JPH06122852A - Coating composition and method for coating using the same - Google Patents

Coating composition and method for coating using the same

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JPH06122852A
JPH06122852A JP4272020A JP27202092A JPH06122852A JP H06122852 A JPH06122852 A JP H06122852A JP 4272020 A JP4272020 A JP 4272020A JP 27202092 A JP27202092 A JP 27202092A JP H06122852 A JPH06122852 A JP H06122852A
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JP
Japan
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coating
glycidol
polysilazane
group
coating film
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Application number
JP4272020A
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Japanese (ja)
Inventor
Haruo Hashimoto
晴男 橋本
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Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the subject composition capable of giving crack-free and dense coating films excellent in resistance to heat, wear and corrosion when baked at relatively low temperatures, containing an adduct produced by adding glycidol to a specific polysilazane. CONSTITUTION:The objective composition containing a glycidol-added polysilazane 200-500000 in number-average molecular weight which can be obtained by reacting (A) a polysilazane 100-50000 in number-average molecular weight having the main skeleton made up of unit of the formula (R<1>-R<3> are each H, alkyl, alkenyl, etc.; where, at least one of them being H) with (B) glycidol at the weight ratio A/B of 0.001-2. It is preferable that the reaction between the components A and B be made in a solvent such as pyridine or methylpyridine in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas at <=150 deg.C for 1-50hr at normal pressure. It is recommended that this composition by prepared by dissolving the glycidol-added polysilazane in a solvent (pref. methylene chloride).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、変性ポリシラザンを必
須成分とし、耐熱性、耐摩耗性、耐食性に優れた被覆膜
を形成できるコーティング用組成物、及びこれを用いた
コーティング方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a coating composition containing a modified polysilazane as an essential component and capable of forming a coating film excellent in heat resistance, abrasion resistance and corrosion resistance, and a coating method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】高度の耐熱、耐摩耗、耐食性を得るため
には、有機系塗料では不十分であり、セラミックス系コ
ーティングが用いられる。従来、セラミックス系コーテ
ィングの形成方法としては、PVD(スパッタ法等)、
CVD、ゾル−ゲル法、ポリチタノカルボシラン系塗
料、ポリ(ジシル)シラザン系塗料、ポリシラザン系塗
料、ポリメタロシラザン系塗料などが知られている。
2. Description of the Related Art Organic paints are not sufficient for obtaining high heat resistance, wear resistance and corrosion resistance, and ceramic coatings are used. Conventionally, as a method of forming a ceramic coating, PVD (sputtering method, etc.),
Known are CVD, sol-gel method, polytitanocarbosilane-based paint, poly (dicyl) silazane-based paint, polysilazane-based paint, polymetallosilazane-based paint, and the like.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記の如きセラミック
ス系コーティング法が知られているが、いずれも問題が
ある。すなわち、PVD,CVD法では装置が高価であ
る。ゾル−ゲル法では、必要焼成温度が500℃以上と
高い。ポリチタノカルボシラン系塗料では低温焼成(4
00℃以下)における表面強度が不十分である。ポリ
(ジシル)シラザン系重合体を用いたものは、施工に難
があり、クラックが発生する。ポリシラザン、ポリメタ
ロシラザンコーティングでは、200〜500℃で焼成
できるが、300℃未満の焼成では膜質が必ずしも良好
でない。
The above-mentioned ceramics-based coating methods are known, but all have problems. That is, the PVD and CVD methods are expensive. In the sol-gel method, the required firing temperature is as high as 500 ° C or higher. Low-temperature baking (4
The surface strength at 00 ° C. or lower) is insufficient. Those using a poly (disyl) silazane-based polymer are difficult to apply and cracks occur. Polysilazane and polymetallosilazane coatings can be fired at 200 to 500 ° C, but firing at less than 300 ° C does not necessarily give good film quality.

【0004】そこで、本発明は、上記の如き従来技術に
おける問題を解決し、低温(50℃〜300℃)焼成に
より、または焼成せずに50℃未満の温度で保持するこ
とにより、耐熱性、耐摩耗性、耐食性に優れ、クラック
のない緻密な塗膜を与えるコーティング用組成物とその
施工法を提供すること、特に、低温焼成という特長によ
り、従来不可能であった、電子部品、プラスチック等へ
のコーティングを可能とすることを目的とする。
Therefore, the present invention solves the problems in the prior art as described above, heat resistance by low temperature (50 ° C. to 300 ° C.) firing or by holding at a temperature of less than 50 ° C. without firing, To provide a coating composition having excellent wear resistance and corrosion resistance, which gives a dense coating film without cracks, and a construction method therefor, in particular, electronic components, plastics, etc. The purpose is to enable coating on.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するために鋭意検討した結果、ポリシラザンに
グリシドールを付加させることにより、該付加物の塗膜
を空気中で焼成する際の硬化反応が促進され、従来より
も低い焼成温度で良好な被覆が形成されることを見出し
た。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that when a coating film of the adduct is baked in air by adding glycidol to polysilazane. It was found that the curing reaction of (1) was accelerated and a good coating was formed at a lower firing temperature than before.

【0006】こうして、本発明によれば、主として一般
式(I):
Thus, according to the present invention, the general formula (I):

【0007】[0007]

【化2】 [Chemical 2]

【0008】(但し、R1 ,R2 ,R3 はそれぞれ独立
に水素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直
結する基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキル
アミノ基、アルコキシ基を表わす。ただし、R1
2 ,R3 のうち少なくとも1つは水素原子である。)
で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が100〜5万のポリシラザンとグリシドールを反応さ
せて得られる、グリシドール/ポリシラザン重量比が
0.001〜2の範囲内かつ数平均分子量が約200〜
50万のグリシドール付加ポリシラザンを少なくとも含
有するコーティング用組成物が提供される。
(However, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a group other than these groups in which the group directly bonded to silicon is carbon. , An alkylsilyl group, an alkylamino group, and an alkoxy group, provided that R 1 ,
At least one of R 2 and R 3 is a hydrogen atom. )
A polyglycazane having a main skeleton composed of units represented by the formula (1) and having a number average molecular weight of 100 to 50,000 and glycidol are reacted, and the glycidol / polysilazane weight ratio is within the range of 0.001 to 2 and the number average molecular weight is about 200. ~
Provided is a coating composition containing at least 500,000 glycidol-added polysilazanes.

【0009】本発明においてコーティング組成物の必須
成分として用いられるグリシドール付加ポリシラザン
は、ポリシラザンの全骨格中の少なくとも一部のケイ素
原子に結合した水素原子とグリシドールとが反応して、
ポリシラザン中のケイ素原子がグリシドールと縮合した
側鎖基あるいは環状、架橋構造を有することを特徴とす
る化合物である。
The glycidol-added polysilazane used as an essential component of the coating composition in the present invention is prepared by reacting hydrogen atoms bonded to at least a part of silicon atoms in the entire polysilazane skeleton with glycidol.
It is a compound characterized in that it has a side chain group in which a silicon atom in polysilazane is condensed with glycidol, or has a cyclic or crosslinked structure.

【0010】ポリシラザンとグリシドールとの反応で
は、グリシドールのOH基とポリシラザンのSiH基の
間で脱水素縮合反応が起こり、下記の如くSi−O−C
結合が形成される。
In the reaction between polysilazane and glycidol, a dehydrogenative condensation reaction occurs between the OH group of glycidol and the SiH group of polysilazane, and Si--O--C is obtained as follows.
A bond is formed.

【0011】[0011]

【化3】 [Chemical 3]

【0012】更に、反応条件によってはグリシドールの
3位、または2位の炭素とポリシラザンのNH基の間に
結合が生じてエポキシ基が開環し、更にこれによって生
じたOH基とポリシラザンのSiH基の間で脱水素縮合
反応が起こり、Si−O−C結合が形成される場合もあ
る。この場合には、下記の如く、ポリシラザン分子間に
グリシドール分子を介した架橋構造が形成されることに
なる。
Further, depending on the reaction conditions, a bond is formed between the carbon at the 3-position or 2-position of glycidol and the NH group of polysilazane to open the epoxy group, and the resulting OH group and SiH group of polysilazane. In some cases, a dehydrogenative condensation reaction may occur between them to form a Si—O—C bond. In this case, a cross-linking structure is formed between the polysilazane molecules via the glycidol molecule as described below.

【0013】[0013]

【化4】 [Chemical 4]

【0014】本発明で用いるグリシドール付加ポリシラ
ザンの数平均分子量は200〜50万、好ましくは50
0〜10,000の範囲内である。本発明に用いるグリ
シドール付加ポリシラザンを製造する方法は、ポリシラ
ザンとグリシドールを無溶媒または溶媒中で、かつ反応
に対して不活性な雰囲気下で反応させることからなる。
The number average molecular weight of the glycidol-added polysilazane used in the present invention is 200,000 to 500,000, preferably 50.
It is within the range of 0 to 10,000. The method for producing the glycidol-added polysilazane used in the present invention comprises reacting the polysilazane and glycidol in a solvent or a solvent and in an atmosphere inert to the reaction.

【0015】用いるポリシラザンは、分子内に少なくと
もSi−H結合、あるいはN−H結合を有するポリシラ
ザンであればよく、ポリシラザン単独は勿論のこと、ポ
リシラザンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザン
と他の化合物との混合物でも利用できる。用いるポリシ
ラザンには、鎖状、環状、あるいは架橋構造を有するも
の、あるいは分子内にこれら複数の構造を同時に有する
ものがあり、これら単独でもあるいは混合物でも利用で
きる。
The polysilazane to be used may be a polysilazane having at least a Si--H bond or an N--H bond in the molecule. Not only polysilazane alone, but also a copolymer of polysilazane and another polymer or polysilazane and other It can also be used as a mixture with the compound of. The polysilazanes to be used include those having a chain structure, a cyclic structure, or a crosslinked structure, or those having a plurality of these structures simultaneously in the molecule, and these can be used alone or in a mixture.

【0016】用いるポリシラザンの代表例としては下記
のようなものがあるが、これらに限定されるものではな
い。一般式(I)でR1 ,R2 、及びR3 に水素原子を
有するものは、ペルヒドロポリシラザンであり、その製
造法は例えば特開昭60−145903号公報、D.Seyf
erthらCommunication of Am.Cer.Soc., C-13,January
1983.に報告されている。これらの方法で得られ
るものは、種々の構造を有するポリマーの混合物である
が、基本的には分子内に鎖状部分と環状部分を含み、
The following are typical examples of polysilazane to be used, but the polysilazane is not limited thereto. The one having hydrogen atoms in R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (I) is perhydropolysilazane, and its production method is described in, for example, JP-A-60-145903 and D. Seyf.
erth et al Communication of Am.Cer.Soc., C-13, January
1983. Has been reported to. What is obtained by these methods is a mixture of polymers having various structures, but basically contains a chain portion and a cyclic portion in the molecule,

【0017】[0017]

【化5】 [Chemical 5]

【0018】の化学的で表わすことができる。ペルヒド
ロポリシラザンの構造の一例を示すと下記の如くであ
る。
It can be represented by the chemical formula: An example of the structure of perhydropolysilazane is as follows.

【0019】[0019]

【化6】 [Chemical 6]

【0020】一般式(I)でR1 及びR2 に水素原子、
3 にメチル基を有するポリシラザンの製造方法は、D.
SeyferthらPolym.Prepr.,Am.Chem.Soc.,Div.Polym.Che
m,.25,10(1984) に報告されている。この
方法により得られるポリシラザンは、繰り返し単位が−
(SiH2 NCH3 )−の鎖状ポリマーと環状ポリマー
であり、いずれも架橋構造をもたない。
In the general formula (I), R 1 and R 2 are hydrogen atoms,
A method for producing polysilazane having a methyl group in R 3 is described in D.
Seyferth et al. Polym.Prepr., Am.Chem.Soc., Div.Polym.Che
m ,. 25 , 10 (1984). The polysilazane obtained by this method has a repeating unit of −
(SiH 2 NCH 3) - is a chain polymer and a cyclic polymer, either no cross-linked structure.

【0021】一般式(I)でR1 及びR3 に水素原子、
2 に有機基を有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザン
の製造法は、D.SeyferthらPolym.Prepr.,Am.Chem.Soc.,
Div.Polym.Chem.,25,10(1984)、特開昭61
−89230号公報に報告されている。これらの方法に
より得られるポリシラザンには、−(R2 SiHNH)
−を繰り返し単位として、主として重合度が3〜5の環
状構造を有するものや(R3 SiHNH)X 〔(R2
iH)1.5 N〕1-X (0.4<x<1)の化学式で示せ
る分子内に鎖状構造と環状構造を同時に有するものがあ
る。
In the general formula (I), R 1 and R 3 are hydrogen atoms,
A method for producing a polyorgano (hydro) silazane having an organic group in R 2 is described in D. Seyferth et al., Polym.Prepr., Am.Chem.Soc.,
Div. Polym. Chem., 25 , 10 (1984), JP-A-61.
-89230. Polysilazanes obtained by these methods include-(R 2 SiHNH)
-Having a cyclic structure having a degree of polymerization of 3 to 5 as a repeating unit, or (R 3 SiHNH) x [(R 2 S
iH) 1.5 N] 1−X (0.4 <x <1) has a chain structure and a cyclic structure at the same time in the molecule.

【0022】一般式(I)でR1 に水素原子、R2 及び
3 に有機基を有するポリシラザン、またR1 及びR2
に有機基、R3 に水素原子を有するものは−(R1 2
SiNR3 )−を繰り返し単位として、主に重合度が3
〜5の環状構造を有している。次に用いるポリシラザン
の内、一般式(I)以外のものの代表例をあげる。
The general formula (I) a hydrogen atom in R 1, polysilazane having an organic group in R 2 and R 3 also, R 1 and R 2
An organic group for R 3 and a hydrogen atom for R 3 is — (R 1 R 2
SiNR 3 ) -is a repeating unit and the degree of polymerization is mainly 3
It has a cyclic structure of ~ 5. Among the polysilazanes used next, typical examples other than those of the general formula (I) will be given.

【0023】ポリオルガノ(ヒドロ)シラザンの中に
は、D.SeyferthらCommunication of Am.Cer.Soc., C-1
32, July 1984.が報告されている様な分子内に
架橋構造を有するものもある。一例を示すと下記の如く
である。
Among the polyorgano (hydro) silazanes are D. Seyferth et al. Communication of Am. Cer. Soc., C-1.
32, July 1984. There are also those having a cross-linked structure in the molecule as reported in. An example is as follows.

【0024】[0024]

【化7】 [Chemical 7]

【0025】また、特開昭49−69717に報告され
ている様なR1 SiX3(X:ハロゲン)のアンモニア分
解によって得られる架橋構造を有するポリシラザン(R
1 Si(NH)X )、あるいはR1 SiX3 及びR2 2
iX2 の共アンモニア分解によって得られる下記の構造
を有するポリシラザンも出発材料として用いることがで
きる。
Further, polysilazane (R having a crosslinked structure obtained by ammonia decomposition of R 1 SiX 3 (X: halogen) as reported in JP-A-49-69717 (R
1 Si (NH) x ), or R 1 SiX 3 and R 2 2 S
Polysilazane having the following structure obtained by co-ammonia decomposition of iX 2 can also be used as a starting material.

【0026】[0026]

【化8】 [Chemical 8]

【0027】用いるポリシラザンは、上記の如く一般式
(I)で表わされる単位からなる主骨格を有するが、一
般式(I)で表わされる単位は、上記にも明らかな如く
環状化することがあり、その場合にはその環状部分が末
端基となり、このような環状化がされない場合には、主
骨格の末端はR1 ,R2 ,R3 と同様の基又は水素であ
ることができる。
The polysilazane to be used has a main skeleton composed of the unit represented by the general formula (I) as described above, but the unit represented by the general formula (I) may be cyclized as is apparent from the above. In that case, the cyclic portion serves as a terminal group, and when such cyclization is not carried out, the terminal of the main skeleton can be a group similar to R 1 , R 2 and R 3 or hydrogen.

【0028】用いるポリシラザンの分子量に特に制約は
なく、入手可能なものを用いることができるが、グリシ
ドールとの反応性の点で、式(I)におけるR1
2 、及びR3 は立体障害の小さい基が好ましい。即
ち、R1 ,R2 及びR3 としては水素原子及びC1 〜C
5 のアルキル基が好ましく、水素原子及びC1 〜C2
アルキル基がさらに好ましい。
There are no particular restrictions on the molecular weight of the polysilazane to be used, and any available polysilazane can be used. However, in view of reactivity with glycidol, R 1 in the formula (I),
R 2 and R 3 are preferably groups having small steric hindrance. That is, R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms and C 1 to C
The alkyl group of 5 is preferable, and a hydrogen atom and a C 1 to C 2 alkyl group are more preferable.

【0029】ポリシラザンとグリシドールとの混合比
は、グリシドール/ポリシラザン重量比が0.001か
ら2になるように、好ましくは0.01から1になるよ
うに、さらに好ましくは0.05から0.5になる様に
加える。グリシドールの添加量をこれより増やすとポリ
シラザンの分子量が上がり過ぎてゲル化し、また、少な
いと十分な効果が得られない。
The mixing ratio of polysilazane and glycidol is such that the glycidol / polysilazane weight ratio is 0.001 to 2, preferably 0.01 to 1, and more preferably 0.05 to 0.5. To be added. If the amount of glycidol added is increased beyond this range, the molecular weight of polysilazane increases too much to cause gelation, and if it is too small, no sufficient effect can be obtained.

【0030】反応は、無溶媒で行なうこともできるが、
有機溶媒を使用する時に比べて、反応制御が難しく、ゲ
ル状物質が生成する場合もあるので、一般に有機溶媒を
用いた方が良い。溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪
族炭化水素、脂環式炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン
化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル類、芳香
族アミン類が使用できる。好ましい溶媒としては、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロ
ロホルム、n−ヘキサン、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ピリジン、メチルピリジン等があり、特に好
ましい溶媒としてはピリジン、メチルピリジン等があげ
られる。また反応に対して不活性な雰囲気、例えば、窒
素、アルゴン等の雰囲気中において反応を行なうことが
必要であり、空気中のような酸化性雰囲気中で行なう
と、原料のポリシラザン及びグリシドールの酸化や加水
分解が起こるため好ましくない。
Although the reaction can be carried out without solvent,
Compared to the case of using an organic solvent, it is generally preferable to use an organic solvent because it is difficult to control the reaction and a gelled substance may be generated. As the solvent, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, hydrocarbon solvents of alicyclic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, aliphatic ethers, alicyclic ethers, and aromatic amines can be used. Preferred solvents include, for example, benzene, toluene, xylene, methylene chloride, chloroform, n-hexane, ethyl ether, tetrahydrofuran, pyridine, methylpyridine and the like, and particularly preferred solvents include pyridine and methylpyridine. Further, it is necessary to carry out the reaction in an atmosphere inert to the reaction, for example, in an atmosphere of nitrogen, argon or the like. When the reaction is carried out in an oxidizing atmosphere such as air, oxidation of the raw material polysilazane and glycidol or Hydrolysis occurs, which is not preferable.

【0031】反応温度は広い範囲にわたって変更するこ
とができ、例えば有機溶媒を使用する場合には、その有
機溶媒の沸点以下の温度に加熱してもよいが、数平均分
子量の高い固体を得るには、引続き有機溶媒の沸点以上
に加熱して有機溶媒を留去させて反応を行なうこともで
きる。反応温度は、グリシドール中のエポキシ基の過度
の開環とそれによるポリシラザンのゲル化を防ぐため一
般に150℃以下にするのが好ましい。
The reaction temperature can be varied over a wide range. For example, when an organic solvent is used, it may be heated to a temperature below the boiling point of the organic solvent, but in order to obtain a solid having a high number average molecular weight. Alternatively, the reaction can be carried out by subsequently heating the organic solvent to a boiling point or higher to distill off the organic solvent. The reaction temperature is generally preferably 150 ° C. or lower in order to prevent excessive ring opening of the epoxy group in glycidol and gelation of polysilazane due to it.

【0032】反応時間は特に重要ではないが、通常、1
〜50時間程度である。反応は一般に常圧付近で行なう
のが好ましい。本発明において、前記グリシドール付加
ポリシラザンを用いてコーティング用組成物を調製する
には、通常グリシドール付加ポリシラザンを溶剤に溶解
させればよい。
The reaction time is not critical, but is usually 1
It is about 50 hours. It is generally preferable to carry out the reaction at around normal pressure. In the present invention, in order to prepare a coating composition using the glycidol-added polysilazane, usually, the glycidol-added polysilazane may be dissolved in a solvent.

【0033】溶剤としては、脂肪族炭化水素、脂環式炭
化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化メ
タン、ハロゲン化エタン、ハロゲン化ベンゼン等のハロ
ゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂環式エーテル等の
エーテル類が使用できる。好ましい溶媒は、塩化メチレ
ン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロモホルム、塩化エ
チレン、塩化エチリデン、トリクロロエタン、テトラク
ロロエタン等のハロゲン化炭化水素、エチルエーテル、
イソプロピルエーテル、エチルブチルエーテル、ブチル
エーテル、1,2−ジオキシエタン、ジオキサン、ジメ
チルジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピ
ラン等のエーテル類、ペンタンヘキサン、イソヘキサ
ン、メチルペンタン、ヘプタン、イソヘプタン、オクタ
ン、イソオクタン、シクロペンタン、メチルシクロペン
タン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の炭化水素
等である。
Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, hydrocarbon solvents of aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons such as halogenated methane, halogenated ethane and halogenated benzene, aliphatic ethers and fats. Ethers such as cyclic ethers can be used. Preferred solvents are halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, bromoform, ethylene chloride, ethylidene chloride, trichloroethane and tetrachloroethane, ethyl ether,
Ethers such as isopropyl ether, ethylbutyl ether, butyl ether, 1,2-dioxyethane, dioxane, dimethyldioxane, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, pentanehexane, isohexane, methylpentane, heptane, isoheptane, octane, isooctane, cyclopentane, methylcyclopentane And hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene and ethylbenzene.

【0034】これらの溶剤を使用する場合、前記グリシ
ドール付加ポリシラザンの溶解度や溶剤の蒸発速度を調
節するために、2種類以上の溶剤を混合してもよい。溶
剤の使用量(割合)は採用するコーティング方法により
作業性がよくなるように選択され、またグリシドール付
加ポリシラザンの平均分子量、分子量分布、その構造に
よって異なるので、コーティング用組成物中溶剤は90
重量%程度まで混合することができ、好ましくは10〜
50重量%の範囲で混合することができる。
When using these solvents, two or more kinds of solvents may be mixed in order to adjust the solubility of the glycidol-added polysilazane and the evaporation rate of the solvent. The amount (ratio) of the solvent used is selected so as to improve the workability depending on the coating method adopted, and it depends on the average molecular weight, the molecular weight distribution, and the structure of the glycidol-added polysilazane.
It can be mixed up to about 10% by weight, preferably 10 to
It is possible to mix in the range of 50% by weight.

【0035】また溶剤濃度はグリシドール付加ポリシラ
ザンの平均分子量、分子量分布、その構造によって異な
るが、通常0〜90重量%の範囲で良い結果が得られ
る。また、本発明においては、必要に応じて適当な充填
剤を加えてもよい。充填剤の例としてはシリカ、アルミ
ナ、ジルコニア、マイカを始めとする酸化物系無機物あ
るいは炭化珪素、窒化珪素等の非酸化物系無機物の微粉
等が挙げられる。また用途によってはアルミニウム、亜
鉛、銅等の金属粉末の添加も可能である。さらに充填剤
の例を詳しく述べれば、ケイ砂、石英、ノバキュライ
ト、ケイ藻土などのシリカ系:合成無定形シリカ:カオ
リナイト、雲母、滑石、ウオラストナイト、アスベス
ト、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸
塩:ガラス粉末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレ
ーク、泡ガラス球等のガラス体:窒化ホウ素、炭化ホウ
素、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ
素、炭化ケイ素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタ
ン等の非酸化物系無機物:炭酸カルシウム:酸化亜鉛、
アルミナ、マグネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等
の金属酸化物:硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫
化タングステン、弗化炭素その他無機物:アルミニウ
ム、ブロンズ、鉛、ステンレススチール、亜鉛等の金属
粉末:カーボンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭
素、中空カーボン球等のカーボン体等があげられる。
The solvent concentration varies depending on the average molecular weight of the glycidol-added polysilazane, the molecular weight distribution, and its structure, but good results are usually obtained in the range of 0 to 90% by weight. Further, in the present invention, a suitable filler may be added if necessary. Examples of the filler include fine powders of oxide-based inorganic materials such as silica, alumina, zirconia, and mica, or non-oxide-based inorganic materials such as silicon carbide and silicon nitride. Depending on the application, it is also possible to add metal powders such as aluminum, zinc and copper. More specifically, examples of fillers include silica-based materials such as silica sand, quartz, novaculite, and diatomaceous earth: synthetic amorphous silica: kaolinite, mica, talc, wollastonite, asbestos, calcium silicate, aluminum silicate. Silicates such as: glass powder, glass spheres, hollow glass spheres, glass flakes, foam glass spheres, etc. glass bodies: boron nitride, boron carbide, aluminum nitride, aluminum carbide, silicon nitride, silicon carbide, titanium boride, nitride Non-oxide inorganic substances such as titanium and titanium carbide: calcium carbonate: zinc oxide,
Alumina, magnesia, titanium oxide, beryllium oxide and other metal oxides: barium sulfate, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, carbon fluoride and other inorganic substances: aluminum, bronze, lead, stainless steel, zinc and other metal powders: carbon black, Examples thereof include carbon bodies such as coke, graphite, pyrolytic carbon, and hollow carbon spheres.

【0036】これら充填剤は、針状(ウィスカーを含
む。)、粒状、鱗片状等種々の形状のものを単独又は2
種以上混合して用いることができる。又、これら充填剤
の粒子の大きさは1回に塗布可能な膜厚よりも小さいこ
とが望ましい。また充填剤の添加量はケイ素アルコキシ
ド付加ポリシラザン1重量部に対し、0.05重量部〜
10重量部の範囲であり、特に好ましい添加量は0.2
重量部〜3重量部の範囲である。又、充填剤の表面をカ
ップリング剤処理、蒸着、メッキ等で表面処理して使用
してもよい。
These fillers have various shapes such as needle-like shape (including whiskers), granular shape, and scale-like shape, either alone or in 2 pieces.
A mixture of two or more species can be used. Further, it is desirable that the particle size of these fillers is smaller than the film thickness that can be applied at one time. Further, the amount of the filler added is 0.05 parts by weight to 1 part by weight of the silicon alkoxide-added polysilazane.
It is in the range of 10 parts by weight, and a particularly preferable amount of addition is 0.2.
The range is 3 to 3 parts by weight. Further, the surface of the filler may be surface-treated by a coupling agent treatment, vapor deposition, plating or the like for use.

【0037】コーティング用組成物には、必要に応じて
各種顔料、レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線
吸収剤、pH調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥
促進剤、流れ止め剤を加えてもよい。本発明によれば、
同様にして、上記の如きコーティング用組成物を用いた
コーティング方法が提供され、このコーティング方法は
上記のコーティング用組成物を基盤に1回又は2回以上
繰り返し塗布した後、焼成し珪素−窒素−酸素系又は珪
素−窒素−酸素−炭素系セラミックスから成る被覆膜を
形成させることを特徴とするものである。
The coating composition may include various pigments, leveling agents, defoaming agents, antistatic agents, ultraviolet absorbers, pH adjusters, dispersants, surface modifiers, plasticizers, and drying accelerators as needed. Alternatively, anti-flow agents may be added. According to the invention,
In the same manner, there is provided a coating method using the coating composition as described above, which comprises applying the coating composition to a substrate once or more than once and then baking the silicon-nitrogen-containing material. It is characterized in that a coating film made of oxygen-based or silicon-nitrogen-oxygen-carbon ceramics is formed.

【0038】また本発明は上記のごとく焼成した被覆膜
を50℃未満の条件で長時間保持し、被覆膜の性質を向
上させることを特徴とするコーティング方法を提供す
る。更に本発明は上記のごときコーティング用組成物を
基板に1回または2回以上繰り返し塗布した後、被覆膜
を50℃未満の条件で長時間保持し、珪素−窒素−酸素
又は珪素−窒素−酸素−炭素系セラミックスから成る被
覆膜を形成させることを特徴とするコーティング方法を
提供する。
The present invention also provides a coating method characterized in that the properties of the coating film are improved by keeping the coating film fired as described above at a temperature of less than 50 ° C. for a long time. Further, in the present invention, after the coating composition as described above is repeatedly applied to the substrate once or twice or more, the coating film is kept for a long time under the condition of less than 50 ° C. to obtain silicon-nitrogen-oxygen or silicon-nitrogen- Provided is a coating method, which comprises forming a coating film made of oxygen-carbon ceramics.

【0039】コーティング組成物を塗布する基盤は、特
に限定されず、金属、セラミックス、プラスチックス等
のいずれでもよい。コーティングとしての塗布手段とし
ては、通常の塗布方法、つまり浸漬、ロール塗り、バー
塗り、刷毛塗り、スプレー塗り、フロー塗り等が用いら
れる。又、塗布前に基盤をヤスリがけ、脱脂、各種ブラ
スト等で表面処理しておくとコーティング組成物の付着
性能は向上する。
The base on which the coating composition is applied is not particularly limited and may be any of metal, ceramics, plastics and the like. As a coating means for coating, a usual coating method, that is, dipping, roll coating, bar coating, brush coating, spray coating, flow coating or the like is used. Further, if the substrate is sanded, degreased, and surface-treated with various blasts before coating, the adhesion performance of the coating composition is improved.

【0040】このような方法でコーティングし、充分乾
燥させた後、加熱・焼成する。この焼成によってグリシ
ドール付加ポリシラザンは架橋、縮合、あるいは、焼成
雰囲気によっては酸化、加水分解して硬化し、強靱な被
覆を形成する。上記焼成条件はグリシドール付加ポリシ
ラザンの分子量や構造によって異なるが0.5〜10℃
/分の緩やかな昇温速度で50℃〜1000℃の範囲の
温度で焼成する。好ましい焼成温度は50℃〜300℃
の範囲である。焼成雰囲気は空気中あるいは不活性ガス
等のいずれであってもよいが、空気中がより好ましい。
空気中での焼成によりグリシドール付加ポリシラザンの
酸化、あるいは空気中に共存する水蒸気による加水分解
が進行し、上記のような低い焼成温度てSi−O結合あ
るいはSi−N結合を主体とする強靱な被覆の形成が可
能となる。
After being coated by such a method and sufficiently dried, it is heated and baked. By this calcination, the glycidol-added polysilazane is crosslinked, condensed, or, depending on the calcination atmosphere, oxidized and hydrolyzed to be hardened to form a tough coating. Although the above firing conditions vary depending on the molecular weight and structure of the glycidol-added polysilazane, it is 0.5-10 ° C.
Baking at a temperature in the range of 50 ° C. to 1000 ° C. at a slow heating rate of / min. The preferred firing temperature is 50 ° C to 300 ° C.
Is the range. The firing atmosphere may be in the air, an inert gas, or the like, but the air is more preferable.
Oxidation of glycidol-added polysilazane by hydrolysis in air or hydrolysis by steam coexisting in air progresses, resulting in a tough coating mainly composed of Si-O bond or Si-N bond at the above low baking temperature. Can be formed.

【0041】コーティングするグリシドール付加ポリシ
ラザンの種類によっては、限られた焼成条件ではセラミ
ックスへの転化が不完全である場合があり、この場合に
は焼成後の被覆膜を50℃未満の条件で長時間保持し、
被覆膜の性質を向上させることが可能である。この場合
の保持雰囲気は空気中が好ましく、また水蒸気圧を高め
た湿潤空気中でも更に好ましい。保持する時間は特に限
定されるものではないが、10分以上30日以内が現実
的に適当である。また保持温度は特に限定されるもので
はないが、0℃以上50℃未満が現実的に適当である。
ここで50℃以上で保持することも当然有効であるが、
本文では50℃以上での加熱操作を「焼成」と定義して
いる。即ち、ある温度で一定時間焼成した後、温度を例
えば50℃に下げて長時間焼成することも有効である
が、この操作は前述の「加熱・焼成」操作の一類型であ
る。
Depending on the type of glycidol-added polysilazane to be coated, the conversion to ceramics may be incomplete under limited firing conditions. In this case, the coating film after firing may be treated at a temperature lower than 50 ° C. for a long time. Hold time,
It is possible to improve the properties of the coating film. In this case, the holding atmosphere is preferably air, and more preferably wet air having an increased water vapor pressure. The holding time is not particularly limited, but 10 minutes or more and 30 days or less is practically appropriate. The holding temperature is not particularly limited, but 0 ° C or more and less than 50 ° C is practically appropriate.
Of course, holding at 50 ° C or higher is also effective,
In the text, the heating operation at 50 ° C. or higher is defined as “calcination”. That is, it is also effective to bake at a certain temperature for a certain period of time and then lower the temperature to, for example, 50 ° C. and bake for a long time.

【0042】この空気中での保持によりグリシドール付
加ポリシラザンの酸化、あるいは空気中に共存する水蒸
気による加水分解が更に進行し、セラミックスへの転化
が完了して、性質のより向上した、より強靱な被覆膜の
形成が可能となる。以上の方法によれば焼成温度が低下
でき、高い焼成温度に起因する種々の問題を軽減するこ
とができる。
By this holding in air, oxidation of glycidol-added polysilazane or hydrolysis by steam coexisting in air further progresses, conversion to ceramics is completed, and a tougher coating with improved properties is obtained. A covering film can be formed. According to the above method, the firing temperature can be lowered and various problems caused by the high firing temperature can be alleviated.

【0043】更に、コーティングするグリシドール付加
ポリシラザンの種類によっては、50℃以上での焼成を
全く行なわず、塗布後の被覆膜を50℃未満の条件で長
時間保持し、被覆膜の性質を向上させることが可能であ
る。この場合の保持雰囲気は空気中が好ましく、また水
蒸気圧を高めた湿潤空気中でも更に好ましい。保持する
時間は特に限定されるものではないが、10分以上30
日以内が現実的に適当である。また保持温度は特に限定
されるものではないが、0℃以上50℃未満が現実的に
適当である。ここで50℃以上で保持することも当然有
効であるが、本文では50℃以上での加熱操作を「焼
成」と定義している。この空気中での保持によりグリシ
ドール付加ポリシラザンの酸化、あるいは空気中に共存
する水蒸気による加水分解が進行し、セラミックスへの
転化が完了して、Si−O結合あるいはSi−N結合を
主体とした強靱な被覆膜の形成が可能となる。以上の方
法によれば高い焼成温度に起因する種々の問題を大幅に
軽減することができ、場合によっては室温付近でのセラ
ミックスへの転化が可能となる。
Further, depending on the type of glycidol-added polysilazane to be coated, baking at 50 ° C. or higher is not performed at all, and the coating film after coating is kept for a long time at a temperature of less than 50 ° C. It is possible to improve. In this case, the holding atmosphere is preferably air, and more preferably wet air having an increased water vapor pressure. The holding time is not particularly limited, but 10 minutes or more and 30
Within a day is realistically appropriate. The holding temperature is not particularly limited, but 0 ° C or more and less than 50 ° C is practically appropriate. Here, it is naturally effective to hold at 50 ° C. or higher, but in the present text, the heating operation at 50 ° C. or higher is defined as “baking”. This retention in air promotes oxidation of the glycidol-added polysilazane or hydrolysis by steam coexisting in the air to complete conversion to ceramics, resulting in a toughness mainly composed of Si-O bond or Si-N bond. It is possible to form a different coating film. According to the above method, various problems caused by the high firing temperature can be significantly reduced, and in some cases, conversion to ceramics near room temperature becomes possible.

【0044】[0044]

〔原料ペルヒドロポリシラザンの製造〕[Production of raw material perhydropolysilazane]

内容積11の四つ口フラスコにガス吹きこみ管、メカニ
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つ口フ
ラスコに脱気した乾燥ピリジン490mlを入れ、これを
氷冷した。次にジクロロシラン51.6gを加えると白
色固体状のアダクト(SiH2 Cl・2C5 5 N)が
生成した。反応混合物を氷冷し、攪拌しながら、水酸化
ナトリウム管及び活性炭管を通して精製したアンモニア
51.0gを吹き込んだ後、90℃で加熱した。
A four-necked flask having an inner volume of 11 was equipped with a gas blowing tube, a mechanical stirrer, and a dewar condenser. After replacing the inside of the reactor with deoxygenated dry nitrogen, 490 ml of degassed dry pyridine was put into a four-necked flask, and this was ice-cooled. Next, 51.6 g of dichlorosilane was added to produce a white solid adduct (SiH 2 Cl · 2C 5 H 5 N). The reaction mixture was ice-cooled, and while stirring, 51.0 g of purified ammonia was bubbled through a sodium hydroxide tube and an activated carbon tube, followed by heating at 90 ° C.

【0045】反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾
燥ピリジンを用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ
過してろ液850mlを得た。ろ液5mlから溶媒を減去留
去すると樹脂状固体ペルヒドロポリシラザン0.1gが
得られた。得られたポリマーの数平均分子量は、凝固点
降下法(溶媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ、
1120であった。IR(赤外吸収)スペクトル(溶
媒:乾燥o−キシレン;ペルヒドロポリシラザンの濃
度:10.2g/1)は、波数(cm-1)3340(見か
けの吸光係数ε=0.5571g-1cm-1)、及び117
5のNHに基づく吸収;2160(ε=3.14)のS
iHに基づく吸収;1020〜820のSiH及びSi
NSiに基づく吸収を示した。 1HNMR(プロトン核
磁気共鳴)スペクトル(60MHz 、溶媒CDCl3 /基
準物質TMS)は、いずれも幅広い吸収を示している。
即ち、δ4.8及び4.4(br.,SiH);1.5
(br.,NH)の吸収が観測された。
After the reaction was completed, the reaction mixture was centrifuged, washed with dry pyridine, and then filtered under a nitrogen atmosphere to obtain 850 ml of a filtrate. The solvent was removed from the filtrate (5 ml) by distillation, and 0.1 g of a resinous solid perhydropolysilazane was obtained. The number average molecular weight of the obtained polymer was measured by the freezing point depression method (solvent: dry benzene),
It was 1120. The IR (infrared absorption) spectrum (solvent: dry o-xylene; concentration of perhydropolysilazane: 10.2 g / 1) shows a wave number (cm −1 ) 3340 (apparent extinction coefficient ε = 0.5571 g −1 cm − 1 ) and 117
Absorption based on NH of 5; S of 2160 (ε = 3.14)
iH-based absorption; SiH and Si from 1024 to 820
It showed absorption based on NSi. The 1 H NMR (proton nuclear magnetic resonance) spectra (60 MHz, solvent CDCl 3 / reference material TMS) all show broad absorption.
That is, δ4.8 and 4.4 (br., SiH); 1.5
Absorption of (br., NH) was observed.

【0046】比較例1 (焼成時のセラミックス化の評価)一般にポリシラザン
の焼成時には、Si−R1 ,N−R2 (R1 ,R2 は水
素原子、またはアルキル基等を示す)結合の切断と、S
i−N,Si−O結合の生成(後者は酸化性雰囲気下で
の焼成時に限る)が起こり、ポリシラザンは窒化珪素、
シリコンオキシナイトライド、シリカなどのセラミック
スに転化する。この過程をセラミックス化と称する。本
比較例または実施例では焼成を大気雰囲気下で行なった
ためポリシラザンは主にシリカに変化したが、このセラ
ミックス化の進行の半定量的評価をIR法にて行なっ
た。
Comparative Example 1 (Evaluation of Ceramization during Firing) Generally, when polysilazane is fired, Si—R 1 and N—R 2 (R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group) bond is broken. And S
Formation of i-N and Si-O bonds (the latter is limited to firing in an oxidizing atmosphere) occurs, polysilazane is silicon nitride,
Converts to ceramics such as silicon oxynitride and silica. This process is called ceramization. In this Comparative Example or Example, since the polysilazane was mainly changed to silica because the firing was performed in the air atmosphere, the semi-quantitative evaluation of the progress of the ceramization was performed by the IR method.

【0047】参考例1で得たポリシラザンをo−キシレ
ンで希釈し、濃度を20重量%とした。この溶液を直径
5インチ、厚さ0.5mmのシリコンウエハ上にスピンコ
ータを用いて塗布(2000rpm ,20秒)し、膜厚約
0.5ミクロンの塗膜を得た。この塗膜のIRスペクト
ルを参考図1中に示す。(スペクトル)次いでこの塗
膜を大気雰囲気下200℃で1時間加熱したところ、I
Rスペクトルは同図スペクトルのように変化した。こ
こで、SiH残存率とSiO/SiN比を次の方法で求
めた。
The polysilazane obtained in Reference Example 1 was diluted with o-xylene to a concentration of 20% by weight. This solution was applied (2000 rpm, 20 seconds) to a silicon wafer having a diameter of 5 inches and a thickness of 0.5 mm by using a spin coater to obtain a coating film having a film thickness of about 0.5 micron. The IR spectrum of this coating film is shown in Reference Figure 1. (Spectrum) Then, when this coating film was heated at 200 ° C. for 1 hour in the atmosphere, I
The R spectrum changed as shown in the same figure. Here, the residual rate of SiH and the SiO / SiN ratio were determined by the following methods.

【0048】SiH残存率=(加熱後のSiH吸光度/
加熱前のSiN吸光度)×100(%) SiO/SiN比=加熱後のSiO吸光度/加熱後のS
iN吸光度 両者の数値はセラミックス化進行の指標となるものであ
り、SiH残存率が小さいほど、またSiO/SiN比
が大きいほどセラミックス化が進んでいる事を示す。
SiH residual rate = (SiH absorbance after heating /
(SiN absorbance before heating) × 100 (%) SiO / SiN ratio = SiO absorbance after heating / S after heating
iN Absorbance Both numerical values serve as indicators of the progress of ceramization, and the smaller the SiH residual rate and the larger the SiO / SiN ratio, the more advanced the ceramization.

【0049】なおここでSiN,SiO,SiHの特性
吸収はそれぞれ約840,1160,2160cm-1のも
のを用いた。また吸光度は、 吸光度=log(Io /I) にて算出した。(Io ,Iの定義は図1参照)求められ
たSiH残存率とSiO/SiN比を表1中に示す。
The characteristic absorptions of SiN, SiO, and SiH used here are about 840, 1160, and 2160 cm -1 , respectively. The absorbance was calculated by the equation: absorbance = log (I o / I). (See FIG. 1 for the definition of I o and I) Table 1 shows the obtained SiH residual ratio and SiO / SiN ratio.

【0050】(コーティングと評価)前記で得たポリシ
ラザンをo−キシレンで希釈し、濃度を5重量%とし
た。このコーティング液をSUS304基板(70mm×
30mm×1mmt)の表面に刷毛にて塗布した後、大気雰
囲気下なる乾燥炉内で加熱した。加熱温度は200℃、
60分間、昇温速度は20℃/分とした。この結果、厚
み約1.0ミクロンなる被膜を得た。
(Coating and Evaluation) The polysilazane obtained above was diluted with o-xylene to a concentration of 5% by weight. This coating liquid is applied to SUS304 substrate (70 mm x
After being coated on a surface of 30 mm × 1 mmt) with a brush, it was heated in a drying furnace under an air atmosphere. Heating temperature is 200 ℃,
The heating rate was 20 ° C./minute for 60 minutes. As a result, a coating having a thickness of about 1.0 micron was obtained.

【0051】この被膜の外観、鉛筆硬度、碁盤目剥離試
験を以下の検査方法に従って測定した結果を表1に示
す。採用した検査方法は以下に示す通りである。 イ)外観:肉眼観察でクラック、色調、その他塗膜の欠
点を調べる。 ロ)鉛筆硬度:JIS K5400に準ずる。
Table 1 shows the results of the appearance, pencil hardness, and cross-cut peeling test of this coating measured according to the following inspection methods. The inspection method adopted is as follows. A) Appearance: Visually inspect for cracks, color tones, and other defects in the coating film. B) Pencil hardness: According to JIS K5400.

【0052】ハ)碁盤目剥離試験(密着性):塗膜上に
鋼ナイフで1mm四方の素材に達する切れ目を碁盤目に1
00個作り、その上にセロハンテープ(積水化学工業)
をはりつけた後、そのセロハンテープを上方90°の方
向に強くひきはがした時に残っているます目の数で評価
する。 比較例2 IR評価用塗膜とコーティング物の加熱温度を300℃
とした以外は比較例1と全く同じ方法により、セラミッ
クス化とコーティングの評価を行なった。IRスペクト
ルの変化を参考図1に(スペクトル)、両評価の結果
を表1に示す。
C) Cross-cut peeling test (adhesion): A 1 mm square material cut on the coating film with a steel knife
Make 00 pieces and cellophane tape on it (Sekisui Chemical Co., Ltd.)
After sticking, the cellophane tape is evaluated by the number of squares remaining when it is strongly peeled in the upward 90 ° direction. Comparative Example 2 The heating temperature of the coating film for IR evaluation and the coating product was 300 ° C.
Ceramics conversion and coating were evaluated by the same method as in Comparative Example 1 except for the above. The change in IR spectrum is shown in Reference Figure 1 (spectrum), and the results of both evaluations are shown in Table 1.

【0053】比較例3 IR評価用塗膜とコーティング物の加熱温度を共に10
0℃とした以外は比較例1と全く同じ方法により、セラ
ミックス化とコーティングの評価を行なった。評価の結
果を表1に示す。 実施例1 (グリシドール付加ポリシラザンの合成)参考例1で得
られたペルヒドロポリシラザンの乾燥ピリジン溶液(1
0重量%)100mlを内容量300mlの反応容器に入
れ、グリシドール(関東化成(株)製)の乾燥ピリジン
溶液(5重量%)20gを加え、容器内の空気を窒素で
置換した後、密閉系で20℃で2時間攪拌しながら反応
を行なった。反応終了後、乾燥o−キシレン100mlを
加え、圧力3〜5mmHg、温度30〜50℃で溶媒を除い
たところ、10.9gの無色粘性液体が得られた。この
液体はトルエン、テトラヒドロフラン、クロロホルムお
よびその他の有機溶媒に可溶であった。
Comparative Example 3 Both the coating film for IR evaluation and the heating temperature of the coating were 10
Using the same method as in Comparative Example 1 except that the temperature was 0 ° C., ceramization and coating were evaluated. The evaluation results are shown in Table 1. Example 1 (Synthesis of glycidol-added polysilazane) A dry pyridine solution of the perhydropolysilazane obtained in Reference Example 1 (1
0% by weight) 100 ml was placed in a reaction vessel having an internal volume of 300 ml, 20 g of a dry pyridine solution (5% by weight) of glycidol (manufactured by Kanto Kasei Co., Ltd.) was added, the air in the vessel was replaced with nitrogen, and then a closed system was prepared. The reaction was carried out while stirring at 20 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 100 ml of dry o-xylene was added, and the solvent was removed at a pressure of 3 to 5 mmHg and a temperature of 30 to 50 ° C. to obtain 10.9 g of a colorless viscous liquid. This liquid was soluble in toluene, tetrahydrofuran, chloroform and other organic solvents.

【0054】この粘性液体の数平均分子量は、GPCに
より測定したところ、1400であった。また、そのI
Rスペクトル分析の結果、グリシドールとの反応前と比
較して、波数(cm-1)2960,2940,2840の
CHに基づく吸収が出現している事が確認された。更
に、 1NMRスペクトル(CDCl3 )分析の結果、δ
=2.7,2.8,3.1,3.7,4.1の吸収が新
たに観測された。これらの吸収のうち3.7と4.1の
吸収はSi−O−CH2 に基づくものであり、この事か
らグリシドールがポリシラザンに付加したことがわか
る。
The number average molecular weight of this viscous liquid was 1,400 as measured by GPC. Also, I
As a result of R spectrum analysis, it was confirmed that CH-based absorption at wave numbers (cm −1 ) 2960, 2940, and 2840 appeared compared to before the reaction with glycidol. Furthermore, as a result of 1 NMR spectrum (CDCl 3 ) analysis, δ
= 2.7, 2.8, 3.1, 3.7, 4.1 absorptions were newly observed. Absorption of these absorption 3.7 and 4.1 are based on Si-O-CH 2, it can be seen that glycidol from this it was added to the polysilazane.

【0055】(セラミックス化とコーティングの評価)
このグリシドール付加ポリシラザンにつき、IR評価用
塗膜とコーティング物の加熱温度を100℃とした以外
は比較例1と全く同じ方法によりセラミックス化とコー
ティングの評価を行なった。この結果を表1中に示す。 実施例2 IR評価用塗膜とコーティング物の加熱温度を200℃
とした以外は実施例1と全く同じ方法により、セラミッ
クス化とコーティングの評価を行なった。IRスペクト
ルの変化を参考図1に(スペクトル)、両評価の結果
を表1中に示す。IRスペクトルによると200℃での
加熱によりこのポリシラザンはシリカに非常に近い状態
に転化したことがわかる。
(Evaluation of ceramics and coating)
With respect to the glycidol-added polysilazane, ceramization and coating were evaluated by the same method as in Comparative Example 1 except that the heating temperature of the coating film for IR evaluation and the coating was 100 ° C. The results are shown in Table 1. Example 2 The heating temperature of the coating film for IR evaluation and the coating product was 200 ° C.
Ceramics conversion and coating were evaluated by the same method as in Example 1 except for the above. The change in IR spectrum is shown in Reference Figure 1 (spectrum), and the results of both evaluations are shown in Table 1. The IR spectrum shows that the polysilazane was converted into a state very close to silica by heating at 200 ° C.

【0056】実施例3 IR評価用塗膜とコーティング物の加熱温度を300℃
とした以外は実施例1と全く同じ方法により、セラミッ
クス化とコーティングの評価を行なった。この結果を表
1中に示す。 実施例4 実施例1で得られた加熱後のIR評価用塗膜とコーティ
ング物をそれぞれ20℃、大気中で5日間保持し、その
後セラミックス化とコーティングの評価を行なった。こ
の結果を表1中に示す。
Example 3 The coating material for IR evaluation and the coating material were heated at 300 ° C.
Ceramics conversion and coating were evaluated by the same method as in Example 1 except for the above. The results are shown in Table 1. Example 4 The coating film for IR evaluation after heating and the coating material obtained in Example 1 were each kept at 20 ° C. in the atmosphere for 5 days, and then ceramization and coating were evaluated. The results are shown in Table 1.

【0057】実施例5 実施例2で得られた加熱後のIR評価用塗膜とコーティ
ング物をそれぞれ20℃、大気中で1日間保持し、その
後セラミックス化とコーティングの評価を行なった。こ
の結果を表1中に示す。 実施例6 参考例1で得られたペルヒドロポリシラザンの乾燥ピリ
ジン溶液(10重量%)100mlを内容量300mlの反
応容器に入れ、グリシドール(関東化成(株)製)の乾
燥ピリジン溶液(5重量%)30gを加え、容器内の空
気を窒素で置換した後、密閉系で20℃で2時間攪拌し
ながら反応を行なった。反応終了後、乾燥o−キシレン
100mlを加え、圧力3〜5mmHg、温度30〜50℃で
溶媒を除いたところ、11.4gの無色粘性液体が得ら
れた。この液体はトルエン、テトラヒドロフラン、クロ
ロホルムおよびその他の有機溶媒に可溶であった。
Example 5 The heated coating film for IR evaluation and the coating product obtained in Example 2 were each kept at 20 ° C. in the atmosphere for 1 day, and then ceramization and coating were evaluated. The results are shown in Table 1. Example 6 100 ml of the dry pyridine solution of perhydropolysilazane (10% by weight) obtained in Reference Example 1 was placed in a reaction vessel having an inner volume of 300 ml, and a dry pyridine solution of glycidol (manufactured by Kanto Kasei Co., Ltd.) (5% by weight) was added. ) 30 g was added and the air in the container was replaced with nitrogen, and then the reaction was carried out while stirring in a closed system at 20 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, 100 ml of dry o-xylene was added, and the solvent was removed at a pressure of 3 to 5 mmHg and a temperature of 30 to 50 ° C. to obtain 11.4 g of a colorless viscous liquid. This liquid was soluble in toluene, tetrahydrofuran, chloroform and other organic solvents.

【0058】この粘性液体の数平均分子量は、GPCに
より測定したところ、1750であった。また、そのI
Rスペクトル分析の結果、グリシドールとの反応前と比
較して、波数(cm-1)2960,2940,2840の
CHに基づく吸収が出現している事が確認された。更
に、 1NMRスペクトル(CDCl3 )分析の結果、δ
=2.7,2.8,3.1,3.7,4.1の吸収が新
たに観測された。
The number average molecular weight of this viscous liquid was 1750 as measured by GPC. Also, I
As a result of R spectrum analysis, it was confirmed that CH-based absorption at wave numbers (cm −1 ) 2960, 2940, and 2840 appeared compared to before the reaction with glycidol. Furthermore, as a result of 1 NMR spectrum (CDCl 3 ) analysis, δ
= 2.7, 2.8, 3.1, 3.7, 4.1 absorptions were newly observed.

【0059】このグリシドール付加ポリシラザンにつ
き、実施例1と全く同じ方法により、セラミックス化と
コーティングの評価を行なった。この結果を表1に示
す。 実施例7 IR評価用塗膜とコーティング物の加熱温度を200℃
とした以外は実施例6と全く同じ方法により、セラミッ
クス化とコーティングの評価を行なった。この結果を表
1に示す。
The glycidol-added polysilazane was made into ceramics and the coating was evaluated by the same method as in Example 1. The results are shown in Table 1. Example 7 The heating temperature of the coating film for IR evaluation and the coating product was 200 ° C.
Ceramics conversion and coating were evaluated by the same method as in Example 6 except for the above. The results are shown in Table 1.

【0060】実施例8 実施例6で得られた加熱後のIR評価用塗膜とコーティ
ング物をそれぞれ20℃、大気中で1日間保持し、その
後セラミックス化とコーティングの評価を行なった。こ
の結果を表1中に示す。 実施例9 実施例6で得られたグリシドール付加ポリシラザンをo
−キシレンで希釈し、濃度を20重量%とした。この溶
液を直径5インチ、厚さ0.5mmのシリコンウエハ上に
スピンコータを用いて塗布(2000rpm ,20秒)
し、膜厚約0.5ミクロンの塗膜を得た。この塗膜を2
0℃、大気中で5日間保持し、その後セラミックス化の
評価をIR法で行なった。この結果を表1中に示す。
Example 8 The coating film for IR evaluation after heating and the coating product obtained in Example 6 were each kept at 20 ° C. in the atmosphere for 1 day, and then ceramization and coating were evaluated. The results are shown in Table 1. Example 9 The glycidol-added polysilazane obtained in Example 6 was used.
-Diluted with xylene to a concentration of 20% by weight. This solution is coated on a silicon wafer having a diameter of 5 inches and a thickness of 0.5 mm using a spin coater (2000 rpm, 20 seconds).
Then, a coating film having a film thickness of about 0.5 micron was obtained. This coating 2
The temperature was maintained at 0 ° C. in the atmosphere for 5 days, and then the ceramization was evaluated by the IR method. The results are shown in Table 1.

【0061】また同グリシドール付加ポリシラザンをo
−キシレンで希釈し、濃度を5重量%とし、このコーテ
ィング液をSUS304基板(70mm×30mm×1mm
t)の表面に刷毛にて塗布した後、20℃、大気中で5
日間保持し、その後コーティング膜の評価を既述の方法
で行なった。この結果を表1中に示す。 実施例10 参考例1で得られたペルヒドロポリシラザンの乾燥ピリ
ジン溶液(10重量%)100mlを内容量300mlの反
応容器に入れ、グリシドール(関東化成(株)製)の乾
燥ピリジン溶液(5重量%)40gを加え、容器内の空
気を窒素で置換した後、密閉系で20℃で2時間攪拌し
ながら反応を行なった。反応終了後、乾燥o−キシレン
100mlを加え、圧力3〜5mmHg、温度30〜50℃で
溶媒を除いたところ、11.9gの無色粘性液体が得ら
れた。この液体はトルエン、テトラヒドロフラン、クロ
ロホルムおよびその他の有機溶媒に可溶であった。
In addition, the same glycidol-added polysilazane
-Dilute with xylene to a concentration of 5% by weight and apply this coating solution to SUS304 substrate (70 mm x 30 mm x 1 mm
After applying with a brush on the surface of t), 5 at 5 ℃ in the atmosphere
After holding for a day, the coating film was evaluated by the method described above. The results are shown in Table 1. Example 10 100 ml of a dry pyridine solution of perhydropolysilazane obtained in Reference Example 1 (10% by weight) was placed in a reaction vessel having an internal volume of 300 ml, and a dry pyridine solution of glycidol (manufactured by Kanto Kasei Co., Ltd.) (5% by weight) was added. ) 40 g was added and the air in the container was replaced with nitrogen, and then the reaction was carried out while stirring in a closed system at 20 ° C. for 2 hours. After the reaction was completed, 100 ml of dry o-xylene was added, and the solvent was removed at a pressure of 3 to 5 mmHg and a temperature of 30 to 50 ° C. to obtain 11.9 g of a colorless viscous liquid. This liquid was soluble in toluene, tetrahydrofuran, chloroform and other organic solvents.

【0062】この粘性液体の数平均分子量は、GPCに
より測定したところ、2100であった。また、そのI
Rスペクトル分析の結果、グリシドールとの反応前と比
較して、波数(cm-1)2960,2940,2840の
CHに基づく吸収が出現している事が確認された。更
に、 1NMRスペクトル(CDCl3 )分析の結果、δ
=2.7,2.8,3.1,3.7,4.1の吸収が新
たに観測された。
The number average molecular weight of this viscous liquid was 2,100 as measured by GPC. Also, I
As a result of R spectrum analysis, it was confirmed that CH-based absorption at wave numbers (cm −1 ) 2960, 2940, and 2840 appeared compared to before the reaction with glycidol. Furthermore, as a result of 1 NMR spectrum (CDCl 3 ) analysis, δ
= 2.7, 2.8, 3.1, 3.7, 4.1 absorptions were newly observed.

【0063】このグリシドール付加ポリシラザンにつ
き、実施例1と全く同じ方法により、セラミックス化と
コーティングの評価を行なった。この結果を表1に示
す。 実施例11 実施例10で得られたグリシドール付加ポリシラザンを
o−キシレンで希釈し、濃度を20重量%とした。この
溶液を直径5インチ、厚さ0.5mmのシリコンウエハ上
にスピンコータを用いて塗布(2000rpm ,20秒)
し、膜厚約0.5ミクロンの塗膜を得た。この塗膜を2
0℃、大気中で2日間保持し、その後セラミックス化の
評価をIR法で行なった。この結果を表1中に示す。
The glycidol-added polysilazane was made into ceramics and evaluated for coating by the same method as in Example 1. The results are shown in Table 1. Example 11 The glycidol-added polysilazane obtained in Example 10 was diluted with o-xylene to a concentration of 20% by weight. This solution is coated on a silicon wafer having a diameter of 5 inches and a thickness of 0.5 mm using a spin coater (2000 rpm, 20 seconds).
Then, a coating film having a film thickness of about 0.5 micron was obtained. This coating 2
The temperature was maintained at 0 ° C. in the atmosphere for 2 days, and then the ceramization was evaluated by the IR method. The results are shown in Table 1.

【0064】また同グリシドール付加ポリシラザンをo
−キシレンで希釈し、濃度を5重量%とし、このコーテ
ィング液をSUS304基板(70mm×30mm×1mm
t)の表面に刷毛にて塗布した後、20℃、大気中で2
日間保持し、その後コーティング膜の評価を既述の方法
で行なった。この結果を表1中に示す。 比較例4 比較例1で得られた加熱後のIR評価用塗膜とコーティ
ング物をそれぞれ20℃、大気中で5日間保持し、その
後セラミックス化とコーティングの評価を行なった。こ
の結果を表1中に示す。
In addition, the same glycidol-added polysilazane
-Dilute with xylene to a concentration of 5% by weight and apply this coating solution to SUS304 substrate (70 mm x 30 mm x 1 mm
After applying with a brush to the surface of t), 2 at 20 ° C in the atmosphere.
After holding for a day, the coating film was evaluated by the method described above. The results are shown in Table 1. Comparative Example 4 The heated coating film for IR evaluation and the coated product obtained in Comparative Example 1 were each held at 20 ° C. in the atmosphere for 5 days, and then ceramization and coating were evaluated. The results are shown in Table 1.

【0065】比較例5 比較例4で得られた加熱後のIR評価用塗膜とコーティ
ング物をそれぞれ20℃、大気中で5日間保持し、その
後セラミックス化とコーティングの評価を行なった。こ
の結果を表1中に示す。 比較例6 参考例1で得られたポリシラザンをo−キシレンで希釈
し、濃度を20重量%とした。この溶液を直径5イン
チ、厚さ0.5mmのシリコンウエハ上にスピンコータを
用いて塗布(2000rpm ,20秒)し、膜厚約0.5
ミクロンの塗膜を得た。この塗膜を20℃、大気中で5
日間保持し、その後セラミックス化の評価をIR法で行
なった。この結果を表1中に示す。
Comparative Example 5 The heated coating film for IR evaluation and the coated product obtained in Comparative Example 4 were each kept at 20 ° C. in the atmosphere for 5 days, and then ceramization and coating were evaluated. The results are shown in Table 1. Comparative Example 6 The polysilazane obtained in Reference Example 1 was diluted with o-xylene to a concentration of 20% by weight. This solution was applied (2000 rpm, 20 seconds) on a silicon wafer having a diameter of 5 inches and a thickness of 0.5 mm by using a spin coater to give a film thickness of about 0.5.
A micron coating was obtained. Apply this coating at 20 ℃ in the atmosphere for 5
After being kept for a day, evaluation of ceramization was performed by IR method. The results are shown in Table 1.

【0066】また同ポリシラザンをo−キシレンで希釈
し、濃度を5重量%とし、このコーティング液をSUS
304基板(70mm×30mm×1mmt)の表面に刷毛に
て塗布した後、20℃、大気中で5日間保持し、その後
コーティング膜の評価を既述の方法で行なった。この結
果を表1中に示す。実施例1〜11、比較例1〜6の結
果より、グリシドール付加ポリシラザンを用いたコーテ
ィング物は、非付加のポリシラザンを用いたコーティン
グ物と比較し、より低い焼成温度で、または場合によっ
ては焼成せずに良好な物性を与えることが明らかであ
る。
The polysilazane was diluted with o-xylene to a concentration of 5% by weight, and this coating solution was added to SUS.
The surface of 304 substrate (70 mm × 30 mm × 1 mmt) was coated with a brush and then kept in the atmosphere at 20 ° C. for 5 days, after which the coating film was evaluated by the method described above. The results are shown in Table 1. From the results of Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 6, the coating using the glycidol-added polysilazane was fired at a lower firing temperature or in some cases, as compared with the coating using the non-addition polysilazane. It is obvious that it gives good physical properties.

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】[0068]

【発明の効果】本発明によれば、耐熱性、耐摩耗性、耐
食性に優れ、基材との密着性の良い被覆が、従来にない
低温での焼成で、または焼成なしで得られる。本発明の
組成物は、金属、セラミックス等はもちろん、高温処理
に不適なプラスチック材料、電子部品等の表面保護剤と
して好適である。特にプラスチックのハードコーティン
グ剤、合成樹脂フィルムや容器のガス透過抑制用コーテ
ィング剤、半導体の保護膜や絶縁膜、即ちパシベーショ
ン膜、層間絶縁膜、チップコート膜など、また半導体の
封止剤、液晶表示体のアンダーコート膜や配向膜として
も利用することができる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, a coating having excellent heat resistance, abrasion resistance, corrosion resistance, and good adhesion to a substrate can be obtained by firing at a low temperature which has never been used before or without firing. The composition of the present invention is suitable as a surface protective agent for not only metals and ceramics but also plastic materials unsuitable for high temperature treatment and electronic parts. In particular, plastic hard coating agents, synthetic resin films and gas permeation suppressing coating agents for semiconductors, semiconductor protective films and insulating films, such as passivation films, interlayer insulating films, chip coat films, semiconductor sealing agents, liquid crystal displays, etc. It can also be used as a body undercoat film or an alignment film.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例でセラミックスを評価したIRスペクト
ル図である。
FIG. 1 is an IR spectrum diagram in which ceramics are evaluated in Examples.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主として一般式(I): 【化1】 (但し、R1 ,R2 ,R3 はそれぞれ独立に水素原子、
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する基が炭
素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ基、ア
ルコキシ基を表わす。ただし、R1 ,R2 ,R3 のうち
少なくとも1つは水素原子である。)で表わされる単位
からなる主骨格を有する数平均分子量が100〜5万の
ポリシラザンとグリシドールを反応させて得られる、グ
リシドール/ポリシラザン重量比が0.001〜2の範
囲内かつ数平均分子量が約200〜50万のグリシドー
ル付加ポリシラザンを少なくとも含有するコーティング
用組成物。
1. Mainly represented by the general formula (I): (However, R 1 , R 2 and R 3 are each independently a hydrogen atom,
An alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a group other than these groups in which the group directly bonded to silicon is carbon, an alkylsilyl group, an alkylamino group, and an alkoxy group. However, at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a hydrogen atom. ), Which has a main skeleton composed of units represented by the formula (1) and has a number average molecular weight of 100 to 50,000 and glycidol are reacted with each other, and the glycidol / polysilazane weight ratio is in the range of 0.001 to 2 and the number average molecular weight is about A coating composition containing at least 200,000 to 500,000 glycidol-added polysilazanes.
【請求項2】 請求項1記載のコーティング用組成物を
基板に1回または2回以上繰り返し塗布した後、50℃
以上の温度で焼成し珪素−窒素−酸素系又は珪素−窒素
−酸素−炭素系セラミックスから成る被覆膜を形成させ
ることを特徴とするコーティング方法。
2. The coating composition according to claim 1 is applied to a substrate once or twice or more, and then at 50 ° C.
A coating method which comprises firing at the above temperature to form a coating film made of silicon-nitrogen-oxygen system or silicon-nitrogen-oxygen-carbon system ceramics.
【請求項3】 請求項2記載の焼成後の被覆膜を50℃
未満の条件で長時間保持し、被覆膜の性質を向上させる
ことを特徴とするコーティング方法。
3. The baked coating film according to claim 2 at 50 ° C.
A coating method, characterized in that the property of the coating film is improved by holding it under the condition of less than a long time.
【請求項4】 請求項1記載のコーティング用組成物を
基板に1回または2回以上繰り返し塗布した後、被覆膜
を50℃未満の条件で長時間保持し、珪素−窒素−酸素
又は珪素−窒素−酸素−炭素系セラミックスから成る被
覆膜を形成させることを特徴とするコーティング方法。
4. The coating composition according to claim 1 is repeatedly applied to a substrate once or twice or more, and then the coating film is kept at a temperature of less than 50 ° C. for a long time to obtain silicon-nitrogen-oxygen or silicon. -A coating method comprising forming a coating film made of nitrogen-oxygen-carbon ceramics.
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