併用あるいは単独で用いること
ができる酸触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、蓚酸、酢酸、ギ酸、クエン酸など
の有機酸が用いられる。これらの酸触媒は単独でも、金
属触媒と併用しても用いることができる。金属触媒及び
／又は酸触媒はヒドロキシナフタレン類１モルに対して
０．０５〜０．００１モル用いられる。
ができる酸触媒としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、蓚酸、酢酸、ギ酸、クエン酸など
の有機酸が用いられる。これらの酸触媒は単独でも、金
属触媒と併用しても用いることができる。金属触媒及び
／又は酸触媒はヒドロキシナフタレン類１モルに対して
０．０５〜０．００１モル用いられる。
【００１５】本発明におけるビス（ヒドロキシナフチ
ル）メタン化合物の反応条件については、特に限定しな
いが、一般には反応に用いる有機溶媒の還流下に実施す
るのが好ましい。還流反応時間は使用した触媒の種類や
量により異なるが、通常１〜５０時間である。還流反応
終了後、有機溶媒を留去、あるいは反応生成物を水洗し
乾燥することによりビス（ヒドロキシナフチル）メタン
化合物が選択的に合成され、ビス（ヒドロキシナフチ
ル）メタンの場合、単離収率が９０％以上の高収率で得
られる。
ル）メタン化合物の反応条件については、特に限定しな
いが、一般には反応に用いる有機溶媒の還流下に実施す
るのが好ましい。還流反応時間は使用した触媒の種類や
量により異なるが、通常１〜５０時間である。還流反応
終了後、有機溶媒を留去、あるいは反応生成物を水洗し
乾燥することによりビス（ヒドロキシナフチル）メタン
化合物が選択的に合成され、ビス（ヒドロキシナフチ
ル）メタンの場合、単離収率が９０％以上の高収率で得
られる。
【００１６】このようにして合成されるビス（ヒドロキ
シナフチル）メタン化合物としては、例えば次に示すよ
うな化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を挙げることができ
る。
シナフチル）メタン化合物としては、例えば次に示すよ
うな化合物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を挙げることができ
る。
【００１７】
【化１】 以上のようにして得られたビス（ヒドロキシナフチル）
メタン化合物は、エポキシ樹脂硬化剤及び高分子材料出
発原料等に好適に利用できる。
メタン化合物は、エポキシ樹脂硬化剤及び高分子材料出
発原料等に好適に利用できる。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の実施例に基づき詳細に説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
るが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１９】実施例１〜４及び比較例 攪拌機、冷却器、温度計を備えた２リットルのフラスコ
を用いて表１に示したヒドロキシナフタレン類、アルデ
ヒド類を有機溶媒中、触媒を加えてそれぞれの時間反応
を行い、ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を得た。
を用いて表１に示したヒドロキシナフタレン類、アルデ
ヒド類を有機溶媒中、触媒を加えてそれぞれの時間反応
を行い、ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を得た。
【００２０】本発明でビス（ヒドロキシナフチル）メタ
ン化合物の選択率測定に用いたＧＰＣ装置は日立製高速
液体クロマトグラフィＬ６０００及び、島津製作所製デ
ータ解析装置Ｃ−Ｒ４Ａである。ＧＰＣカラムとしては
東ソー（株）Ｇ２０００ＨXL＋Ｇ３０００ＨXLを使用し
た。試料濃度は０．２％、移動相テトラヒドロフラン、
流量１．０ｍｌ／ｍｉｎで測定を行った。ビス（ヒドロ
キシナフチル）メタン化合物選択率はピークの面積比よ
り求めた。収率は実験に用いたヒドロキシナフタレンの
重量を元に理論収量を計算し、合成物重量から求めた。
ン化合物の選択率測定に用いたＧＰＣ装置は日立製高速
液体クロマトグラフィＬ６０００及び、島津製作所製デ
ータ解析装置Ｃ−Ｒ４Ａである。ＧＰＣカラムとしては
東ソー（株）Ｇ２０００ＨXL＋Ｇ３０００ＨXLを使用し
た。試料濃度は０．２％、移動相テトラヒドロフラン、
流量１．０ｍｌ／ｍｉｎで測定を行った。ビス（ヒドロ
キシナフチル）メタン化合物選択率はピークの面積比よ
り求めた。収率は実験に用いたヒドロキシナフタレンの
重量を元に理論収量を計算し、合成物重量から求めた。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、選択的に高収率でビス
（ヒドロキシナフチル）メタン化合物を得ることが可能
となった。またそれらは、エポキシ樹脂硬化剤及び、高
分子材料出発原料等に好適に利用できその工業的価値は
大である。
（ヒドロキシナフチル）メタン化合物を得ることが可能
となった。またそれらは、エポキシ樹脂硬化剤及び、高
分子材料出発原料等に好適に利用できその工業的価値は
大である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/74 ３０１ ３２１ 31/02 １０３ 31/04 Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｃ 37/20 8930−4Ｈ (72)発明者 斎藤 裕之 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 大久保 美歩 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】 ヒドロキシナフタレン類（Ｎ）とアルデ
ヒド類（Ｆ）とを反応モル比 Ｆ／Ｎ＝０．５〜１．
２、有機溶媒中、金属触媒及び／又は酸触媒の存在下で
反応させることを特徴とするビス（ヒドロキシナフチ
ル）メタン化合物の製造方法。 - 【請求項２】 ヒドロキシナフタレン類が、１−ナフト
ール、２−ナフトール、２，７−ジヒドロキシナフタレ
ン、１，６−ジヒドロキシナフタレン又はそれらの臭素
化物である請求項１記載のビス（ヒドロキシナフチル）
メタン化合物の製造方法。 - 【請求項３】 アルデヒド類が、ホルムアルデヒド、ト
リオキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒ
ド、パラヒドロキシベンズアルデヒド又はサリチルアル
デヒドである請求項１記載のビス（ヒドロキシナフチ
ル）メタン化合物の製造方法。 - 【請求項４】 有機溶媒が、アセトン、メチルエチルケ
トンなどのケトン類、メタノール、エタノールなどのア
ルコール類、テトラヒドロフランなどのエーテル類又は
クロロホルム、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素
類である請求項１記載のビス（ヒドロキシナフチル）メ
タン化合物の製造方法。 - 【請求項５】 金属触媒として用いる金属が、マンガ
ン、鉄、ニッケル、亜鉛などの遷移金属又はアルミニウ
ム、ガリウムなどのＩＩＩＡ族元素であるビス（ヒドロ
キシナフチル）メタン化合物の製造方法。 - 【請求項６】 酸触媒が、塩酸、硫酸などの鉱酸又はｐ
−トルエンスルホン酸、蓚酸、酢酸、ギ酸、クエン酸な
どの有機酸である請求項１記載のビス（ヒドロキシナフ
チル）メタン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4309809A JPH06135871A (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4309809A JPH06135871A (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06135871A true JPH06135871A (ja) | 1994-05-17 |
Family
ID=17997512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4309809A Pending JPH06135871A (ja) | 1992-10-26 | 1992-10-26 | ビス（ヒドロキシナフチル）メタン化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06135871A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008274297A (ja) * | 2001-07-12 | 2008-11-13 | Dic Corp | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
| US10466590B2 (en) * | 2014-10-10 | 2019-11-05 | Dic Corporation | Naphthol-type calixarene compound and method for producing the same, photosensitive composition, resist material, and coating |
-
1992
- 1992-10-26 JP JP4309809A patent/JPH06135871A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008274297A (ja) * | 2001-07-12 | 2008-11-13 | Dic Corp | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
| US10466590B2 (en) * | 2014-10-10 | 2019-11-05 | Dic Corporation | Naphthol-type calixarene compound and method for producing the same, photosensitive composition, resist material, and coating |
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