JPH06122962A - 物体の表面処理方法 - Google Patents
物体の表面処理方法Info
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- JPH06122962A JPH06122962A JP4297974A JP29797492A JPH06122962A JP H06122962 A JPH06122962 A JP H06122962A JP 4297974 A JP4297974 A JP 4297974A JP 29797492 A JP29797492 A JP 29797492A JP H06122962 A JPH06122962 A JP H06122962A
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- energy substance
- solvent
- surface energy
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 真空槽４１内に光学部材等の被処理物体５３
を入れ、真空排気し、容器５１内の表面処理剤５１中の
低表面エネルギー性物質を真空槽４１内に導き、表面処
理する。表面処理剤５１は低表面エネルギー性物質と溶
剤とからなり、真空ポンプ２７により最初に溶媒を除去
する。ついで、バルブ２３を開とし、低表面エネルギー
性物質のみを真空槽４１内に導き、物体５３と接触させ
て表面処理する。 【効果】 溶媒を含む溶液型の表面処理剤であっても、
乾式法により物体の表面処理を行ない、高い撥水性を付
与できる。
を入れ、真空排気し、容器５１内の表面処理剤５１中の
低表面エネルギー性物質を真空槽４１内に導き、表面処
理する。表面処理剤５１は低表面エネルギー性物質と溶
剤とからなり、真空ポンプ２７により最初に溶媒を除去
する。ついで、バルブ２３を開とし、低表面エネルギー
性物質のみを真空槽４１内に導き、物体５３と接触させ
て表面処理する。 【効果】 溶媒を含む溶液型の表面処理剤であっても、
乾式法により物体の表面処理を行ない、高い撥水性を付
与できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フルオロアルキルシラ
ン等の低表面エネルギー性物質を用いて、眼鏡レンズ等
の被処理物体の表面を処理する方法に関する。
ン等の低表面エネルギー性物質を用いて、眼鏡レンズ等
の被処理物体の表面を処理する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】化１で表わされるフルオロアルキルシラ
ン等の表面処理剤は、非粘着性、耐熱性、耐薬品性、潤
滑性等のフルオロアルキル基の有する優れた性質を具
え、また、官能基（この場合、アルコキシシリル基）の
反応性によりガラス等の被処理物体の表面で反応する。
ン等の表面処理剤は、非粘着性、耐熱性、耐薬品性、潤
滑性等のフルオロアルキル基の有する優れた性質を具
え、また、官能基（この場合、アルコキシシリル基）の
反応性によりガラス等の被処理物体の表面で反応する。
【０００３】
【化１】ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）
3
3
【０００４】この反応により、フルオロアルキルシリル
基が被処理物体の表面に固定化されて、基体に撥水性、
撥油性、離型性、防汚性、潤滑性などが付与される。
基が被処理物体の表面に固定化されて、基体に撥水性、
撥油性、離型性、防汚性、潤滑性などが付与される。
【０００５】従来、フルオロアルキルシランによる基体
の表面処理は、フルオロアルキルシランを、芳香族炭化
水素、脂肪族炭化水素、フロン等のハロゲン化炭化水素
などの溶剤で希釈し、この溶液を用いて浸漬法、ハケ塗
り法、スプレー法などにより基体表面に塗布、乾燥する
湿式法により行なっていた。
の表面処理は、フルオロアルキルシランを、芳香族炭化
水素、脂肪族炭化水素、フロン等のハロゲン化炭化水素
などの溶剤で希釈し、この溶液を用いて浸漬法、ハケ塗
り法、スプレー法などにより基体表面に塗布、乾燥する
湿式法により行なっていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、溶剤を
使用するため、環境対策や防火対策が必要となり、作業
環境も良くなかった。また、光学部品などの傷付きやす
いものを浸漬処理する際には、浸漬用治具に光学部品を
取り付ける必要があり、工程数の増加を招き作業性が悪
かった。
使用するため、環境対策や防火対策が必要となり、作業
環境も良くなかった。また、光学部品などの傷付きやす
いものを浸漬処理する際には、浸漬用治具に光学部品を
取り付ける必要があり、工程数の増加を招き作業性が悪
かった。
【０００７】本発明者らはこの対策として、減圧下にフ
ルオロアルキルシラン等の表面処理剤を気化せしめて、
乾式法により被処理物体の表面処理を行なうことを検討
した。その結果、表面処理剤の種類によっては、この乾
式法の適用が困難であることが判った。
ルオロアルキルシラン等の表面処理剤を気化せしめて、
乾式法により被処理物体の表面処理を行なうことを検討
した。その結果、表面処理剤の種類によっては、この乾
式法の適用が困難であることが判った。
【０００８】フルオロアルキルシラン等の低表面エネル
ギー性物質は、その製造上の制約や取扱いやすさを考慮
して溶液タイプで製造、市販され、この剤型で取り扱わ
れているものが多い。従来の浸漬法等の湿式法では、最
終的には表面処理剤を希釈して溶液として使用するの
で、溶液濃度に応じて使用時の希釈率を変化させるだけ
で足り、溶液タイプでも何ら不都合はない。
ギー性物質は、その製造上の制約や取扱いやすさを考慮
して溶液タイプで製造、市販され、この剤型で取り扱わ
れているものが多い。従来の浸漬法等の湿式法では、最
終的には表面処理剤を希釈して溶液として使用するの
で、溶液濃度に応じて使用時の希釈率を変化させるだけ
で足り、溶液タイプでも何ら不都合はない。
【０００９】これに対して減圧下に気化させる乾式法で
は、溶質である低表面エネルギー性物質と溶媒とでは蒸
気圧が異なるため、溶液を減圧としたときに気化する溶
質と溶媒との比率が一様でなく、また、気化によって溶
液の組成も刻々変化するので、制御が困難であり、所定
量の低表面エネルギー性物質を確実に被処理物体に供給
することが難しい。また、溶媒も被処理物体の表面と接
触するため、この表面に悪影響を与える場合も考えられ
る。
は、溶質である低表面エネルギー性物質と溶媒とでは蒸
気圧が異なるため、溶液を減圧としたときに気化する溶
質と溶媒との比率が一様でなく、また、気化によって溶
液の組成も刻々変化するので、制御が困難であり、所定
量の低表面エネルギー性物質を確実に被処理物体に供給
することが難しい。また、溶媒も被処理物体の表面と接
触するため、この表面に悪影響を与える場合も考えられ
る。
【００１０】本発明は、湿式法による従来法の欠点を解
消し、溶質として低表面エネルギー性物質を含む溶液型
の表面処理剤を用いて乾式法により物体の表面処理をす
ることを目的とする。
消し、溶質として低表面エネルギー性物質を含む溶液型
の表面処理剤を用いて乾式法により物体の表面処理をす
ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の物体の表面処理
方法は、低表面エネルギー性物質を溶質として含む溶液
型の表面処理剤を密閉容器内に充填し、密閉容器内を減
圧にして溶液の溶媒を蒸発、除去して低表面エネルギー
性物質を選択的に残留せしめた後、低表面エネルギー性
物質を気化せしめ、被処理物体が収納された減圧処理室
内に導入して被処理物体の表面に、気化した低表面エネ
ルギー性物質を接触せしめ、被処理物体の表面上に低表
面エネルギー性被膜を形成することを特徴とする。
方法は、低表面エネルギー性物質を溶質として含む溶液
型の表面処理剤を密閉容器内に充填し、密閉容器内を減
圧にして溶液の溶媒を蒸発、除去して低表面エネルギー
性物質を選択的に残留せしめた後、低表面エネルギー性
物質を気化せしめ、被処理物体が収納された減圧処理室
内に導入して被処理物体の表面に、気化した低表面エネ
ルギー性物質を接触せしめ、被処理物体の表面上に低表
面エネルギー性被膜を形成することを特徴とする。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明の表面処理方法の実施例を示
す説明図である。真空排気ポンプ４３が取り付けられた
真空槽４１（減圧処理室）内には、ホルダ治具（図示せ
ず）に支持された眼鏡レンズ等の被処理物品５３が収納
されている。真空槽４１の外部には、ヒータ１３を具え
付けた容器１１内に表面処理剤５１が充填されている。
これら容器１１からは、ストップバルブ２１、流量可変
バルブ２３を介して配管が真空槽４１内まで延設されて
おり、配管は真空槽４１内で開口している。
す説明図である。真空排気ポンプ４３が取り付けられた
真空槽４１（減圧処理室）内には、ホルダ治具（図示せ
ず）に支持された眼鏡レンズ等の被処理物品５３が収納
されている。真空槽４１の外部には、ヒータ１３を具え
付けた容器１１内に表面処理剤５１が充填されている。
これら容器１１からは、ストップバルブ２１、流量可変
バルブ２３を介して配管が真空槽４１内まで延設されて
おり、配管は真空槽４１内で開口している。
【００１３】さらに、この配管には、ストップバルブ２
５を介してロータリーポンプ、メカニカルブースター等
の真空ポンプ２７が、また、ストップバルブ２９を介し
てプルトン管等の真空計３１が接続されている。
５を介してロータリーポンプ、メカニカルブースター等
の真空ポンプ２７が、また、ストップバルブ２９を介し
てプルトン管等の真空計３１が接続されている。
【００１４】表面処理剤５１は、溶質として低表面エネ
ルギー性物質を、また、溶媒として芳香族炭化水素、脂
肪族炭化水素、フロン等のハロゲン化炭化水素などを含
む溶液タイプのものが用いられる。本発明で用いられる
表面処理剤５１としては、溶媒の蒸気圧が溶質のそれよ
りも高いことが必要である。
ルギー性物質を、また、溶媒として芳香族炭化水素、脂
肪族炭化水素、フロン等のハロゲン化炭化水素などを含
む溶液タイプのものが用いられる。本発明で用いられる
表面処理剤５１としては、溶媒の蒸気圧が溶質のそれよ
りも高いことが必要である。
【００１５】低表面エネルギー性物質としては、フッ素
原子を有する有機化合物、特にフルオロアルキル基を有
する有機物、ジメチルシロキサン骨格を有する有機ケイ
素化合物等が使用でき、その具体例を挙げれば、以下の
通りである。なお、本発明でフルオロアルキル基とは、
炭素鎖長中に二重結合を含むもの、下記のジカルボン酸
のように２以上の置換基が結合したものも包含する。
原子を有する有機化合物、特にフルオロアルキル基を有
する有機物、ジメチルシロキサン骨格を有する有機ケイ
素化合物等が使用でき、その具体例を挙げれば、以下の
通りである。なお、本発明でフルオロアルキル基とは、
炭素鎖長中に二重結合を含むもの、下記のジカルボン酸
のように２以上の置換基が結合したものも包含する。
【００１６】（１） 化２で表わされるフルオロアルキ
ルシラン
ルシラン
【化２】
【００１７】（２） 化３で表わされるアルカン
【化３】ＣＦ2(ＣＦ)2nＣＦ3 （ｎ：１以上の整数）
【００１８】（３） 化４で表わされるカルボン酸
【化４】ＣＦ3(ＣＦ2)nＣＯＯＨ （ｎ：１以上の整数） ジカルボン酸 ＨＯＯＣ(ＣＦ2)nＣＯＯＨ （ｎ：１以上の整数） 脂環式カルボン酸
【００１９】（４） 上記カルボン酸の低級（炭素数１
〜３）アルキルエステル （５） 上記カルボン酸の酸アミド （６） 化５で表わされるアルコール、化６で表わされ
るジオール
〜３）アルキルエステル （５） 上記カルボン酸の酸アミド （６） 化５で表わされるアルコール、化６で表わされ
るジオール
【００２０】
【化５】ＣＦ3(ＣＦ2)n(ＣＨ2)mＯＨ （ｍ，ｎ：１以上の整数）
【００２１】
【化６】ＨＯＨ2Ｃ(ＣＦ2)n(ＣＨ2)mＯＨ （ｍ，ｎ：１以上の整数）
【００２２】（７） 化７で表わされるアミン
【化７】ＣＦ3(ＣＦ2)n(ＣＨ2)mＮＨ2 （ｍ，ｎ：１以上の整数）
【００２３】（８） 化８で表わされるジメチルシロキ
サン、変性ジメチルシロキサン等のシリコーン系化合物
サン、変性ジメチルシロキサン等のシリコーン系化合物
【化８】
【００２４】フッ素原子を有する有機化合物としては、
フルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を有する
アルカン、カルボン酸、アルコール、アミン等が好まし
い。例を挙げると、フルオロアルキルシランとしては、
ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラハイドロ
デシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−１，
１，２，２−テトラハイドロトリクロロシラン；フルオ
ロアルキル基を有するアルカンとしては、オクタフルオ
ロシクロブタン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、
パーフルオロ−ｎ−ヘキサン、パーフルオロ−ｎ−ヘプ
タン、テトラデカフルオロ−２−メチルペンタン、パー
フルオロドデカン、パーフルオロエイコサン；フルオロ
アルキル基を有するカルボン酸としては、パーフルオロ
デカン酸、パーフルオロオクタン酸；フルオロアルキル
基を有するアルコールとしては３，３，４，４，５，
５，５−ヘプタフルオロ−２−ペンタノール；フルオロ
アルキル基を有するアミンとしてはヘプタデカフルオロ
−１，１，２，２，−テトラハイドロデシルアミン等が
挙げられる。ジメチルシロキサン骨格を有する有機ケイ
素化合物の例を挙げると、α，ω−ビス（３−アミノプ
ロピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−
グリシドキシプロピル）ポリジメチルシロキサン、α，
ω−ビス（ビニル）ポリジメチルシロキサン等が挙げら
れる。
フルオロアルキルシラン、フルオロアルキル基を有する
アルカン、カルボン酸、アルコール、アミン等が好まし
い。例を挙げると、フルオロアルキルシランとしては、
ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラハイドロ
デシルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロ−１，
１，２，２−テトラハイドロトリクロロシラン；フルオ
ロアルキル基を有するアルカンとしては、オクタフルオ
ロシクロブタン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、
パーフルオロ−ｎ−ヘキサン、パーフルオロ−ｎ−ヘプ
タン、テトラデカフルオロ−２−メチルペンタン、パー
フルオロドデカン、パーフルオロエイコサン；フルオロ
アルキル基を有するカルボン酸としては、パーフルオロ
デカン酸、パーフルオロオクタン酸；フルオロアルキル
基を有するアルコールとしては３，３，４，４，５，
５，５−ヘプタフルオロ−２−ペンタノール；フルオロ
アルキル基を有するアミンとしてはヘプタデカフルオロ
−１，１，２，２，−テトラハイドロデシルアミン等が
挙げられる。ジメチルシロキサン骨格を有する有機ケイ
素化合物の例を挙げると、α，ω−ビス（３−アミノプ
ロピル）ポリジメチルシロキサン、α，ω−ビス（３−
グリシドキシプロピル）ポリジメチルシロキサン、α，
ω−ビス（ビニル）ポリジメチルシロキサン等が挙げら
れる。
【００２５】真空槽４１内での表面処理に先立って、表
面処理剤５１中の溶媒を気化、除去せしめ、溶質である
低表面エネルギー性物質のみを容器１１中に残留せしめ
るべく、表面処理剤５１の前処理を行なう。前処理にお
いては、流量可変バルブ２３を閉とし、ストップバルブ
２１、ストップバルブ２９を開とし、さらにストップバ
ルブ２５を開として真空ポンプ２７により容器１１内を
減圧とする。
面処理剤５１中の溶媒を気化、除去せしめ、溶質である
低表面エネルギー性物質のみを容器１１中に残留せしめ
るべく、表面処理剤５１の前処理を行なう。前処理にお
いては、流量可変バルブ２３を閉とし、ストップバルブ
２１、ストップバルブ２９を開とし、さらにストップバ
ルブ２５を開として真空ポンプ２７により容器１１内を
減圧とする。
【００２６】表面処理剤５１中の溶質と溶媒とは、それ
ぞれ各温度における固有の蒸気圧をもち、同温度であれ
ば溶媒の蒸気圧の方が高いので、加熱制御装置１５によ
り必要に応じてヒータ１３で容器１１を加熱し、ストッ
プバルブ２５の開度を調整し、溶媒のみが選択的に気化
し、溶質は実質上気化しない温度および減圧条件を設定
する。
ぞれ各温度における固有の蒸気圧をもち、同温度であれ
ば溶媒の蒸気圧の方が高いので、加熱制御装置１５によ
り必要に応じてヒータ１３で容器１１を加熱し、ストッ
プバルブ２５の開度を調整し、溶媒のみが選択的に気化
し、溶質は実質上気化しない温度および減圧条件を設定
する。
【００２７】真空計３１により真空度を監視する。溶媒
の気化が起こっている状態ではほぼ圧力に変化はない
が、溶媒の除去が終了すると、圧力が徐々に低下してく
るので、これにより溶媒の除去操作の終了を検知するこ
とができる。この時点で、ストップバルブ２９およびス
トップバルブ２５を閉とし、前処理操作を完了する。な
お、この前処理操作においては、溶媒の選択的な気化・
留出をスムーズに行なうために、容器１１中に撹拌部材
を設け、表面処理剤５１を撹拌しながら減圧することが
望ましい。また、配管系は、ヒータ（図示を省略）によ
り、容器１１の温度以上に加熱し、配管系での溶媒の滞
留を防止することが望ましい。さらに、ストップバルブ
２５と真空ポンプ２７との間にトラップを設け、安全性
を確保することもできる。
の気化が起こっている状態ではほぼ圧力に変化はない
が、溶媒の除去が終了すると、圧力が徐々に低下してく
るので、これにより溶媒の除去操作の終了を検知するこ
とができる。この時点で、ストップバルブ２９およびス
トップバルブ２５を閉とし、前処理操作を完了する。な
お、この前処理操作においては、溶媒の選択的な気化・
留出をスムーズに行なうために、容器１１中に撹拌部材
を設け、表面処理剤５１を撹拌しながら減圧することが
望ましい。また、配管系は、ヒータ（図示を省略）によ
り、容器１１の温度以上に加熱し、配管系での溶媒の滞
留を防止することが望ましい。さらに、ストップバルブ
２５と真空ポンプ２７との間にトラップを設け、安全性
を確保することもできる。
【００２８】表面処理に際しては、真空排気ポンプ４３
により真空槽４１内を所定の真空度まで排気したのち、
流量可変バルブ２３を開とし、容器１１内に残留してい
る低表面エネルギー性物質を真空槽４１内に導入する。
必要によりヒータ１３により容器１１内の低表面エネル
ギー性物質を加熱し、この加熱温度・流量可変バルブ２
３の開度、真空槽４１の圧力（真空度）を調整すること
により、低表面エネルギー性物質を気化せしめ、真空槽
４１内まで延設された配管の開口部より真空槽４１内に
導入し、被処理物品５３上に被膜を形成する。なお、図
示を省略してあるが、配管内で低表面エネルギー性物質
が凝結しないように、配管をシースヒータ等で加熱する
ことが望ましい。
により真空槽４１内を所定の真空度まで排気したのち、
流量可変バルブ２３を開とし、容器１１内に残留してい
る低表面エネルギー性物質を真空槽４１内に導入する。
必要によりヒータ１３により容器１１内の低表面エネル
ギー性物質を加熱し、この加熱温度・流量可変バルブ２
３の開度、真空槽４１の圧力（真空度）を調整すること
により、低表面エネルギー性物質を気化せしめ、真空槽
４１内まで延設された配管の開口部より真空槽４１内に
導入し、被処理物品５３上に被膜を形成する。なお、図
示を省略してあるが、配管内で低表面エネルギー性物質
が凝結しないように、配管をシースヒータ等で加熱する
ことが望ましい。
【００２９】被処理の膜厚は、１００オングストローム
以下で十分であり、好ましくは２０オングストローム以
下である。この程度の膜厚であれば、光学部材に適用し
た場合でも、光学的障害とならない。
以下で十分であり、好ましくは２０オングストローム以
下である。この程度の膜厚であれば、光学部材に適用し
た場合でも、光学的障害とならない。
【００３０】被処理物体としては、ガラス、セラミッ
ク、金属、プラスチック、繊維などの各種材質の物品を
表面処理することができ、代表的な例として、ガラスあ
るいはプラスチック製の眼鏡レンズなどの光学部材を表
面処理して撥水処理、汚れ防止を施すことが挙げられ
る。レンズ等の光学部品などにおいては、各被処理物体
がホルダに入れられて薄膜形成されるので、このホルダ
に入れた状態のまま本発明の表面処理を実施することが
でき、作業性が良好である。また、超音波洗浄機等の洗
浄機の洗浄治具に入れたまま処理することもできる。
ク、金属、プラスチック、繊維などの各種材質の物品を
表面処理することができ、代表的な例として、ガラスあ
るいはプラスチック製の眼鏡レンズなどの光学部材を表
面処理して撥水処理、汚れ防止を施すことが挙げられ
る。レンズ等の光学部品などにおいては、各被処理物体
がホルダに入れられて薄膜形成されるので、このホルダ
に入れた状態のまま本発明の表面処理を実施することが
でき、作業性が良好である。また、超音波洗浄機等の洗
浄機の洗浄治具に入れたまま処理することもできる。
【００３１】表面処理に使用する表面処理剤５１を使い
切った場合は、ストップバルブ２１を閉じて表面処理剤
５１を容器１１に補給したり、容器１１ごと交換するこ
とができ、真空槽４１の真空雰囲気を破ったり、真空槽
４１内で作業する必要がない。
切った場合は、ストップバルブ２１を閉じて表面処理剤
５１を容器１１に補給したり、容器１１ごと交換するこ
とができ、真空槽４１の真空雰囲気を破ったり、真空槽
４１内で作業する必要がない。
【００３２】よって、補充・交換作業が極めて容易であ
り、また、表面処理用真空槽の前段および後段にそれぞ
れ予備排気室（搬入室）および取出室を設けて連続処理
するのに適している。
り、また、表面処理用真空槽の前段および後段にそれぞ
れ予備排気室（搬入室）および取出室を設けて連続処理
するのに適している。
【００３３】図２は、光学部品の連続薄膜形成装置に本
発明の表面処理方法を組み合わせた実施例を示す説明図
である。なお、煩雑を避ける意味から、図１における加
熱系１３，１５、前処理系２５〜３１は図示を省略して
ある。
発明の表面処理方法を組み合わせた実施例を示す説明図
である。なお、煩雑を避ける意味から、図１における加
熱系１３，１５、前処理系２５〜３１は図示を省略して
ある。
【００３４】ホルダ５５にセットして予備排気室６１か
ら薄膜形成室６３に送られ、薄膜形成室６３で真空蒸
着、スパッタリングなどにより薄膜形成された光学部品
等の被処理物体（図示を省略）は、取出室６５に送られ
る。６７はゲートバルブを示す。本発明の表面処理方法
は、薄膜形成ほどの真空度や基板加熱を必ずしも要求さ
れないので、この取出室６５に表面処理剤５１中の残留
低表面エネルギー性物質を供給し、取出室６５での滞留
時間を利用して表面処理を施すことができる。なお、こ
の表面処理の詳細は、図１に示した通りである。
ら薄膜形成室６３に送られ、薄膜形成室６３で真空蒸
着、スパッタリングなどにより薄膜形成された光学部品
等の被処理物体（図示を省略）は、取出室６５に送られ
る。６７はゲートバルブを示す。本発明の表面処理方法
は、薄膜形成ほどの真空度や基板加熱を必ずしも要求さ
れないので、この取出室６５に表面処理剤５１中の残留
低表面エネルギー性物質を供給し、取出室６５での滞留
時間を利用して表面処理を施すことができる。なお、こ
の表面処理の詳細は、図１に示した通りである。
【００３５】図１に示した方法に準拠して眼鏡レンズの
表面処理（撥水処理・汚れ防止）を行なった。眼鏡レン
ズとして反射防止コート付きのプラスチックレンズ（Ｃ
Ｒ３９）を用いた。この眼鏡レンズをホルダに入れ真空
槽４１内にセットした。ロータリーポンプと油拡散ポン
プを組み合わせた真空排気ポンプ４３により、真空槽４
１内を１×１０-5Ｔｏｒｒ以下まで排気した。
表面処理（撥水処理・汚れ防止）を行なった。眼鏡レン
ズとして反射防止コート付きのプラスチックレンズ（Ｃ
Ｒ３９）を用いた。この眼鏡レンズをホルダに入れ真空
槽４１内にセットした。ロータリーポンプと油拡散ポン
プを組み合わせた真空排気ポンプ４３により、真空槽４
１内を１×１０-5Ｔｏｒｒ以下まで排気した。
【００３６】一方、この排気と並行して表面処理剤５１
の前処理を行なった。表面処理剤５１としては下記の化
９のフルオロアルキルシランの３％溶液（溶媒パーフル
オロアルカン、住友スリーエム（株）製、３Ｍパーフロ
ロカーボンクーラントＦＸ−３３００）を用いた。
の前処理を行なった。表面処理剤５１としては下記の化
９のフルオロアルキルシランの３％溶液（溶媒パーフル
オロアルカン、住友スリーエム（株）製、３Ｍパーフロ
ロカーボンクーラントＦＸ−３３００）を用いた。
【００３７】
【化９】ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＮＣＯ）3
【００３８】流量可変バルブ２３を閉じた状態で、スト
ップバルブ２１および２９を開とし、圧力調整バルブ２
５の開度を制御して表面処理剤の突沸を防止しつつ、容
器１１内を撹拌しながら初期は室温で、つづいてヒータ
１３で６０℃に加熱し、圧力計３１による圧力１０-2Ｔ
ｏｒｒ台の範囲で容器１１内を減圧とし、溶媒を気化せ
しめた。圧力の下降により溶媒の留出除去が完了したこ
とを確認したのち、バルブ２５，２９を閉じた。
ップバルブ２１および２９を開とし、圧力調整バルブ２
５の開度を制御して表面処理剤の突沸を防止しつつ、容
器１１内を撹拌しながら初期は室温で、つづいてヒータ
１３で６０℃に加熱し、圧力計３１による圧力１０-2Ｔ
ｏｒｒ台の範囲で容器１１内を減圧とし、溶媒を気化せ
しめた。圧力の下降により溶媒の留出除去が完了したこ
とを確認したのち、バルブ２５，２９を閉じた。
【００３９】ついで、ヒータ１３による加熱温度を９０
℃に上昇させ、流量調整バルブ２３を開とし、真空槽４
１内を真空排気ポンプ４３で排気しつつ、真空槽４１内
の真空度が８×１０-4Ｔｏｒｒとなるように流量可変バ
ルブ２３の開度を調整して、真空槽４１内にフルオロア
ルキルシランを導入して約１分間表面処理をした。その
後バルブ２３を閉じて処理を終了し、真空槽４１をリー
クした。
℃に上昇させ、流量調整バルブ２３を開とし、真空槽４
１内を真空排気ポンプ４３で排気しつつ、真空槽４１内
の真空度が８×１０-4Ｔｏｒｒとなるように流量可変バ
ルブ２３の開度を調整して、真空槽４１内にフルオロア
ルキルシランを導入して約１分間表面処理をした。その
後バルブ２３を閉じて処理を終了し、真空槽４１をリー
クした。
【００４０】眼鏡レンズは、反射防止コートの分光特性
に特に変化が見られなかった。接触角の測定は眼鏡レン
ズに水を滴下して連続して５回行ない、その結果を表１
に示した。測定結果に若干のバラツキは見られるもの
の、手払きによっても急激な変化が認められないことが
確認された。
に特に変化が見られなかった。接触角の測定は眼鏡レン
ズに水を滴下して連続して５回行ない、その結果を表１
に示した。測定結果に若干のバラツキは見られるもの
の、手払きによっても急激な変化が認められないことが
確認された。
【００４１】
【表１】
【００４２】
【発明の効果】本発明によれば、低表面エネルギー性物
質を溶解した溶液型の表面処理剤を用いた場合でも、低
表面エネルギー性物質を気化せしめ、物体の表面と接触
させて表面上に被膜を形成することにより、乾式法で簡
単に物体表面に撥水性等を付与することができる。
質を溶解した溶液型の表面処理剤を用いた場合でも、低
表面エネルギー性物質を気化せしめ、物体の表面と接触
させて表面上に被膜を形成することにより、乾式法で簡
単に物体表面に撥水性等を付与することができる。
【図１】本発明の表面処理方法の実施例を示す説明図で
ある。
ある。
【図２】本発明の表面処理方法の他の実施例を示す説明
図である。
図である。
１１ 容器 １３ ヒータ １５ 温度制御装置 ２１ ストップバルブ ２３ 流量可変バルブ ２５ ストップバルブ ２７ 真空ポンプ ２９ ストップバルブ ３１ 真空計 ４１ 真空槽 ４３ 真空排気ポンプ ４５ 真空計 ５１ 表面処理剤 ５３ 被処理物体 ５５ ホルダ ６１ 予備排気室 ６３ 薄膜形成室 ６５ 取出室 ６７ ゲートバルブ
フロントページの続き (72)発明者 蛭田 八代栄 東京都品川区南大井３丁目２番６号 株式 会社シンクロン内 (72)発明者 小田切 耀 東京都品川区南大井３丁目２番６号 株式 会社シンクロン内 (72)発明者 加藤 宏太郎 栃木県那須郡烏山町大字興野1956−３ 株 式会社那須ニコン内 (72)発明者 新野 一司 栃木県那須郡烏山町大字興野1956−３ 株 式会社那須ニコン内 (72)発明者 木村 文人 栃木県那須郡烏山町大字興野1956−３ 株 式会社那須ニコン内
Claims (1)
- 【請求項１】 低表面エネルギー性物質を溶質として含
む溶液型の表面処理剤を密閉容器内に充填し、密閉容器
内を減圧にして溶液の溶媒を蒸発、除去して低表面エネ
ルギー性物質を選択的に残留せしめた後、低表面エネル
ギー性物質を気化せしめ、被処理物体が収納された減圧
処理室内に導入して被処理物体の表面に、気化した低表
面エネルギー性物質を接触せしめ、被処理物体の表面上
に低表面エネルギー性被膜を形成することを特徴とする
物体の表面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4297974A JPH06122962A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 物体の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4297974A JPH06122962A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 物体の表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06122962A true JPH06122962A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17853507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4297974A Pending JPH06122962A (ja) | 1992-10-09 | 1992-10-09 | 物体の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06122962A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0770699A3 (de) * | 1995-10-26 | 1998-11-11 | MERCK PATENT GmbH | Herstellung von wasserabweisenden Beschichtungen auf optischen Substraten |
| JP2002256090A (ja) * | 2001-03-01 | 2002-09-11 | Ulvac Japan Ltd | プラスチック成形品の表面処理方法及び装置、並びに蒸着膜の形成されたプラスチック成形品の製造方法 |
| JP2007327135A (ja) * | 2006-05-12 | 2007-12-20 | Denso Corp | 皮膜構造及びその形成方法 |
| JP2009299081A (ja) * | 2008-05-16 | 2009-12-24 | Ulvac Japan Ltd | 蒸発装置、成膜装置、有機薄膜形成方法 |
| JP2010059507A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置及び成膜方法 |
| JP2010095756A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置 |
| WO2012153781A1 (ja) * | 2011-05-10 | 2012-11-15 | 旭硝子株式会社 | フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜の製造方法、及び、製造装置 |
| JP2012226838A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Hitachi Zosen Corp | 真空蒸着装置 |
| WO2013125598A1 (ja) * | 2012-02-23 | 2013-08-29 | 旭硝子株式会社 | フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜の製造装置、及び、製造方法 |
| JP2013174668A (ja) * | 2012-02-23 | 2013-09-05 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜製造装置および製造方法 |
-
1992
- 1992-10-09 JP JP4297974A patent/JPH06122962A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0770699A3 (de) * | 1995-10-26 | 1998-11-11 | MERCK PATENT GmbH | Herstellung von wasserabweisenden Beschichtungen auf optischen Substraten |
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| CN103518146A (zh) * | 2011-05-10 | 2014-01-15 | 旭硝子株式会社 | 含氟有机硅化合物薄膜的制造方法及制造装置 |
| WO2013125598A1 (ja) * | 2012-02-23 | 2013-08-29 | 旭硝子株式会社 | フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜の製造装置、及び、製造方法 |
| JP2013174668A (ja) * | 2012-02-23 | 2013-09-05 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素含有有機ケイ素化合物薄膜製造装置および製造方法 |
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