JPH0611547A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

Info

Publication number
JPH0611547A
JPH0611547A JP4169360A JP16936092A JPH0611547A JP H0611547 A JPH0611547 A JP H0611547A JP 4169360 A JP4169360 A JP 4169360A JP 16936092 A JP16936092 A JP 16936092A JP H0611547 A JPH0611547 A JP H0611547A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
level
input
signal
input buffer
output
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4169360A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Yamauchi
剛 山内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4169360A priority Critical patent/JPH0611547A/ja
Publication of JPH0611547A publication Critical patent/JPH0611547A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【目的】 内部の入力バッファの動作特性が短時間で正
確に測定することができる半導体集積回路を得る。 【構成】 各入力回路2内の入力バッファBFi(i=
1〜n)の入力は、入(出)力ピンPiに直接接続さ
れ、入力バッファBFiの出力はNMOSトランジスタ
Qiのゲートに付与される。NMOSトランジスタQi
は、ソースが接地され、ドレインが共通に測定用配線7
に接続される。測定用配線7は、NMOSトランジスタ
40を介してモニタ用出力端子6に接続される。 【効果】 入力バッファの出力レベルをNMOSトラン
ジスタのオン・オフ状態でモニタすることにより、内部
の入力バッファの動作特性を短時間で正確に測定するこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、入力バッファを介し
て外部入力信号を取り込む半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体集積回路は、製造メーカ
ーにより、正常な動作を保証するための仕様・規格を満
足するか否かの試験が施された後に出荷される。
【0003】図7は、従来の半導体集積回路の入力バッ
ファの動作特性の測定例を示した説明図である。同図に
示すように、半導体集積回路101の入力ピンP11、
P12、…及びP1nに、電圧発生器V1、V2、…及
びVnより発生される電圧がそれぞれ印加される。
【0004】一方、半導体集積回路101の出力ピンP
01、P02、…P0mにはそれぞれコンパレータCP
1、CP2,…CPmの一方入力がそれぞれ接続され
る。そして、これらのコンパレータCP1、CP2…C
Pmの他方入力には、期待値発生回路102の出力が接
続される。これらのコンパレータCP1〜CPmの出力
が判定器103に接続される。
【0005】以下、半導体集積回路内部において、入力
ピンP11〜P1nに接続される入力バッファ(図示せ
ず)の動作特性の測定方法を、入力ピンP11に接続さ
れる入力バッファの動作試験を行う場合を例に挙げて説
明する。
【0006】まず、電圧発生器V1〜Vnから、Hある
いはLレベルのディジタル信号からなるテストパターン
を入力ピンP11〜P1nにそれぞれ出力する。この
際、試験対象の入力バッファに接続される入力ピンに対
してのみ、正規のHレベルを規定する電圧と異なる電圧
を与える。
【0007】つまり、電圧発生器V2〜Vnから、Hレ
ベルを電源電圧VDDとし、Lレベルを接地レベルVSS
したディジタル信号を出力し、電圧発生器V1から、H
レベルを電源電圧VDDより低い電圧に設定し、Lレベル
を接地レベルVSSとしたディジタル信号を出力する。
【0008】このような状態で、所定のビットパターン
からなるテストパターンを、電圧発生器V1〜Vnから
入力ピンP11〜P1nに付与する。すると、テストパ
ターンの付与に伴い半導体集積回路101は動作し、動
作結果が出力ピンP01〜P0mに現れ、コンパレータ
CP1〜CPmの一方入力に付与される。
【0009】同時に、期待値発生回路102から、半導
体集積回路101が正常動作した場合の出力ピンP01
〜P0mに現れる期待値をコンパレータCP1〜CPm
の他方入力に付与する。したがって、半導体集積回路1
01がテストパターンに対し正常動作を行った場合は、
コンパレータCP1〜CPmの出力がすべて一致信号と
なる。
【0010】判定器103は、コンパレータCP1〜C
Pmの出力をチェックし、コンパレータCP1〜CPm
の出力がすべて一致信号であれば、入力ピンP11に接
続される入力バッファは正常動作を行ったと判定する。
【0011】このような状況下で、半導体集積回路が異
常動作を行うまで、入力ピンP11に付与するHレベル
電圧のみを徐々に低下させていく。半導体集積回路が異
常動作を行うと、判定器103により、コンパレータC
P1〜CPmの出力の少なくとも一つから不一致信号が
検出される。したがって、判定器103が不一致信号を
検出した時点における入力ピンP11に付与したHレベ
ル電圧を、入力ピンP11に接続される入力バッファの
Hレベル最低電圧として認識することができる。
【0012】同様にして、他の入力ピンP12〜P1n
に接続される入力バッファのHレベル最低電圧も検出す
ることができる。
【0013】一方、電圧発生器V1から、Hレベルを電
源電圧とし、Lレベルを接地レベルVSSより高い電圧に
設定しディジタル信号を出力するように設定する。そし
て、半導体集積回路が異常動作を行うまで、入力ピンP
11に付与するLレベル電圧のみを徐々に上昇させてい
く。半導体集積回路が異常動作を行うと、判定器103
により、コンパレータCP1〜CPmの出力の少なくと
も一つから不一致信号が検出される。したがって、判定
器103が不一致信号を検出した時点における入力ピン
P11に付与したLレベル電圧を、入力ピンP11に接
続される入力バッファのLレベル最高電圧として認識す
ることができる。
【0014】同様にして、他の入力ピンP12〜P1n
に接続される入力バッファのLレベル最高電圧も検出す
ることができる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体集積回路
の入力ピンに接続される入力バッファの特性(Hレベル
最低電圧,Lレベル最高電圧)を試験する場合、必ず半
導体集積回路を実動作させ、その動作結果を検証するこ
とにより行っていた。このため、試験時間が長期化して
しまうという問題点があった。また、入力ピンに付与す
る接地レベルが不安定な場合、テストパターン周波数が
高いと、入力ピンに正確な電圧を付与することができな
くなるため、試験結果の信頼性が薄れてしまうという問
題点があった。
【0016】この発明は上記問題点を解決するためにな
されたもので、入力端子に接続される内部の入力バッフ
ァの動作特性が短時間で正確に測定することができる半
導体集積回路を得ることを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】この発明にかかる請求項
1記載の半導体集積回路は、複数の入力端子と、前記複
数の入力端子それぞれに対応して設けられ、対応の前記
入力端子に入力部が接続された複数の入力バッファと、
前記複数の入力バッファそれぞれに対応して設けられ、
対応の前記入力バッファの出力のH/Lレベルでオン/
オフが切り換わる1つのトランジスタを有し、該トラン
ジスタのオン/オフに基づき、第1あるいは第2のレベ
ルの信号を検出信号としてそれぞれ出力する複数の検出
手段と、前記複数の検出手段からそれぞれ出力される複
数の検出信号を受け、前記複数の検出信号の少なくとも
1つが第1のレベルの場合に第1の判定信号、前記複数
の検出信号のすべてが第2のレベルの場合に第2の判定
信号を出力する検出信号判定手段と、モニタ用出力端子
と、内部あるいは外部より得られる制御信号並びに前記
第1及び第2の判定信号を受け、該制御信号に従い、前
記第1及び第2の判定信号の前記モニタ用出力端子への
出力の有効/無効を制御するスイッチング手段とを備え
て構成される。
【0018】また、請求項2記載の半導体集積回路は、
内部信号及び他の制御信号を受け、該他の制御信号に従
い、前記内部信号の前記モニタ用出力端子への出力の有
効/無効を制御する他のスイッチング手段をさらに備え
ている。
【0019】
【作用】この発明の半導体集積回路における複数の検出
手段は、複数の入力バッファそれぞれに対応して設けら
れ、対応の入力バッファの出力のH/Lレベルでオン/
オフが切り換わる1つのトランジスタを有し、該トラン
ジスタのオン/オフに基づき、第1あるいは第2のレベ
ルの信号を検出信号としてそれぞれ出力する。したがっ
て、検出手段から出力される検出信号のレベルが第1の
レベルか第2のレベルかを検出することは、対応の入力
バッファの出力の論理レベルであるH、Lレベルを検出
することと等価となる。
【0020】また、検出信号判定手段は、複数の検出信
号の少なくとも1つが第1のレベルの場合に第1の判定
信号、前記複数の検出信号のすべてが第2のレベルの場
合に第2の判定信号を出力する。
【0021】そこで、入力バッファの出力がHレベルの
とき、検出信号が第1のレベルとなり、Lレベルのと
き、検出信号が第2のレベルになる場合を仮定すると、
測定対象外の入力バッファにはLレベルの信号を付与
し、測定対象の入力バッファに電圧レベルを変化させな
がら試験信号を付与することにより、測定対象の入力バ
ッファの出力がHレベルのとき第1の判定信号となり、
測定対象の入力バッファの出力がLレベルのとき第2の
判定信号となるように設定することができる。
【0022】
【実施例】図1はこの発明の実施例の半導体集積回路の
基本的構成を示す回路図である。同図に示すように、各
入力回路2内の入力バッファBFiの入力は、入力ピン
Pi(i=1〜n)に直接接続され、入力バッファBF
iの出力は内部信号SIiとして出力されるとともに、
検出回路3に付与される。なお、入出力ピンPnには、
出力バッファBF′nの出力も接続される。
【0023】各検出回路3の出力は共通に測定用配線7
に接続され、測定用配線7を介してスイッチング回路4
に接続される。スイッチング回路4は、測定用配線7と
モニタ用出力端子6との間に介挿され、制御回路5の制
御下でオン/オフし、測定用配線7に得られる信号のモ
ニタ用出力端子6へ出力の有効/無効を決定する。
【0024】検出回路3は、図2に示すように、1つの
NMOSトランジスタ8で構成することができる。すな
わち、NMOSトランジスタ8のゲートを入力バッファ
BFの出力に接続し、ドレインを測定用配線7に接続
し、ソースを接地する。
【0025】また、検出回路3は、図3に示すように、
1つのPMOSトランジスタ9で構成することもでき
る。すなわち、PMOSトランジスタ9のゲートに入力
バッファBFの出力を接続し、ドレインを測定用配線7
に接続し、ソースを電源VDDに接続する。
【0026】図4は、この発明の第1の実施例の半導体
集積回路の入力バッファ周辺を示す回路図である。同図
に示すように、各入力回路2内の入力バッファBFi
(i=1〜n)の入力は、入(出)力ピンPiに直接接
続され、入力バッファBFiの出力は内部信号SIiと
して出力されるとともに、NMOSトランジスタQiの
ゲートに付与される。なお、入出力ピンPnには出力バ
ッファBF′nの出力も接続される。
【0027】NMOSトランジスタQiは、ソースが接
地され、ドレインが共通に測定用配線7に接続される。
つまり、NMOSトランジスタQ1〜Qnのドレイン出
力は測定用配線7によりワイヤードOR接続される。そ
して、この測定用配線7は、図1のスイッチング回路4
に相当するNMOSトランジスタ40を介してモニタ用
出力端子6に接続される。
【0028】NMOSトランジスタ40のゲートには、
制御回路5の制御信号S5が印加される。制御回路5は
内部信号S50に従い、H,Lレベルの制御信号S5を
出力する。なお、内部信号S50としては、専用の外部
入力端子から直接得られる内部信号、既存の外部入力端
子P1〜Pnのいずれかから得た信号の論理組合せで決
定する内部信号等が考えられる。
【0029】このような構成の半導体集積回路におい
て、入力バッファBFのスレショルド電圧のテスト方法
を、入力ピンP1に接続される入力バッファBF1のス
レショルド電圧をテストする場合を例に挙げて説明す
る。
【0030】まず、Hレベルの制御信号S5を指示する
内部信号50を制御回路5に付与することにより、制御
回路5からHレベルの制御信号S5を発生させ、NMO
Sトランジスタ40をオンさせる。その結果、測定用配
線7に得られる信号がモニタ用出力端子6からモニタ可
能となる。
【0031】そして、入力ピンP2〜Pnには、正規の
Lレベル、すなわち、接地レベルVSSの電圧を与える。
その結果、NMOSトランジスタQ2〜Qnはすべてオ
フする。
【0032】上記設定が終了した後、測定対象である入
力バッファBF1に接続される入力ピンP1に正規のH
レベル、すなわち、電源電圧VDDを与え、以降、入力ピ
ンP1に付与する試験電圧を電源電圧VDDから徐々に低
下させながら、モニタ用出力端子6より得られるモニタ
電圧V6をモニタする。
【0033】入力バッファBF1のスレショルド電圧以
上の電圧が、入力ピンP1に付与されている状態では、
入力バッファBF1の出力がHであり、NMOSトラン
ジスタQ1がオン状態である。したがって、測定用配線
7はLレベルとなり、このLレベルがモニタ電圧V6と
してモニタされることになる。
【0034】そして、入力ピンP1に付与する試験電圧
の低下に伴い、試験電圧が入力バッファBF1のスレシ
ョルド電圧を下回ると、入力バッファBF1の出力がL
に変化し、NMOSトランジスタQ1がオフする。その
結果、測定用配線7の電位が、Lレベルから少し電圧が
上昇した不安定な状態である不定レベルとなり、この不
定レベルがモニタ電圧V6として現れる。
【0035】したがって、モニタ電圧V6をモニタし、
モニタ電圧V6がLレベルから不定レベルに変化した時
の入力ピンP1に付与した試験電圧が測定することによ
り、入力バッファBF1のHレベルスレショルド電圧を
検出することができる。
【0036】このように、測定対象以外の入力バッファ
BFに接続されるすべての入力ピンに正規のLレベルを
付与し、測定対象の入力バッファに接続される入力ピン
に電源電圧VDDから徐々に低下させる試験電圧を付与し
ながらモニタ電圧V6をモニタし、モニタ電圧V6のL
レベルから不定レベルに変化した時の試験電圧を測定す
ることにより、測定対象の入力バッファのHレベルスレ
ショルド電圧を検出することができる。
【0037】また、測定対象以外の入力バッファBFに
接続されるすべての入力ピンに正規のLレベルを付与
し、測定対象の入力バッファに接続される入力ピンに接
地レベル電圧VSSから徐々に上昇させる試験電圧を付与
しながらモニタ電圧V6をモニタし、モニタ電圧V6の
不定レベルからLレベルに変化した時の入力ピンの電圧
を測定することにより、測定対象の入力バッファのLレ
ベルスレショルド電圧を検出することができる。
【0038】これらの入力バッファのHレベルスレショ
ルド電圧及びLレベルスレショルド電圧は、従来例で測
定した入力バッファのHレベル最低電圧及びLレベル最
高電圧と、ほぼ等価な特性である。なお、Hレベルスレ
ショルド電圧及びLレベルスレショルド電圧のうち、一
方のスレショルド電圧を検出するだけでも、入力バッフ
ァの特性検出としては十分である。
【0039】なお、半導体集積回路の通常使用時は、制
御回路5がLレベルの制御信号S5を出力するように、
内部信号S50を付与し、NMOSトランジスタ40を
オフさればよい。
【0040】このように、第1の実施例の半導体集積回
路では、検出回路を内部に備えることにより入力バッフ
ァの出力状態を直接モニタすることができるため、入力
バッファのスレショルド電圧を、半導体集積回路を動作
させることなく、簡単、かつ正確に検出することができ
る。また、入力バッファの出力に1つのNMOSトラン
ジスタのゲートを接続するという、簡単な構成で検出回
路を実現しているため、検出回路を設けたことにより、
半導体集積回路の集積度を損ねることもない。
【0041】図5は、この発明の第2の実施例である半
導体集積回路の入力バッファ周辺を示す回路図である。
同図に示すように、各入力回路2内の入力バッファBF
i(i=1〜n)の入力は、入力ピンPiに直接接続さ
れ、入力バッファBFiの出力は内部信号SIiとして
出力されるとともに、PMOSトランジスタQPiのゲ
ートに付与される。
【0042】PMOSトランジスタQPiは、ソースが
電源VDDに接続され、ドレインが共通に測定用配線7に
接続される。つまり、PMOSトランジスタQP1〜Q
Pnのドレイン出力が測定用配線7によりワイヤードO
R接続される。なお、他の構成は、第1の実施例と同様
であるため、説明は省略する。
【0043】このような構成の半導体集積回路におい
て、入力バッファBFのスレショルド電圧のテスト方法
を、入力ピンP1に接続される入力バッファBF1のス
レショルド電圧をテストする場合を例に挙げて説明す
る。
【0044】まず、Hレベルの制御信号S5を指示する
内部信号50を制御回路5に付与することにより、制御
回路5からHレベルの制御信号S5を発生させ、測定用
配線7より得られる信号がモニタ用出力端子6のモニタ
電圧V6としてモニタ可能な状態に設定する。
【0045】そして、入力ピンP2〜Pnには、正規の
Hレベル、すなわち、電源レベルVDDの電圧を与える。
その結果、PMOSトランジスタQP2〜QPnはすべ
てオフする。
【0046】上記設定が終了した後、測定対象である入
力バッファBF1に接続される入力ピンP1に正規のL
レベル、すなわち、接地レベル電圧VSSを与え、以降、
入力ピンP1に付与する試験電圧を徐々に上昇させなが
ら、出力端子6より得られるモニタ電圧V6をモニタす
る。
【0047】入力バッファBF1のLレベルスレショル
ド電圧以下の電圧が、入力ピンP1に付与されている状
態では、入力バッファBF1の出力がLであり、NMO
SトランジスタQP1がオン状態である。したがって、
測定用配線7はHレベルとなり、このHレベルがモニタ
電圧V6としてモニタされることになる。
【0048】そして、入力ピンP1に付与する試験電圧
の上昇に伴い、試験電圧が入力バッファBF1のLレベ
ルスレショルド電圧を上回ると、入力バッファBF1の
出力がHに変化し、PMOSトランジスタQP1がオフ
する。その結果、測定用配線7の電位がHレベルから低
下した電圧レベルで不安定な状態の不定レベルとなり、
この不定レベルがモニタ電圧V6として現れる。
【0049】したがって、モニタ電圧V6をモニタし、
モニタ電圧V6がHレベルから不定レベルに変化した時
の入力ピンP1に付与した試験電圧を測定することによ
り、入力バッファBF1のLレベルスレショルド電圧を
検出することができる。
【0050】このように、測定対象以外の入力バッファ
BFに接続されるすべての入力ピンに正規のHレベルを
付与し、測定対象の入力バッファに接続される入力ピン
に接地レベル電圧VSSから徐々に上昇させる試験電圧を
付与しながらモニタ電圧V6をモニタし、モニタ電圧V
6のHレベルから不定レベルに変化した時の試験電圧を
測定することにより、測定対象の入力バッファのLレベ
ルスレショルド電圧を検出することができる。
【0051】また、測定対象以外の入力バッファBFに
接続されるすべての入力ピンに正規のHレベルを付与
し、測定対象の入力バッファに接続される入力ピンに電
源電圧VDDから徐々に低下させる試験電圧を付与しなが
らモニタ電圧V6をモニタし、モニタ電圧V6の不定レ
ベルからHレベルに変化した時の入力ピンの試験電圧を
測定することにより、測定対象の入力バッファのHレベ
ルスレショルド電圧を検出することができる。
【0052】なお、第2の実施例の半導体集積回路の通
常使用時は、第1の実施例同様、制御回路5がLレベル
の制御信号S5を出力するように、内部信号S50を付
与させて、NMOSトランジスタ40をオフさせればよ
い。
【0053】このように、第2の実施例の半導体集積回
路では、検出回路を内部に備えることにより入力バッフ
ァ出力状態を直接モニタすることができるため、入力バ
ッファのスレショルド電圧を、半導体集積回路を動作さ
せることなく、簡単、かつ正確に検出することができ
る。また、入力バッファの出力に1つのPMOSトラン
ジスタのゲートを接続するという、簡単な構成で検出回
路を実現しているため、検出回路を設けたことにより、
半導体集積回路の集積度を損ねることもない。
【0054】図6は、この発明の第3の実施例である半
導体集積回路の入力バッファ周辺を示す回路図である。
同図に示すように、制御回路5′は内部信号S50′を
受け、3種類の制御信号S5a、S5b及びS5cをそ
れぞれNMOSトランジスタ40、41及び42のゲー
トに出力する。なお、内部信号S50′としては、専用
の入力端子から直接得られる信号、既存の入力端子P1
〜Pnのいずれかから得た信号の論理組合せで決定する
信号等が考えられる。
【0055】NMOSトランジスタ40は、第1及び第
2の実施例同様、測定用配線7とモニタ用出力端子6と
の間に介挿される。NMOSトランジスタ41は、内部
信号S1とモニタ用出力端子6との間に介挿される。N
MOSトランジスタ42は、内部信号S2とモニタ用出
力端子6との間に介挿される。内部信号S1及びS2
は、それぞれ半導体集積回路の実動作時に内部に発生す
る信号である。
【0056】なお、他の構成は第1の実施例と同様であ
るため、説明は省略する。
【0057】このような構成の第3の実施例の半導体集
積回路において、まず、制御信号S5aのみのHレベル
出力を指示する内部信号50′を制御回路5に付与する
ことにより、制御回路5からHレベルの制御信号S5
a、Lレベルの制御信号S5b及びS5cを発生させ、
NMOSトランジスタ40をオン、NMOSトランジス
タ41及び42をオフさせる。この状態で、測定用配線
7に得られる信号がモニタ用出力端子6からモニタ可能
となる。
【0058】そして、第1の実施例の半導体集積回路と
同様、測定対象以外の入力バッファBFに接続されるす
べての入力ピンに正規のLレベルを付与し、測定対象の
入力バッファに接続される入力ピンに電源電圧VDDから
徐々に低下させる試験電圧を付与しながらモニタ電圧V
6をモニタし、モニタ電圧V6のLレベルから不定レベ
ルに変化した時の入力ピンの試験電圧を測定することに
より、測定対象の入力バッファのHレベルスレショルド
電圧を検出することができる。
【0059】また、測定対象以外の入力バッファBFに
接続されるすべての入力ピンに正規のLレベルを付与
し、測定対象の入力バッファに接続される入力ピンに接
地レベル電圧VSSから徐々に上昇させる試験電圧を付与
しながらモニタ電圧V6をモニタし、モニタ電圧V6の
不定レベルからLレベルに変化した時の入力ピンの試験
電圧を測定することにより、測定対象の入力バッファの
Lレベルスレショルド電圧を検出することができる。
【0060】加えて、実使用時に、制御信号S5aをL
レベルに、制御信号S5b及び制御信号S5cのうち、
一方の制御信号をHレベルに他方の制御信号をLレベル
に設定することを指示する内部信号S50′を制御回路
5′に出力することにより、モニタ出力端子6から、実
動作時に発生する内部信号S1あるいはS2の出力を可
能にする。このように、モニタ出力端子6を実使用時の
出力端子と兼用可能にすることにより、半導体集積回路
の端子数を減らせることができる。
【0061】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の請求項
1記載の半導体集積回路における検出手段は、複数の入
力バッファそれぞれに対応して設けられ、対応の入力バ
ッファの出力のH/Lレベルでオン/オフが切り換わる
1つのトランジスタを有し、該トランジスタのオン/オ
フに基づき、第1あるいは第2のレベルの信号を検出信
号としてそれぞれ出力し、検出信号判定手段は、複数の
検出信号の少なくとも1つが第1のレベルの場合に第1
の判定信号、前記複数の検出信号のすべてが第2のレベ
ルの場合に第2の判定信号を出力する。
【0062】そこで、入力バッファの出力がHレベルの
とき、検出信号が第1のレベルとなり、Lレベルのと
き、検出信号が第2のレベルになる場合を仮定すると、
測定対象外の入力バッファにはLレベルの信号を付与
し、測定対象の入力バッファに電圧レベルを変化させな
がら試験信号を付与することにより、測定対象の入力バ
ッファの出力がHレベルのとき第1の判定信号となり、
測定対象の入力バッファの出力がLレベルのとき第2の
判定信号とすることができる。
【0063】その結果、制御信号によりスイッチング手
段を制御し、第1及び第2の判定信号のモニタ用出力端
子への出力可能にして、モニタ用出力端子から得られる
信号をモニタすることにより、測定対象の入力バッファ
の動作特性であるスレショルド電圧を、半導体集積回路
の動作検証を行うことなく、直接測定することができる
ため、入力端子に接続される入力バッファの動作特性が
短時間で正確に測定することができる効果を奏する。
【0064】また、請求項2記載の半導体集積回路は、
内部信号及び他の制御信号を受け、該他の制御信号に従
い、内部信号のモニタ用出力端子への出力の有効/無効
を制御する他のスイッチング手段をさらに備えている。
【0065】したがって、制御信号と他の制御信号によ
り、スイッチング手段及び他のスイッチング手段のう
ち、一方を有効にし他方を無効にすることにより、モニ
タ用出力端子を、判定信号モニタ用と、内部信号出力用
とに使い分けることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例の半導体集積回路の基本的構
成を示す説明図である。
【図2】この発明の実施例の半導体集積回路の検出回路
の内部構成を示す回路図である。
【図3】この発明の実施例の半導体集積回路の検出回路
の内部構成を示す回路図である。
【図4】この発明の第1の実施例の半導体集積回路の入
力バッファ周辺を示す回路図である。
【図5】この発明の第2の実施例の半導体集積回路の入
力バッファ周辺を示す回路図である。
【図6】この発明の第3の実施例の半導体集積回路の入
力バッファ周辺を示す回路図である。
【図7】従来の半導体集積回路の入力バッファ特性の測
定方法を示す説明図である。
【符号の説明】
3 検出回路 4 スッチング回路 5 制御回路 6 モニタ用出力端子 7 測定用配線 BF1〜BFn 入力バッファ Q1〜Qn NMOSトランジスタ QP1〜QPn PMOSトランジスタ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の入力端子と、 前記複数の入力端子それぞれに対応して設けられ、対応
    の前記入力端子に入力部が接続された複数の入力バッフ
    ァと、 前記複数の入力バッファそれぞれに対応して設けられ、
    対応の前記入力バッファの出力のH/Lレベルでオン/
    オフが切り換わる1つのトランジスタを有し、該トラン
    ジスタのオン/オフに基づき、第1あるいは第2のレベ
    ルの信号を検出信号としてそれぞれ出力する複数の検出
    手段と、 前記複数の検出手段からそれぞれ出力される複数の検出
    信号を受け、前記複数の検出信号の少なくとも1つが第
    1のレベルの場合に第1の判定信号、前記複数の検出信
    号のすべてが第2のレベルの場合に第2の判定信号を出
    力する検出信号判定手段と、 モニタ用出力端子と、 内部あるいは外部より得られる制御信号並びに前記第1
    及び第2の判定信号を受け、該制御信号に従い、前記第
    1及び第2の判定信号の前記モニタ用出力端子への出力
    の有効/無効を制御するスイッチング手段とを備えた半
    導体集積回路。
  2. 【請求項2】 内部信号及び他の制御信号を受け、該他
    の制御信号に従い、前記内部信号の前記モニタ用出力端
    子への出力の有効/無効を制御する他のスイッチング手
    段をさらに備えた請求項1記載の半導体集積回路。
JP4169360A 1992-06-26 1992-06-26 半導体集積回路 Pending JPH0611547A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4169360A JPH0611547A (ja) 1992-06-26 1992-06-26 半導体集積回路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4169360A JPH0611547A (ja) 1992-06-26 1992-06-26 半導体集積回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0611547A true JPH0611547A (ja) 1994-01-21

Family

ID=15885142

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4169360A Pending JPH0611547A (ja) 1992-06-26 1992-06-26 半導体集積回路

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0611547A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0862298A (ja) * 1994-08-26 1996-03-08 Nec Corp 半導体集積回路および検査方法
JPH08114653A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Nec Corp 入力レベル試験回路

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0862298A (ja) * 1994-08-26 1996-03-08 Nec Corp 半導体集積回路および検査方法
JPH08114653A (ja) * 1994-10-14 1996-05-07 Nec Corp 入力レベル試験回路

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3233559B2 (ja) 半導体集積回路のテスト方法および装置
US6441633B1 (en) High resolution (quiescent) supply current system (IDD monitor)
US4841232A (en) Method and apparatus for testing three state drivers
US20030197520A1 (en) Systems and methods for facilitating driver strength testing of integrated circuits
KR100843227B1 (ko) 프로브를 이용한 반도체 메모리 장치의 테스트 방법 및 그방법을 사용하는 반도체 메모리 장치
JP2002359289A (ja) プロセスモニタ回路を備えた半導体装置、その試験方法、並びにその製造方法
CN102770774B (zh) 静态电流(iddq)指示及测试装置和方法
KR100228322B1 (ko) 반도체 집적회로의 검사방법
US11587634B2 (en) Integrated circuit test apparatus
US5343479A (en) Semiconductor integrated circuit having therein circuit for detecting abnormality of logical levels outputted from input buffers
JPH0611547A (ja) 半導体集積回路
US6744271B2 (en) Internal generation of reference voltage
US5826004A (en) Input/output device with self-test capability in an integrated circuit
US6738940B1 (en) Integrated circuit including a test signal generator
JPH0794683A (ja) 自己診断機能を有する半導体集積回路装置
US5963046A (en) Method for detecting and locating open-circuit defects within digital CMOS integrated circuits
US5917333A (en) Semiconductor integrated circuit device with diagnostic circuit using resistor
US20200166567A1 (en) Semiconductor device and method of operating the same
US6737671B2 (en) Current measurement circuit and method for voltage regulated semiconductor integrated circuit devices
JP4043743B2 (ja) 半導体試験装置
JP2907278B2 (ja) 半導体装置及びその試験方法
JP2014163851A (ja) オープン検出端子付き半導体集積回路
JPH0829493A (ja) 半導体集積回路装置
JPH0658981A (ja) Cmos集積回路の電流検出回路
JP3481402B2 (ja) 論理集積回路の試験装置