JP2920159B2 - Composition for coating - Google Patents

Composition for coating

Info

Publication number
JP2920159B2
JP2920159B2 JP25556589A JP25556589A JP2920159B2 JP 2920159 B2 JP2920159 B2 JP 2920159B2 JP 25556589 A JP25556589 A JP 25556589A JP 25556589 A JP25556589 A JP 25556589A JP 2920159 B2 JP2920159 B2 JP 2920159B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
borane
group
groups
nitrogen
atom
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP25556589A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH03119077A (en
Inventor
徹 舟山
一良 甲子
幹郎 新井
直 鈴木
裕治 田代
清 佐藤
武志 礒田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tonen General Sekiyu KK
Original Assignee
Tonen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tonen Corp filed Critical Tonen Corp
Priority to JP25556589A priority Critical patent/JP2920159B2/en
Publication of JPH03119077A publication Critical patent/JPH03119077A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2920159B2 publication Critical patent/JP2920159B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は新規なポリボロシラザンを必須成分とする耐
熱性、耐摩耗性、耐薬品性及び耐食性に優れ、かつ高硬
度の膜を形成し得るコーティング用組成物に関し、更に
詳しくは特定のポリボラシラザンを必須成分とするコー
ティング用組成物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention forms a high-hardness film comprising a novel polyborosilazane as an essential component and having excellent heat resistance, abrasion resistance, chemical resistance and corrosion resistance. The present invention relates to a coating composition to be obtained, and more particularly to a coating composition containing a specific polyborasilazane as an essential component.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より金属材料や無機材料の表面をコーティング処
理して、該材料の耐熱性、耐摩耗性、更には耐薬品性を
改善することは広く行われている。特に金属材料のコー
ティング法としては、メッキ、リン酸処理、あるいはク
ロム酸処理して各種被膜を形成する方法や種々の有機高
分子系樹脂と顔料及び必要に応じ添加剤を混合した塗料
による塗装法が知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, it has been widely practiced to coat a surface of a metal material or an inorganic material to improve heat resistance, wear resistance, and chemical resistance of the material. In particular, as a method of coating a metal material, a method of forming various coatings by plating, phosphoric acid treatment, or chromic acid treatment, or a coating method using a paint in which various organic polymer resins are mixed with pigments and additives as necessary. It has been known.

しかしながら、メッキ、リン酸処理あるいはクロム酸
処理はその廃液による環境汚染が問題となり、廃液処理
には多大の労力と費用を必要とする欠点があり、また各
種有機高分子系樹脂塗料は耐熱性が不充分であって、20
0℃以上で劣化するものが多く、300℃以上の高温下で使
用可能なものはほとんどない。
However, plating, phosphoric acid treatment, or chromic acid treatment poses a problem of environmental pollution due to the waste liquid, and the waste liquid treatment has a drawback that requires a great deal of labor and cost, and various organic polymer resin paints have heat resistance. Insufficient, 20
Many deteriorate at 0 ° C or higher, and few can be used at high temperatures of 300 ° C or higher.

これらの欠点を解消する方法として、シリコーン系塗
料、ポリチタノカルボシラン系塗料、更にはポリ(ジシ
リル)シラザン重合体等(特公昭61−38933号公報)、
ポリメタロシラザン重合体(特願昭63−45913号)使用
する方法が提案されている。
As a method for solving these drawbacks, silicone-based coatings, polytitanocarbosilane-based coatings, and poly (disilyl) silazane polymers (Japanese Patent Publication No. 61-38933),
A method using a polymetallosilazane polymer (Japanese Patent Application No. 63-45913) has been proposed.

しかしながら、シリコーン系塗料は200℃以上の高温
雰囲気下でも耐熱効果に優れた被膜を与えるものの、ピ
ンホールが発生し易く、またこのピンホールの発生を防
止するためにその被膜の膜厚を厚くすると焼成中に被膜
にクラックやブリスターが生じたり剥離が生ずる場合が
ある。このような現象は300℃以上の温度領域Fにおい
て特に顕著にみられるため、シリコーン系塗料を用いる
場合には、シリコーン樹脂の架橋密度を減少させる必要
があり、このため形成被膜の表面硬度が低下するという
難点が生じる。
However, although silicone-based paints provide films with excellent heat resistance even in a high-temperature atmosphere of 200 ° C or higher, pinholes are likely to occur, and when the film thickness is increased to prevent the occurrence of pinholes, Cracks, blisters, or peeling may occur in the coating during firing. Since such a phenomenon is particularly remarkable in a temperature range F of 300 ° C. or more, when a silicone-based paint is used, it is necessary to reduce the crosslink density of the silicone resin. The difficulty arises.

また、ポリチタノカルボシラン系塗料は低温焼成(40
0℃以下)における表面硬度が充分でない上、原料製造
工程が複雑であり、その製造コストが高価となるという
欠点がある。
In addition, polytitanocarbosilane-based paints are fired at low temperatures (40
(0 ° C. or lower), the surface hardness is not sufficient, and the raw material production process is complicated, and the production cost is high.

また、ポリ(ジシル)シラザン系重合体を用いる方法
は、750℃以上の高温下で不活性雰囲気又は真空中で熱
分解を行うプロセスを採る必要があり、その施行性に多
く困難さを伴う。同様にポリシラザンから得られた窒化
珪素の被覆膜についての報告もなされているが、クラッ
クが生じており十分実用的価値を有するものが得られて
いない (W.S.Cobling et al,“Formation of Ceramic Composi
tions Utilizing Polymer Pyrolysis",p217〜285、Mate
rials Science Research voll,Emergent Process Metho
ds For High−Technology Ceramics edited by R.F.Dab
is et.al,Plenun Press N.Y.)。
In addition, the method using a poly (disyl) silazane-based polymer requires a process of performing thermal decomposition in an inert atmosphere or vacuum at a high temperature of 750 ° C. or higher, which involves many difficulties in its workability. Similarly, there has been a report on a coating film of silicon nitride obtained from polysilazane, but cracks have occurred and a film having sufficient practical value has not been obtained (WSCobling et al, “Formation of Ceramic Composi
tions Utilizing Polymer Pyrolysis ", p.217-285, Mate
rials Science Research voll, Emergent Process Metho
ds For High-Technology Ceramics edited by RFDab
is et.al, Plenun Press NY).

また、ポリメタロシラザン系重合体は、上記コーティ
ング材に比較して、耐熱性、耐摩耗性及び耐薬品性に優
れると共に、表面硬度の高い被膜を与えるという点で長
所を有するものの1500℃以上の温度範囲ではポリメタロ
シラザンの結晶化がおこり、それに伴う体積収縮のた
め、クラックや剥離が生じるといった難点がある。
In addition, the polymetallosilazane-based polymer, compared to the coating material, is excellent in heat resistance, abrasion resistance and chemical resistance, and has an advantage in that a film having a high surface hardness is provided. In the temperature range, polymetallosilazane is crystallized, and the volume shrinks with the crystallization, causing cracks and peeling.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明は前記従来技術の有する前記欠点を克服し、耐
熱性、耐摩耗性及び耐薬品性に優れると共に、表面硬度
の高い被覆を与えるコーティング用組成物を提供するこ
とをその課題とする。
It is an object of the present invention to provide a coating composition which overcomes the above-mentioned drawbacks of the prior art and is excellent in heat resistance, abrasion resistance and chemical resistance and provides a coating having a high surface hardness.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明によれば、 (1) (a)主として一般式(I): (式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、
またはこれらの基以外で該式中のケイ素又は窒素に直結
する部分が炭素である基、アルキルシリル基、アルキル
アミノ基、アルコキシ基を表す。但し、R1、R2、R3の少
なくとも1個または水素原子でる。)で表される単位か
らなる主骨格を有し且つ、前記主骨格を構成するケイ素
の一部及び/又は窒素の一部に下記一般式(i)、(i
i)、(iii)又は(iv)で表される架橋結合成分が結合
しており、B/Si原子比が0.01〜3の範囲内かつ和平均分
子量が200〜500,000であるポリボロシラザン。
According to the present invention, (1) (a) mainly the general formula (I): (Wherein, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group,
Or a group other than these groups in which the portion directly connected to silicon or nitrogen in the formula is carbon, an alkylsilyl group, an alkylamino group, or an alkoxy group. However, it is at least one of R 1 , R 2 and R 3 or a hydrogen atom. And a part of silicon and / or a part of nitrogen constituting the main skeleton are represented by the following general formulas (i) and (i).
A polyborosilazane having a cross-linking component represented by (i), (iii) or (iv) bonded thereto, having a B / Si atomic ratio in a range of 0.01 to 3 and a total average molecular weight of 200 to 500,000.

(式中、R4は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜
20個を有するアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、
水酸基、又はアミノ基であり、R5はR4のうち窒素原子を
有する基の窒素原子に結合している残基であり、式(i
v)では各3個の窒素原子及びホウ素原子からなる合計
6個の原子のうち少なくとも2個が架橋に使われ、残り
の原子にはR4が結合することができる。) (b)溶剤 を少なくとも含有するコーティング組成物 が提供される。
(In the formula, R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom having 1 to 1
Having 20 alkyl groups, alkenyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, alkoxy groups, alkylamino groups,
A hydroxyl group or an amino group, R 5 is a residue bonded to the nitrogen atom of the group having a nitrogen atom among R 4 ,
In v), at least two of a total of six atoms consisting of three nitrogen atoms and boron atoms are used for crosslinking, and R 4 can be bonded to the remaining atoms. (B) a coating composition comprising at least a solvent.

本発明で用いるポリボロシラザンは有機溶媒に可溶で
あり、熱分解収率が高く、熱分解後のセラミックスは15
00℃以上で非晶質であるといった利点を有する。
The polyborosilazane used in the present invention is soluble in an organic solvent and has a high thermal decomposition yield.
It has the advantage that it is amorphous at a temperature of 00 ° C. or higher.

本発明のコーティング用組成物の必須成分であるポリ
ボロシラザンの第1の特徴はB/Si原子比が0.01〜3、好
ましくは0.05〜2の範囲内にあることである。
The first feature of the polyborosilazane, which is an essential component of the coating composition of the present invention, is that the B / Si atomic ratio is in the range of 0.01 to 3, preferably 0.05 to 2.

B/Si原子比が0.01未満であると硼素を含有させた著し
い効果がみられず、熱分解後のセラミックスは1400℃付
近から窒化珪素の結晶化のため、コーティング膜のはく
離がおこり、耐熱性に劣る。逆にB/Si原子比が3を越え
ると熱分解後のセラミックスは、高温下において硼素化
合物の結晶化のため、コーティング膜のはく離等の現像
がみられるので本発明の所期の目的を達成することがで
きない。
If the B / Si atomic ratio is less than 0.01, no significant effect of containing boron is observed, and the ceramics after thermal decomposition are subjected to crystallization of silicon nitride from around 1400 ° C, so that the coating film is peeled off and heat resistance is increased. Inferior. Conversely, if the B / Si atomic ratio exceeds 3, the thermally decomposed ceramics will develop at the high temperature due to the crystallization of the boron compound, causing the coating film to peel off, etc., thus achieving the intended object of the present invention. Can not do it.

本発明のコーティング組成物の必須成分であるポリボ
ロシラザンの第2の特徴は数平均分子量が200〜500,00
0、好ましくは500〜10,000の範囲内であることである。
The second feature of the polyborosilazane, which is an essential component of the coating composition of the present invention, has a number average molecular weight of 200 to 500,00.
0, preferably in the range of 500 to 10,000.

数平均分子量が200未満であると熱分解工程において
揮発成分が多く発生するため、セラミック収率が低く、
均質で良好なコーティング膜が得られず、また500,000
を越えると基板への塗布が困難になり、作業性が著しく
落ちるので望ましくない。
If the number average molecular weight is less than 200, a large amount of volatile components are generated in the thermal decomposition process, so the ceramic yield is low,
Uniform and good coating film cannot be obtained, and 500,000
Exceeding the range makes it difficult to apply the composition to the substrate, and significantly reduces workability, which is not desirable.

本発明のコーティング組成物の必須成分であるポリポ
ロシラザンの第3の特徴は前記一般式(I)で表される
単位からなる主骨格を有し且つ、前記主骨格を構成する
ケイ素の一部及び/又は窒素の一部に前記一般式
(i)、(ii)、(iii)又は(iv)で表される架橋結
合成分が結合していることである。
A third feature of the polyporosilazane, which is an essential component of the coating composition of the present invention, is that it has a main skeleton composed of the unit represented by the general formula (I) and a part of silicon constituting the main skeleton. And / or a part of the nitrogen is bonded with the cross-linking component represented by the general formula (i), (ii), (iii) or (iv).

本発明で用いる前記ポリボロシラザンは、たとえば前
記一般式(I) (式中、R1,R2,R3はそれぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、
またはこれらの基以外で該式中のケイ素又は窒素原子に
直結する部分が炭素である基、アルキルシリル基、アル
キルアミノ基、アルコキシ基を表わす。但し、R1,R2
R3の少なくとも1個または水素原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100から5万のポリシラザンと、硼素化合物を反応
させることによって得られる。
The polyborosilazane used in the present invention is, for example, a compound represented by the general formula (I) (Wherein, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group,
Or a group other than these groups in which the portion directly connected to the silicon or nitrogen atom in the formula is carbon, an alkylsilyl group, an alkylamino group, or an alkoxy group. Where R 1 , R 2 ,
At least one of R 3 or a hydrogen atom. The compound is obtained by reacting a boron compound with a polysilazane having a main skeleton composed of the unit represented by the following formula and having a number average molecular weight of about 100 to 50,000.

この場合、一般式(I)におけるアルキル基として
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、デシル等が挙げられ、ア
ルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、ペン
テニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテル、デセニル
等が挙げられ、アリール基としては、フェニル、トリ
ル、キシリル、ナフチル等が挙げられる。
In this case, examples of the alkyl group in the general formula (I) include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, and decyl, and examples of the alkenyl group include vinyl, allyl, butenyl, pentenyl, and hexenyl. , Heptynyl, octel, decenyl and the like, and the aryl group includes phenyl, tolyl, xylyl, naphthyl and the like.

上記のポリシラザンとして好ましく使用されるものを
具体的に例示すれば、一般式 の繰り返し単位を有する数平均分子量が100〜50,000の
環状無機ポリシラザン、鎖状無機ポリシラザン又はこれ
らの混合物から構成されるものが挙げられる。
Specific examples of those preferably used as the above polysilazane are represented by the general formula And a cyclic inorganic polysilazane having a number average molecular weight of 100 to 50,000, a chain inorganic polysilazane or a mixture thereof.

このようなポリペルヒドロシラザンを出発材料とすれ
ば、前記の珪素及び窒素を必須成分として、水素を任意
成分とするポリボロシラザンを製造することができる。
When such a polyperhydrosilazane is used as a starting material, a polyborosilazane containing silicon and nitrogen as essential components and hydrogen as an optional component can be produced.

このようなポリシラザンは、たとえばハロシラン、例
えばジクロロシランをピリジンの如き塩基と反応させて
得られるジクロシランと塩基とのアダクトを更にアンモ
ニアと反応させることにより得ることができる。(特願
昭60−145903号明細書参照)。
Such a polysilazane can be obtained, for example, by reacting an adduct of dichlorosilane and a base obtained by reacting a halosilane, for example, dichlorosilane with a base such as pyridine, with ammonia. (See Japanese Patent Application No. 60-145903).

また、繰り返し単位がSiH2NH及びSiH2Oであ
り、重合度が5〜300、好ましくは5〜100のポリシロキ
サザン(特開昭62−195024号公報)も好ましく使用する
ことができる。
Further, polysiloxazan having repeating units of SiH 2 NH and SiH 2 O and having a degree of polymerization of 5 to 300, preferably 5 to 100 (JP-A-62-195024) can also be preferably used.

また、組成式(RSiHNH)x〔(RSiH)1 5N〕
1-X(但し、式中、Rはアルキル基、アルケニル基、シ
クロアルキル基、アリール基、またはこれらの基以外で
Siに直続する原子が炭素である基、アルキルシリル基、
アルキルアミノ基、アルコキシ基を表わし、そして0.4
<x<1である。)で表わされるポリオルガオヒドロシ
ラザン(特願昭60−293472号明細書)も使用できる。
Further, the composition formula (RSiHNH) x [(RSiH) 1 · 5 N]
1-X (wherein, R represents an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, or a group other than these groups.
A group in which the atom immediately following Si is carbon, an alkylsilyl group,
Represents an alkylamino group, an alkoxy group, and 0.4
<X <1. )) (Japanese Patent Application No. 60-293472) can also be used.

硼素化合物としては、有機、無機のいずれの硼素化合
物も使用できる。有機硼素化合物としては、アルコキシ
ド類、アルキル硼素類、アルケニル硼素類、アルキルア
ミノホウ素類等が、無機硼素化合物としてはボラン類、
ハロゲン化硼素類、アミノ硼素類等が挙げられる。
As the boron compound, any of organic and inorganic boron compounds can be used. Alkoxides, alkylborons, alkenylborons, alkylaminoborons and the like as organic boron compounds, borane as inorganic boron compounds,
Examples include boron halides and aminoborons.

本発明で好ましくは使用される硼素化合物は、下記一
般式(II)、(IV)及び(V)で示される化合物であ
る。
The boron compound preferably used in the present invention is a compound represented by the following general formulas (II), (IV) and (V).

B(R43(II) B(R43)・L(V) (これらの式中、R4は同一でも異なっていてもよく、
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個を有する
アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、水酸基又はア
ミノ基であり、LはB(R43と錯体を形成する化合物
である。) 以下、その具体的化合物を例示する。
B (R 4 ) 3 (II) B (R 4 ) 3 ) · L (V) (wherein R 4 may be the same or different,
A hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an alkylamino group, a hydroxyl group or an amino group, and L is B (R 4 ) 3 Is a compound that forms a complex with Hereinafter, specific compounds thereof will be exemplified.

B(R43(II)のうちR4としてハロゲン原子を有す
るものとしては、フルオロボラン、トリブロモボラン、
トリフルオロボラン、トリクロロボラン、ジフルオロボ
ラン、ジイオドボラン、イオドボラン、ジブロモメチル
ボラン、ジクロロメチルボラン、ジフルオロメチルボラ
ン、ジフルオロメトキシボラン、ジイオドメチルボラ
ン、エチニルジフルオロボラン、ジフルオロビニルボラ
ン、ジブロモエチルボラン、ジクロロエチルボラン、ジ
クロロエトキシボラン、エチルジフルオロボラン、エチ
ルジイオドボラン、ブロモジメチルボラン、ジブロモ
(ジメチルアミノ)ボラン、クロロジメチルボラン、ク
ロロジメトキシボラン、フルオロジメチルボラン、フル
オロジメトキシボラン、ジクロロイソプロピルボラン、
ジクロロプロピルボラン、ジフルオロプロポキシボラ
ン、ブロモ(ジメチルアミノ)メチルボラン、クロロジ
ビニルボラン、ジブロモブチルボラン、ブチルジクロロ
ボラン、ブチルジフルオロボラン、ブトキシジフルオロ
ボラン、ブトキシジフルオロボラン、ブロモジエチルボ
ラン、ジブロモ(ジエチルアミノ)ボラン、クロロジエ
チルボラン、クロロジエトキシボラン、ジクロロ(ペン
タフルオロフェニル)ボラン、ジクロロ(ジエチルアミ
ノ)ボラン、(ジエチルアミノ)ジフルオロボラン、ブ
ロモビス(ジメチルアミノ)ボラン、クロロビス(ジメ
チルアミノ)ボラン、ビス(ジメチルアミノ)フルオロ
ボラン、ジブロモフェニルボラン、ジクロロフェニルボ
ラン、ジフルオロフェニルボラン、ジフルオロフェノキ
ボラン、ジイオドフェニルボラン、ジブロモ(1,3−ジ
メチル−1−ブテニル)ボラン、ジブロモ(3,3−ジメ
チル−1−ブテニル)ボラン、ジブロモ(1−エチル−
1−ブテニル)ボラン、ジブロモ−1−ヘキセニルボラ
ン、ジブロモ(2−メチルシクロベンジル)ボラン、2
−メチルシクロペンチル−ジクロロボラン、ジブロモヘ
キシルボラン、ジブロモ(2−メチルペンチル)ボラ
ン、ジフルオロトキシルボラン、ジブロモ(ジプロピル
アミノ)ボラン、クロロジプロピルボラン、クロロ(1,
1,2−トリメチルプロピル)ボラン、ジクロロ(ジイソ
プロピルアミノ)ボラン、ブチル(ジメチルアミノ)フ
ルオロボラン、ジクロロ(4−メチルフェニル)ボラ
ン、ジクロロ(メチルフェニルアミノ)ボラン、ブロモ
(ジメチルアミノ)フェニルボラン、クロロ(ジメチル
アミノ)フェニルボラン、9−ブロモ−9−ボラビシク
ロ〔3,3,1〕ノナン、9−クロロ−9−ボラビシクロ
〔3,3,1〕ノナン、ジエチルアミノクロロ−(1−ブテ
ニルオキシ)ボラン、ジクロロオクチルボラン、ブロモ
ビス(1−メチルプロピル)ボラン、ブロモジブチルボ
ラン、ジブロモ(ジブチルアミノ)ボラン、クロロビス
(2−メチルプロピル)ボラン、ジブチルクロロボラ
ン、ジクロロ(ジブチルアミノ)ボラン、ジブチルフル
オロボラン、ブロモビス(ジエチルアミノ)ボラン、ク
ロロビス(ジエチルアミノ)ボラン、ジクロロ(2,4,6
−トリメチルフェニル)ボラン、3−ブロモ−7−メチ
ル−3−ボラビシクロ〔3,3,1〕ノナン、(ジエチルア
ミノ)クロロ(シクロペンテニルオキシ)ボラン、ジク
ロロ(1,2,3,4,5−ペンタメチル−2,4−シクロペンタジ
エン−1−イル)ボラン、ジブロモ(1,2,3,4,5−ペン
タメチル−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)ボラ
ン、ジイオド(1,2,3,4,5−ペンタメチル−2,4−シクロ
ペンタジエン−1−イル)ボラン、クロロジシクロペン
チルボラン、クロロ(ジエチルアミノ)フェニルボラ
ン、ブロモジシクロペンチルボラン、(1−ブチル−1
−ヘキセニル)ジクロロボラン、ブロモジペンチルボラ
ン、クロロジフェニルボラン、ブロモジフェニルボラ
ン、ジクロロ(ジフェニルアミノ)ボラン、クロロ(ジ
イソプロピルアミノ)フェニルボラン、クロロ(ジプロ
ピルアミノ)フェニルボラン、ブロモビス(2−ブロモ
−1−ヘキセニル)ボラン、クロロビス(2−クロロ−
1−ヘキセニル)ボラン、クロロジシクロヘキシルボラ
ン、クロロジ−1−ヘキセニルボラン、クロロ(1−エ
チル−1−ブテニル)(1,1,2−トリメチルプロピル)
ボラン、クロロ−1−ヘキセニル(1,1,2−トリメチル
プロピル)ボラン、〔メチル(4−ブロモフェニル)ア
ミノ〕クロロ(フェニル)ボラン、クロロ(2−フェニ
ルエチニル)(1,1,2−トリメチルプロピル)ボラン、
クロロ(ジブチルアミノ)フェニルボラン、クロロオク
チル(1,1,2−トリメチルプロピルボラン、クロロビス
(ジブチルアミノ)ボラン、フルオロビス(2,4,6−ト
リメチルフェニル)ボラン、(1−ブロモ−1−ヘキセ
ニル)ビス(2−メチルペンチル)ボラン、(1−ブロ
モ−1−ヘキセニル)ジヘキシルボラン、ビス(1−ブ
チル−1−ヘキセニル)クロロボラン、(5−クロロ−
1−ペンテニル)ビス(1,2−ジメチルプロピル)ボラ
ン、などがある。
Examples of B (R 4 ) 3 (II) having a halogen atom as R 4 include fluoroborane, tribromoborane,
Trifluoroborane, trichloroborane, difluoroborane, diiodoborane, iodoborane, dibromomethylborane, dichloromethylborane, difluoromethylborane, difluoromethoxyborane, diiodomethylborane, ethynyldifluoroborane, difluorovinylborane, dibromoethylborane, dichloroethylborane , Dichloroethoxyborane, ethyldifluoroborane, ethyldiiodoborane, bromodimethylborane, dibromo (dimethylamino) borane, chlorodimethylborane, chlorodimethoxyborane, fluorodimethylborane, fluorodimethoxyborane, dichloroisopropylborane,
Dichloropropylborane, difluoropropoxyborane, bromo (dimethylamino) methylborane, chlorodivinylborane, dibromobutylborane, butyldichloroborane, butyldifluoroborane, butoxydifluoroborane, butoxydifluoroborane, bromodiethylborane, dibromo (diethylamino) borane, chloro Diethylborane, chlorodiethoxyborane, dichloro (pentafluorophenyl) borane, dichloro (diethylamino) borane, (diethylamino) difluoroborane, bromobis (dimethylamino) borane, chlorobis (dimethylamino) borane, bis (dimethylamino) fluoroborane, Dibromophenyl borane, dichlorophenyl borane, difluorophenyl borane, difluorophenokiborane, diiodoff Niruboran, dibromo (1,3-dimethyl-1-butenyl) borane, dibromo (3,3-dimethyl-1-butenyl) borane, dibromo (1-ethyl -
1-butenyl) borane, dibromo-1-hexenylborane, dibromo (2-methylcyclobenzyl) borane, 2
-Methylcyclopentyl-dichloroborane, dibromohexylborane, dibromo (2-methylpentyl) borane, difluorotoxylborane, dibromo (dipropylamino) borane, chlorodipropylborane, chloro (1,
1,2-trimethylpropyl) borane, dichloro (diisopropylamino) borane, butyl (dimethylamino) fluoroborane, dichloro (4-methylphenyl) borane, dichloro (methylphenylamino) borane, bromo (dimethylamino) phenylborane, chloro (Dimethylamino) phenylborane, 9-bromo-9-borabicyclo [3,3,1] nonane, 9-chloro-9-borabicyclo [3,3,1] nonane, diethylaminochloro- (1-butenyloxy) borane, dichloro Octylborane, bromobis (1-methylpropyl) borane, bromodibutylborane, dibromo (dibutylamino) borane, chlorobis (2-methylpropyl) borane, dibutylchloroborane, dichloro (dibutylamino) borane, dibutylfluoroborane, bromobis (diethyl) Lamino) borane, chlorobis (diethylamino) borane, dichloro (2,4,6
-Trimethylphenyl) borane, 3-bromo-7-methyl-3-borabicyclo [3,3,1] nonane, (diethylamino) chloro (cyclopentenyloxy) borane, dichloro (1,2,3,4,5-pentamethyl) -2,4-cyclopentadien-1-yl) borane, dibromo (1,2,3,4,5-pentamethyl-2,4-cyclopentadien-1-yl) borane, diiod (1,2,3,4 , 5-pentamethyl-2,4-cyclopentadien-1-yl) borane, chlorodicyclopentylborane, chloro (diethylamino) phenylborane, bromodicyclopentylborane, (1-butyl-1
-Hexenyl) dichloroborane, bromodipentylborane, chlorodiphenylborane, bromodiphenylborane, dichloro (diphenylamino) borane, chloro (diisopropylamino) phenylborane, chloro (dipropylamino) phenylborane, bromobis (2-bromo-1-) Hexenyl) borane, chlorobis (2-chloro-
1-hexenyl) borane, chlorodicyclohexylborane, chlorodi-1-hexenylborane, chloro (1-ethyl-1-butenyl) (1,1,2-trimethylpropyl)
Borane, chloro-1-hexenyl (1,1,2-trimethylpropyl) borane, [methyl (4-bromophenyl) amino] chloro (phenyl) borane, chloro (2-phenylethynyl) (1,1,2-trimethyl Propyl) borane,
Chloro (dibutylamino) phenylborane, chlorooctyl (1,1,2-trimethylpropylborane, chlorobis (dibutylamino) borane, fluorobis (2,4,6-trimethylphenyl) borane, (1-bromo-1-hexenyl) ) Bis (2-methylpentyl) borane, (1-bromo-1-hexenyl) dihexylborane, bis (1-butyl-1-hexenyl) chloroborane, (5-chloro-
1-pentenyl) bis (1,2-dimethylpropyl) borane;

R4としてはアルコキシ基を有するものとしては、ジハ
イドロオキシメトキシボラン、ジメトキシボラン、メト
キシジメチルボラン、メチルジメトキシボラン、トリメ
トキシボラン、エチルジメトキシボラン、ジメチルアミ
ノメトキシメチルボラン、(ジメチルアミノ)ジメトキ
シボラン、ジエチルメトキシボラン、ジメトキシプロピ
ルボラン、ビス(ジメチルアミノ)メトキシボラン、エ
トキシジエチルボラン、ブチルジメトキボラン、ジエト
キシエチルボラン、トリエトキシボラン、シクロペンチ
ルジメトキシボラン、メトキシジプロピルボラン、ジメ
トキシフェニルボラン、(2−メチルシクロペンチル)
ジメトキシボラン、ブトキシジエチルボラン、エトキキ
ジプロピルボラン、ヘキシルジメトキシボラン、3−メ
トキシ−3−ボラビシクロ−〔3,3,1〕ノナン、9−メ
トキシ−9−ボラビシクロ〔3,3,1〕ノナン、ジブチル
メトキシボラン、メトキシビス(1−メチルプロピル)
ボラン、メトキシビス(2−メチルプロピル)ボラン、
プロポキシジプロピルボラン、トリイソプロポキシボラ
ン、トリプロポキシボラン、ブトキシジプロピルボラ
ン、ジブチルエトキシボラン、ジエチル(ヘキシルオキ
シ)ボラン、ジブトキシエチルボラン、ジ−tert−ブト
キシエチルボラン、ジシクロペンチルメトキシボラン、
ジブチルプロポキシボラン、エトキシジペンチルボラ
ン、(ヘキシルオキシ)ジプロピルボラン、トリブトキ
シボラン、トリ−tert−ブトキシボラン、トリス(2−
ブトキシ)ボラン、トリス(2−メチルプロポキシ)ボ
ラン、メトキシジフェニルボラン、ジシクロヘキシル
(メトキシ)ボラン、ジブチル(2−ペンテン−3−イ
ルオキシ)ボラン、ジブトキペンチルボラン、エトキシ
ジフェニルボラン、(2−アミノエトキシ)ジフェノキ
シボラン、ジブチル(1−シクロヘキセニルオキシ)ボ
ラン、ブトキシジペンチルボラン、ジブチル(ヘキシル
オキシ)ボラン、ジブトキシヘキシルボラン、ジヘキシ
ルオキシプロピルボラン、トリペンチルオキシボラン、
ブトキシジフエニルボラン、(2−メチルプロポキシ)
ジフェニルボラン、ジフェノキシフェニルボラン、トリ
フェノキシボラン、トリシクロヘキシルオキシボラン、
メトキシビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ボラン、
トリベンジルオキシボラン、トリス(3−メチルフェノ
キシ)ボラン、トリオクチルオキシボラン、トリノニル
オキシボラン、トリオクタデシルオキシボランなどがあ
る。
Examples of R 4 having an alkoxy group include dihydroxymethoxyborane, dimethoxyborane, methoxydimethylborane, methyldimethoxyborane, trimethoxyborane, ethyldimethoxyborane, dimethylaminomethoxymethylborane, (dimethylamino) dimethoxyborane, Diethylmethoxyborane, dimethoxypropylborane, bis (dimethylamino) methoxyborane, ethoxydiethylborane, butyldimethoxyborane, diethoxyethylborane, triethoxyborane, cyclopentyldimethoxyborane, methoxydipropylborane, dimethoxyphenylborane, (2- Methylcyclopentyl)
Dimethoxyborane, butoxydiethylborane, ethoxydipropylborane, hexyldimethoxyborane, 3-methoxy-3-borabicyclo- [3,3,1] nonane, 9-methoxy-9-borabicyclo [3,3,1] nonane, dibutyl Methoxyborane, methoxybis (1-methylpropyl)
Borane, methoxybis (2-methylpropyl) borane,
Propoxydipropyl borane, triisopropoxy borane, tripropoxy borane, butoxydipropyl borane, dibutyl ethoxy borane, diethyl (hexyloxy) borane, dibutoxyethyl borane, di-tert-butoxyethyl borane, dicyclopentyl methoxy borane,
Dibutylpropoxyborane, ethoxydipentylborane, (hexyloxy) dipropylborane, tributoxyborane, tri-tert-butoxyborane, tris (2-
Butoxy) borane, tris (2-methylpropoxy) borane, methoxydiphenylborane, dicyclohexyl (methoxy) borane, dibutyl (2-penten-3-yloxy) borane, dibutoxypentylborane, ethoxydiphenylborane, (2-aminoethoxy) Diphenoxyborane, dibutyl (1-cyclohexenyloxy) borane, butoxydipentylborane, dibutyl (hexyloxy) borane, dibutoxyhexylborane, dihexyloxypropylborane, tripentyloxyborane,
Butoxydiphenylborane, (2-methylpropoxy)
Diphenylborane, diphenoxyphenylborane, triphenoxyborane, tricyclohexyloxyborane,
Methoxybis (2,4,6-trimethylphenyl) borane,
Examples include tribenzyloxyborane, tris (3-methylphenoxy) borane, trioctyloxyborane, trinonyloxyborane, trioctadecyloxyborane, and the like.

R4としてアルケニル基を有するものとしては、エチニ
ルボラン、ビニルボラン、ジハイドロキシビニルボラ
ン、2−プロペニルボラン、エチニルジメトキシボラ
ン、メチルジビニルボラン、トリビニルボラン、1−ヘ
キセニルジハイドロキシボラン、ジメトキシ(3−メチ
ル−1,2−ブタジエンニル)ボラン、ジエチル−2−プ
ロペニルボラン、ジハイドロキシ(2−フェニルエテン
ニル)ボラン、(ジエチルアミノ)ジエチニルボラン、
ジエチルアミノジ−1−プロピルニルボラン、2−ブテ
ニルジエチルボラン、ジエチル(2−メチル−2−プロ
ペニル)ボラン、ビス(ジメチルアミノ)(1−メチル
−2−プロペニル)ボラン、2−ブテニルビス(ジメチ
ルアミノ)ボラン、トリ−2−プロペニルボラン、トリ
(2−プロペニルオキシ)ボラン、ジエチル(3−メチ
ル−2−ブテニル)ボラン、2−プロペニルジプロピル
ボラン、(ジエチルアミノ)ジ−1−プロピニルボラ
ン、ブチル−ジ−2−プロペニルボラン、2−ブテニル
ジプロピルボラン、ジエチル(1−エチル−2−ブテニ
ル)ボラン、(2−メチル−2−プロペニル)ジプロピ
ルボラン、ジエチル(1,1−ジメチル−3−ブテン−1
−イルオキシ)ボラン、ジエチル(1−ヘキセン−4−
イルオキシ)ボラン、9−(2−プロペニル)−9−ボ
ラビシクロ〔3,3,1〕ノナン、ジブチル−2−プロペニ
ルボラン、(3−メチル−2−ブテニル)ジプロピルボ
ラン、9(2−ブテニル)−9−ボラビシクロ〔3,3,
1〕ノナン、トリ−2−ブテニルボラン、トリス(2−
メチル−2−プロペニル)ボラン、ヘキシルジ−2−プ
ロペニルボラン、2−ブテニルジブチルボラン、ビス
(1,2−ジメチルプロピル)(2−フェニルエテニル)
ボラン、ビス(1,2−ジメチルプロピル)−1−オクテ
ニルボランなどが挙げられる。
Examples of those having an alkenyl group as R 4 include ethynyl borane, vinyl borane, dihydroxy vinyl borane, 2-propenyl borane, ethynyl dimethoxy borane, methyl divinyl borane, trivinyl borane, 1-hexenyl dihydroxy borane, dimethoxy (3-methyl 1,2-butadienyl) borane, diethyl-2-propenylborane, dihydroxy (2-phenylethenyl) borane, (diethylamino) diethynylborane,
Diethylaminodi-1-propylnylborane, 2-butenyldiethylborane, diethyl (2-methyl-2-propenyl) borane, bis (dimethylamino) (1-methyl-2-propenyl) borane, 2-butenylbis (dimethylamino) ) Borane, tri-2-propenylborane, tri (2-propenyloxy) borane, diethyl (3-methyl-2-butenyl) borane, 2-propenyldipropylborane, (diethylamino) di-1-propynylborane, butyl- Di-2-propenylborane, 2-butenyldipropylborane, diethyl (1-ethyl-2-butenyl) borane, (2-methyl-2-propenyl) dipropylborane, diethyl (1,1-dimethyl-3-) Butene-1
-Yloxy) borane, diethyl (1-hexene-4-)
Yloxy) borane, 9- (2-propenyl) -9-borabicyclo [3,3,1] nonane, dibutyl-2-propenylborane, (3-methyl-2-butenyl) dipropylborane, 9 (2-butenyl) -9-borabicyclo [3,3,
1] nonane, tri-2-butenylborane, tris (2-
Methyl-2-propenyl) borane, hexyldi-2-propenylborane, 2-butenyldibutylborane, bis (1,2-dimethylpropyl) (2-phenylethenyl)
And borane, bis (1,2-dimethylpropyl) -1-octenylborane and the like.

R4としてアルキルアミノ基、アミノ基を有するものと
しては、アミノボラン、ジアミノボラン、アミノジメチ
ルボラン、(ジメチルアミノ)ボラン、ジメチル(メチ
ルアミノ)ボラン、メチルビス(メチルアミノ)ボラ
ン、トリス(メチルアミノ)ボラン、(ジメチルアミ
ノ)ジメチルボラン、ビス(ジメチルアミノ)ボラン、
ビス(ジメチルアミノ)メチルボラン、アミノジプロピ
ルボラン、(ジエチルアミノ)ジメチルボラン、(ジメ
チルアミノ)ジエチルボラン、トリス(ジメチルアミ
ノ)ボラン、イソプロピルビス(ジメチルアミノ)ボラ
ン、ジメチル(フェニルアミノ)ボラン、ビス(メチル
アミノ)フェニルボラン、ビス(ジメチルアミノ)−1
−ピロリルボラン、アミノジブチルボラン、ジエチルボ
ラン、ジメチルアミノジプロピルボラン、ビス(ジメチ
ルアミノ)フェニルボラン、ジブチル(ジメチルアミ
ノ)ボラン、ジ−tert−ブチル(ジメチルアミノ)ボラ
ン、ジブチル(ジエチルアミノ)ボラン、トリス(ジエ
チルアミノ)ボラン、ジメチルアミノフェニルボラン、
アミノビス(2,4,6−トリメチルフェニル)ボランなど
が挙げられる。
Examples of R 4 having an alkylamino group or an amino group include aminoborane, diaminoborane, aminodimethylborane, (dimethylamino) borane, dimethyl (methylamino) borane, methylbis (methylamino) borane, and tris (methylamino) borane. , (Dimethylamino) dimethylborane, bis (dimethylamino) borane,
Bis (dimethylamino) methylborane, aminodipropylborane, (diethylamino) dimethylborane, (dimethylamino) diethylborane, tris (dimethylamino) borane, isopropylbis (dimethylamino) borane, dimethyl (phenylamino) borane, bis (methyl) Amino) phenylborane, bis (dimethylamino) -1
-Pyrrolylborane, aminodibutylborane, diethylborane, dimethylaminodipropylborane, bis (dimethylamino) phenylborane, dibutyl (dimethylamino) borane, di-tert-butyl (dimethylamino) borane, dibutyl (diethylamino) borane, tris (Diethylamino) borane, dimethylaminophenylborane,
Aminobis (2,4,6-trimethylphenyl) borane;

R4として水酸基を有するものとしては、ホウ酸、ハイ
ドロオキシボラン、ジハイドロオキシ(メチル)ボラ
ン、ハイドロオキシジメチルボラン、エチルジハイドロ
オキシボラン、ジハイドロオキシプロピルボラン、2−
フラニルジハイドロオキシボラン、ジエチルハイドロボ
キシボラン、ブチルジハイドロオキシボラン、シクロペ
ンチルジハイドロオキシボラン、ペンチルジハイドロオ
キシボラン、(3−アミノフェニル)ジハイドロオキシ
ボラン、フェニルハイドロオキシボラン、ヘプチルハイ
ドロキシボラン、ジハイドロオキシ(2−フェニルエチ
ル)ボラン、ジハイドロオキシ(1−ナフタレニル)ボ
ラン、ハイドロオキシビス(2,4,6−トリメチルフェニ
ル)ボラン、ハイドロオキシジフェニルボランなどが挙
げられる。
Examples of R 4 having a hydroxyl group include boric acid, hydroxy borane, dihydroxy (methyl) borane, hydroxydimethyl borane, ethyl dihydroxy borane, dihydroxy propyl borane,
Furanyl dihydroxy borane, diethyl hydroxy borane, butyl dihydroxy borane, cyclopentyl dihydroxy borane, pentyl dihydroxy borane, (3-aminophenyl) dihydroxy borane, phenyl hydroxy borane, heptyl hydroxy borane, Examples thereof include dihydroxy (2-phenylethyl) borane, dihydroxy (1-naphthalenyl) borane, hydroxybis (2,4,6-trimethylphenyl) borane, and hydroxydiphenylborane.

R4としてアルキル基を有するものとしては、メチルボ
ラン、ジメチルボラン、エチルボラン、トリメチルボラ
ン、ジエチルボラン、エチルジメチルボラン、ジエチル
メチルボラン、3−メチル−2−ブチルボラン、トリエ
チルボラン、(1,1,2−トリメチルプロピル)ボラン、
ジブチルボラン、トリイソプロピルボラン、トリプロピ
ルボラン、ビス(3−メチル−2−ブチル)ボラン、ビ
ス(1,1,2−トリメチルプロピル)ボラン、トリ−tert
−ブチルボラン、トリブチルボラン、トリス(1−メチ
ルプロピル)ボラン、トリス(2−メチルプロピル)ボ
ラン、トリス(2−メチルプロピル)ボラン、トリペン
チルボラン、トリス(1,2−ジメチルプロピル)ボラ
ン、トリヘキシルボラン、トリオクチルボラン、などが
挙げられる。
Examples of those having an alkyl group as R 4 include methyl borane, dimethyl borane, ethyl borane, trimethyl borane, diethyl borane, ethyl dimethyl borane, diethyl methyl borane, 3-methyl-2-butyl borane, triethyl borane, (1,1,2- Trimethylpropyl) borane,
Dibutylborane, triisopropylborane, tripropylborane, bis (3-methyl-2-butyl) borane, bis (1,1,2-trimethylpropyl) borane, tri-tert
-Butylborane, tributylborane, tris (1-methylpropyl) borane, tris (2-methylpropyl) borane, tris (2-methylpropyl) borane, tripentylborane, tris (1,2-dimethylpropyl) borane, trihexyl Borane, trioctylborane, and the like.

R4としてシクロアルキル基を有するものとしては、シ
クロペンチルボラン、シクロヘキシルボラン、ジシクロ
ヘキシルボラン、シクロヘキシル(1,1,2−トリメチル
プロピル)ボラン、トリシクロペンチルボラン、トリシ
クロヘキシルボラン、R4としてアリール基を有するもの
としては、トリ−1−ナフチルボラン、トリス(2,4,6
−トリメチルフェニル)ボラン、トリベンジルボラン、
トリス(4−メチルフェニル)ボラン、トリフェニルボ
ラン、フェニルボラン、エチルジフェニルボランなどが
挙げられる。
As those having a cycloalkyl group as R 4 , cyclopentyl borane, cyclohexyl borane, dicyclohexyl borane, cyclohexyl (1,1,2-trimethylpropyl) borane, tricyclopentyl borane, tricyclohexyl borane, those having an aryl group as R 4 Are tri-1-naphthylborane, tris (2,4,6
-Trimethylphenyl) borane, tribenzylborane,
Tris (4-methylphenyl) borane, triphenylborane, phenylborane, ethyldiphenylborane and the like can be mentioned.

R4として水素原子を有するものとしては、ボランを挙
げることができる。
Examples of those having a hydrogen atom as R 4 include borane.

としては、2,4,6−トリクロロボラジン、2,4,6−トリブ
ロモボラジン、2,4,6−トリフロオロボラジン、ホラジ
ン、1−メチルボラジン、2,4,6−トリクロロ−1,3,5−
トリメチルボラジン、2,4,6−トリブロモ−1,3,5−トリ
メチルボラジン、2,4,6−トリフルオロ−1,3,5−トリメ
チルボラジン、1,3,5−トリメチルボラジン、2,4,6−ト
リメチルボラジン、2,4,6−トリメトキシボラジン、2,4
−ジクロロ−1,3,5,6−テトラメチルボラジン、2−ク
ロロ−1,3,4,5,6−ペンタメチルボラジン、2,4,6−トリ
クロロ−1,3,5−トリクロロ−1,3,5−トリエチルボラジ
ン、ヘキサメチルボラジン、1,3,5−トリチルボランジ
ン、2,4,6−トリエチルボラン、1,3,5−オリプロピルボ
ラジン、2,4,6−トリエチル−1,3,5−トリメチルボラン
ジン、1,3,5−トリブリル−2,4,6−トリクロロボラジ
ン、ヘキサエチルボラジン、2,4,6−トリクロロ−1,3,5
−トリフェニルボラジン、2,4,6−トリフェニルボラジ
ン、2,4,6−トリ(ジエチルアミノ)ボラジン、2,4,6−
トリ(ビス(トリメチルシリル)アミノ)ボラジン、2,
4,6−トリス(ジメチルアミノ)1,3,5−トリメチルボラ
ジン、1,3,5−トリメチル−2,4,6,−トリフェニルボラ
ジンなどを挙げることができる。
As, 2,4,6-trichloroborazine, 2,4,6-tribromoborazine, 2,4,6-trifluorofluoroborazine, holazine, 1-methylborazine, 2,4,6-trichloro-1, 3,5-
Trimethylborazine, 2,4,6-tribromo-1,3,5-trimethylborazine, 2,4,6-trifluoro-1,3,5-trimethylborazine, 1,3,5-trimethylborazine, 2,4 , 6-Trimethylborazine, 2,4,6-trimethoxyborazine, 2,4
-Dichloro-1,3,5,6-tetramethylborazine, 2-chloro-1,3,4,5,6-pentamethylborazine, 2,4,6-trichloro-1,3,5-trichloro-1 , 3,5-Triethylborazine, hexamethylborazine, 1,3,5-tritylborane, 2,4,6-triethylborane, 1,3,5-olipropylpropylazine, 2,4,6-triethyl-1 , 3,5-trimethylborandine, 1,3,5-tribryl-2,4,6-trichloroborazine, hexaethylborazine, 2,4,6-trichloro-1,3,5
-Triphenylborazine, 2,4,6-triphenylborazine, 2,4,6-tri (diethylamino) borazine, 2,4,6-
Tri (bis (trimethylsilyl) amino) borazine, 2,
4,6-tris (dimethylamino) 1,3,5-trimethylborazine, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-triphenylborazine and the like can be mentioned.

B(R43:L(V)としては、ボラン−フォスフィ
ン、ボラン−ヒドラジン、トリフルオボラン−メタノー
ル、シアノボラン−アンモニア、ジフルオロボラン−メ
チルアミン、ボラン−メチルアミン、トリブロモボラジ
ン−ジメチルサルサァイド、トリクロロボラン−ジメチ
ルサルサァイド、トリフルオロボラン−ジメチルエーテ
ル、トリフルオロボラン−エタノール、ボラン−イソシ
アノメタン、ジブロモボラン−ジメチルサルファイド、
ジクロロボラン−ジメチルサルファイド、トクロロボラ
ン−ジメチルアミン、トリフルオロボラン−エチルアミ
ン、ジアノボラン−メチルアミン、ブロモボラン−ジメ
チルサルファイド、クロロボラン−ジメチルサルファイ
ド、ジフルオロボラン−ジメチルアミン、イオドボラン
−ジメチルサルファイド、クロロボラン−ジメチルアミ
ン、ボラン−ジメチルアミン、ボラン−ジメチルフォス
フィン、トリブロモボラン−トリメチルフォスフィン、
トリブロモボラン−トリメチルアミン、トリクロロボラ
ン−トリメチルアミン、トリクロロボラン−トリメチル
フォスフィン、トリフルオロボラン−トリメチルアミ
ン、トリフルオロボラン−トリメチルフォスフィン、ト
リイオドボラン−トリメチルフォスフィン、ジアノボラ
ン−ジメチルアミン、ジフルオロボラン−トリメチルア
ミン、ブロモボラン−トリメチルフォスフィン、クロロ
ボラン−トリメチルフォスフィン、フルオロボラン−ト
リメチルアミン、イオドボラン−トリメチルアミン、イ
オドボラン−トリメチルフォスフィン、ボラン−トリメ
チルアミン、トリメチルボラン−アンモニア、トリメト
キシボラン−アンモニア、ボラン−トリメチルフォスフ
ァイト、ボラン−トリメチルフォスフィン、トリフロオ
ロボラン−2−メチルイミダゾール、トリフルオロボラ
ン−テトラヒドロフラン、クロロボラン−テトラヒドロ
フラン、トリクロロボラン−ジエチルエーテル、トリフ
ルオロボラン−ジエチルエーテル、ジブロモボラン−ジ
エチルエーテル、ジクロロボラン−ジエチルエーテル、
ジアノボラン−トリメチルアミン、ブロモボラン−ジエ
チルエーテル、ジブロモボラン−トリメチルアミン、ジ
ブロモメチルボラン−トリメチルフォスフィン、クロロ
ボラン−ジエチルエーテル、ボラン−tert−ブチルアミ
ン、ボランジ−ジエチルアミン、トリブロモボラン−ピ
リジン、トリクロロボラン−ピリジン、トリフルオロボ
ラン−ピリジン、ボラン−ピリジン、ボラン−4−アミ
ノピリジン、ブロモジメチルボラン−トリメチルフォス
フィン、ジクロロシアノボラン−ピリジン、トリフルオ
ロボラン−フェノール、シアノボラン−ピリジン、ジブ
ロモメチルボラン−ピリジン、ボラン−4−メチルピリ
ジン、トリフルオロボラン−1−ヘキサノール、トリブ
ロモボラン−トリエチルアミン、トリクロロボラン−ト
リエチルアミン、クロロボラン−トリエチルアミン、ボ
ラン−トリエチルアミン、トリメチルボラン−トリメチ
ルアミン、ボラン−トリス(ジメチルアミノ)フォスフ
ィン、トリフルオロボラン−メトキシベンゼン、トリフ
ルオロボラン−4−メチルアニリン、ボラン−2,6−ジ
メチルピリジン、トリフルボラン−ジブチルエーテル、
フェニルジクロロボラン−トリエチルアミン、トリブロ
モボラン−トリフェニルフォスフィン、トリクロロボラ
ン−トリフェニルフォスフィン、トリフルオロボラン−
トリフェニルフォスフィン、ボラン−トリフェニルアミ
ン、ボラン−トリフェニルフォスフィン、トリメチルボ
ラン−トリフェニルアミン、トリフェニルボラン−トリ
メチルアミン、トリフェニルボラン−ピリジン、トリフ
ェニルボラン−トリエチルアミン、などを挙げることが
できる。上記物質の他に、テトラボラン(10)、ペンタ
ボラン(9)、ペンタボラン(11)、ヘキサボラン(1
0)、ヘキサボラン(12)、オクタボラン(12)、オク
タボラン(18)、イソノナボラン(15)、ノナボラン
(15),デカボラン(14)、1,1′−ピペンタボラン
(9)、1,2′−ピペタボラン(9)、2,2′−ピペンタ
ボラン(9)、1−カルバヘキサボラン(7)、2−カ
ルバヘキサボラン(9)、1,2−ジカルバヘキサボラン
(6)、1,2−ジカルバペンタボラン(7)、2,4−ジカ
ルバヘプタンボラン(7)、2,3−ジカルバヘキサボラ
ン(8)、1,7−ジカルバオクタボラン(8)、1,2−ジ
カルバドデカボラン(12)、1,7−ジカルバドデカボラ
ン(12),1,12−ジカルバドデカボラン(12)を用いて
も良好な結果が得られる。
B (R 4 ) 3 : L (V) includes borane-phosphine, borane-hydrazine, trifluoroborane-methanol, cyanoborane-ammonia, difluoroborane-methylamine, borane-methylamine, tribromoborazine-dimethylsulphate , Trichloroborane-dimethyl sulfide, trifluoroborane-dimethyl ether, trifluoroborane-ethanol, borane-isocyanomethane, dibromoborane-dimethylsulfide,
Dichloroborane-dimethylsulfide, tochloroborane-dimethylamine, trifluoroborane-ethylamine, dianoborane-methylamine, bromoborane-dimethylsulfide, chloroborane-dimethylsulfide, difluoroborane-dimethylamine, iodoborane-dimethylsulfide, chloroborane-dimethylamine, borane- Dimethylamine, borane-dimethylphosphine, tribromoborane-trimethylphosphine,
Tribromoborane-trimethylamine, trichloroborane-trimethylamine, trichloroborane-trimethylphosphine, trifluoroborane-trimethylamine, trifluoroborane-trimethylphosphine, triiodoborane-trimethylphosphine, dianoborane-dimethylamine, difluoroborane-trimethylamine, bromoborane- Trimethylphosphine, chloroborane-trimethylphosphine, fluoroborane-trimethylamine, iodoborane-trimethylamine, iodoborane-trimethylphosphine, borane-trimethylamine, trimethylborane-ammonia, trimethoxyborane-ammonia, borane-trimethylphosphite, borane-trimethylphosphite Fin, trifluorofluoroborane-2-methyl Imidazole, trifluoroborane - tetrahydrofuran, chloroborane - tetrahydrofuran, trichloroborane - diethyl ether, trifluoroborane - diethyl ether, dibromo borane - diethyl ether, dichloroborane - diethyl ether,
Dianoborane-trimethylamine, bromoborane-diethylether, dibromoborane-trimethylamine, dibromomethylborane-trimethylphosphine, chloroborane-diethylether, borane-tert-butylamine, boranedi-diethylamine, tribromoborane-pyridine, trichloroborane-pyridine, trifluoroborane Run-pyridine, borane-pyridine, borane-4-aminopyridine, bromodimethylborane-trimethylphosphine, dichlorocyanoborane-pyridine, trifluoroborane-phenol, cyanoborane-pyridine, dibromomethylborane-pyridine, borane-4-methyl Pyridine, trifluoroborane-1-hexanol, tribromoborane-triethylamine, trichloroborane-triethylamine, Loloborane-triethylamine, borane-triethylamine, trimethylborane-trimethylamine, borane-tris (dimethylamino) phosphine, trifluoroborane-methoxybenzene, trifluoroborane-4-methylaniline, borane-2,6-dimethylpyridine, trifluoroborane- Dibutyl ether,
Phenyldichloroborane-triethylamine, tribromoborane-triphenylphosphine, trichloroborane-triphenylphosphine, trifluoroborane-
Examples thereof include triphenylphosphine, borane-triphenylamine, borane-triphenylphosphine, trimethylborane-triphenylamine, triphenylborane-trimethylamine, triphenylborane-pyridine, and triphenylborane-triethylamine. In addition to the above substances, tetraborane (10), pentaborane (9), pentaborane (11), hexaborane (1
0), hexaborane (12), octaborane (12), octaborane (18), isononaborane (15), nonaborane (15), decaborane (14), 1,1'-pipentaborane (9), 1,2'-pipetaborane ( 9), 2,2'-pipentaborane (9), 1-carbahexaborane (7), 2-carbahexaborane (9), 1,2-dicarbahexaborane (6), 1,2-dicarbapenta Borane (7), 2,4-dicarbaheptane borane (7), 2,3-dicarbahexaborane (8), 1,7-dicarbaoctaborane (8), 1,2-dicarbadodecaborane ( Good results can also be obtained using 12), 1,7-dicarbadodecaborane (12) and 1,12-dicarbadodecaborane (12).

これらの硼素化合物はほとんど上市されているが、上
市されていないものでも上市のものと同様の方法で製造
可能である。
Although most of these boron compounds are commercially available, even those that are not commercially available can be produced by a method similar to that of commercially available products.

ポリシラザンと硼素化合物との混合比は、B/Si原子比
が0.01〜3になるように、好ましくは0.05〜2になるよ
うに、さらに好ましくは0.1〜1になる様に加える。硼
素化合物の添加量をこれより増やすとポリシラザンとの
反応性を高めることなく、単に硼素化合物が未反応のま
ま回収され、また、少ないと顕著な高分子量化が起こら
ない。
The mixing ratio of the polysilazane and the boron compound is adjusted so that the B / Si atomic ratio becomes 0.01 to 3, preferably 0.05 to 2, and more preferably 0.1 to 1. If the boron compound is added in an amount larger than this, the boron compound is simply recovered without being reacted without increasing the reactivity with the polysilazane.

反応は、無溶媒で行うこともできるが、有機溶媒を使
用する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成
する場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良
い。
The reaction can be carried out without a solvent, but it is more difficult to control the reaction than when an organic solvent is used, and a gel-like substance may be formed. Therefore, it is generally preferable to use an organic solvent.

反応溶媒については、ポリシラザン、硼素化合物と反
応性を示さないものが用いられる。この様な非反応性溶
媒としては、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテ
ル、硫黄化合物等が使用される。
As the reaction solvent, a solvent that does not show reactivity with polysilazane and boron compound is used. As such a non-reactive solvent, hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, ethers, sulfur compounds and the like are used.

又反応温度、圧力については特に制限はないが、反応
温度は反応溶媒、硼素化合物の沸点以下が好ましい。
The reaction temperature and pressure are not particularly limited, but the reaction temperature is preferably lower than the boiling point of the reaction solvent and the boron compound.

本発明においては、前記ポリボロシラザンを用いてコ
ーティング用組成物を形成するには、ポリボロシラザン
を溶剤に溶解させればよい。溶剤としては、脂肪族炭化
水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素の炭化水素溶
媒、ハロゲン化メタン、ハロゲン化エタン、ハロゲン化
ベンゼン等のハロゲン化炭化水素、脂肪族エーテル、脂
環式エーテル等のエーテル類が使用できる。好ましい溶
媒は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、ブロ
モホルム、塩化エチレン、塩化エチリデン、トリクロロ
エタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、
エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチルブチル
エーテル、ブチルエーテル、1,2−ジオキシエタン、シ
オキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフラン、
テトラヒドロピラン等のエーテル類、ペンタンヘキサ
ン、イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン、イソヘ
プタン、オクタン、イソオクタン、シクロペンタン、メ
チルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘ
キサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼ
ン等の炭化水素等である。
In the present invention, in order to form a coating composition using the polyborosilazane, the polyborosilazane may be dissolved in a solvent. Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbons such as halogenated methane, halogenated ethane, and halogenated benzene, aliphatic ethers, alicyclic ethers. And the like. Preferred solvents are methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, bromoform, ethylene chloride, ethylidene chloride, trichloroethane, halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethane,
Ethyl ether, isopropyl ether, ethyl butyl ether, butyl ether, 1,2-dioxyethane, siloxane, dimethyldioxane, tetrahydrofuran,
Ethers such as tetrahydropyran; and hydrocarbons such as pentanehexane, isohexane, methylpentane, heptane, isoheptane, octane, isooctane, cyclopentane, methylcyclopentane, cyclohexane, methylcyclohexane, benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene.

これらの溶剤を使用する場合、前記ポリボロシラザン
の溶解度や溶剤の蒸発速度を調節するために、2種類以
上の溶剤を混合してもよい。
When these solvents are used, two or more kinds of solvents may be mixed in order to adjust the solubility of the polyborosilazane and the evaporation rate of the solvent.

溶剤の使用量(割合)を採用するコーティング方法に
より作業性がよくなるように選択され、またポリボロシ
ラザンの平均分子量、分子量分布、その構造によって異
なるので、コーティング用組成物中溶剤は90重量%程度
まで混合することができ、好ましくは10〜50重量%の範
囲で混合することができる。
The amount of solvent used (proportion) is selected so as to improve the workability by the coating method, and the average molecular weight, molecular weight distribution and structure of polyborosilazane vary. Therefore, the solvent in the coating composition is about 90% by weight. And preferably in the range of 10 to 50% by weight.

また溶剤濃度葉原料ポリボロシラザンの平均分子量、
分子量分布、その構造によって異なるが、通常0〜90重
量%の範囲で良い結果が得られる。
The average molecular weight of the solvent concentration leaf raw material polyborosilazane,
Good results are usually obtained in the range of 0 to 90% by weight, although it depends on the molecular weight distribution and its structure.

また、本発明においては、必要に応じて適当な充填剤
を加えてもよい。充填剤の例としてはシリカ、アルミ
ナ、ジルコニア、マイカを始めとする酸化物系無機物あ
るいは炭化珪素、窒化珪素等の非酸化物系無機物の微粉
等が挙げられる。また用途によってはアルミニウム、亜
鉛、銅等の金属粉末の添加も可能である。さらに充填剤
の例を詳しく述べれば、ケイ砂、石英、ノバキュライ
ト、ケイ藻土などのシリカ系:合成無定形シリカ:カオ
リナイト、雲母、滑石、ウオラストナイト、アスベス
ト、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム等のケイ酸
塩:ガラス粉末、ガラス球、中空ガラス球、ガラスフレ
ーク、泡ガラス球等のガラス体:窒化ホウ素、炭化ホウ
素、窒化アルミニウム、炭化アルミニウム、窒化ケイ
素、炭化ケイ素、ホウ化チタン、窒化チタン、炭化チタ
ン等の非酸化物系無機物:炭酸カルシウム:酸化亜鉛、
アルミナ、マグネシア、酸化チタン、酸化ベリリウム等
の金属酸化物:硫酸バリウム、二硫化モリブデン、二硫
化タングステン、弗化炭素その他無機物:アルミニウ
ム、ブロンズ、鉛、ステンレススチール、亜鉛等の金属
粉末:カーボンブラック、コークス、黒鉛、熱分解炭
素、中空カーボン球等のカーボン体等があげられる。
In the present invention, a suitable filler may be added as needed. Examples of the filler include fine powders of oxide-based inorganic substances such as silica, alumina, zirconia, and mica, and non-oxide-based inorganic substances such as silicon carbide and silicon nitride. Depending on the application, metal powder such as aluminum, zinc, and copper can be added. Further examples of fillers include silica silica, quartz, novacurite, diatomaceous earth, and other silica-based materials: synthetic amorphous silica: kaolinite, mica, talc, wollastonite, asbestos, calcium silicate, aluminum silicate Glass bodies such as glass powder, glass spheres, hollow glass spheres, glass flakes, foam glass spheres: boron nitride, boron carbide, aluminum nitride, aluminum carbide, silicon nitride, silicon carbide, titanium boride, nitride Non-oxide inorganic substances such as titanium and titanium carbide: calcium carbonate: zinc oxide,
Metal oxides such as alumina, magnesia, titanium oxide and beryllium oxide: barium sulfate, molybdenum disulfide, tungsten disulfide, carbon fluoride and other inorganic substances: metal powders such as aluminum, bronze, lead, stainless steel, zinc, etc .: carbon black, Examples include carbon bodies such as coke, graphite, pyrolytic carbon, and hollow carbon spheres.

これらの充填剤は、針状(ウィスカーを含む。)粉
状、鱗片状等種々の形状のものを単独又は2種以上混合
して用いることができる。又、これら充填剤の粒子の大
きさは1回に塗布可能な膜厚よりも小さいことが望まし
い。また充填剤の添加量はポリボロシラザン1重量部に
対し、0.05重量部〜10重量部の範囲であり、特に好まし
い添加量は0.2重量部〜5重量部の範囲である。又、充
填剤の表面をカップリング剤処理、蒸着、メッキ等で表
面処理して使用してもよい。
These fillers can be used alone or in a mixture of two or more in various shapes such as needle-like (including whisker) powder-like and scale-like. Further, it is desirable that the particle size of these fillers is smaller than the film thickness that can be applied at one time. The addition amount of the filler is in the range of 0.05 part by weight to 10 parts by weight based on 1 part by weight of polyborosilazane, and the particularly preferable addition amount is in the range of 0.2 part by weight to 5 parts by weight. Further, the surface of the filler may be surface-treated by coupling agent treatment, vapor deposition, plating or the like before use.

コーティング用組成物には、必要に応じて各種顔料、
レベリング剤、消泡剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、PH
調整剤、分散剤、表面改質剤、可塑剤、乾燥促進剤、流
れ止め剤を加えてもよい。
In the coating composition, various pigments as necessary,
Leveling agent, defoamer, antistatic agent, ultraviolet absorber, PH
Adjusters, dispersants, surface modifiers, plasticizers, drying accelerators, flow inhibitors may be added.

上記のように調製された本発明のコーティング用組成
物は均一に溶解、分解させて金属、セラミックス、プラ
スチックス等の基盤にコーティングされる。コーティン
グとしての塗布手段としては、通常の塗布方法、つまり
浸漬、ロール塗り、バー塗り、刷毛塗り、スプレー塗
り、フロー塗り等が用いられる。又、塗布前に基盤をヤ
スリがけ、脱脂、各種ブラスト等で表面処理しておくと
コーティング組成物の付着性能は向上する。このような
方法でコーティングし、充分乾燥させた後、加熱・焼成
する。この焼成によってポリボロシラザンは架橋、縮合
して硬化し、強靱な被覆を形成する。
The coating composition of the present invention prepared as described above is uniformly dissolved and decomposed to be coated on a base such as metal, ceramics, and plastics. As a coating means as a coating, a usual coating method, that is, dipping, roll coating, bar coating, brush coating, spray coating, flow coating or the like is used. In addition, if the substrate is sanded, degreased, or surface-treated with various types of blasting before application, the adhesion performance of the coating composition is improved. After coating by such a method and sufficiently drying, heating and baking are performed. By this baking, the polyborosilazane is crosslinked, condensed and hardened to form a tough coating.

上記焼成条件はポリシラザンの分子量や構造によって
異なるが3℃/分の緩やかな昇温速度で600℃〜1750℃
の範囲の温度で焼成する。好ましい焼成温度は800℃〜1
700℃の範囲である。
The above sintering conditions vary depending on the molecular weight and structure of polysilazane, but at a gentle heating rate of 3 ° C./min.
Firing at a temperature in the range Preferred firing temperature is 800 ° C ~ 1
It is in the range of 700 ° C.

〔効果〕〔effect〕

本発明のコーティング用組成物は、前記ポリボロシラ
ザンを必須成分としたことから、取扱いが容易で、耐熱
性、耐熱衝撃性、耐食性に優れ、高硬度を有する窒化珪
素質コーティング膜を容易に形成することができる。
Since the coating composition of the present invention contains the above-mentioned polyborosilazane as an essential component, it is easy to handle, has excellent heat resistance, thermal shock resistance, corrosion resistance, and easily forms a silicon nitride coating film having high hardness. can do.

従って、従来の有機高分子系塗料、シリコーン樹脂系
塗料、ポリシラザン重合体系塗料、ポリチタノカルボシ
ラン系塗料及びポリメタロシラザン系塗料では使用不可
能であった極めて厳しい条件でも使用可能であり、広い
用途に適用することができる。
Therefore, it can be used even under extremely severe conditions that cannot be used with conventional organic polymer-based paints, silicone resin-based paints, polysilazane-based paints, polytitanocarbosilane-based paints, and polymetallosilazane-based paints. Can be applied to applications.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

参考例1 内容積1の四つ口フラスコにガス吹きこみ管、メカ
ニカルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。
反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つ口
フラスコに脱気した乾燥ピリジン490mlを入れ、これを
氷冷した。次にジクロロシラン51.6gを加えると白色固
体状のアダクト(SiH2Cl2・2C3H6N)が生成した。反応
混合物を氷冷し、撹拌しながら、水酸化ナトリウム管及
び活性炭管を通して精製したアンモニア51.0gを吹き込
んだ。
Reference Example 1 A four-necked flask having an internal volume of 1 was equipped with a gas blow-in tube, a mechanical stirrer, and a dewar condenser.
After the inside of the reactor was replaced with deoxygenated dry nitrogen, 490 ml of degassed dry pyridine was placed in a four-necked flask, and cooled with ice. Next, when 51.6 g of dichlorosilane was added, a white solid adduct (SiH 2 Cl 2 .2C 3 H 6 N) was formed. The reaction mixture was ice-cooled, and while stirring, 51.0 g of purified ammonia was blown through a sodium hydroxide tube and an activated carbon tube.

反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ピリジン
を用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下で濾過して、濾
液850mlを得た。濾液5mlから溶媒を減圧留去すると樹脂
固体ペルヒドロポリシラザン0.102gが得られた。
After completion of the reaction, the reaction mixture was centrifuged, washed with dry pyridine, and then filtered under a nitrogen atmosphere to obtain 850 ml of a filtrate. The solvent was distilled off from 5 ml of the filtrate under reduced pressure to obtain 0.102 g of a resin solid perhydropolysilazane.

得られたポリマーの数平均分子量はGPCにより測定し
たところ、980であった。また、このポリマーのIR(赤
外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥o−キシレン;ペルヒ
ドロポリシラザンの濃度:10.2g/l)を検討すると、波数
(cm-1)3350(見かけの吸光係数ε=0.557lg11cm-1
及び1175のNHに基づく吸収;2170(ε=3.14)のSiHに基
づく吸収;1020〜820のSiH及びSiNSiに基づく吸収を示す
ことが確認された。またこのポリマーの1HNMR(プロト
ン核磁気共鳴)スペクトル(60MHz、溶媒CDCl2/基準物
質TMS)を検討すると、いずれも幅広い吸収を示してい
ることが確認された。即ちδ4.8及び4.4(br,SiH);1.5
(br、NH)の吸収が確認された。
The number average molecular weight of the obtained polymer was 980 as measured by GPC. When the IR (infrared absorption) spectrum (solvent: dry o-xylene; concentration of perhydropolysilazane: 10.2 g / l) of this polymer is examined, the wave number (cm −1 ) is 3350 (apparent absorption coefficient ε = 0.557). lg 11 cm -1 )
And an absorption based on NH of 1175; an absorption based on SiH of 2170 (ε = 3.14); and an absorption based on SiH and SiNSi of 1020 to 820. When the 1 H NMR (proton nuclear magnetic resonance) spectrum (60 MHz, solvent CDCl 2 / standard substance TMS) of this polymer was examined, it was confirmed that all of the polymers showed broad absorption. That is, δ 4.8 and 4.4 (br, SiH); 1.5
(Br, NH) absorption was confirmed.

得られたペルヒドロポリシラザンのピリジン溶液(ペ
ルヒドロポリシラザンの濃度:5.20重量%)600mlとトリ
メチルボレート30ml(0.254mol)を内容積1のオート
クレーブに入れ、160℃で3時間撹拌しなら反応を行な
った。室温に冷却後、乾燥o−キシレン500mlを加え、
圧力3〜5mmHg、温度50〜70℃で溶媒を除いたところ、
白色固体状の数平均分子量が2100のポリボロシラザン38
gを得た。
600 ml of the obtained pyridine solution of perhydropolysilazane (concentration of perhydropolysilazane: 5.20% by weight) and 30 ml (0.254 mol) of trimethyl borate were placed in an autoclave having an internal volume of 1, and the mixture was stirred at 160 ° C. for 3 hours to react. . After cooling to room temperature, 500 ml of dry o-xylene was added,
After removing the solvent at a pressure of 3 to 5 mmHg and a temperature of 50 to 70 ° C,
Polyborosilazane 38 having a number average molecular weight of 2100 as a white solid
g was obtained.

参考例2 参考例1と同一の装置を用いて反応を行った。即ち、
参考例1で示した四つ口フラスコに脱気した乾燥テトラ
ヒドロフラン450mlを入れ、これをドライアイス−メタ
ノール浴で冷却した。次にジクロロシラン46.2gを加え
た。この溶媒を冷却し、撹拌しながら無水メチルアミン
44.2gを窒素との混合ガスとして吹き込んだ。
Reference Example 2 A reaction was carried out using the same apparatus as in Reference Example 1. That is,
450 ml of degassed dry tetrahydrofuran was placed in the four-necked flask shown in Reference Example 1, and cooled in a dry ice-methanol bath. Next, 46.2 g of dichlorosilane was added. The solvent is cooled and stirred with anhydrous methylamine.
44.2 g was blown as a mixed gas with nitrogen.

反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥テトラヒ
ドロフランを用いて洗浄した後、さらに窒素雰囲気下で
濾過して濾液820mlを得た。溶媒を減圧留去すると粘性
油状N−メチルシラザンが8.4g得られた。得られたポリ
マーの数平均分子量は、GPCにより測定したところ1100
であった。
After completion of the reaction, the reaction mixture was centrifuged, washed with dry tetrahydrofuran, and further filtered under a nitrogen atmosphere to obtain 820 ml of a filtrate. The solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 8.4 g of viscous oily N-methylsilazane. The number average molecular weight of the obtained polymer was 1100 as measured by GPC.
Met.

得られたN−メチルシラザンγ−ピロリン溶液(N−
メチルシラザンの濃度:8.60重量%)600mlとトリブチル
ボレート130mol(0.482mol)を内容積1のオートクレ
ーブに入れ、160℃で5時間撹拌しながら反応を行なっ
た。参考例1と同様に溶媒を減圧留去したところ、淡黄
色固体状の数平均分子量が1880のポリボロシラザン48g
得た。
The resulting N-methylsilazane γ-pyrroline solution (N-
600 ml of methylsilazane (8.60% by weight) and 130 mol (0.482 mol) of tributyl borate were placed in an autoclave having an internal volume of 1, and the reaction was carried out at 160 ° C. for 5 hours with stirring. When the solvent was distilled off under reduced pressure in the same manner as in Reference Example 1, 48 g of polyborosilazane having a number average molecular weight of 1880 as a pale yellow solid was obtained.
Obtained.

参考例3 内容積1の四つ口フラスコにガス吹きこみ管メカニ
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つ口フ
ラスコに乾燥ジクロロメタン300mlおよびメチルジクロ
ロシラン24.3g(0.211mol)を入れ、氷冷した。撹拌し
ながら水酸化ナトリウム管および活性炭管を通して精製
したアンモニア18.1g(1.06mol)を吹き込んだ。
Reference Example 3 A four-necked flask having an internal volume of 1 was equipped with a gas blow-in tube mechanical stirrer and a dewar condenser. After the inside of the reactor was replaced with deoxygenated dry nitrogen, 300 ml of dry dichloromethane and 24.3 g (0.211 mol) of methyldichlorosilane were placed in a four-necked flask and cooled with ice. While stirring, 18.1 g (1.06 mol) of purified ammonia was blown through a sodium hydroxide tube and an activated carbon tube.

反応終了後、反応混合物を遠心分離し、乾燥ジクロロ
メタンを用いて洗浄後、窒素雰囲気下で濾過した。濾液
から溶媒を減圧留去すると、無色透明のメチル(ヒド
ロ)シラザンを8.81g得た。この生成物の数平均分子量
はGPCにより測定したところ、380であった。
After completion of the reaction, the reaction mixture was centrifuged, washed with dry dichloromethane, and filtered under a nitrogen atmosphere. The solvent was distilled off from the filtrate under reduced pressure to obtain 8.81 g of colorless and transparent methyl (hydro) silazane. The number average molecular weight of this product was 380 as measured by GPC.

得られたメチル(ヒドロ)シラザンのo−キシレン溶
液(メチル(ヒドロ)シラザンの濃度:6.40重量%)300
mlを14つ口フラスコに入れ、氷冷し、三塩化ホウ素
50g(0.427mol)を2時間かけて加えた後、窒素気流下2
5℃で3時間撹拌して反応を行なった。この溶液に200ml
の1,1,1−3,3,3ヘキサメチルジシラザンを加え、80℃で
3時間撹拌し、沈澱物を生成された。この沈澱物を濾過
し、濾液を溶媒を減圧留去したところ、淡黄色固体状の
数平均分子量が4800のポリボロシラザン58gを得た。
Obtained o-xylene solution of methyl (hydro) silazane (concentration of methyl (hydro) silazane: 6.40% by weight) 300
ml into a 14-neck flask, ice-cooled, and mixed with boron trichloride.
After adding 50 g (0.427 mol) over 2 hours, add 2 g
The reaction was carried out by stirring at 5 ° C. for 3 hours. 200 ml in this solution
Of 1,1,1-3,3,3 hexamethyldisilazane was added and stirred at 80 ° C. for 3 hours to produce a precipitate. The precipitate was filtered and the filtrate was evaporated under reduced pressure to give 58 g of a pale yellow solid, polyborosilazane having a number average molecular weight of 4,800.

参考例4 内容積1の4つ口フラスコに滴下コート、コンデン
サー、メカニカルスターラー、ガス吹込み管を装置し
た。反応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、4
つ口フラスコに乾燥クロロベンゼン200mlと三塩化ホウ
素50gを入れ、これを氷冷した。次に乾燥アセトニトリ
ル17gを滴下すると白色固体状のアダクト(CH3CN・BC
l3)が生成した。滴下終了後、110℃で乾燥させた塩化
アンモニウム22gを加えた。反応混合物を5時間加熱還
流して無色透明な溶液を得た。室温に冷却後、45mlのジ
エチルアミンを滴下した。反応終了後、窒素雰囲気下で
濾過して、濾液の溶媒を除いたところ、無透明液体のB
−トリス(ジエチルアミノ)ボラジンが21g得られた。
Reference Example 4 A four-necked flask having an internal volume of 1 was equipped with a drop coat, a condenser, a mechanical stirrer, and a gas injection tube. After replacing the inside of the reactor with deoxygenated dry nitrogen, 4
200 ml of dry chlorobenzene and 50 g of boron trichloride were placed in a one-necked flask, and this was cooled with ice. Next, 17 g of dry acetonitrile was added dropwise, and a white solid adduct (CH 3 CN ・ BC
l 3 ) generated. After the addition was completed, 22 g of ammonium chloride dried at 110 ° C. was added. The reaction mixture was heated under reflux for 5 hours to obtain a colorless and transparent solution. After cooling to room temperature, 45 ml of diethylamine were added dropwise. After completion of the reaction, the mixture was filtered under a nitrogen atmosphere to remove the solvent of the filtrate.
-21 g of tris (diethylamino) borazine were obtained.

参考例1で得られたペルヒドロポリシラザンのピリジ
ン溶液(ペルヒドロポリシラザンの濃度;4.70重量%)6
00mlと得られたB−トリス(ジエチルアミノ)ボラジン
55g(0.187mol)を内容積1のオートクレーブに入
れ、80℃で2時間撹拌しながら反応を行なった。室温に
冷却後、参考例1と同様に溶媒を減圧留去したところ、
白色固体状の数平均分子量が2800のポリボロシラザン64
gを得た。
Pyridine solution of perhydropolysilazane obtained in Reference Example 1 (concentration of perhydropolysilazane; 4.70% by weight) 6
B-tris (diethylamino) borazine obtained with 00 ml
55 g (0.187 mol) was placed in an autoclave having an internal volume of 1, and the reaction was carried out at 80 ° C. with stirring for 2 hours. After cooling to room temperature, the solvent was distilled off under reduced pressure in the same manner as in Reference Example 1.
Polyborosilazane 64 having a number average molecular weight of 2800 as a white solid
g was obtained.

実施例 参考例1〜4で得られたポリボロシラザンを用いて表
−1〜表−4に示すような配合で各成分を混合して窒化
珪素質コーティング用組成物を得た。
Example Using the polyborosilazane obtained in Reference Examples 1 to 4, the respective components were mixed in the composition shown in Tables 1 to 4 to obtain a composition for silicon nitride coating.

得られたコーティング用組成物20mm×40mm×2mmのカ
ーボン板(グラッシーカーボン)に塗布し、窒素雰囲気
下で600℃〜1750℃で1時間という加熱条件で焼成して
厚さ30μmの窒化珪素質コーティング膜を形成した。
The obtained coating composition is applied to a carbon plate (glassy carbon) of 20 mm x 40 mm x 2 mm and baked under a nitrogen atmosphere at 600 to 1750 C for 1 hour to form a silicon nitride coating with a thickness of 30 m. A film was formed.

この窒化珪素質コーティング膜の鉛筆硬度及び付着性
(基盤目剥離試験)を以下の検査方法に従って測定し
た。その結果を表−1〜表−4に示す。
The pencil hardness and adhesion (base peel test) of the silicon nitride coating film were measured according to the following inspection methods. The results are shown in Tables 1 to 4.

(イ)鉛筆硬度:JIS K5400に準ずる。(A) Pencil hardness: according to JIS K5400.

(ロ)基盤目剥離試験(密着性):塗膜上に鋼ナイフで
1mm四方の素材に達する切れ目を基盤目に100個作り、そ
の上にセロハンテープ(積水化学工業)をはりつけた
後、そのセロハンテープを上方90°の方向に強くひきは
がした時に残っているます目の数で評価する。
(B) Base peel test (adhesion): Use a steel knife on the coating film
Make 100 cuts at the base of 1mm square material, glue cellophane tape (Sekisui Chemical Co., Ltd.) on it, and leave the cellophane tape strongly peeled upward 90 ° Evaluate by the number of eyes.

フロントページの続き (72)発明者 鈴木 直 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡1丁目3番 1号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 田代 裕治 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡1丁目3番 1号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 佐藤 清 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡1丁目3番 1号 東燃株式会社総合研究所内 (72)発明者 礒田 武志 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡1丁目3番 1号 東燃株式会社総合研究所内 (56)参考文献 特開 平1−252638(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C09D 183/16 C09D 185/04 Continued on the front page (72) Inventor Nao Suzuki 1-3-1, Nishitsurugaoka, Oimachi, Iruma-gun, Saitama Prefecture Inside Tonen Co., Ltd. (72) Inventor Yuji Tashiro 1-3-3, Nishitsurugaoka, Oimachi, Iruma-gun, Saitama No. 1 Tonen Research Institute (72) Inventor Kiyoshi Sato 1-3-1 Nishitsurugaoka, Oi-machi, Iruma-gun, Saitama Prefecture No. 1 Tonen Research Institute (72) Inventor Takeshi Isoda Nishi-Tsurugaoka, Oi-machi, Iruma-gun, Saitama 1-3-1 No. 1 in Tonen Research Laboratory (56) References JP-A 1-252638 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) C09D 183/16 C09D 185 / 04

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(a)主として一般式(I): (式中、R1、R2、R3はそれぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、
またはこれらの基以外で該式中のケイ素又は窒素に直結
する部分が炭素である基、アルキルシリル基、アルキル
アミノ基、アルコキシ基を表す。但し、R1、R2、R3の少
なくとも1個は水素原子である。)で表される単位から
なる主骨格を有し且つ、前記主骨格を構成するケイ素の
一部及び/又は窒素の一部に下記一般式(i)、(i
i)、(iii)又は(iv)で表される架橋結合成分が結合
しており、B/Si原子比が0.01〜3の範囲内かつ数平均分
子量が200〜500,000であるポリボロシラザン。 (式中、R4は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜
20個を有するアルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、
水酸基、又はアミノ基であり、R5はR4のうち窒素原子を
有する基の窒素原子に結合している残基であり、式(i
v)では各3個の窒素原子及びホウ素原子からなる合計
6個の原子のうち少なくとも2個が架橋に使われ、残り
の原子にはR4が結合することができる。) (b)溶剤 を少なくとも含有するコーティング組成物。
(A) A compound represented by the general formula (I): (Wherein, R 1 , R 2 , and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, an aryl group,
Or a group other than these groups in which the portion directly connected to silicon or nitrogen in the formula is carbon, an alkylsilyl group, an alkylamino group, or an alkoxy group. However, at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a hydrogen atom. And a part of silicon and / or a part of nitrogen constituting the main skeleton are represented by the following general formulas (i) and (i).
A polyborosilazane having a cross-linking component represented by (i), (iii) or (iv) bonded thereto, having a B / Si atomic ratio in a range of 0.01 to 3 and a number average molecular weight of 200 to 500,000. (In the formula, R 4 is a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom having 1 to 1
Having 20 alkyl groups, alkenyl groups, cycloalkyl groups, aryl groups, alkoxy groups, alkylamino groups,
A hydroxyl group or an amino group, R 5 is a residue bonded to the nitrogen atom of the group having a nitrogen atom among R 4 ,
In v), at least two of a total of six atoms consisting of three nitrogen atoms and boron atoms are used for crosslinking, and R 4 can be bonded to the remaining atoms. (B) A coating composition containing at least a solvent.
JP25556589A 1989-09-30 1989-09-30 Composition for coating Expired - Lifetime JP2920159B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25556589A JP2920159B2 (en) 1989-09-30 1989-09-30 Composition for coating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25556589A JP2920159B2 (en) 1989-09-30 1989-09-30 Composition for coating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03119077A JPH03119077A (en) 1991-05-21
JP2920159B2 true JP2920159B2 (en) 1999-07-19

Family

ID=17280488

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25556589A Expired - Lifetime JP2920159B2 (en) 1989-09-30 1989-09-30 Composition for coating

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2920159B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3819046B2 (en) * 1994-11-30 2006-09-06 中国塗料株式会社 Anticorrosion paint composition
JP4466736B2 (en) 2005-05-19 2010-05-26 パナソニック株式会社 Electrochemical element and electronic equipment using it
KR20180110612A (en) * 2017-03-29 2018-10-10 (주)디엔에프 Compositions for depositing silicon-containing thin films containing bis(aminosilyl)alkylamine compound and methods for manufacturing silicon-containing thin film using the same
CN115895398B (en) * 2022-11-11 2023-08-15 杭州万观科技有限公司 Improved polyborosilazane/epoxy composite coating

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03119077A (en) 1991-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2613787B2 (en) Inorganic silazane high polymer, production method thereof and use thereof
US5750643A (en) Dehydrocoupling treatment and hydrosilylation of silicon-containing polymers, and compounds and articles produced thereby
EP0389084B1 (en) Process for producing a polyborosilazane
US4312970A (en) Silazane polymers from {R&#39;3 Si}2 NH and organochlorosilanes
US4722988A (en) Organopolysilazane composition containing free radical generators and capable of being crosslinked by an energy input
US4543344A (en) Silicon nitride-containing ceramic material prepared by pyrolysis of hydrosilazane polymers from (R3 Si)2 NH and HSiCl3
EP0669964B1 (en) Temperature-resistant and/or nonwetting coatings of cured, silicon-containing polymers
JP2760555B2 (en) Polyborosilazane and method for producing the same
JPH05238827A (en) Coating composition and coating process
US4472591A (en) Hydrosilyl-modified polycarbosilane precursors for silicon carbide
JPH06122852A (en) Coating composition and method for coating using the same
US4656300A (en) Process for a thermal treatment of a polysilazane containing .tbd.SiH groups and .tbd.Si--NH-- groups
JP2651464B2 (en) Modified polysilazane, production method thereof and use thereof
EP0424082A2 (en) Preceramic organosilicon-boron polymers
US5209979A (en) Silicon carbide coated article with ceramic topcoat
JP2670501B2 (en) Coating composition and coating method
JPH01213339A (en) Polysiloxane, its production and use thereof as ceramic precursor and ceramic
US4730026A (en) Cross-linked organosilazane polymers
EP0266912B1 (en) Novel preceramic polymers derived from cyclic silazanes and halogenated disilanes and a method for their preparation
JP2920159B2 (en) Composition for coating
EP0606150B1 (en) Method of crosslinking polysilazane polymers
JPH01221466A (en) Coating composition and coating method
JPH05170914A (en) Organic silazane polymers and production of ceramic materials from same
US5276105A (en) Polymer precursors for aluminum nitride
JPH02212361A (en) Polysilazane ceramic precursor composition and ceramic obtained by thermal decomposition thereof

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090430

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100430

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100430