JPH06122585A - 単結晶育成法 - Google Patents

単結晶育成法

Info

Publication number
JPH06122585A
JPH06122585A JP27615592A JP27615592A JPH06122585A JP H06122585 A JPH06122585 A JP H06122585A JP 27615592 A JP27615592 A JP 27615592A JP 27615592 A JP27615592 A JP 27615592A JP H06122585 A JPH06122585 A JP H06122585A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
heating element
heating
zirconia
hollow cylindrical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP27615592A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2735752B2 (ja
Inventor
Haruo Arashi
治 夫 嵐
Hajime Asami
見 肇 浅
Masahiro Moriwaki
脇 正 弘 森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinagawa Refractories Co Ltd
Original Assignee
Shinagawa Refractories Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shinagawa Refractories Co Ltd filed Critical Shinagawa Refractories Co Ltd
Priority to JP27615592A priority Critical patent/JP2735752B2/ja
Publication of JPH06122585A publication Critical patent/JPH06122585A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2735752B2 publication Critical patent/JP2735752B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Resistance Heating (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 溶融帯域の温度勾配が適切で欠陥のない単結
晶を容易に生成しうる帯溶融法による単結晶育成法を提
供することを目的とする。 【構成】 帯溶融法による単結晶育成法において、育成
を通電により発熱する中空円筒型ジルコニア発熱体を備
えた超高温電気抵抗炉の前記発熱体の内部で行なうこと
を特徴とする単結晶育成法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【技術分野】本発明は新規な単結晶育成法、特にサファ
イア、ルビー、YAG、GGGなどの高融点酸化物の単
結晶を育成する方法に関するものである。ここにYAG
はイットリウム・アルミニウム・ガーネット(YAl
12)のことであり、これは1970℃の融点を有
し、またGGGはガドリウム・ガリウムガーネット(G
Ga12)のことであり、これは1710℃の
融点を有する。両者はいずれもレーザー用に用いられ
る。
【0002】
【従来の技術と解決しようとする課題】従来、単結晶を
育成する方法には種々ありその中で溶液から行ない且つ
ルツボを用いない単結晶育成法には次のような3種があ
る(共立出版KK発行、実験物理学講座No.13、
「試料の作成と加工」135〜139頁参照)。
【0003】まずベルヌイ法があり、この場合微粉末試
料を酸水素炎の倒立バーナー中を落下させて加熱半溶融
状態にし、種子結晶あるいは耐火物棒の上に積もらせて
単結晶を成長させるのであるが2300℃より融点の高
い材料や反応性の高い材料には使用できないなどの難点
がある。
【0004】次に帯溶融法があり、この場合は多結晶試
料棒を両端で鉛直に保持し、その一部を加熱溶融して溶
融帯を作り、それを一端から他端に移動することにより
単結晶化する。この方法では溶融帯が表面張力により保
持されているのでルツボを必要としない。従ってこの方
法は高温で活性な高融点材料の単結晶化に好適な方法と
いえる。
【0005】次に浸没アーク溶融法があり、この場合、
容器に詰めた原材料粉末の中央部にカーボン電極を挿入
し、電圧を印加すると放電により高温で発生し、中央部
が溶融する。アーク電流を減らして徐冷すると単結晶が
得られる。この方法は、他の方法では単結晶が得られな
い場合、品質がそれほど問題にならない場合に専ら用い
られる。
【0006】ルツボを用いないこれら各種単結晶育成法
の中、帯溶融法が最も注目されているがその方法の場合
前記溶融帯を局部的に加熱しなければならずその加熱手
段として三つの方式が考えられている。即ち高周波加熱
方式、電子ビーム加熱方式とアークイメージ方式であ
り、高融点酸化物の育成に適しているものとしてここ十
数年来アークイメージ方式即ち赤外線集中加熱方式によ
る結晶製造装置が開発され一般に利用されるようになっ
ている。
【0007】この赤外線集中加熱方式は回転楕円体の一
つの焦点に熱源となる赤外線発生電球を置き、そこから
輻射する光が楕円体の内面に反射してもう一つの焦点に
集まるという幾何学的な特性を利用したものである。そ
して単結晶試料棒を前記もう一つの焦点を通るよう鉛直
に保持せしめつつ加熱するのであるがこのような赤外線
集中加熱方式では光(赤外線)が集中した部分のみ加熱
されそれ以外の部分は加熱されないため固液境界の温度
勾配が大きすぎる。従って溶融帯が急冷されるため欠陥
の多い結晶となり完全な結晶がえられない。このため焦
点への集中度を多少ぼかすことによって温度の勾配をゆ
るめたり、育成中の結晶を溶融帯近くまでアルミナのパ
イプでおおって傍熱型のアフターヒーターとするなどし
ているが充分では無い。更に材料温度は材料が光を吸収
する度合いにより変り、また融点の光吸収係数によって
も変り所望の温度を得るのが難しい。
【0008】帯溶融法の加熱方式としては上述のように
赤外線集中加熱方式の外に高周波加熱方式と電子ビーム
加熱方式があるが、前者の場合は高周波加熱装置が高価
かつ大きな設備を必要とする外、直接高周波を試料に印
加する方式は導電性試料でないと適用不可であり、又後
者の場合は上述の場合と同様温度勾配が急であるという
問題点があった。
【0009】本発明はこのような事情に鑑み、赤外線集
中加熱方法に代表される帯溶融法の問題点を解決して溶
融帯域の温度勾配が適切で容易に欠陥のない結晶を生成
しうる帯溶融法による単結晶育成法を提供することを目
的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは帯溶融法に
よる単結晶育成法において、単結晶の育成を通電により
発熱する中空円筒型ジルコニア発熱体を備えた超高温電
気抵抗炉の前記発熱体の内部で行なうことにより上記問
題点を解決しうることを見出して本発明に至ったもので
ある。
【0011】本発明の単結晶育成法に用いるのに適当な
上記超高温電気抵抗炉は本発明者らによってかつて開発
され特許出願されたものであり(特願平3−22618
3号)、その一例が同出願明細書に詳しく記載されてい
るが、ここに図面をあげてあらためて説明することとす
る。まず図1において、1が本発明で用いられる中空円
筒型ジルコニア発熱体である。これは中央部に細い径即
ち小さな断面積の発熱部2とその両端ににそれより太い
径即ち大きな断面積を有する一定長さの端子部3を備え
ている。この端子部3には白金線又は白金−ロジウム合
金線の如き通電用リード線4が取付けられている。発熱
部2と端子部3は内部に単結晶試料を出し入れし内部で
発熱するに必要な大きさの内径を有している。この発熱
体については後で詳しく説明する。
【0012】この発熱体1を直立支持するために発熱体
1の上下にパイプ状耐火物5を備える。この耐火物5と
しては、アルミナ又はマグネシア等電気絶縁性に優れた
ものが用いられ、リード線4が内部に配設されている。
この耐火物5の内径は前記発熱体1の内径と同じであ
る。なおこの耐火物5としてランタンクロマイト、ラン
タンマンガタイト、ランタンコバルタイト等を使用する
場合は前記の通電用リード線4は不要となる。
【0013】これらの外側には該発熱体の予熱装置と円
筒状耐火物が配置される。まず発熱体1を囲んで周囲に
順にジルコニア質円筒状耐火物6、アルミナ質円筒状耐
火物7が配置される。耐火物6にかかる熱負荷を軽減す
るため、且つ発熱体1からの漏電を防ぐために発熱体1
と耐火物6との間に若干の空間8が設けられる。アルミ
ナ質耐火物7の表面には発熱体1を予熱するために予備
ヒーター9が備えられており、アルミナ質耐火物7はヒ
ーター9の漏電を防ぎヒーター9を発熱体1の高温時の
影響から保護することができる。前記ヒーター9はアル
ミナ質耐火物の外側に巻付けて施工される。そのスペー
サー及び接着剤としてアルミナ質モルタルが使用され
る。
【0014】予備ヒーター9としては炭化珪素質、二珪
化モリブデン等の非金属発熱体、Fe−Cr−Al系や
白金等の金属発熱体が用いられる。熱効率の点からは金
属発熱体をアルミナ質耐火物7に巻付けて使用するのが
好ましい。その際、耐火物にジルコニアを使用するとき
に耐火物への漏電現象がおこるため、アルミナ耐火物を
介在させることが必要である。
【0015】アルミナ質耐火物7の外側にはセラミック
質断熱材10と外殻鉄皮11が設けられる。前記断熱材
10としてはアルミナシリカ系ファイバーブロック又は
バルクを施工する。これにより鉄皮11が保護断熱され
る。又鉄皮11は炉体全体寸法に制約がある場合には鉄
皮を二重構造として内部に水又は空気を流して水冷又は
空冷を図ることができる。
【0016】前記中空円筒型抵抗発熱体1とパイプ状耐
火物5の内部に上下に貫通する空間12が形成されて被
処理物を上方又は下方から挿入して発熱体1の発熱部2
付近の超高温加熱空間13に配置することができる。そ
の空間13に被処理物を載置又は懸垂させる手段を設け
ることができ、目的によっては前記空間の上部又は下部
を耐火材にてシールすることもできる(図示せず)。
【0017】なお、中空円筒型抵抗発熱体とこれを支持
するパイプ状耐火物の外周囲に配置される耐火物として
は該発熱体が高温になった際その熱に耐えられる材質で
あることが必要であり、上記のようにジルコニア質のも
のが用いられる。ジルコニアファイバーを含むものであ
り、たとえばジルコニア中空球、ジルコニア粉末とジル
コニアファイバーからなるものを用いることができる
(特願平2−242244号)。そのジルコニアファイ
バーとしては、純ジルコニアファイバーの外にライム、
マグネシア、イツトリア等の安定化剤を添加して安定化
されたジルコニアファイバーも用いられる。この外、特
開平3−83856号公報に記載されたような、ジルコ
ニアファイバーと、ジルコニア粉末から構成され、嵩比
重が2.5〜5.0である表皮層を有し、内部が中空で
ある又は内部が全部又は一部ジルコニアのファイバー、
中空球、ファイバーボードからなる充填剤で充填されて
いる、耐火物を用いることもできる。
【0018】本発明で用いるに好適な中空円筒型発熱体
1を図2(a),(b)について説明すれば、断面積乃
至外径が比較的小さな発熱部2の両端に端子部3が設け
られている。発熱部の断面積/端子部断面積の比の好適
な範囲は1/3〜1/10である。比が1/3より大き
な場合は端子部の温度上昇が大であり、1/10よりも
小さな場合端子部と発熱部の温度差が大きくなり折損し
易くなっていずれも好ましくない。なお発熱部2に外部
からの観察用の孔14を設けることができる。
【0019】又、目的とする中空円筒型発熱体内部に必
要とされる温度分布に応じて端子部と発熱部との境界部
にテーパー15を設けるなど形状を調整することができ
る。
【0020】この発熱体1の発熱部2の長さ、発熱体1
の内外径、発熱部2と端子部3との境界部の構造等は目
的とする単結晶の種類(融液の粘性)に応じ、あるいは
望ましい融液部と非融解部との温度勾配によって適宜選
択される。
【0021】このような超高温電気抵抗炉の中空円筒型
発熱体1には図3に示すごときシャフト16,16′が
上下に設けられる。このシャフト16は上下移動が可能
で且つ回転できる治具である。育成されるべき単結晶試
料17,17′は棒状に成形されて中空円筒型発熱体の
上方及び下方からその内部に挿入され鉛直方向にセット
される。その場合発熱体の発熱部付近の超高温加熱空間
13で上方及び下方棒状試料17,17′の端部を互い
に接触せしめる。その際接触し合う下方棒状試料17′
は表面を平面状とし、上方棒状試料17は端部の径を漸
次小ならしめ尖端を有するようにし、観察用の孔14か
らよく観察しながらセットさせるのが適当である。この
ようにして上下棒状単結晶試料を互いに接触させてから
一定速度で互いに逆方向に回転させつつ又、上下試料を
上下運動せしめつつ通電加熱する。加熱温度は単結晶試
料の種類によって適宜設定される。例えばアルミナの場
合は約2050℃である。その際の上方試料の回転速度
は0.1〜100rpm 、好ましくは1〜10rpm 、下方
試料の回転速度は0〜100rpm 、好ましくは0〜20
rpm の範囲とする。また上方試料の下降速度は1〜20
mm/hrの範囲が好ましい。単結晶の種類によっては下方
試料の回転は不要である。又試料は通常下降させ加熱溶
融、凝固させる。上昇させるのは試料をセットするとき
のみである。図3において、18は加熱後形成される溶
融帯を示す。
【0022】このようにして中空円筒状ジルコニア発熱
体を備えた超高温電気抵抗炉を用い、単結晶試料を前記
発熱体内部に挿入し加熱して育成することは溶融部と非
溶融部間の温度勾配を緩徐たらしめ、欠陥の少ない良好
な単結晶を得ることができる。
【0023】
【実施例】高純度アルミナ粉末(Al2 3 純度≧9
9.99%)100重量部に対し、メチルセルローズ2
重量部、水20重量部を添加し、混練乾燥後、ラバープ
レスにて2000Kg/cm2 の静水圧で成形した。その
後、電気炉にて1700℃、2時間焼成し、焼結棒(8
φ×150mm)を得た。これらの焼結棒(棒状単結晶試
料)を図3の如く中空円筒型発熱体の発熱部に両端が接
するよう設置し、2050℃に加熱し、溶融帯を形成さ
せ上下棒を逆回転させながら徐々に降下させてほぼ15
時間後アルミナ単結晶を生成せしめた。
【0024】この際用いた超高温電気抵抗炉の高さは3
00mm、外径は300mmであった。発熱体の組成はイッ
トリア安定化ジルコニア粉末70、イットリア安定化ジ
ルコニア繊維30からなり、化学組成はZrO92重
量%、Y 8重量%であった。発熱体の寸法は次
のとおり 発熱体内径 24mm 発熱部長さ 10mm 端子部外径 42mm 端子部長さ 40mm 試料の回転数 上部試料4rpm 、下部試料10rpm 、試料下降速度10
mm/hr このとき測定された温度勾配は図4に示すとおりであ
り、適当なものであった。得られた結晶には欠陥がみら
れなかった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いる超高温電気抵抗炉の一実施例の
断面図。
【図2】本発明に用いる中空円筒型発熱体の各実施例の
正面図。
【図3】本発明に用いる超高温電気抵抗炉の要部断面
図。
【図4】本発明の実施例で測定された温度勾配を示すグ
ラフ。
【符号の説明】
1 中空円筒型抵抗発熱体 2 発熱部 3 端子部 4 通電用リード線 5 パイプ状耐火物 9 予備ヒーター 16,16′ シャフト 17,17′ 単結晶試料 18 溶融帯

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】帯溶融法による単結晶育成法において、育
    成を通電により発熱する中空円筒型ジルコニア発熱体を
    備えた超高温電気抵抗炉の前記発熱体の内部で行なうこ
    とを特徴とする、単結晶育成法。
  2. 【請求項2】前記超高温電気抵抗炉は、単結晶試料を内
    部で加熱することができる発熱部とその両端の端子部を
    備えた前記中空円筒型ジルコニア発熱体をパイプ状耐火
    物により直立支持せしめ、その外側に前記発熱体を予熱
    する装置とこれを予熱するための円筒状耐火物を設けて
    なることを特徴とする請求項1記載の単結晶育成法。
  3. 【請求項3】前記中空円筒型ジルコニア発熱体はジルコ
    ニアファイバーを含むジルコニア質抵抗発熱体である請
    求項1記載の単結晶育成法。
  4. 【請求項4】前記中空円筒型ジルコニア発熱体の前記発
    熱部の断面積が前記端子部の断面積よりも小である請求
    項1記載の単結晶育成法。
  5. 【請求項5】単結晶の育成は単結晶試料を上方及び下方
    より前記発熱体内部に挿入し、それらを回転自在に上下
    方向に移動しながら加熱して行なうことを特徴とする単
    結晶育成法。
JP27615592A 1992-10-14 1992-10-14 単結晶育成法 Expired - Lifetime JP2735752B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27615592A JP2735752B2 (ja) 1992-10-14 1992-10-14 単結晶育成法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27615592A JP2735752B2 (ja) 1992-10-14 1992-10-14 単結晶育成法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06122585A true JPH06122585A (ja) 1994-05-06
JP2735752B2 JP2735752B2 (ja) 1998-04-02

Family

ID=17565522

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27615592A Expired - Lifetime JP2735752B2 (ja) 1992-10-14 1992-10-14 単結晶育成法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2735752B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7413589B2 (en) 2002-03-22 2008-08-19 The Japan Steel Works, Ltd. Method of producing hydrogen storage alloy

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103205803B (zh) * 2013-04-24 2016-04-20 哈尔滨奥瑞德光电技术有限公司 在蓝宝石单晶炉中应用的氧化锆保温结构

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7413589B2 (en) 2002-03-22 2008-08-19 The Japan Steel Works, Ltd. Method of producing hydrogen storage alloy
US7691216B2 (en) 2002-03-22 2010-04-06 The Japan Steel Works, Ltd. Method of producing hydrogen storage alloy

Also Published As

Publication number Publication date
JP2735752B2 (ja) 1998-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5728097B2 (ja) 最高500mmの直径を有するガーネット型構造のドープ単結晶の調製方法
US5549746A (en) Solid state thermal conversion of polycrystalline alumina to sapphire using a seed crystal
JP5131170B2 (ja) 単結晶製造用上部ヒーターおよび単結晶製造装置ならびに単結晶製造方法
JP5067596B2 (ja) サファイア単結晶製造方法及びその製造装置
Kooy Zone melting of oxides in a carbon-arc image furnace
JPH0337182A (ja) 巨大磁歪合金ロツドの製造方法
JP2735752B2 (ja) 単結晶育成法
Ii et al. Single crystal growth of akermanite (Ca2MgSi2O7) and gehlenite (Ca2Al2SiO7) by the floating zone method
JP2017222537A (ja) るつぼ並びに単結晶の育成装置及び育成方法
US9822468B2 (en) Method for producing SiC single crystal
CN103266346B (zh) 一种引上法生长yvo4晶体的生长设备及基于该生长设备的生长方法
JPH0337181A (ja) 希土類金属と遷移金属とからなる巨大磁歪合金ロツドの製造方法
Tsuiki et al. Single crystal growth of pure and Nd-doped Y2O3 by floating zone method with Xe arc lamp imaging furnace
JPH07277893A (ja) アルミナ単結晶の製法
JP2734485B2 (ja) 単結晶成長装置
JP2019104661A (ja) SiC単結晶の製造方法
JPH05294784A (ja) 単結晶成長装置
JPH11189487A (ja) 酸化物単結晶製造装置
US20220243357A1 (en) Production apparatus for gallium oxide crystal and production method for gallium oxide crystal
US20220112622A1 (en) Production apparatus for gallium oxide crystal
JPH0429638B2 (ja)
JPH0648889A (ja) 単結晶の製造方法
JPH08183694A (ja) 細線状シリコン製造用坩堝および細線状シリコン
JP2022149310A (ja) 結晶製造方法、結晶製造装置、及び単結晶
JP2023106875A (ja) 金属酸化物単結晶の製造装置および金属酸化物単結晶の製造方法