JPH06128591A - 保持爪洗浄剤 - Google Patents
保持爪洗浄剤Info
- Publication number
- JPH06128591A JPH06128591A JP30620292A JP30620292A JPH06128591A JP H06128591 A JPH06128591 A JP H06128591A JP 30620292 A JP30620292 A JP 30620292A JP 30620292 A JP30620292 A JP 30620292A JP H06128591 A JPH06128591 A JP H06128591A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding
- bromide
- holding claw
- weight
- circuit board
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】プリント基板搬送用保持爪の洗浄剤として、洗
浄力が強くかつ環境汚染を生じさせない洗浄剤を得る。 【構成】炭素数４以下、沸点１００℃以下で引火点１１
℃以上のハロゲン系溶剤と防錆剤をそれぞれ８５〜９
９．９重量％、０．１〜１５重量％混合してなる洗浄溶
液。 【効果】保持爪に付着したフラックスを効果的に除去で
き、洗浄力の不足や環境汚染の発生が無い。
浄力が強くかつ環境汚染を生じさせない洗浄剤を得る。 【構成】炭素数４以下、沸点１００℃以下で引火点１１
℃以上のハロゲン系溶剤と防錆剤をそれぞれ８５〜９
９．９重量％、０．１〜１５重量％混合してなる洗浄溶
液。 【効果】保持爪に付着したフラックスを効果的に除去で
き、洗浄力の不足や環境汚染の発生が無い。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特に自動はんだ付け装
置でプリント基板のような被搬送物を搬送してはんだ付
けを行う場合に、前記被搬送物を搬送する保持爪に付着
したフラックスを洗浄する保持爪洗浄剤に関する。
置でプリント基板のような被搬送物を搬送してはんだ付
けを行う場合に、前記被搬送物を搬送する保持爪に付着
したフラックスを洗浄する保持爪洗浄剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にプリント基板のはんだ付けは自動
はんだ付け装置で行っている。自動はんだ付け装置での
プリント基板のはんだ付けは、フラクサでプリント基板
の裏面にフラックス塗布、プリヒーターで予備加熱、は
んだ槽ではんだの付着、冷却機で冷却等の処理を行うこ
とによりなされる。
はんだ付け装置で行っている。自動はんだ付け装置での
プリント基板のはんだ付けは、フラクサでプリント基板
の裏面にフラックス塗布、プリヒーターで予備加熱、は
んだ槽ではんだの付着、冷却機で冷却等の処理を行うこ
とによりなされる。
【０００３】フラクサが設置された自動はんだ付け装置
によってプリント基板のはんだ付けを行うと、プリント
基板を保持する保持爪にフラックスが付着し、これによ
って爪のプリント基板を保持する保持部を塞いでしま
い、プリント基板を確実に保持できなくしたり、はんだ
付け処理の途中でプリント基板を落下させたり、さらに
は、はんだ付け後のプリント基板搬出時にプリント基板
を片側の爪に粘着させたまま走行して、プリント基板を
爪と外部との間に挟んで破壊するという事故を起こすこ
とがあった。そのため、はんだ付け後に保持爪に付着し
たフラックスをイソプロピルアルコールやトリクロロエ
チレンなどの溶剤で洗浄することが行われていた。
によってプリント基板のはんだ付けを行うと、プリント
基板を保持する保持爪にフラックスが付着し、これによ
って爪のプリント基板を保持する保持部を塞いでしま
い、プリント基板を確実に保持できなくしたり、はんだ
付け処理の途中でプリント基板を落下させたり、さらに
は、はんだ付け後のプリント基板搬出時にプリント基板
を片側の爪に粘着させたまま走行して、プリント基板を
爪と外部との間に挟んで破壊するという事故を起こすこ
とがあった。そのため、はんだ付け後に保持爪に付着し
たフラックスをイソプロピルアルコールやトリクロロエ
チレンなどの溶剤で洗浄することが行われていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、イソプ
ロピルアルコールはフラックス中の松脂や活性剤等の固
形成分を溶解する能力が弱く、保持爪を完全に洗浄でき
なかった。また、トリクロロエチレンはフラックス中の
固形成分溶解能力に優れたものがあるが、地下水を汚染
したり発癌の原因となることから、その使用が規制され
るようになってきている。
ロピルアルコールはフラックス中の松脂や活性剤等の固
形成分を溶解する能力が弱く、保持爪を完全に洗浄でき
なかった。また、トリクロロエチレンはフラックス中の
固形成分溶解能力に優れたものがあるが、地下水を汚染
したり発癌の原因となることから、その使用が規制され
るようになってきている。
【０００５】一般に保持爪は、はんだの付着しにくいス
テンレスで作られているが、この保持爪をイソプロピル
アルコールやトリクロロエチレン等の溶剤で洗浄する
と、長期間経過するうちに錆びにくいステンレス爪に錆
が生じてしまうことがあった。
テンレスで作られているが、この保持爪をイソプロピル
アルコールやトリクロロエチレン等の溶剤で洗浄する
と、長期間経過するうちに錆びにくいステンレス爪に錆
が生じてしまうことがあった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、フラック
スの洗浄性が良く、しかも公害問題がほとんど無いう
え、さらにはステンレス製の保持爪を錆びさせないとい
う条件を有した洗浄液について鋭意研究を行った結果、
或る種の溶剤と防錆剤を混合したものが前記条件を満足
できることを見い出し、本発明を完成させた。
スの洗浄性が良く、しかも公害問題がほとんど無いう
え、さらにはステンレス製の保持爪を錆びさせないとい
う条件を有した洗浄液について鋭意研究を行った結果、
或る種の溶剤と防錆剤を混合したものが前記条件を満足
できることを見い出し、本発明を完成させた。
【０００７】本発明は、はんだ付け後にフラックスが付
着した保持爪を洗浄する保持爪洗浄剤において、該保持
爪洗浄剤は炭素数４以下、沸点１００℃以下、引火点が
１１℃以上でフロン規制対象外のハロゲン系溶剤８５〜
９９．９重量％と防錆剤０．１〜１５重量％が混合され
ていることを特徴とする保持爪洗浄剤である。
着した保持爪を洗浄する保持爪洗浄剤において、該保持
爪洗浄剤は炭素数４以下、沸点１００℃以下、引火点が
１１℃以上でフロン規制対象外のハロゲン系溶剤８５〜
９９．９重量％と防錆剤０．１〜１５重量％が混合され
ていることを特徴とする保持爪洗浄剤である。
【０００８】本発明では、ハロゲン系溶剤として公害問
題の点、特にモントリオール協定の規制対象外のハロゲ
ン系溶剤を使用する。
題の点、特にモントリオール協定の規制対象外のハロゲ
ン系溶剤を使用する。
【０００９】該ハロゲン系溶剤のうち炭素数が４以下の
ものが松脂をよく溶解する。また、本発明に使用するハ
ロゲン系溶剤は、乾燥性を良好にするため沸点が１００
℃以下のものを用い、爆発に対する安全性の面から引火
点は１１℃以上のものを用いる。
ものが松脂をよく溶解する。また、本発明に使用するハ
ロゲン系溶剤は、乾燥性を良好にするため沸点が１００
℃以下のものを用い、爆発に対する安全性の面から引火
点は１１℃以上のものを用いる。
【００１０】本発明に使用する防錆剤としては、（１）
油溶性防錆剤、（２）乾燥性防錆剤、（３）溶剤希釈型
防錆剤、（４）防錆潤滑剤、（５）乳化性防錆剤があ
る。 （１）油溶性防錆剤には、ニッサン・メタレックス Ｃ
Ａ♯１１００、ＣＡ♯１１１０がある。 （２）乾燥性防錆剤には、ニッサン・メタレックス Ａ
Ｐ−１、ＤＨ−３、ＤＨ−２がある。 （３）溶剤希釈型防錆剤には、ニッサン・メタレックス
ＳＰ−１、ＳＰ−１５ＳＰ−３５、ＡＰ−２がある。 （４）防錆潤滑剤には、ニッサン・メタレックスＳＳ、
ＳＤがある。 （５）乳化性防錆剤にはニッサン・メタレックス ＣＡ
♯２０７０、ＣＡ♯２０８０がある。 前記の他、カルボン酸系、エステル系、金属石
鹸、アミン類、リン酸塩、チオリン酸塩などの極性
基を含む化合物がある。
油溶性防錆剤、（２）乾燥性防錆剤、（３）溶剤希釈型
防錆剤、（４）防錆潤滑剤、（５）乳化性防錆剤があ
る。 （１）油溶性防錆剤には、ニッサン・メタレックス Ｃ
Ａ♯１１００、ＣＡ♯１１１０がある。 （２）乾燥性防錆剤には、ニッサン・メタレックス Ａ
Ｐ−１、ＤＨ−３、ＤＨ−２がある。 （３）溶剤希釈型防錆剤には、ニッサン・メタレックス
ＳＰ−１、ＳＰ−１５ＳＰ−３５、ＡＰ−２がある。 （４）防錆潤滑剤には、ニッサン・メタレックスＳＳ、
ＳＤがある。 （５）乳化性防錆剤にはニッサン・メタレックス ＣＡ
♯２０７０、ＣＡ♯２０８０がある。 前記の他、カルボン酸系、エステル系、金属石
鹸、アミン類、リン酸塩、チオリン酸塩などの極性
基を含む化合物がある。
【００１１】溶剤と防錆剤との混合割合は、溶剤８５〜
９９．９重量％、防錆剤０．１〜１５重量％、好ましく
は溶剤９０〜９８重量％、防錆剤２〜１０重量％であ
る。防錆剤の添加量が０．１重量％より少ないと、ステ
ンレス製の保持爪を錆から護ることができず、しかるに
１５重量％より多く添加するとハロゲン系溶剤の洗浄作
用を劣化させてしまう。
９９．９重量％、防錆剤０．１〜１５重量％、好ましく
は溶剤９０〜９８重量％、防錆剤２〜１０重量％であ
る。防錆剤の添加量が０．１重量％より少ないと、ステ
ンレス製の保持爪を錆から護ることができず、しかるに
１５重量％より多く添加するとハロゲン系溶剤の洗浄作
用を劣化させてしまう。
【００１２】
【実施例１】 イソプロピルブロマイド：９５重量％ ニッサン・メタレックス ＣＡ＃１１００：５重量％
【実施例２】 ｓｅｃブチルブロマイド：９５重量％ ニッサン・メタレックス ＳＳ：５重量％
【比較例１】 イソプロピルアルコール：１００％
【００１３】上記実施例及び比較例の洗浄溶液を爪洗浄
装置に入れた自動はんだ付け装置（ステンレス製保持爪
使用）でプリント基板のはんだ付けを１日８時間で２０
日間行った。その結果、実施例では保持爪へのフラック
ス付着は皆無であり、またステンレス製の保持爪に錆は
見られなかった。一方、比較例では２日目にフラックス
が保持爪に付着し始め、４日目ではプリント基板保持部
に堆積してプリント基板の搬出に支障を来すようになっ
た。しかも比較例は２０日後に保持爪に錆を生じさせて
いた。
装置に入れた自動はんだ付け装置（ステンレス製保持爪
使用）でプリント基板のはんだ付けを１日８時間で２０
日間行った。その結果、実施例では保持爪へのフラック
ス付着は皆無であり、またステンレス製の保持爪に錆は
見られなかった。一方、比較例では２日目にフラックス
が保持爪に付着し始め、４日目ではプリント基板保持部
に堆積してプリント基板の搬出に支障を来すようになっ
た。しかも比較例は２０日後に保持爪に錆を生じさせて
いた。
【００１４】
【発明の効果】本発明の保持爪洗浄剤は、保持爪に付着
したフラックスを効果的に除去する上に従来の保持爪洗
浄剤の欠陥である洗浄力の不足や環境汚染の発生が除か
れるので、保持爪の洗浄溶剤として好適である。
したフラックスを効果的に除去する上に従来の保持爪洗
浄剤の欠陥である洗浄力の不足や環境汚染の発生が除か
れるので、保持爪の洗浄溶剤として好適である。
Claims (2)
- 【請求項１】はんだ付け後にフラックスが付着した保持
爪を洗浄する保持爪洗浄剤において、該保持爪洗浄剤は
炭素数４以下、沸点１００℃以下、引火点が１１℃以上
でフロン規制対象外のハロゲン系溶剤８５〜９９．９重
量％と防錆剤０．１〜１５重量％が混合されていること
を特徴とする保持爪洗浄剤。 - 【請求項２】前記ハロゲン系溶剤は、イソプロピルブロ
マイド、ｎ−プロピルブロマイド、メチレンジブロマイ
ド、メチレンブロマイド、ブロモクロロメタン、ｎ−ブ
チルブロマイド、イソブチルブロマイド、ｓｅｃブチル
ブロマイド、ｔｅｒｔブチルブロマイド、ｔｅｒｔブチ
ルクロライドであることを特徴とする請求項１記載の保
持爪洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4306202A JP2576746B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | フラックス洗浄剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4306202A JP2576746B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | フラックス洗浄剤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06128591A true JPH06128591A (ja) | 1994-05-10 |
| JP2576746B2 JP2576746B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=17954228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4306202A Expired - Lifetime JP2576746B2 (ja) | 1992-10-20 | 1992-10-20 | フラックス洗浄剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2576746B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06220494A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-09 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| JPH07150196A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-13 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| WO1997016583A1 (en) * | 1995-11-01 | 1997-05-09 | Albemarle Corporation | Solvent cleaning process |
| WO1997016524A1 (en) * | 1995-11-01 | 1997-05-09 | Albemarle Corporation | Solvent system |
| US5665173A (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-09 | Albemarle Corporation | Movie film cleaning process |
| US5669985A (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-23 | Albemarle Corporation | Movie film cleaning process |
| US5679632A (en) * | 1996-02-29 | 1997-10-21 | Albemarle Corp | Movie film cleaning solvent comprising n-propylbromide |
| US5707954A (en) * | 1996-03-01 | 1998-01-13 | Albemarle Corporation | Stabilized brominated alkane solvent |
| US5792277A (en) * | 1997-07-23 | 1998-08-11 | Albemarle Corporation | N-propyl bromide based cleaning solvent and ionic residue removal process |
| US5824162A (en) * | 1995-12-29 | 1998-10-20 | Lawrence Industries, Inc. | Molecular level cleaning of contaminates from parts utilizing an environmentally safe solvent |
| KR101161508B1 (ko) * | 2007-10-26 | 2012-06-29 | 신이치 무라오카 | 비인화성 세정 조성물 |
-
1992
- 1992-10-20 JP JP4306202A patent/JP2576746B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06220494A (ja) * | 1993-01-25 | 1994-08-09 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| JPH07150196A (ja) * | 1993-11-26 | 1995-06-13 | Deitsupusoole Kk | 洗浄用溶剤組成物 |
| US5690862A (en) * | 1995-11-01 | 1997-11-25 | Albemarle Corporation | No flash point solvent system containing normal propyl bromide |
| US5665170A (en) * | 1995-11-01 | 1997-09-09 | Albemarle Corporation | Solvent system |
| WO1997016524A1 (en) * | 1995-11-01 | 1997-05-09 | Albemarle Corporation | Solvent system |
| WO1997016583A1 (en) * | 1995-11-01 | 1997-05-09 | Albemarle Corporation | Solvent cleaning process |
| US5824162A (en) * | 1995-12-29 | 1998-10-20 | Lawrence Industries, Inc. | Molecular level cleaning of contaminates from parts utilizing an environmentally safe solvent |
| US6402857B2 (en) | 1995-12-29 | 2002-06-11 | Lawrence Industries, Inc. | Solvent mixture for use in a vapor degreaser and method of cleaning an article in a vapor degreaser utilizing said solvent |
| US6176942B1 (en) | 1995-12-29 | 2001-01-23 | Lawrence Industries, Inc | Solvent mixture for use in a vapor degreaser and method of cleaning an article in a vapor degreaser utilizing said solvent |
| US5938859A (en) * | 1995-12-29 | 1999-08-17 | Lawrence Industries, Inc. | Molecular level cleaning of contaminants from parts utilizing an environmentally safe solvent |
| US5669985A (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-23 | Albemarle Corporation | Movie film cleaning process |
| US5679632A (en) * | 1996-02-29 | 1997-10-21 | Albemarle Corp | Movie film cleaning solvent comprising n-propylbromide |
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| KR101161508B1 (ko) * | 2007-10-26 | 2012-06-29 | 신이치 무라오카 | 비인화성 세정 조성물 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2576746B2 (ja) | 1997-01-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19960917 |