JPH06109465A - 変位測定装置 - Google Patents

変位測定装置

Info

Publication number
JPH06109465A
JPH06109465A JP4260024A JP26002492A JPH06109465A JP H06109465 A JPH06109465 A JP H06109465A JP 4260024 A JP4260024 A JP 4260024A JP 26002492 A JP26002492 A JP 26002492A JP H06109465 A JPH06109465 A JP H06109465A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
amplifiers
output
displacement
amplifier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4260024A
Other languages
English (en)
Inventor
Kenji Matsumaru
憲司 松丸
Hideto Kondo
秀人 近藤
Nobuaki Takeda
信明 武田
Atsuro Tanuma
敦郎 田沼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Anritsu Corp
Original Assignee
Anritsu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Anritsu Corp filed Critical Anritsu Corp
Priority to JP4260024A priority Critical patent/JPH06109465A/ja
Publication of JPH06109465A publication Critical patent/JPH06109465A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5025Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with ceramic materials
    • C04B41/5037Clay, Kaolin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Measurement Of Optical Distance (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 測定対象からの受光量に大幅な変動があって
も高精度な変位測定を行えること。 【構成】 光源40の光は受光部41の位置検出素子4
1bで受光され、複数の異なる増幅率を有する増幅器A
1,A2,A3,B1,B2,B3に入力される。各増
幅器の出力は、例えば飽和しているもの、低増幅状態の
もの、飽和せず高増幅状態のものとなる。選択手段1
は、予め定められた設定値を設定手段2から読出し、飽
和せず高増幅状態の増幅器を選択し、この増幅器の出力
を後段の演算器に出力する。したがって、減算器43
a,加算器43b、除算器44で構成される演算部は、
常に最適な入力が得られ、測定対象の変位出力を高精度
に行える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、測定対象の変位を光学
的に非接触で測定する変位測定装置に関する。
【0002】
【従来の技術】測定対象からの受光量が箇所により変化
する場合、例えばICのパターンの如く黒色をしたセラ
ミック基板の上に金のパターンが蒸着されたものでは、
黒色をした箇所では受光量が少なくなるので、処理系の
増幅率を上げるとか、投光パワーを上げて測定してい
る。図8は、前記投光部の投光パワーを可変制御する方
式の回路構成図であり、図9は、受光部の処理系の増幅
率を可変制御する方式の回路構成図である。
【0003】これらの図に示す如くLD40a及び投光
レンズ40bにより構成される光源40からは、測定光
が測定対象に投光される。測定対象から反射した光は、
受光部41の受光レンズ41aを介して位置検出素子
(PSD)41bに入力される。
【0004】位置検出素子41bの両端からの出力は、
各々増幅器42a,42bで増幅された後、減算器43
aおよび加算器43bに並列入力される。この後、減算
器43aと加算器43bの出力は除算器44に入力され
除算される。前記加算器43bからは位置検出素子41
による測定対象の受光量出力が得られる。また、除算器
44からは測定対象の位置出力が得られ、これが変位量
として用いられる。
【0005】したがって、図8に示す構成では、加算器
43bの出力に基づき、LD駆動回路45でLD40a
の投光パワーを可変制御し、図9に示す構成では、加算
器43bの出力により増幅器42a,42bの増幅率を
可変制御している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記各
回路構成では、受光量の測定結果、加算器43bの出力
に基づき投光パワーあるいは増幅率を帰還ループにより
可変制御しているため、測定経時中に受光量の大幅な変
動がある場合には、制御した投光パワーあるいは増幅率
が適切ではないため、測定ができなかったり、測定精度
が落ちるという問題が生じた。この問題は、特に測定対
象が高速で移動する場合に生じる。
【0007】本発明は、上記問題点に鑑みてなされたも
のであり、受光量の大幅な変化があっても高精度測定で
きる変位測定装置を提供することを目的としている。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の図1に示す変位測定装置は、測定対象に測
定用の投光ビームを投光する光源40と、測定対象から
反射した光を集光する位置検出素子を有する受光部41
とを有し、演算部の演算により測定対象の変位を測定す
る変位測定装置において、前記位置検出素子からの出力
をそれぞれ異なる増幅率で増幅する複数の増幅器Ak,
Bkと、予め定められた条件により前記増幅器のうち不
飽和で最大増幅率を有する増幅器を選択する選択手段1
と、該選択手段により選択された増幅器の出力に基づき
変位測定のための所定の演算を行う演算部43a,43
b,44とを有することを特徴としている。
【0009】
【作用】光源の投光ビームは、測定対象で反射され受光
部41の位置検出素子41bに入射される。位置検出素
子41bの出力は、異なる増幅率を有する複数の増幅器
Ak,Bkに入力される。このため、各増幅器Ak,B
kは、入力値に対し出力値が異なる状態、すなわち、雑
音レベルと飽和レベルとの間で異なる状態となる。選択
手段1は、飽和せず、最大増幅状態の増幅器Ak,Bk
を選択し後段の演算部43a,43b,44に出力す
る。したがって、位置検出素子41bの出力に大幅な変
動があっても常に安定した出力を演算部に出力でき、演
算部は、変位を正確に演算処理することができ、高精度
な変位測定を行うことができる。
【0010】
【実施例】図1は、本発明の変位測定装置の第1実施例
を示す回路図である。尚、従来例と同一の構成部には同
一符号を付して説明を省略する。光源40のLD40a
からは一定の投光パワーで測定光が測定対象に投光され
る。測定対象から反射した光は受光部41の位置検出素
子41bに入力される。
【0011】位置検出素子41bの一端からの出力は、
増幅器A1,A2,A3に並列入力されているととも
に、他端の出力は増幅器B1B2,B3に並列入力され
る。これら増幅器Ak,Bk(k=1,2,3)は、そ
れぞれ一対が同一の増幅率で設定され、かつ、並列に入
力された各々は増幅率が異なっている。例えば、増幅器
A1,B1は最も大きな増幅率(入力×100倍の出
力)を有し、A3,B3は最も小さな増幅率(入力×1
0倍)とされる。
【0012】各増幅器Ak,Bkの後段には、選択手段
1が設けられる。選択手段1は、後述する手順でいずれ
か一対の増幅器Ak,Bkの出力を選択し、後段に出力
するSWからなる切換手段と、増幅器Ak,Bkの出力
と設定値Hとの出力を判断する判別手段から構成されて
いる。この判別手段は、例えば、入力−出力間のアナロ
グ信号の一部を用いデジタル化して判別処理する構成と
され、このための入力値の一時格納用、及び演算用にC
PUとメモリを有して構成されている。この選択手段1
には、設定手段2の設定値Hが供給される。この設定値
Hは、増幅器Ak,Bkが飽和しない最大値の値として
設定される。
【0013】選択手段1で選択された一対の出力は、減
算器43aおよび加算器43bに並列入力される。この
後、減算器43aと加算器43bの出力は除算器44に
入力され除算される。前記加算器43bからは位置検出
素子41による測定対象の受光量出力が得られる。ま
た、除算器44からは測定対象の位置出力が得られ、こ
れが変位量として用いられる。
【0014】前記選択手段1は、図2に示す処理フロー
チャートに従い選択動作する。まず、最大の増幅率であ
るk=1の増幅器A1,B1を選択し(SP1)、これ
ら増幅器A1,B1の出力と設定手段2の設定値Hとを
比較判断する(SP2)。この結果、設定値Hより小さ
い場合には、増幅器A1,B1が飽和していないと判断
し、この増幅器A1,B1の出力を後段に出力し、位置
出力のための演算が行われる。
【0015】また、SP2にて増幅器A1,B1の出力
が設定値Hより大きい場合には、この増幅器A1,B1
が飽和していると判断して、この増幅器A1,B1より
増幅率が小さなk=2の増幅器A2,B2を選択させる
(SP4)。この増幅器A2,B2が設定値Hより小さ
い場合には、増幅器A2,B2が後段に出力され、一
方、増幅器A2,B2が設定値Hより大きな場合には最
小増幅率k=3の増幅器A3,B3が選択され、後段に
供給される。
【0016】このようにして、選択手段1は、増幅器A
k,Bkのうち飽和しておらず、かつ入力が最も大きく
増幅された増幅器Ak,Bkを選択して後段に供給する
ため、位置検出すなわち、変位測定のための後段での演
算を高精度化することができる。尚、上記実施例では、
選択手段1の処理フローにおいて、最大増幅率の増幅器
A1,B1から最小増幅率の増幅器A3,B3を順次判
断する構成としたが、逆に最小増幅率の増幅器A3,B
3から先に判断し、飽和していない場合に次に大きな増
幅率を有する増幅器A2,B2、さらに増幅器A1,B
1の増幅器へと順次判断する構成とすることもでき、こ
の場合でも上記実施例同様の作用効果を得られる。
【0017】次に、図3は本発明の第2実施例を示す回
路図である。この実施例では、光源40のLD40a
は、LD駆動回路5で強度変調する構成である。すなわ
ち、LD40aの投光パワーαは図4(a)のタイミン
グチャートに示す如く、所定周期で矩形波に強度変調さ
れている。この投光パワーαの出力は、選択手段4に出
力される。
【0018】また、受光部41の位置検出素子41bの
出力は、それぞれローパスフィルタ(LPF)6a,6
bを介して前記増幅器Ak,Bkに出力されている。こ
のLPF6a,6bの出力は、加算器7に出力されてお
り、この加算器7により、位置検出素子41bで受光さ
れた受光量情報β1 が得られ、選択手段4に出力されて
いる。
【0019】選択手段4は、投光パワーαと受光量情報
β1 に基づき、以下の判断処理を行う。受光部41の位
置検出素子41bで検出される受光量情報β1 は、LP
F6a,6bを介して得られるため、図4(b)に示す
如く投光パワーαに対応しつつ、所定の応答特性を有し
て経時的に変化している。尚、受光量は各矩形波毎に大
きさが異なっており、これは測定対象が移動して測定面
の反射量が異なる状態とされている。
【0020】すなわち、受光量情報β1 の立ち上がり時
の出力は、β1 =I・f(t)で表される。(但し、
I:立ち上がりからt時間経過後の受光量,f(t):
インディシャル応答を示す式) このf(t)は、測定器の伝達関数により定まるもので
あり、本実施例の測定器の伝達関数が2次遅れ要素で、
減衰係数ζが1未満であると、インディシャル応答は次
式で表される。
【0021】
【数1】
【0022】
【数2】
【0023】wn :固有周波数である。 これにより、I=f(t)/β1 より安定状態での受光
量を求めることができ、投光パワーαの信号がON後に
t時間経過した時の出力により、この投光パワーαの安
定状態の受光量を推定できることになる。
【0024】したがって、選択手段4は、この安定状態
での受光量に対応して飽和せず、かつ最も増幅できる増
幅器Ak,Bkを選択し、切換手段8を切り換えてその
出力を後段に供給することができる。
【0025】尚、上記の例は、光源からの光を矩形波で
強度変調した場合を示したが、sin波で強度変調した
場合も同様に立ち上がり途中の受光量出力から、安定状
態でのレベルを求めることができる。
【0026】次に、図5は本発明の第3実施例を示す回
路図である。この実施例では、光源40のLD40a
は、測定対象に対し変調しない光を投光する。また、受
光部41の位置検出素子41bの出力は、それぞれロー
パスフィルタ(LPF)6a,6bを介して前記増幅器
Ak,Bkに出力されている。このLPF6a,6bの
出力は、加算器7に出力されており、この加算器7によ
り、位置検出素子41bで受光された受光量情報β2 が
得られ、選択手段10に出力されている。
【0027】選択手段10は、受光量情報β2 に基づ
き、以下の判断処理を行う。受光部41の位置検出素子
41bで検出される受光量情報β2 は、LPF6a,6
bを介して得られるため、図6に示す如く測定対象が移
動して測定面の反射量が異なる状態に対応して雑音成分
がカットされた状態で経時的に変化する。
【0028】選択手段10は、所定の周期でこの受光量
情報をサンプリングするが、サンプリングのt1 時間前
の受光量β2 の微分値からこのサンプリング時の受光量
β2を判断し、この受光量β2 に対応した増幅器Ak,
Bkを選択する。選択された増幅器Ak,Bkの出力
は、切換手段8により後段に供給される。
【0029】尚、選択手段10は、サンプリング前のt
2 〜t1 への受光量β2 の変化量に基づいてサンプリン
グ時の受光量β2 を判断する構成とすることもできる。
【0030】次に、図7は本発明の第4実施例を示す回
路図である。この実施例では、前記第1実施例と同様な
回路構成をとりつつ、光源40に対し一対の受光部4
1,47が配置された構成である。受光部47は、前記
受光部41と同様に受光レンズ47aおよび位置検出素
子47bで構成されている。したがって、測定対象に投
光されたLD40aの光は、対称位置に設けられた一対
の受光部41,47で受光される。ここで、受光部41
は基準の受光部とされ、受光部47は調整側の受光部と
されている。
【0031】位置検出素子41bの一端および位置検出
素子47bの他端の出力は、加算器50で加算された
後、前記増幅器Akに入力されている。一方、位置検出
素子41bの他端および位置検出素子47bの一端の出
力は、それぞれ抵抗器からなる利得調整器52a,52
bを介して加算器51に入力された後、前記増幅器Bk
に入力されている。
【0032】利得調整器52a,52bは、抵抗値の調
整により、調整側の受光部47の利得を基準側の受光部
41と同一可変自在である。増幅器Ak,Bkの出力
は、前記選択手段1により設定手段2の設定値と比較さ
れ、飽和していない増幅器Ak,Bkの出力が切換えら
れて後段に出力される。
【0033】
【発明の効果】本発明の変位測定装置によれば、受光部
の位置検出素子の出力は、複数の異なる増幅率の増幅器
で増幅され、かつ、選択手段で最適ないずれかを選択出
力する構成であるため、測定対象の受光量に大幅な変動
があっても常に正確な変位測定を行うことができる効果
を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の変位測定装置の第1実施例を示す回路
図。
【図2】同第1実施例に示す装置の動作を示す処理フロ
ーチャート。
【図3】本発明の第2実施例を示す回路図。
【図4】(a)は、同第2実施例の投光パワーを示すチ
ャート。(b)は、同第2実施例の受光量を示すチャー
ト。
【図5】本発明の第3実施例を示す回路図。
【図6】同第3実施例の受光量を示すチャート。
【図7】本発明の第4実施例を示す回路図。
【図8】従来の変位測定装置の投光パワーを可変する方
式の回路構成図。
【図9】従来の変位測定装置の処理系の増幅率を可変す
る方式の回路構成図。
【符号の説明】
1,4,10…選択手段、2…設定手段、5…LD駆動
回路、8…切換手段、40…光源、41,47…受光
部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田沼 敦郎 東京都港区南麻布五丁目10番27号 アンリ ツ株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 測定対象に測定用の投光ビームを投光す
    る光源(40)と、測定対象から反射した光を集光する
    位置検出素子を有する受光部(41)とを有し、演算部
    の演算により測定対象の変位を測定する変位測定装置に
    おいて、 前記位置検出素子からの出力をそれぞれ異なる増幅率で
    増幅する複数の増幅器(Ak,Bk)と、 予め定められた条件により前記増幅器のうち不飽和で最
    大増幅率を有する増幅器を選択する選択手段(1,4,
    10)と、 該選択手段により選択された増幅器の出力に基づき変位
    測定のための所定の演算を行う演算部と、を有すること
    を特徴とする変位測定装置。
JP4260024A 1992-09-29 1992-09-29 変位測定装置 Pending JPH06109465A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4260024A JPH06109465A (ja) 1992-09-29 1992-09-29 変位測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4260024A JPH06109465A (ja) 1992-09-29 1992-09-29 変位測定装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06109465A true JPH06109465A (ja) 1994-04-19

Family

ID=17342248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4260024A Pending JPH06109465A (ja) 1992-09-29 1992-09-29 変位測定装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06109465A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000329859A (ja) * 1999-05-17 2000-11-30 Sekisui Chem Co Ltd 探査装置
JP2003139513A (ja) * 2001-11-01 2003-05-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学計測装置、及び光学計測方法
WO2012032805A1 (ja) * 2010-09-10 2012-03-15 オムロン株式会社 変位センサ
JP2018151209A (ja) * 2017-03-10 2018-09-27 株式会社ミツトヨ 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63154911A (ja) * 1986-12-19 1988-06-28 Tokyo Keiki Co Ltd 路面計測装置
JPS63255610A (ja) * 1987-04-12 1988-10-21 Hamamatsu Photonics Kk 距離検出装置
JPH03209121A (ja) * 1990-01-11 1991-09-12 Omron Corp 変位測定装置
JPH05209717A (ja) * 1992-01-23 1993-08-20 Nec Corp 半導体位置検出素子信号処理回路

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63154911A (ja) * 1986-12-19 1988-06-28 Tokyo Keiki Co Ltd 路面計測装置
JPS63255610A (ja) * 1987-04-12 1988-10-21 Hamamatsu Photonics Kk 距離検出装置
JPH03209121A (ja) * 1990-01-11 1991-09-12 Omron Corp 変位測定装置
JPH05209717A (ja) * 1992-01-23 1993-08-20 Nec Corp 半導体位置検出素子信号処理回路

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000329859A (ja) * 1999-05-17 2000-11-30 Sekisui Chem Co Ltd 探査装置
JP2003139513A (ja) * 2001-11-01 2003-05-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学計測装置、及び光学計測方法
WO2012032805A1 (ja) * 2010-09-10 2012-03-15 オムロン株式会社 変位センサ
JP2012058125A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Omron Corp 変位センサ
CN102803896A (zh) * 2010-09-10 2012-11-28 欧姆龙株式会社 位移传感器
EP2615414A1 (en) * 2010-09-10 2013-07-17 Omron Corporation Displacement sensor
US8773668B2 (en) 2010-09-10 2014-07-08 Omron Corporation Displacement sensor
EP2615414A4 (en) * 2010-09-10 2014-09-17 Omron Tateisi Electronics Co SHIFTING SENSOR
JP2018151209A (ja) * 2017-03-10 2018-09-27 株式会社ミツトヨ 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS62121934A (ja) 集束装置
EP0725490A3 (en) Control apparatus for recording and reproducing apparatus
EP0458319B1 (en) Servo system for optical recording reproducing drive
EP0229925B1 (en) Recorded data reproducing apparatus
JPH06109465A (ja) 変位測定装置
JPH06111329A (ja) 光学装置のレーザー電力制御システム
JP4263591B2 (ja) 光ディスク装置及びそのディスク記録再生方法
JP3974670B2 (ja) 光学式変位測定装置
JPH07320270A (ja) 光学式情報記録再生装置
JPS6122443A (ja) 光デイスク装置の自動利得制御装置
JPS5842946Y2 (ja) 可動材料の速度および/あるいは長さを測定するための装置
JPH09274725A (ja) トラッキングサーボゲイン自動調整回路とその方法
JP2968423B2 (ja) 光電センサおよびその受光信号レベルの補正方法
JPH06111353A (ja) 迷光キャンセル回路
JPH11237208A (ja) 変位測定装置
JP2816264B2 (ja) 変位測定装置
JP2000516377A (ja) 光学記録媒体に書き込む方法および装置
JPH04132022A (ja) Cdドライブ装置
JP2000311372A5 (ja) 光出力制御装置及び記録媒体駆動装置
JP3127010B2 (ja) 測距装置
WO2003096328A1 (fr) Dispositif de traitement de signaux d'un dispositif a disque
JPH03102220A (ja) レベル測定器
JPH07301512A (ja) 変位測定装置
JPH05159404A (ja) 光ピックアップ装置
JPH0642964A (ja) 変位センサ