JPH06118012A - Via-hole inspecting method - Google Patents

Via-hole inspecting method

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Publication number
JPH06118012A
JPH06118012A JP26261692A JP26261692A JPH06118012A JP H06118012 A JPH06118012 A JP H06118012A JP 26261692 A JP26261692 A JP 26261692A JP 26261692 A JP26261692 A JP 26261692A JP H06118012 A JPH06118012 A JP H06118012A
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JP
Japan
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via hole
pattern
hole
valued
opening
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP26261692A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yorihiro Sakashita
頼弘 坂下
Moritoshi Ando
護俊 安藤
Koji Oka
浩司 岡
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH06118012A publication Critical patent/JPH06118012A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make adequate 'good or not' judgment by judging whether a via-hole exists or not in place in accordance with a two-valued pattern and whether the sectionally horizontal shape of the opening is reasonable or not, and comparing the sum of multivalued shape signals containing a multivalued pattern with a reference value to judge whether residuals are in the via-hole or not. CONSTITUTION:When laser light 21 is irradiating the surface of a polyimide 32, the intensity of reflected light is almost constant but abruptly lower at the opening and the maximum on a metal layer 34 at a hole because of its completely reflected light. The intensity of the reflected light from polyimide residuals at the hole bottom is lower than that level on the layer 34 and higher than that level on the polyimide 32. These signals are converted into multivalued digital signals by setting a required level between a level 1 and a level 2. Data for picture elements corresponding to the opening area set up in a binarized area setting circuit is binarized by the binarizing circuit and judgment whether a via-hole exists or not and its shape is reasonable or not is given to the obtained binarized pattern by logical processing. The integrated value of the reflection intensity at the opening bottom is compared with a reference value to judge the residual quantity and whether a product is good or not.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はプリント板のバイアホー
ル形成状態を検査する方法に関わり、特に光学的手段に
よって得た開口情報をディジタル量に変換し、その論理
演算結果によって開口の完全/不完全を判定する方法に
関わる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting a via hole formation state of a printed circuit board, and in particular, converting aperture information obtained by optical means into a digital quantity, and by the result of the logical operation, complete / impossible of the opening is detected. Involved in the method of determining perfection.

【0002】セラミック基板面に配線を設け、その上を
樹脂層で被覆したプリント板には、樹脂層上の配線との
接続やICパッケージのピンとの接続のためにバイアホ
ールが設けられる。このバイアホールの口径は比較的小
であることから、電気的接続を良好ならしめるために
は、開口が単に樹脂層を貫通しているだけでなく、設定
された形状通りに過不足なく整形されていなければなら
ない。
Vias are provided in a printed circuit board having wirings provided on the surface of a ceramic substrate and covered with a resin layer on the printed circuit board for connection with wirings on the resin layer and pins of an IC package. Since the diameter of this via hole is comparatively small, in order to make good electrical connection, the opening is not only penetrating through the resin layer, but also is shaped exactly according to the set shape. Must be

【0003】図5はバイアホールの設けられたプリント
板の外観を示す斜視図である。同図中の31はセラミック
基板であり、それに重ねられた薄いポリイミド32に複数
のバイアホール33が設けられている。ポリイミド層の厚
さは30μm程度であるのに対し、バイアホールの直径
は60μm程度である。
FIG. 5 is a perspective view showing the external appearance of a printed board provided with via holes. Reference numeral 31 in the figure is a ceramic substrate, and a plurality of via holes 33 are provided in a thin polyimide layer 32 laminated on the ceramic substrate. The thickness of the polyimide layer is about 30 μm, while the diameter of the via hole is about 60 μm.

【0004】図6は良及び不良のバイアホールの断面形
状を示す図である。同図(a)に示されたのは完全な良品
であって、開口径が設定値と正確に一致し、開口位置の
ずれもなく金属層34に正中している。また孔底まで完全
に開穿されていて、ポリイミドの残渣はない。
FIG. 6 is a view showing cross-sectional shapes of good and bad via holes. FIG. 7A shows a perfectly good product, in which the opening diameter exactly matches the set value, and the opening position is centered in the metal layer 34 without displacement. Moreover, the polyimide is completely opened to the bottom of the hole, and there is no residue of polyimide.

【0005】これに対し、同図(b)〜(g)までは何らかの
欠点を持つ不良バイアホールである。図(b)及び図(c)に
は開口位置を誤った場合が示されており、バイアホール
が設けらるべき部位が開穿されていないもの(図(b))、
と設けらるべきではない部位が開穿されたもの(図(c))
である。また、開口位置は正しいが、開口径が大きすぎ
るもの(図(d))、小さすぎるもの(図(e))もバイアホール
としては不良である。
On the other hand, FIGS. 2B to 2G are defective via holes having some defects. Figures (b) and (c) show the case where the opening position is wrong, and the part where the via hole should be provided is not opened (Figure (b)),
The part that should not be provided is opened (Figure (c))
Is. In addition, a hole having a correct opening position but having a too large opening diameter (Fig. (D)) and too small opening (Fig. (E)) are also defective as via holes.

【0006】更に、位置及び開口径は正しいが孔底まで
きれいに抜けていない場合があり、図(f)は底面の一部
にポリイミドが残っている場合、図(g)は孔底全面に薄
くポリイミドが残っている場合である。
Further, there are cases where the position and the opening diameter are correct, but there is a case where the holes do not come out cleanly to the bottom of the hole. This is the case when the polyimide remains.

【0007】[0007]

【従来の技術】このように様々な不良開口を光学的に検
出するのに、従来は次のような方法が用いられていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, the following method has been used to optically detect various defective apertures.

【0008】図7(a)に示すように、被検体であるプリ
ント板にレーザ光を照射すると、照射点からポリイミド
32の蛍光が発生する。この蛍光は同図(b)のような波長
特性を備えているので、同図に描かれたような特性のフ
ィルタでレーザ光をカットし、センサで受光して光電変
換すればプリント板表面形状に関わる情報が得られる。
As shown in FIG. 7 (a), when a printed board, which is an object to be inspected, is irradiated with laser light, the polyimide is irradiated from the irradiation point.
32 fluorescence is emitted. Since this fluorescent light has wavelength characteristics as shown in Fig. 2 (b), the laser light is cut by the filter with the characteristics shown in Fig. 1 (b), and the light is received by the sensor and photoelectrically converted into the printed board surface shape. Information related to.

【0009】開口内にポリイミドの残渣があるバイアホ
ール部分をレーザ光で走査した時に、センサ出力である
蛍光検知信号の強度変化の状況が図8に示されている。
レーザ光がポリイミド面を走査中は一定であるが、バイ
アホール部分で急減してほゞ0となり、ホール部を通過
すると再び元の値に戻る。底部の残渣上走査している時
は僅かな蛍光が発生し、図示のように信号強度は若干上
昇する。
FIG. 8 shows a situation in which the intensity of the fluorescence detection signal, which is the sensor output, changes when a via hole portion having a polyimide residue in the opening is scanned with laser light.
Although the laser light is constant during scanning the polyimide surface, it sharply decreases to almost 0 at the via hole portion and returns to the original value again when passing through the hole portion. When scanning on the bottom residue, a slight amount of fluorescence is generated, and the signal intensity is slightly increased as shown in the figure.

【0010】図中に記入されたスライスレベル1を設定
して蛍光検知信号を2値化し、所定領域で0、それ以外
で1となっていることを確認すれば、開口位置と形状が
適正であると判定することができる。しかしそれだけで
は、孔底にポリイミドが残っていないかの判定はできな
いから、更にスライスレベル2を設定し、それによって
2値化した信号に基づいて開口の完全/不完全を判定す
れば、孔底に残渣がある場合にもそれを検出することが
できる。
By setting the slice level 1 entered in the figure and binarizing the fluorescence detection signal, and confirming that it is 0 in a predetermined area and 1 in other areas, the opening position and shape are appropriate. It can be determined that there is. However, it is not possible to judge whether or not the polyimide remains at the bottom of the hole, so if slice level 2 is set and the completeness / incompleteness of the opening is judged based on the binarized signal, the bottom of the hole can be judged. Even if there is a residue in, it can be detected.

【0011】このように、2つのスライスレベルを設定
して蛍光検知信号を2値化するのは図9の回路に依れば
良く、夫々の2値化信号によって認識される開口の形状
は同図に描かれたパターン1及びパターン2のようにな
る。
As described above, the two fluorescence levels can be binarized by setting the two slice levels according to the circuit of FIG. 9, and the shapes of the openings recognized by the respective binarized signals are the same. It becomes like pattern 1 and pattern 2 depicted in the figure.

【0012】これ等2種の信号による良否判定の論理回
路の構成は図10のようなものとなる。先ず、パターン1
に相当する信号を用いる判定処理の中、バイアホール有
無判定回路43では、設計データで指定されるバイアホー
ル中心位置の形状が調べられる。当該部分がパターン1
で「開口」になっていなければ、指定位置にはバイアホ
ールが無いと判断される。
FIG. 10 shows the configuration of a logic circuit for making a pass / fail judgment based on these two types of signals. First, pattern 1
In the determination process using the signal corresponding to, the via hole presence / absence determination circuit 43 examines the shape of the via hole center position designated by the design data. The part is pattern 1
If it is not “open”, it is determined that there is no via hole at the specified position.

【0013】更に、形状検査論理回路では同じくパター
ン1相当信号を用いて、開口の形状が所定の大きさ或い
は形となっているかが検査される。正規の形状からの変
形量が許容範囲を越えるものは不良と判定される。
Further, the shape inspection logic circuit similarly inspects whether or not the shape of the opening has a predetermined size or shape by using the signal corresponding to the pattern 1. If the deformation amount from the regular shape exceeds the allowable range, it is determined to be defective.

【0014】パターン2相当信号による底部残渣の検査
では、面積計測回路によってパターン2から露出底面の
面積が算出され、それが予め設定された面積値範囲内に
あるか否かが調べられる。この底部面積が設定値より小
であれば、孔内に残渣が存在するものと見做して不良と
判定される。
In the inspection of the bottom residue by the signal corresponding to the pattern 2, the area of the exposed bottom surface is calculated from the pattern 2 by the area measuring circuit, and it is checked whether or not it is within the preset area value range. If the bottom area is smaller than the set value, it is considered that there is a residue in the hole, and it is determined as defective.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】図9の回路によって同
図のパターン2に相当する2値信号を得ようとする場
合、スライスレベル2を適正に設定しなければならない
が、その許容範囲は極めて狭い。何故なら、検知信号と
なる蛍光の強度は被照射材料の質量にも影響されるの
で、孔底に薄く残ったポリイミドから発生する蛍光は微
弱であり、センサ出力の変化幅も僅小な故である。この
ようにスライスレベルを設定する電圧範囲が狭いと、そ
の設定値が適正範囲から僅かでも外れることは起こり易
く、そのため良否の判定を誤ることが多くなる。
When a binary signal corresponding to pattern 2 in the figure is to be obtained by the circuit in FIG. 9, the slice level 2 must be set properly, but the allowable range is extremely high. narrow. Because the intensity of the fluorescence as the detection signal is also affected by the mass of the irradiated material, the fluorescence generated from the thin polyimide remaining on the bottom of the hole is weak, and the change range of the sensor output is also small. is there. If the voltage range in which the slice level is set is narrow in this way, the set value is likely to deviate from the proper range even slightly, and therefore, the quality judgment is often erroneous.

【0016】本発明の目的は、上記の形状検査論理によ
りバイアホールの良否を判定する処理に於いて、検知信
号のディジタル化処理を改善し、改善された検知信号を
用いて、より的確な良否判定を行う検査方法を提供する
ことである。
An object of the present invention is to improve the digitization process of the detection signal in the process of judging the quality of the via hole by the above-mentioned shape inspection logic, and use the improved detection signal to obtain a more accurate quality. It is to provide an inspection method for making a determination.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記課題を達成するた
め、本発明のバイアホール検査方法では、被検体である
プリント板の表面を仮想的に画素マトリックスに分割
し、該マトリックス全域をレーザ光で走査的に照射して
その反射光をセンサに受光し、該センサからの出力信号
を多値ディジタル化することにより該各画素からの反射
光の強度を示す多値形状信号を得、該プリント板設計デ
ータ中のバイアホール中心データに基づいて該バイアホ
ール開口領域を設定し、該開口領域内画素に対応する該
多値形状信号を2値化して該開口領域の2値化パターン
を得、該2値パターンに基づいて該所定位置のバイアホ
ールの有無の判定と、該開口水平断面形状の適否の判定
を行い、更に該開口領域に対応する画素の該多値信号に
より構成される多値化パターンを抽出し、該多値化パタ
ーンに包含される該多値形状信号の和を基準値と比較す
ることにより該バイアホール内部の残渣の有無を判定
し、これ等の判定結果を総合して該バイアホールの良否
を判定することが行われる。
In order to achieve the above object, in the via-hole inspection method of the present invention, the surface of a printed board as an object is virtually divided into pixel matrices, and the entire area of the matrix is irradiated with laser light. The printed board is provided with a multi-valued shape signal indicating the intensity of the reflected light from each pixel by irradiating in a scanning manner and receiving the reflected light on the sensor, and digitizing the output signal from the sensor by multi-value digitization. The via hole opening area is set based on the via hole center data in the design data, and the multi-valued shape signal corresponding to the pixel in the opening area is binarized to obtain a binarized pattern of the opening area. The presence / absence of a via hole at the predetermined position is determined based on a binary pattern, and the appropriateness of the horizontal cross-sectional shape of the opening is determined, and further, multi-valued conversion is performed by the multi-valued signal of the pixel corresponding to the opening region. The turn is extracted, the sum of the multi-valued shape signals included in the multi-valued pattern is compared with a reference value to determine the presence or absence of a residue inside the via hole, and the results of these determinations are combined. The quality of the via hole is determined.

【0018】また別な本発明のバイアホール検査方法で
は、前記2値化処理によって得た2値パターンに基づく
バイアホール有無の判定及びその開口水平断面形状の適
否の判定を行うと共に、該2値パターンから前記開口領
域の真に開口された部分の画素数を求め、前記抽出され
た多値化パターンから求めた前記多値形状信号の和を、
該画素数で除した商を基準値と比較することにより該バ
イアホール内の残渣の有無を判定することが行われる。
According to another via hole inspection method of the present invention, the presence / absence of a via hole is determined based on the binary pattern obtained by the binarization process, and the appropriateness of the opening horizontal cross-sectional shape is determined, and the binary value is determined. The number of pixels of the truly opened portion of the opening area is obtained from the pattern, and the sum of the multi-valued shape signals obtained from the extracted multi-valued pattern,
The presence or absence of a residue in the via hole is determined by comparing the quotient divided by the number of pixels with a reference value.

【0019】[0019]

【作用】バイアホールの形状判定のための光信号として
の適性を評価すると、ポリイミド層から発生する蛍光に
は薄いポリイミドが存在した時の変化幅が小さい、即ち
コントラストが弱いという欠点がある。これに対し本発
明で用いられるレーザ反射光では、孔底に露出している
金属面からの反射は強く、金属面がポリイミドで覆われ
た場合は、それが薄いものであっても強度が明確に低下
するという特徴がある。即ち光信号のコントラストが強
いので、ポリイミド残渣の有無を判定するためのスライ
スレベルの設定が容易であり、誤りの少ない良否判定が
行われることになる。
When the suitability as an optical signal for judging the shape of the via hole is evaluated, there is a drawback that the fluorescence generated from the polyimide layer has a small change width when a thin polyimide is present, that is, the contrast is weak. On the other hand, in the laser reflected light used in the present invention, the reflection from the metal surface exposed at the hole bottom is strong, and when the metal surface is covered with polyimide, the strength is clear even if it is thin. There is a feature that it decreases to. That is, since the contrast of the optical signal is strong, it is easy to set the slice level for determining the presence or absence of the polyimide residue, and the quality determination with few errors is performed.

【0020】[0020]

【実施例】図1は本発明に於ける光信号の発生状況と強
度分布を示す図であり、本発明の実施に用いられる検査
装置の光学系は図2に模式的に示されている。図1(a)
は従来技術に於ける図7に対応するもので、説明の都合
上、バイアホールは側面の傾斜を強調して描かれてい
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram showing the generation state and intensity distribution of an optical signal according to the present invention, and the optical system of an inspection apparatus used for implementing the present invention is schematically shown in FIG. Figure 1 (a)
Corresponds to FIG. 7 in the prior art, and for convenience of description, the via hole is drawn with an emphasis on the side slope.

【0021】図2を参照するに、被検体であるプリント
板1は移動ステージ2にセットされ、X−Y方向に間歇
的に移動される。一方、レーザ光源3から放射されたレ
ーザ光はビームエクスパンダ4、ミラー5を経由して回
転多面鏡6に入射し、その回転に伴って射出方向が連続
的に変化する。その射出光は走査レンズ7によって集光
され、ミラー8によって光路を転じ、前記プリント板1
を走査的に照射する。照射点からの反射光は上記光路を
逆方向に進み、ビームスプリッタ9によって方向を転
じ、波長フィルタ10を経由して光センサ11に入射する。
Referring to FIG. 2, the printed board 1 as the subject is set on the moving stage 2 and is intermittently moved in the XY directions. On the other hand, the laser light emitted from the laser light source 3 enters the rotary polygon mirror 6 via the beam expander 4 and the mirror 5, and the emission direction thereof continuously changes with the rotation. The emitted light is condensed by the scanning lens 7, the optical path is changed by the mirror 8, and the printed board 1
Is irradiated in a scanning manner. The reflected light from the irradiation point travels in the opposite direction on the above optical path, changes its direction by the beam splitter 9, and enters the optical sensor 11 via the wavelength filter 10.

【0022】図1(a)に於いて、レーザ光がバイアホー
ル部を走査する時の反射光の強度変化は同図(b)のよう
になる。即ち、レーザ光がポリイミド板表面を照射して
いる時の反射光の強度は或るレベルでほゞ一定してお
り、開口部に来ると反射方向が垂直方向から外れるた
め、その強度は急激に低下する。開口の斜面を過ぎて孔
底の金属面を照射するようになると、ここでは全反射が
起こり、反射光強度はポリイミド面でのレベルを大幅に
越えて上昇する。
In FIG. 1A, the intensity change of the reflected light when the laser light scans the via hole portion is as shown in FIG. That is, the intensity of the reflected light when the laser beam irradiates the surface of the polyimide plate is almost constant at a certain level, and when the laser beam reaches the opening, the reflection direction deviates from the vertical direction, so the intensity sharply increases. descend. When the metal surface at the bottom of the hole is irradiated past the inclined surface of the opening, total reflection occurs here, and the reflected light intensity rises significantly above the level on the polyimide surface.

【0023】反対側の斜面を走査する時にも反射光強度
は急落し、開口部を通過してしまうと反射光強度は最初
のレベルに戻る。孔底にポリイミドの残渣があると、そ
の部分からの反射光強度は金属面でのレベルから低下す
るが、ポリイミド表面からの反射強度よりは高レベルで
ある。
The intensity of the reflected light drops sharply even when the opposite slope is scanned, and when the light passes through the opening, the intensity of the reflected light returns to the initial level. If there is a residue of polyimide on the bottom of the hole, the intensity of the reflected light from that portion is lower than the level on the metal surface, but is higher than the intensity on the polyimide surface.

【0024】このようにして得られた信号を本発明で
は、図1(b)に記入したレベル1と全反射のレベルであ
るレベル2との間に、例えば256のレベルを設定して
多値ディジタル信号に変換する。この多値化処理は通常
のAD変換と同じである。第1の実施例に於いて、この
多値信号を用いてバイアホールの良否を判定する処理の
流れは図3に示されており、以下同図を参照しながら説
明する。
In the present invention, the signal thus obtained is multilevel by setting, for example, a level of 256 between the level 1 shown in FIG. 1 (b) and the level 2 which is the level of total reflection. Convert to digital signal. This multi-valued processing is the same as the normal AD conversion. In the first embodiment, the flow of the process for determining the quality of the via hole using this multi-valued signal is shown in FIG. 3, which will be described below with reference to FIG.

【0025】本発明でもバイアホール有無の判定とその
全体的な開口形状の判定には、従来技術と同様、2値化
された信号が用いられるが、2値化信号を得るための処
理が従来技術と若干異なり、本発明に適合したものとな
っている。即ち、図1(b)のレベル1をスライスレベル
として2値化し、0の画素で囲まれた1の画素群を選び
出して2値信号(2値化パターン)としている。このよう
にして得られた2値化パターンは現実の開口形状を表し
たものとなる。
Also in the present invention, a binarized signal is used in the determination of the presence or absence of a via hole and the determination of the overall opening shape as in the prior art, but the processing for obtaining a binarized signal is conventionally performed. It is slightly different from the technology and adapted to the present invention. That is, level 1 in FIG. 1B is binarized as a slice level, and a pixel group of 1 surrounded by pixels of 0 is selected to be a binary signal (binarization pattern). The binarized pattern thus obtained represents an actual aperture shape.

【0026】2値化パターンを用いての、バイアホール
有無の判定及び開口形状の適否の判定を図3の論理処理
の流れで見ると、2値化領域設定回路41で設定された開
口領域に対応する各画素のデータを2値化回路42で2値
化し、得られた2値化パターンに対して、従来技術と同
様の論理処理によりバイアホールの有無と形状の適否が
判定されている。
When judging the presence / absence of a via hole and the judgment of suitability of an opening shape by using a binarization pattern in the logic processing flow of FIG. 3, the opening area set by the binarization area setting circuit 41 is detected. The data of each corresponding pixel is binarized by the binarization circuit 42, and the presence or absence of the via hole and the adequacy of the shape are determined for the obtained binarized pattern by the same logical processing as in the prior art.

【0027】本発明に於いて特徴的であるバイアホール
内の残渣有無の判定では、先ず開口内データ抽出回路45
によって、前記2値化パターンで1となった画素の多値
信号を選出し、これを多値化パターンとする。次いで、
総和計測回路46でその総和が求められる。この作業は開
口底部からの反射強度の積分値を求めることに相当する
が、残渣が存在する場合の総和は、残渣無しの場合の総
和より小になる筈である。
In the determination of the presence / absence of a residue in the via hole, which is a feature of the present invention, first, the in-aperture data extraction circuit 45.
The multi-valued signal of the pixel which has become 1 in the binarization pattern is selected by the above, and this is set as the multi-valued pattern. Then
The sum measuring circuit 46 calculates the sum. This work is equivalent to obtaining the integrated value of the reflection intensity from the bottom of the opening, but the total sum in the presence of residue should be smaller than the total sum in the absence of residue.

【0028】総和判定回路47ではこの総和値が予め準備
された基準値と比較される。両者の差が規定内であれば
残渣は少量で良と判定され、規定値を越る場合は残渣あ
りと判定される。この判定結果は前記バイアホールの有
無と開口形状良否の判定結果と総合され、欠陥情報とし
て出力される。通常の目的の検査ではこれ等の判定の全
てに合格したものが良品と判定されることになる。
In the total sum judgment circuit 47, this total sum value is compared with a reference value prepared in advance. If the difference between the two is within the specified range, it is judged that a small amount of residue is good, and if it exceeds the specified value, it is judged that there is residue. This determination result is combined with the presence / absence of the via hole and the determination result of the quality of the opening, and is output as defect information. In a normal purpose inspection, a product that passes all of these judgments is judged as a non-defective product.

【0029】次に本発明の第2の実施例における、多値
信号を用いたバイアホールの良否判定処理を説明する。
この実施例の論理処理の流れは図4に示されており、以
下同図を参照しながら説明する。
Next, the processing for determining the quality of a via hole using a multilevel signal in the second embodiment of the present invention will be described.
The flow of the logical processing of this embodiment is shown in FIG. 4, which will be described below with reference to FIG.

【0030】本実施例でも、バイアホール有無の判定と
開口形状の適否の判定は、第1の実施例と同様の処理で
得た2値化パターンを用いて行い、適用される論理処理
も第1の実施例と同じである。このことは図4と図3を
比較することで明らかとなる。本実施例の特徴的な点は
残渣有無の判定法にあり、その基本的な処理は第1の実
施例と共通しているが、実地に行われる処理内容は異な
っている。
Also in this embodiment, the presence / absence of the via hole and the suitability of the opening shape are determined by using the binarized pattern obtained by the same processing as in the first embodiment, and the applied logical processing is also performed. This is the same as the first embodiment. This becomes clear by comparing FIG. 4 and FIG. The characteristic point of this embodiment lies in the method for determining the presence or absence of residue, and although the basic processing is common to the first embodiment, the contents of the processing actually performed are different.

【0031】第1の実施例では、開口領域内画素の多値
信号の総和が開口底部の金属露出面積に相当するとし、
現実の開口面積のばらつきを誤差と見做して設定した基
準値と比較している。しかし、実際には開口形状や面積
はバイアホール毎に異なっており、それが所定範囲内に
あってポリイミド層を完全に貫通していれば良いわけで
あるから、本実施例ではバイアホール毎に開口面積が異
なる点を補償すべく、次の処理を行っている。
In the first embodiment, it is assumed that the sum of multi-valued signals of the pixels in the opening area corresponds to the metal exposed area at the bottom of the opening.
The variation of the actual opening area is regarded as an error and compared with a reference value set. However, in reality, the opening shape and the area are different for each via hole, and it is sufficient if it is within a predetermined range and completely penetrates the polyimide layer. The following processing is performed to compensate for the difference in opening area.

【0032】先ず、前記2値化パターンが開口の水平断
面形状を表すことに着目し、その和を算出することによ
り、実際の開口面積を求める。次いで、前記のように求
めた多値信号の総和をこの開口面積で割り算し、その商
を用いて残渣有無を判定している。図4で見ると、この
2値信号の和を求める作業は面積計測回路48で行われ、
それを用いる割り算は除算回路49で行われる。
First, paying attention to the fact that the binarized pattern represents the horizontal sectional shape of the opening, and calculating the sum thereof, the actual opening area is obtained. Next, the total sum of the multi-valued signals obtained as described above is divided by this opening area, and the quotient is used to determine the presence or absence of residue. As shown in FIG. 4, the work for obtaining the sum of the binary signals is performed by the area measuring circuit 48.
Division using this is performed in the division circuit 49.

【0033】この商を求める作業は、実際に開口内に配
置されている画素からの反射光の強度の平均値を求める
作業に相当し、残渣の少ないバイアホールと多いバイア
ホールとの差が大きく出るので、より適切な良否判定が
行われることになる。
The work for obtaining this quotient corresponds to the work for finding the average value of the intensities of the reflected light from the pixels actually arranged in the opening, and the difference between the via hole with little residue and the via hole with many residues is large. As a result, a more appropriate pass / fail judgment is made.

【0034】[0034]

【発明の効果】以上説明したように、従来技術では被検
体にレーザ光を照射して発生する蛍光を検出して形状情
報を得ていたのに対し、本発明ではコントラストの強い
反射光を検出して形状情報としているため、信号自体の
信頼性が高まっており、更に、残渣有無の判定では多値
化した信号の論理演算による良否判定を行っているた
め、現実の状況に則したより適切な判定が行われる。
As described above, in the prior art, shape information is obtained by detecting fluorescence generated by irradiating a subject with laser light, whereas in the present invention, reflected light with high contrast is detected. Since the shape information is used as the shape information, the reliability of the signal itself is improved. Furthermore, in the presence / absence determination, since the quality judgment is performed by the logical operation of the multi-valued signal, it is more appropriate according to the actual situation. Judgment is made.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明に於ける光信号の発生と強度分布を示
す図
FIG. 1 is a diagram showing generation and intensity distribution of an optical signal according to the present invention.

【図2】 本発明で用いられる装置の構成を示す模式図FIG. 2 is a schematic diagram showing the configuration of an apparatus used in the present invention.

【図3】 第1の実施例の論理処理の流れを示す図FIG. 3 is a diagram showing a flow of logical processing of the first embodiment.

【図4】 第2の実施例の論理処理の流れを示す図FIG. 4 is a diagram showing the flow of logical processing of the second embodiment.

【図5】 プリント板の外観を示す斜視図FIG. 5 is a perspective view showing the appearance of a printed board.

【図6】 バイアホールの断面形状を示す図FIG. 6 is a view showing a sectional shape of a via hole.

【図7】 従来技術の光学処理を示す図FIG. 7 is a diagram showing optical processing according to the related art.

【図8】 残渣がある場合の検知信号の変化を示す図FIG. 8 is a diagram showing a change in a detection signal when there is a residue.

【図9】 検知信号の2値化処理を示す図FIG. 9 is a diagram showing binarization processing of a detection signal.

【図10】 従来技術の論理処理の流れを示す図FIG. 10 is a diagram showing a flow of a logical process of a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 被検体(プリント板) 2 移動ステージ 3 レーザ光源 4 ビームエクスパンダ 5 ミラー 6 回転多面鏡 7 走査レンズ 8 ミラー 9 ビームスプリッタ 10 波長フィルタ 11 光センサ 21 レーザ光 22 反射光 23 蛍光 31 セラミック 32 ポリイミド 33 バイアホール 34 金属層 35 残渣 40 多値化回路 41 2値化領域設定回路 43 バイア有無判定回路 44 形状検査論理回路 45 開口内データ抽出回路 46 総和計測回路 47 総和判定回路 47' 面積判定回路 48 面積計測回路 48' 面積計測回路 49 除算回路 1 Subject (printed board) 2 Moving stage 3 Laser light source 4 Beam expander 5 Mirror 6 Rotating polygon mirror 7 Scanning lens 8 Mirror 9 Beam splitter 10 Wavelength filter 11 Optical sensor 21 Laser light 22 Reflected light 23 Fluorescence 31 Ceramic 32 Polyimide 33 Via hole 34 Metal layer 35 Residue 40 Multi-valued circuit 41 Binarized area setting circuit 43 Via presence / absence judgment circuit 44 Shape inspection logic circuit 45 In-aperture data extraction circuit 46 Sum total measurement circuit 47 Sum total judgment circuit 47 'Area judgment circuit 48 Area Measuring circuit 48 'Area measuring circuit 49 Dividing circuit

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 被検体であるプリント板の表面を仮想的
に画素マトリックスに分割し、該マトリックス全域をレ
ーザ光で走査的に照射してその反射光をセンサに受光
し、該センサからの出力信号を多値ディジタル化するこ
とにより該各画素からの反射光の強度を示す多値形状信
号を得、 該プリント板設計データ中のバイアホール中心データに
基づいて該バイアホール開口領域を設定し、該開口領域
内画素に対応する該多値形状信号を2値化して該開口領
域の2値化パターンを得、 該2値パターンに基づいて該所定位置のバイアホールの
有無の判定と、該開口水平断面形状の適否の判定を行
い、更に該開口領域に対応する画素の該多値信号により
構成される多値化パターンを抽出し、該多値化パターン
に包含される該多値形状信号の和を基準値と比較するこ
とにより該バイアホール内部の残渣の有無を判定するこ
とを特徴とするバイアホール検査方法。
1. A surface of a printed board, which is an object, is virtually divided into a pixel matrix, the entire area of the matrix is scanned and irradiated with laser light, the reflected light is received by a sensor, and the output from the sensor is output. A signal is multi-value digitized to obtain a multi-valued shape signal indicating the intensity of reflected light from each pixel, and the via-hole opening area is set based on the via-hole center data in the printed board design data, The multi-valued shape signal corresponding to the pixels in the opening area is binarized to obtain a binarized pattern of the opening area, the presence / absence of a via hole at the predetermined position is determined based on the binary pattern, and the opening is determined. Whether or not the horizontal cross-sectional shape is appropriate is determined, and a multi-valued pattern composed of the multi-valued signal of the pixel corresponding to the opening area is extracted, and the multi-valued shape signal included in the multi-valued pattern is extracted. The standard value is the sum Via hole inspection method characterized by determining the presence or absence of residue inside the via hole by comparison.
【請求項2】 請求項1のバイアホール検査方法に於い
て、 前記2値化処理によって得た2値パターンに基づくバイ
アホール有無の判定及びその開口水平断面形状の適否の
判定を行うと共に、 該2値パターンから前記開口領域の真に開口された部分
の画素数を求め、前記抽出された多値化パターンから求
めた前記多値形状信号の和を、該画素数で除した商を基
準値と比較することにより該バイアホール内の残渣の有
無を判定することを特徴とするバイアホール検査方法。
2. The via hole inspection method according to claim 1, wherein the presence / absence of a via hole is determined based on the binary pattern obtained by the binarization process, and the appropriateness of the horizontal sectional shape of the opening is determined. The number of pixels in the truly opened portion of the opening area is obtained from the binary pattern, and the quotient obtained by dividing the sum of the multi-valued shape signals obtained from the extracted multi-valued pattern by the number of pixels is a reference value. A method for inspecting a via hole, characterized in that the presence or absence of a residue in the via hole is determined by comparing with.
【請求項3】 請求項1の検査方法を実施する検査装置
であって、(a)被検体であるプリント板の表面にレーザ
光を照射し、該照射光を掃引することにより、該プリン
ト板に仮定した画素マトリックスの各画素からの反射光
を光センサ(11)に受光する光学系(3〜10)と、(b)該セン
サの出力を多値ディジタル信号に変換する手段(40)と、
(c)該プリント板設計データに基づいてバイアホール開
口領域を設定する手段(41)と、(d)該開口領域に包含さ
れる画素に対応する該多値ディジタル信号を2値化して
2値化パターンを得る手段(42)と、(e)該2値化パター
ンに基づいて該バイアホールの有無を判定する手段(43)
及び該2値パターンに基づいて該バイアホールの水平断
面形状の適否を判定する手段(44)と、(f)該開口領域に
包含される画素に対応する該多値ディジタル信号の総和
を求める手段(45,46)と、(g)該総和値を基準値と比較す
ることにより、該バイアホール内の残渣の有無を判定す
る手段(47)を備えて成ることを特徴とするバイアホール
検査装置。
3. An inspection apparatus for carrying out the inspection method according to claim 1, comprising: (a) irradiating a surface of a printed board, which is an object, with a laser beam, and sweeping the irradiated light. An optical system (3 to 10) that receives the reflected light from each pixel of the pixel matrix assumed in (1) to the optical sensor (11), and (b) a means (40) for converting the output of the sensor into a multilevel digital signal. ,
(c) means (41) for setting a via hole opening area based on the printed board design data, and (d) binarizing the multi-valued digital signal corresponding to the pixels included in the opening area into a binary value. Means (42) for obtaining a digitized pattern, and (e) means (43) for determining the presence or absence of the via hole based on the binarized pattern
And means (44) for judging the suitability of the horizontal cross-sectional shape of the via hole based on the binary pattern, and (f) means for obtaining the sum of the multi-valued digital signals corresponding to the pixels included in the opening region. (45, 46), and (g) a via-hole inspection device comprising means (47) for judging the presence or absence of residue in the via-hole by comparing the total value with a reference value. .
【請求項4】 請求項2の検査方法を実施する検査装置
であって、 請求項3のバイアホール検査装置の構成要件(a)〜(f)を
備えると共に、 前記開口領域の真に開口された部分の画素数を求める手
段(48)と、(g')前記(f)の手段によって求めた総和を該
画素数で除した商を基準値と比較することにより、該バ
イアホール内の残渣の有無を判定する手段(49,47)を備
えて成ることを特徴とするバイアホール検査装置。
4. An inspection apparatus for carrying out the inspection method according to claim 2, comprising the constituent features (a) to (f) of the via hole inspection apparatus according to claim 3, wherein the opening area is truly opened. Means (48) for obtaining the number of pixels in the portion and (g ') the residue in the via hole by comparing the quotient obtained by dividing the sum obtained by the means (f) by the number of pixels with a reference value. A via-hole inspection device comprising means (49, 47) for determining the presence or absence of
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000009993A1 (en) * 1998-08-10 2000-02-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Device for inspecting printed boards
JP2008109144A (en) * 2007-11-05 2008-05-08 Toshiba Corp Manufacturing method and inspection method for circuit board
CN110935977A (en) * 2019-12-06 2020-03-31 河北科技大学 Pad positioning and calibrating method and device applied to tin paste smearing equipment
CN112763486A (en) * 2020-11-30 2021-05-07 成都飞机工业(集团)有限责任公司 Composite material wall plate array hole detection method based on line laser scanning

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000009993A1 (en) * 1998-08-10 2000-02-24 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Device for inspecting printed boards
US6633376B1 (en) 1998-08-10 2003-10-14 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Apparatus for inspecting a printed circuit board
KR100423714B1 (en) * 1998-08-10 2004-03-18 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 Device for inspecting printed boards
JP2008109144A (en) * 2007-11-05 2008-05-08 Toshiba Corp Manufacturing method and inspection method for circuit board
CN110935977A (en) * 2019-12-06 2020-03-31 河北科技大学 Pad positioning and calibrating method and device applied to tin paste smearing equipment
CN110935977B (en) * 2019-12-06 2021-05-18 河北科技大学 Pad positioning and calibrating method and device applied to tin paste smearing equipment
CN112763486A (en) * 2020-11-30 2021-05-07 成都飞机工业(集团)有限责任公司 Composite material wall plate array hole detection method based on line laser scanning

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