JPH06103362B2 - 改良されたホログラフィックノッチフィルター - Google Patents

改良されたホログラフィックノッチフィルター

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JPH06103362B2
JPH06103362B2 JP2161496A JP16149690A JPH06103362B2 JP H06103362 B2 JPH06103362 B2 JP H06103362B2 JP 2161496 A JP2161496 A JP 2161496A JP 16149690 A JP16149690 A JP 16149690A JP H06103362 B2 JPH06103362 B2 JP H06103362B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は反射ホログラフィ光学的要素に関し、更に詳し
くは、反射ホログラフィミラーを含有するように像形成
されたフォトポリマーフィルムを用いる改良ホログラフ
ィックノッチフィルターに関するものである。
軍事状況では、人間の眼やセンサーの如き感度のよい光
学器械は損傷を与えるレーザー照射から保護する必要が
ある。この損傷は攻撃用のレーザーで故意になされ得る
し、或いは測距儀、標的装置および測定装置に使用した
レーザーから不注意になされるものである。非軍事状況
では、レーザーを含む装置の近くで作業する人またはそ
れを用いる人に対してレーザー照射から保護する必要が
ある。その照射はスペクトルの紫外、可視或いは赤外域
にある。
実際にはこれらの保護フィルターは、選択された波長で
の高い光学濃度、選択された帯域以外での最大の透過度
および優れた光学特性を有していなければならない。フ
ィルターの最大拒否（reject）は拒否すべき波長に厳密
に対応するものでなければならない。スペクトルの残り
の部分はフィルターを通過するのでスペクトルの狭い選
択された領域の強い反射により個々のレーザー光線から
保護されたしかもフォトピック透過または線感度がよく
なる。
多くの状況において、フィルターは幾つかの波長から保
護されていることが必要である。実際面ではフィルター
は広範囲の入射角から保護することがしばしば必要であ
る。これはフィルターの適切な設計と十分な帯域幅を使
用して行われる。一般に、設計、角帯域幅およびフォト
ピック透過の間に交換条件が存在する。
光学的要件に加えて、熟練を要する環境安定技術が必要
とされる。フィルターは広い範囲の環境条件でその光学
特性を変化してはならないのである。
また、フィルターはポリカーボネートの様なプラスチッ
クや種々のガラスを含めての種々の基体と適合すること
が望ましい。ポリカーボネートは軽量でまた防弾性があ
るので軍事用として好ましい基体である。
最近のフィルター技術としては吸収染料、フォスフェー
トガラス、誘電染料および反射ホログラフィ光学要素が
ある。吸収染料には幾つかの欠点即ち広い吸収幅に起因
するフォトピック透過の減少およびフォトブリーチング
および／または光崩壊に起因する吸収の減少が存在す
る。フォスフェートガラスは可視スペクトルの極く限ら
れた領域に有用であるので可視および赤外レーザー照射
に対して保護を与えるフィルターの作製には使用できな
い。誘電染料および反射ホログラフィ光学要素は高い光
学濃度と狭い帯域除去という利点を与える。しかしなが
ら、誘電染料は高価で製造が困難であり、複雑な光学表
面に容易に結合することができない。また反射ホログラ
フィ光学要素によって複素屈折性の設計ができるという
別の利点が得られる。この設計は広い範囲の入射角から
の保護を与えるが誘電塗料または他のタイプのフィルタ
ーではできない。
現在では重クロム酸ゼラチンは、その高回折効率や低ノ
イズ特性により反射ホログラフィ光学要素の製造に適し
た材料である。しかしながらこの材料は保存寿命が悪く
そして湿式処理を必要とする。湿式処理を行うとその間
にゼラチンの膨張と収縮によってホログラフィックノッ
チフィルターが変化し、その結果その光学特性を変化さ
せそして光学収差をもたらす。したがって、重クロム酸
ゼラチンを用いて高品質のホログラフィックノッチフィ
ルターを再現性よく製作することは困難でありかつ時間
がかかる。さらに、ゼラチンは湿気に敏感であるため、
ホログラフィックノッチフィルターは湿気が入らぬよ
う、密封しなくてはならない。ポリカーボネート或いは
他のプラスチック物質を使用する時、その湿分多孔性に
より、密封は特に困難である。また、重クロム酸ゼラチ
ンは１つ以上のレーザー光線を拒否するフィルターに必
要とされる多層形状でポリカーボネートに被覆すること
は困難である。実質的に固体の、フォトポリマーフィル
ムはこれまでホログラムの作製のために提案されてい
る。例えば、米国特許第3,658,516号明細書には、ホロ
グラフィ情報を有するコヒーレント照射源に単一露光す
ることによって永久屈折率像を得る一段法によって固体
の光重合性フィルムから安定な、高解像ホログラムを製
造することが記載されている。このようにして形成され
たホログラフィ像はその後の均一露光によって破壊され
るのではなくむしろ定着或いは強化される。
この材料の多くの利点が前記米国特許によって提案され
たにも拘わらず、それらは限定されたホログラフィ応答
を与え、そしてその用途は像形成材料を透過した光によ
ってホログラフィ像が見える透過ホログラムに限定され
ている。さらに、上記米国特許で提案された材料は反射
ホログラムを形成するように像形成されたときにほとん
どまたはまったく反射効率を有しない。
したがって、改良されたレーザー保護フィルター用材
料、特にホログラフィックノッチフィルター用材料がた
えず必要とされている。これらの材料は優れた光学特性
とホログラフィ特性を有し、再現性あるホログラフィッ
クミラーの製作を容易にし、ガラスおよびポリカーボネ
ートを含めて種々の基体と適合しそして優れた環境安定
性を有しなければならない。さらに、これらは別の基体
に像形成させ、最終の基体に転写しそして最終基体に直
接像形成できなければならない。また、それらは多層形
状で被覆またはラミネートすることができなければいけ
ない。
そこで、特定のフォトポリマーフィルムをコヒーレント
光で像形成させてホログラフィックミラーを作製する場
合はそれは0.01より大きい屈折率変調を有し、そしてホ
ログラフィックノッチフィルターの使用に特に適してい
ることがわかった。従って、本発明によれば、反射ホロ
グラムによって形成されたミラーを有する透明ポリマー
フィルムを有する透明基体からなり、前記フィルムは約
0.01より大きい屈折率変調を有しそして （ａ）ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、それら
の主要部分を含む共重合体およびこれらの混合物よりな
る群から選ばれた約25〜75％の重合体バインダー、 （ｂ）カルバゾール含有単量体およびフェニル、ビフェ
ニル、フェノキシ、ナフチル、ナフチルオキシ、３個ま
での芳香環を含むヘテロ芳香族基、塩素および臭素を１
個またはそれ以上有する液体単量体よりなる群から選ば
れた約５〜60％のエチレン系不飽和単量体、 （ｃ）約０〜25％の可塑剤および （ｄ）約0.1〜10％の活性線照射によって活性化されう
る光開始剤系、 （前記の％はフィルムの全重量にもとづく重量％であ
る） より本質的になる組成物をコヒーレント光に露光するこ
とによって形成されたホログラフィックノッチフィルタ
ーが提供される。
有効なホログラフィックノッチフィルターに必要とされ
る光学濃度はその用途、照射源のパワー、および拒否さ
れる波長によって変動するが、拒否される波長で約２
（99％反射）、好ましくは少なくとも３（99.9％反射）
またはそれ以上の光学濃度を有するホログラフィックノ
ッチフィルターが特に有用である。
一般に、フィルムはポリカーボネート或いはガラスのよ
うな永久基体はラミネートされる前にコヒーレント照射
によって像形成されるが、所望によりラミネーションの
後に像形成してもよい。ラミネーションは一般に、熱お
よび／または圧力を加えて行われる。また、所望によ
り、透明接着剤を用いてフィルムを基体に永久結合させ
ることができる。オーバーコートまたは保護層を付加し
てフィルムを摩耗による損傷から保護することができ
る。
本発明の実施に当たって、後述の感光性組成物はホログ
ラフィックノッチフィルターに加工されるので、それは
組成物に構造上の一体性を与える透明支持体に流し込む
かあるいはラミネートされる（本明細書中で「フィル
ム」と称される）。感光性フィルムは典型的には厚さが
１〜100μｍであるのでホログラフィックミラーを形成
する干渉縞の間隔に影響を与えるフィルムの破壊、或い
は加工中の伸びまたは歪を防止するために支持体が必要
である。
また、支持体は、フィルムがその永久取付け面、例えば
眼鏡のレンズ或いはヘルメットのバイザーのような非平
面基体と接触されるときにフィルムから分離しない位十
分に可撓性でなければならない。永久取付け面がガラス
シートの如く平面であれば、可撓性が小さいことが必要
であろう。有利に選択することのできる透明支持体の例
としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリ
メチルメタクリレート、ポリカーボネートおよびセルロ
ーストリアセテートがあげられる。
重合体フィルム 重合体フィルムは実質上固体で、透明であってそしてそ
れが結合される面（例えば、眼鏡のレンズ、センサーの
レンズ、ガラスシート等）と緊密接触できる位十分に可
撓性である。フィルムの成分はバインダー、エチレン系
不飽和単量体、場合により可塑剤および光開始剤系を包
含する。後述するようにコヒーレント照射に露光する
と、露光部分の単量体は重合する。フィルムは実質上固
体であるが、活性線照射への最終均一露光によって、或
いは高められた温度での熱処理によって定着されるまで
コヒーレント照射に露光の間、およびその後に成分は相
互拡散するのである。
フィルムは典型的に約１〜100μｍの厚さを有する。一
般に、これより薄いフィルムは有用な光学濃度を達成し
ない。フィルムが所定の波長および所定の角度で反射す
る（即ち、さえぎる）照射量はフィルムの厚さおよび屈
折率変調および光学的設計によって決定される。したが
って、ホログラムの厚さは用途と保護が望まれる照射源
のパワーに合わせる。一般により厚いフィルムとより高
い屈折率変調を有するフィルムは高出力の照射源からの
保護または大きいアンギュラーカバレージを与えるよう
に選択される。
バインダー バインダーは実質的にドライな光重合性フィルムまたは
層の物性に影響を与える最も重要な成分である。バイン
ダーは露光前には単量体および光開始剤系のマトリック
スとして作用しそして露光後はホログラフィックミラー
を形成するのに必要とされる物性および屈折率特性に寄
与するのである。屈折率の他に、凝集性、接着性、可撓
性、混和性および引っ張り強さが、特別な用途用のバイ
ンダーを選択する際に考慮すべき性質のうちのいくつか
のものである。本発明の実施にあたって有利に選択でき
るバインダーとしては、ポリビニルアセテート、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルホ
ルマール、それらの主要セグメントを含む共重合体およ
びそれらの混合物があげられる。
これらの材料の重合体はバインダーの化学的または器械
的性質を改質するコモノマーまたは置換基を含有してい
てもよい。例えば、エチルビニルエーテルは溶解度、相
容性、接着性、可撓性または硬度のような重合体の性質
を変性する単量体と共重合させてもよい。
また、バインダー重合体に結合される弗素の介在はフィ
ルムがホログラフィにより像形成された後、得られる屈
折率変調値を向上することがわかった。弗素はバインダ
ーとのエステル化、アセタール化、ケタール化或いは縮
合反応によって導入されるか、或いはより好都合には慣
用のフリーラジカル重合技術を使用して過弗素化単量
体、弗化ビニルまたは弗化ビニリデンのような単量体を
共重合させることによって導入できる。ビニルアセテー
ト、テトラフルオロエチレンおよび／またはヘキサフル
オロプロピレンの共重合体およびターポリマーのような
弗素含有バインダーは、0.06〜0.075のような高屈折率
変調が望まれる場合に有利なものとして選択することが
できる。
単量体 フィルムは、バインダーの屈折率と実質的に異なる屈折
率を有する重合体物質を形成するように遊離基開始付加
重合し得る少なくとも１個のエチレン系不飽和単量体を
含有する。この単量体は通常末端に不飽和基を含有す
る。通常、液体単量体が選択されるが、固体単量体は単
独で或いは１個またはそれ以上の液体単量体と組み合わ
せて有利に使用できる。ただし、この固体単量体は実質
上固体のフィルム組成物中で相互拡散できるものであ
る。
本発明実施に有用なエイレン系不飽和単量体は固体のエ
チレン系不飽和カルバゾール単量体（例えばＮ−ビニル
カルバゾール）および／または100℃以上の沸点を有す
る付加重合可能な液体のエチレン系不飽和化合物であ
る。この単量体はフェニル、ビフェニル、フェノキシ、
ナフチル、ナフチルオキシおよび３個までの芳香環を含
むヘテロ芳香族基、塩素および臭素のいずれかを含有す
る。単量体は上記の部分を少なくとも１個を含有しそし
て、上記基の同じまたは異なった部分を２個またはそれ
以上含有していてもよい。上記の基と均等なものは置換
分が、低級アルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、シア
ノ、フェニル、フェノキシ、カルボキシ、アルボニル、
アミノ、アミド、イミド、或いはそれらの組合せであ
る、置換された基である。ただし単量体は液体のままで
ありそして光重合性層中で相互拡散できる。
好ましい液体単量体は２−フェノキシエチルアクリレー
ト、２−フェノキシエチルメタクリレート、フェノール
エトキシレートモノアクリレート、２−（ｐ−クロロフ
ェノキシ）エチルアクリレート、ｐ−クロロフェニルア
クリレート、フェニルアクリレート、２−フェニルエチ
ルアクリレート、２−（１−ナフチルオキシ）エチルア
クリレート、ｏ−ビフェニルメタクリレート、ｏ−フェ
ニルアクリレートおよびこれらの混合物である。
本発明に有用な大抵の単量体は液体であるが、それらは
１個またはそれ以上のエチレン系不飽和固体単量体と混
合して用いてもよい。これらの固体単量体の例としては
H.Kamogawa等〔Jou-rnal of Polymer Science;Polymer
Chemiotry Edition,Vol.18（1979）p.8〜18〕に開示さ
れたエチレン系不飽和カルバゾール単量体、２−ナフチ
ルアクリレート、ペンタクロロフェニルアクリレート、
2,4,6−トリブロモフェニルアクリレート、ビスフェノ
ールＡジアクリレート、２−（２−ナフチルオキシ）エ
チルアクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、ｐ−ビフ
ェニルメタクリレート、２−ビニルナフタレン、２−ナ
フチルメタクリレート、Ｎ−フェニルメタクリルアミド
およびｔ−ブチルフェニルメタクリレートがある。
カルバゾール部分の窒素原子に結合されたビニル基を含
有するエチレン系不飽和カルバゾール単量体は典型的に
は固体である。この種の適当な単量体にはＮ−ビニルカ
ルバゾールおよび3,6−ジブロモ−９−ビニルカルバゾ
ールがある。エチレン系不飽和単量体の特に好適な混合
物は上記液体単量体の１個またはそれ以上特に２−フェ
ノキシエチルアクリレート、フェノールエトキシレート
モノアクリレート、エトキシル化ビスフェノールＡジア
クリレートまたはそれらの混合物と組合せたＮ−ビニル
カルバゾールを含む。
フォトポリマーの架橋が望まれるならば、末端エチレン
系不飽和基を２個またはそれ以上有する少なくとも１個
の多官能単量体の約５重量％までを組成物中に含有させ
てもよい。多官能単量体は、組成物の他の成分と相容性
でなければならず好ましくは液体である。適当な多官能
単量体にはビスフェノールＡのジ−（２−アクリルオキ
シエチル）エーテル、エトキシル化ビスフェノールＡジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、などが
ある。本発明の組成物の使用にとって好ましい架橋剤
は、エトキシル化ビスフェノールＡジアクリレートであ
る。
光開始剤系 開始剤系は活性線照射によって活性化された時に、遊離
基を直接供給する１個またはそれ以上の化合物を含むも
のである。「活性線照射」とは、単量体物質の重合を開
始するのに必要な遊離基を生成するのに活性な照射を意
味する。また、開始剤系は複数の化合物を含むことがで
き、そのうちの１つは別の化合物すなわち照射により活
性化された増感剤によってそうさせられた後、遊離基を
生成する。本発明の実施するに有用な光開始剤系は典型
的には光開始剤および近紫外、可視および／または近赤
外スペクトル域にスペクトル応答を拡大する増感剤を含
む。多数の遊離基発生化合物を本発明の実施に利用する
ことができる。レドックス系、特に染料例えばローズベ
ンガル/2−ジブチルアミノエタノールを含むものを用い
てよい。光重合を開始させるために光還元性染料や還元
剤、フェナジン、オキサジンおよびキノン級の染料、ケ
トン、キノン、米国特許第4,772,541号に開示された染
料−ボートレート錯体、米国特許第4,743,531号に開示
された染料増感アジニウム塩染料および米国特許第4,77
2,534号および同第4,774,163号に開示されたトリクロロ
メチルトリアジンを用いることができる。染料増感によ
る光重合に関する有用な記述が「Adv. in Photochemist
ry,Vol.13,p.427〜487」（Wiley-Interscience,New Yor
k,1986）の「Dye Sensitized Photopo-lymerization」
にする。
好ましい開始剤系は、連鎖移動剤または水素供与体と組
合された2,4,5−トリフェニルイミダゾリルダイマーお
よびそれらの混合物であって、可視増感剤によって増感
されたものである。好ましい2,4,5−トリフェニルイミ
ダゾリルダイマーにはCDM-HABI即ち２−（ｏ−クロロフ
ェニル）−4,5−ビス（ｍ−メトオキシフェニル）−イ
ミダゾールダイマー、o-Cl-HABI即ち1,1′−ビイミダゾ
ール、2,2′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−4,4′,5,
5′−テトラフェニル−およびTCTM-HABI即ち1H−イミダ
ゾール、2,5−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４−〔3,4
−ジメトキシオキシフェニル〕−ダイマーを有し、それ
ぞれは典型的には水素供与体と共に使用される。
好ましい増感剤には米国特許第3,652,275号に開示され
たビス（ｐ−ジアルキルアミノベンジリデン）ケトンお
よび米国特許第4,162,162号に開示されたアリーリデン
アリールケトンがある。特に好ましい増感剤には次のも
のがある。DEAW即ちシクロペンタノン、2,5−ビス〔４
−（ジエチルアミノ）フェニル〕メチレン〕−、CAS 38
394-53-5、JAW、即ちシクロペンタノン、2,5−ビス
〔（2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ〔i,j〕キ
ノリジン−１−イル）メチレン〕−；シクロペンタノ
ン、2,5−ビス〔２−（1,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメ
チル−2H−インドール−２−イリジン）エチリデン〕、
CAS 27713-85-5;およびシクロペンタノン、2,5−ビス−
〔２−エチルナフト〔1,2-d〕チアゾール−２（1H）−
イリデン）エチリデン〕、CAS 27714-25-6。
適当な水素供与体には２−メツカプトベンゾキサゾー
ル、２−メルカプトベンゾチアゾール、４−メチル−4H
−1,2,4−トリアゾール−３−チオールなどがある。Ｎ
−ビニルカルバゾール単量体を含有する組成物にとって
好ましい他の適当な水素供与化合物は５−クロロ−２−
メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾチ
アゾール、1H−1,2,4−トリアゾール−３−チオール、
６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾール、４−
メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−３−チオール、１
−ドデカンチオールおよびこれらの混合物である。
他の成分 フィルムの物性を変えるために、フォトポリマー組成物
に慣用上加えられる他の成分が存在していてもよい。か
かる成分には可塑剤、熱安定剤、蛍光増白剤、光安定
剤、接着調整剤、塗布助剤および離形剤がある。
フィルムの接着性、可撓性、硬度、他の物理的および機
械的性質を通常の方法で改質する可塑剤が存在していて
もよい。可塑剤の例にはトリエチレンクリコールジカプ
リレート、トリエチレングリコールビス（２−エチルヘ
キサノエート）、ジエチルアジペート、ジブチルアジペ
ート、テトラエチレングリコールジヘプタノエート、ジ
ブチルスベレート、ジエチルセバケート、トリス（２−
エチルヘキシル）ホスフェート、グリセリルトリブチル
レート、Brij ,30〔C12H25(OCH2CH2)4OH〕およびBrij
,35〔C12H25(OCH2CH2)20OH〕がある。同等の結果を生
じる他の可塑剤は当業者にとって明らかとなろう。
固体および液体単量体の混合物が存在する場合に、液体
単量体の一部または全部を可塑剤によって置換してもよ
いが、可塑剤と単量体の混合物は液体であることを要す
る。また、可塑剤と固体単量体の混合物を使用してもよ
いが、その混合物は液体であることを要する。
通常、熱重合抑制剤は光重合性組成物の貯蔵安定性を改
良するために存在する。有用な熱安定剤にはハイドロキ
ノン、フェニドン、ｐ−メトキシフェノール、アルキル
およびアリール−置換ハイドロキノンおよびキノン、ｔ
−ブチルカテコール、ピロガロール、β−ナフトール、
2,6−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、フェノチアジ
ンおよびクロルアニルがある。米国特許第4,168,982号
に開示されたジニトロソダイマーも有用である。単量体
はその製造業者によって加えられた熱重合抑制剤を含有
するので多くの場合追加の抑制剤を加える必要がない。
非イオン性界面活性剤は塗布助剤として光重合性組成物
に加えてもよい。好ましい塗布助剤はフルオロラッ
ド 、FC-430とフルオラッド 、FC-431のような弗素化
非イオン界面活性剤である。
組成物 光重合性組成物中の成分の割合は一般に組成物の全重量
にもとづいて以下の重量％の範囲内にある。バインダー
25〜90％好ましくは45〜75％、単量体５〜60％好ましく
は15〜50％、可塑剤０〜25％好ましくは０〜15％、光開
始剤系0.1〜10％好ましくは１〜７％および任意成分０
〜５％典型的には１〜４％。バインダーの量が約25％以
下もしくは単量体の量が約60％を越えるならば、組成物
は固体フィルムを形成するのに十分な粘度を有さない。
バインダーの添加が約90％を越える位高い濃度になるな
らば、性能が極端に失われそして得られたフィルムの屈
折率変調が減少する。また、使用される単量体の濃度が
少なくとも約５％となろう。それはさらに量が少なくな
ると屈折率変調の実用値を有するフィルムが得られない
からである。
支持体／被覆 本発明の改良された光重合性組成物は実質的に固体であ
りそして典型的には支持体に適用される層として使用さ
れる。組成物はここに述べられたような通常の方法で支
持体上に直接塗布してもよいし、或いは通常の方法でフ
ィルムとして注型しそして支持体にラミネートしてもよ
い。どちらの場合にも、支持体は一般に、永久基体に取
り付ける前にフォトポリマーフィルムに一時的な寸法安
定性を与えるので支持体はフィルムから剥離できる。と
ころが、幾つかの用途に対しては、支持体をフォトポリ
マーフィルムの永久オーバーコートまたは保護層として
保持することが望ましい。この場合、支持体とフォトポ
リマーフィルムは永久に結合していてもよい。他の場
合、フィルムを永久基体上に直接塗布して転写ステップ
を回避することが望ましい。
支持体は寸法安定性があり、そして支持体を通して露光
を行う場合には活性線照射に透明である。さらに、支持
体が存在する状態で熱処理を行い場合、支持体は熱処理
条件に安定でなければならない。支持体材料の例として
ガラス、石英および透明な重合体フィルムがある。好ま
し支持体材料はポリエチレンテレフタレートフィルムで
ある。支持された光重合性層の一方の側は剥離できるよ
うに接着された一時的な保護カバーシート例えばポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート
等を有していてもよい。典型的には、カバーシートは光
重合性層に対してより弱い接着性を有しそして支持体は
より強い接着性を有する。通常の中間層すなわち皮膜は
予め形成された要素に必要とされる接着性および／また
は剥離性を促進するために用いてもよい。
フィルムの露光 第１図について説明すると、ホログラフィックミラーは
「オフ−アキシ（off-axis）」技術を用いてフィルムを
２つのレーザービームの交差に露光して形成してもよ
い。レーザー（10）はレーザービーム（12）を発生し。
これはシャッター（14）によってコントロールされる。
レーザービーム（12）はミラー（16）によってビームス
プリッター（18）に向けられ、ビームは２つの等しいビ
ーム（20）に分割される。各ビーム（20）は顕微鏡の対
物レンズ（22）、ピンホール（空間フィルター）（24）
およびコリメートレンズ（26）を通過して拡大されたコ
リメートビーム（28）となる。それぞれの拡大されたコ
リメートビーム（28）はミラー（36）によって反射され
て光重合性層（32）に収束する。光重合性層（32）はガ
ラス板（34）に取り付けられそしてポリエチレンテレフ
タレートフィルム支持体（30）によって保護されてい
る。
干渉縞は光重合性層に２つのビームを交差させることに
よってその層内に形成される。第１図に示される態様で
は、これはガラス板を２つのビームの軸に対して、垂直
な線から５〜70°の角度に傾斜させることによって行わ
れる。それによってフォトポリマー中に形成された干渉
縞は傾斜される（即ち干渉縞はフィルム面に対して角度
をなしている）。干渉縞はそれを形成するために使用さ
れるものと類似する波長を有しかつ干渉縞を形成するた
めに使用されたと同じ角度でフィルムに当たる光のミラ
ーとして使用する。
別法として、フィルムを像形成するために「オン−アキ
ス（on-axis）」技術を用いてもよい。この場合、光の
コヒーレントビーム例えばコリメートされた488nmのア
ルゴンイオンレーザービームはフィルムの一方の面に、
典型的にはフィルム面に対する法線から70°までの角度
で投射される。コリメートされたビームの一部は「参照
光」として作用するが、一部は層を透過しそしてフィル
ムの背後に取り付けられたミラーによって後方反射して
「物体光」として作用する。フィルム中で参照光と物体
光が交差してフィルム面に実質上平行に配向する干渉縞
を形成する。これらの干渉縞はフィルムの前面に光を投
射して見た時にミラーとして作用する反射ホログラムを
形成する。フィルムおよびその支持体がフィルムを像形
成するために使用されるビームのかなりの部分を吸収す
るならば、「オン−アキス」モード操作による潜在的な
困難性があらわれるかもしれない。この場合、反射され
た物体光は弱すぎるので満足のいくホログラムを形成す
ることができない。しかしながら、これが起こるなら
ば、フィルム処方物は問題を最小限にするために容易に
調整される。
フィルムを予熱し次にそれが高められた濃度にする間に
フィルムを像形成させることは有利であることがわかっ
た。この態様ではフィルムを適度の温度まで典型的には
約30°〜50℃の範囲に加熱し次にフィルムがまだ温かい
うちにコヒーレント光源に露光する。予熱すると像形成
フィルムの反射効率が向上しそして感度が上がることが
わかった。したがって、予熱により低エネルギーレーザ
ーの使用が可能となりそして／または像形成ステップを
より速やかに終了させることができる。
これらの技術の何れかによってホログラフィックミラー
を形成させた後、フィルムに活性線照射をあてて像を定
着する。これは普通の室内光にフィルムを露光させるこ
とによって行われるが、フィルム面により強い可視光お
よび／または紫外光をあててフィルムの単量体成分の重
合を完結させることが好ましい。
上述の反射ホログラフィックミラーは米国特許第3,658,
516号のフォトポリマー組成物に比較して改善された反
射効率を有する。米国特許第3,658,516号の処方物は典
型的には10％より小さい反射効率を有するのに反して上
述のフィルムと方法により60％以上の反射効率が容易に
得られる。もしフィルムがノッチフィルタ用として十分
に高い反射効率（即ち、少なくとも99％の反射効率−２
の光学濃度）を有しないならば、ホログラムを処理する
特定なクラスの液体を用いてフィルムを更に処理するか
あるいはフィルムを後述のようにして加熱することによ
って、反射効率を所望の値までさらに向上させることが
できる。これらの向上技術により反射効率が通常２倍乃
至３倍に増大するが、なんら目立った悪影響はない。同
時にホログラフィックミラーは広い帯域幅にわたって光
を反射することができ、そしてフィルターはさらに大き
な保護を与える。
液体向上剤 反射ホログラムの質を向上させるのに特に効果のある液
体の種類はホログラムを膨潤させる有機性液体、たとえ
ばアルコール、ケトン、エステル、グリコールアルキル
エステルなどである。このような向上剤の一種または二
種以上の使用によって必要とされる像の画質向上が通常
もたらされる。向上剤は一種の液体であってもまたは活
性の異なる複数の液体の混合物であってもよい。水、炭
化水素溶媒などの希釈剤が向上剤の濃度を低くするのに
使用出来る。希釈剤は“不活性液体”であり、それをホ
ログラムの表面に単独で施したときには実質的に反射効
率に影響を及ぼさない。最大の反射率よりも低いところ
で平衡のとれた限られた向上が必要な場合、または向上
剤単独ではホログラムのある程度の溶解が生ずる場合に
は、希釈した向上剤が使用される。そのような限られた
平衡のとれた向上処理に更により濃厚なまたはより活性
の高い向上剤による処理を付加してもよい。
反射ホログラムを均一な活性照射線に露光して固定した
後に、向上剤を通常施す。反射ホログラムを向上剤中に
浸漬してもよいし、または他の方法により行ってもよ
い。像形成されたホログラフィック記録媒体に向上剤を
施す方法は通常調節され、それによって反射ホログラム
の均一な向上が得られ。そして向上剤の膨潤作用によっ
て軟化される重合体像の損傷が防止される。理想的に
は、あふれたり、接線方向の力または押圧力が作用する
ことなしに、像表面を均一に湿潤するのに丁度見合った
だけの向上剤の使用がよい。しかしながら、希釈された
向上剤の向上作用はよりゆっくりと行われるので、向上
剤による処理を繰り返すことができ、複数回の処理によ
って均一性が高められる。像を歪めたり傷つけたりする
ような摩擦力圧縮力を伴わない限りは、いかなる方法も
ホログラムに向上剤を均一に施すために採用できる。
向上剤を施すためのよい方法は、向上剤に浸漬したペン
キハケの緑や多孔質芯体のような他の塗布具で像面に沿
って軽く掃くことである。像面が小さいときは、小さな
ブラッシまたはフェルトチップペンで行うことができ
る。像面が大きい時は、十分長いフェルト製のスキージ
を使用するのがよい。いずれの場合も向上剤が塗布具か
らホログラムに均一に施され、そしてホログラム中に吸
収されて反射効率を増加させる。フェルトの代わりに、
紙、織物、不織布のような多孔質材料のいずれもが使用
できる。同じ様に向上剤を例えばエアブラシを使用して
霧状で施してもよく、または液体フィルムとして注意し
て被覆してもよい。余分の向上剤が存在する場合は既知
の方法でこのホログラムから取除く。常温またはより高
温での空気を使用する空気吹による通常の蒸発または迅
速蒸発が過剰の向上剤を取除くのに有効である。
向上剤はまた希釈非向上剤による処理によって除去して
もよい。
本発明において特に有効な、向上剤には、グリコールア
ルキルエーテル類（例えば２−メトオキシエタノール、
２−エトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノー
ル）；アルコール類（例えばメタノール、エタノール、
ブタノール、１−または２−プロパノール）；ケトン類
（例えばアセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン等）；およびエステル類（例えばエチルアセテート
等）が含まれる。上記した向上剤と使用できる希釈剤と
しては、水；不活性炭化水素溶媒（例えば116〜159℃の
範囲の沸点を有するＣ８〜10のイソパラフィンの混合
物、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、1,2−ジク
ロロエタン、トリクロロ−トリクロロエタン等）を挙げ
ることができる。
典型的には、平衡のとれた反射効率にまで達する期間の
間、高活性の向上剤によってフィルムを十分強く処理す
ることが要求される、フィルム全体の最大限の向上が望
ましい。驚くべきことには過剰の向上剤を取除いた後で
さえも反射効率は平衡した値に保たれている。浸漬法を
使用しない場合またはフィルムの隔離された領域を向上
させる場合には、上記のコントロールされた適用法を採
用してホログラム表面にあふれるのを防止して向上剤を
望みの隔離領域に保持させる。
液体向上剤は熱によって向上されないフィルムに対して
最も有効であることが見だされた（熱による向上につい
ては後記する）。液体向上剤は屈折率による変調を増大
させ、そして再生波長を高い値へとシフトさせる。液体
向上剤によってなされた再生波長のシフトは、液体がフ
ィルムから後に蒸発する程度までは可逆的である傾向が
あるということも見出された。したがって、一度吸収さ
れるとフィルムの中に保持されるような液体を選択する
ことまたは処理したフィルム上に不透過性の被覆層を設
けることが好ましい。
熱による向上 本発明のユニークなフィルムを用いて作成される反射ホ
ログラムは熱処理して約100％まで反射率を不可逆に向
上させることもできる。この場合には反射ホログラフィ
ックミラーがまず上述のフィルムに形成される。次にフ
ィルムを向上が最大になるのにつりあう期間50℃より高
い温度、好ましくは80℃と160℃の間の温度に加熱す
る。屈折率の変調における２〜３倍の改良が容易に達成
される。上述のように活性照射線にフィルムをさらすこ
とによって映像を定着させる前または後に熱による向上
処理を行うことができるが、典型的には定着工程の後に
行う。熱による処理は、同時に熱硬化またはホログラム
中の光重合性物質の重合によって、向上されたホログラ
ムを定着させる。熱による向上速度および熱硬化速度は
温度が上昇するにつれて増し、その硬化の大半は初期の
段階の間に達成される。例えば100℃の向上温度を採用
した場合には、向上の大部分は最初の５〜10分間の間に
生じ、１時間後にはほんのわずかの改良しか生じない。
本発明を実際に実施する場合は、反射ホログラムを慣用
のいかなる方法で加熱してもよい。例えばフィルムを簡
単な普通のオーブン中で加熱しても、赤外線やマイクロ
波照射によってもまたは加熱板の上やラミネートプレス
中で短縮加熱を施してもよい。いずれの加熱法が採用さ
れようが、反射ホログラムまたは基体層を有するフォト
ポリマー層に変形や損傷を与えないように注意すること
が必要である。
熱による向上は特にホログラフィックノッチフィルター
の製造において有用である。この構造体は複雑な光学表
面に取り付けられるものであるから、一般に、ラミネー
トの後よりもむしろ、基体にラミネートする前にホログ
ラフィックミラーを有すべく、フィルムの像形成を行う
のがより便利である。このようにすることによりラミネ
ートの間に十分な熱を施して、熱によりホログラフィッ
クミラーを向上させる。
仮の支持体を取り除いた後フィルム基体ラミネートをホ
ログラフィックノッチフィルターとして使用する。しか
しながら、その適用に当たっては、ひとつより多くのレ
ーザー波長からの保護が必要な場合には、その各々が異
なる波長をさえぎるように像形成されている、ひとつま
たはそれより多くの追加のフィルムを初めのフィルム基
体ラミネートにラミネートしてもよい。一般に、初めの
フィルムの頂部に該付加のフィルムをラミネートするの
が便利であるがしかし２番目のフィルムを同様に基体に
ラミネートしてもよい。極めて高い光学濃度が必要な場
合は、初めのフィルムと同じ波長を除去して像形成され
ている追加のフィルムをフィルム−基体ラミネートにラ
ミネートしてもよい。
レーザー照射の１つより多い波長からの保護を形成する
ために、ある場合には、１片のフィルムに１個より多く
のミラーを記録することも可能である。
液体モノマーによる処理 反射ホログラムを形成した後に、好ましくは熱向上の後
に液体モノマーを含む溶液でフィルムを処理した場合に
は反射率のような反射ホログラムの光学特性が長時間低
下せずに安定に保たれる傾向があることが見出された。
この処理においては、フィルム表面を浸漬、スプレーま
たは同様の方法によって液体モノマーの溶液に曝されモ
ノマーがフィルム中に吸収されるようになる。モノマー
は、フィルムの組成物中に含まれるのと同じモノマーで
も異なる液体モノマーでもよい。次にフィルムを乾燥
し、そして紫外線および／または可視光線のような活性
照射線にフィルムをさらすことによって、吸収されたモ
ノマーを重合する。この処理は光学特性効果を与えるだ
けでなく干渉縞平面間の間隔を増加させるので、ホログ
ラフィックミラーより長波長の光を反射させるようにな
る。反射率もまた影響される。したがって、特定の液体
モノマー、担体溶媒および重合前の浸漬時間を選択する
ことによって、フィルムのホログラフィック特性を永久
に変化させることが可能となる。
波長応答におけるシフト もし必要ならば、フィルムは像形成後に引続いて除去さ
れる比較的揮発性の薬剤を像形成工程で含んでいてもよ
い。その場合には、ホログラフィックミラーの縞間の間
隔が薬剤が除去された時に減少し、そしてミラーを形成
するのに使われたよりも短い波長の照射光を反射するよ
うにフィルムが変わっていく。このような作用はフィル
ム組成と相容性の溶媒または可塑剤を選択することによ
って達成され、そしてそれらは蒸発によりまたはフィル
ムの加熱処理の間に除去することができる。
非揮発性の可塑剤またはモノマーを像形成され、処理さ
れたホログラムの中に拡散させることによって波長応答
をシフトさせることができる。これはバインダーおよび
モノマーおよび／または可塑剤を含有する拡散要素を像
形成されそして処理されたホログラムを有するフィルム
にラミネートし、そして拡散を生じさせることによって
行われる。拡散要素は未露光のフィルムの一片でもよい
し、または他のモノマーおよび／または可塑剤を含んで
いてもよい。ラミネートフィルムおよび拡散要素を拡散
の間加熱しても、または拡散を室温で行ってもよい。拡
散を中止させるには、拡散要素を取除くとよいが、また
もし拡散が平衡になるのを望むならばその場合に残して
おいてもよい。拡散要素がモノマーを含有する場合に
は、ラミネートを加熱することによってまたは活性照射
線に曝すことによって拡散を停止できる。
試供フィルムの評価 試供フィルムを評価するためにホログラフィックミラー
を製造し、そして熱処理する。フィルムの厚さ、最大反
射の波長、最大反射の波長における反射率、1/2最大部
における帯域巾およびフィルム速度の値を決める。次
に、屈折率の変調（Ｍ）を最大反射の波長およびフィル
ム厚さにおいて反射効率から計算する。
フィルム部材を順に透明なポリエチレンテレフタレート
フィルム支持体、15〜35μｍの厚さの試供光重合性の組
成物の乾燥した層、およびポリエチレンテレフタレート
カバーシートから形成する。フィルム部材を均一な切片
に切断し、カバーシートを除去し、次に柔く粘着性の被
膜を積層することによりフィルムを透明なガラス板上に
置く。フィルム支持体を、露光および処理操作の間、光
重合性組成物を保護するためにそのまま残しておく。
間にキシレンの薄層を有する前面ミラー（front-surfas
e mirror）上に置かれた試供フィルム組成物中に、前述
のオン−アキス技術を採用して、フィルム面に垂直に配
向し且つそれ自体後方反射する488nmまたは514nmのアル
ゴンイオンレーザーの平行なビームのTEM00モードにさ
らすことによってホログラフィックミラーを形成する。
ある場合には、キシレンの薄層を前面ミラーと試供フィ
ルムの間に置く。ホログラフィックミラーに記録するた
めに露光した後、フィルム部材全体を紫外線および可視
光線に露光させる。露光されたフィルム部材を通常の強
制空気対流式のオーブン中に通常約100℃で30〜60分間
入れておくことによって熱処理する。各各のホログラフ
ィックミラーの透過スペクトルを通常の分光光度計を使
用して400〜700nmから記録する。
最大反射の波長におけるフィルムを透過する光の強さ
（Itrans）を、ホログラフィック像のない領域における
フィルムを透過する光の強さ(I0)とともに測定する。最
大反射効率（η）は次の式から計算される η＝１−(Itrans/I0) 試供組成物中に形成されたホログラフィックミラーの屈
折率の変調（Ｍ）はKogelnikの合成波理論（H.Kogelni
k;Bell.Syst.Tech.J.,48,2909〜2947,1969）を用いて、
最大反射効率から計算される。それは非偏向ホログラフ
ィックミラー用であり、そこでは入射光はミラー面に垂
直であり、次式によって表される。
式中、η＝最大反射効率 Ｍ＝屈折率の変調 λ＝自由時間におけるプローブ照射波長 ｄ＝ミラーの厚さ（即ちフィルムの厚さ） Ｍについてこの式を解くと、屈折率の変調は次に如く計
算される。
屈折率の変調は、フィルムが像形成されそしてホログラ
フィックミラーを有するように造られた後にそのフィル
ム内における屈折率の差の大きさを表すものである。そ
れは厚さに依存せず、屈折率変化を記録するフィルム組
成物（即ちホログラム）の固有の性能を示すものであ
る。高屈折率変調を有するフィルムは同じ厚さで高反射
効率と帯域巾を有する。本発明の実施において選択され
る有用なフィルム組成物は少なくとも0.01の屈折率変調
を有し、そして一般的にはフィルムの厚さを最少にしな
がら高反射（即ち高い不透過）効率を達成するためには
少なくとも0.025の屈折率変調を持つことであろう。0.0
25より高い屈折率変調を有する組成物が特に有用であ
る。このフィルムにより、２より高い光学濃度、一般に
は３またはそれ以上の程度の光学濃度が10〜100μｍの
フィルム厚さで容易に達成でき、これはホログラフィッ
クノッチフィルターの形成に特に有用である。上述の式
から0.03の屈折率変調を有する10〜25μｍのフィルムが
各々90％と99.96％の反射効率を有することが容易に計
算され、そしてこれは1.0と3.4の光学濃度に相当する。
これに対して、ホログラフィに利用するための米国特許
第3,658,516号に提案された従来技術のフォトポリマー
組成物は、反射において0.001またはそれ以下の屈折率
変調を有しており、そしてこれらの組成物からつくられ
たホログラフィックミラーは典型的には10％より高くな
く反射効率を典型的には有し、これはそれに匹敵する厚
さで0.046の光学濃度に相当する。
ホログラフノッチフィルター ホログラフィックノッチフィルターを製造するためにフ
ィルムを永久基体上に置く。一般に永久基体の上にフィ
ルムを直接コート、ラミネートまたは移し換えそして基
体上のフィルムの像形成および処理を行うことが同様に
望ましいが、通常は像形成し、処理した後にフィルムを
基体上にのせる。また場合によっては、支持体上でフィ
ルムの像形成を行い、基体に移しそして処理する。像形
成されたフィルムは処置していても処置していなくて
も、基体に加圧ラミネートしてもよくまたは透明な光学
粘着剤を使用して取付けてもよい。未処理のフィルムを
熱によって基体にラミネートする場合には、ラミネート
と熱処理工程を同時に行うことができる。簡単なフィル
ターがオン−アキス技術を用いて露光され得るし、色々
の角度からくる活性照射線から眼を保護すべくデザイン
されたより複雑なフィルターでは複雑な波面のついたよ
り精巧な光学デザインが必要である。
基体は寸法安定性でなければならずそして保護眼鏡の場
合には可視光線に対して透過性でなければならず、また
は装置がセンサーや他の光学機器の場合に検知すべく装
置がデザインされている波長領域に透過性でなければな
い。更に加うるに、この基体は環境に対して安定で、フ
ィルムと相容性でありそしてフィルムの処理で採用され
る選択された加熱条件に対しても安定でなければいけな
い。有用な基体はガラス、石英、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネートおよびポリスチレンである。ポ
リカーボネートは軽量で且つ防弾性があるので軍用に適
した基体である。
照射のひとつの波長よりも多くの波長をさえぎるホログ
ラフィックノッチフィルターを作成するために、露光さ
れそして異なる波長の照射光をさえぎるように処理され
た追加のフィルムを永久基体に設けられたフィルムの頂
部上に置いてもよい。場合によっては、各々が異なった
波長をさえぎる１つより多くのホログラムを有するよう
にフィルムの像形成を行ってもよい。フィルムは加圧ラ
ミネートによって一緒にしてもまたは透明な光学接着剤
により接着してもよい。場合によっては、この目的を達
成するために、フィルムを永久基体に置き、像形成し、
処理し、その予め処理されたフィルムの頂部に追加のフ
ィルムをのせ、像形成しそして処理してもよい。更に、
ホログラフィックノッチフィルターを赤外線吸収染料を
含有するフィルターのような他のタイプのフィルターと
組合せて、１つの波長よりも多くの波長をさえぎるフィ
ルターを製造してもよい。
場合により、ひっかきや擦過のような損傷から保護する
ために保護被覆でもってフィルムをカバーしてもよい。
保護染料は透明で傷が付きにくく、そしてフィルムと相
容性でなければならない。ガラスあるいはポリエチレン
テレフタレートまたはAcclar （Allied社製造の弗素化
重合体フィルム）のようなプラスチックが保護被覆材と
して使用できる。保護被覆材はフィルムとラミネートし
てもよいし、または透明な光学性粘着剤で粘着してもよ
い。熱可塑性材料はその場でノッチフィルターに成形す
ることが出来る。
ホログラフィックノッチフィルターは狭い帯域巾の照射
光のみを反射し（即ちさえぎる）、この帯域はフィルム
に像形成するのに用いられるコヒーレント照射の波長、
像の幾何学形状および後続のフィルムの処理によって決
定される。したがって、フィルターの前面の照射の広い
スペクトルのほとんどがたとえフィルターが見える所に
取付けられていても、フィルターを通過して観察者また
はセンサーまたは他の光学機械に達する。
実施例 略語 DEAW シクロペンタノン2,5−ビス〔｛４（ジエチル−
アミノ）−２−メチルフェニル｝メチレン〕 FC-430 フルオラッド FC-430、液体非イオン界面活性
剤；弗素化脂肪族重合体エステル;CAS 11114-17-3;3M社 MMT 4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−３−チオー
ル;CAS 24854-43-1 NVC N−ビニルカルバゾール;9−ビニルカルバゾール;CA
S 1474-13-5 o-Cl-HABI 1,1′−ビイミダゾール、2,2′−ビス〔ｏ−
クロロフェニル〕−4,4′,5,5′−テトラフェニル−;CA
S Photomer 4039 フェノールエトキシレートモノアクリ
レート;CAS 56641-05-5;ヘンケルプロセスケミカル社 Sartomer 349 エトオキシレートビスフェノールＡジア
クリレート;CAS 24447-78-7;サートマー社（ウェストチ
ェスターPA） Vinac B-100 ポリ（ビニルアセテート）;M.W.350,00
0;CAS 9003-20-7;エアプロダクツ社 一般的な処理手順 フィルムの製造 黄色光のもとで被覆溶液を製造し取扱った。全成分は供
給者から受取ったまま使用し更に精製を行わなかった。
試料の評価 フィルム支持体とカバーシートの両方を有する被覆され
たフィルムを４×５−インチ（10×13センチメートル）
の切片に切断した。カバーシートを取除き、それからフ
ィルムを柔く粘着性の被覆により積層することにより透
明なガラス板の上に置いた。フィルム支持体を露光およ
び処理操作の間にその場で除去した。ホログラフィ像形
成露光のために、複数の板をそれらの間にキシレンの薄
層を介在させてミラーの正面に取付ける。キシレンの薄
層はガラスとミラーをフィルムに光学的に結合させる働
きをする。フィルム表面に垂直に配向した平行な488ま
たは514nmノアルゴンレーザービームで露光することに
よってフィルムにホログラフィックミラーを記録し、そ
してレーザービームは順にガラス板、被覆、フィルム支
持体およびキシレン層を通過し、次いでミラーの表面を
はなれてそれ自体の上に後方反射される。レーザービー
ムの直径は2.0〜3.0cmで、サンプルにおけるビームの強
さは約10mW/cm2であった。
ホログラフィックミラーに記録した後、そのフィルム試
料全体をDouthitt DCOP-X露光装置（Douthitt社、デト
ロイト、MI）に取付けられているTheimer-Strahler＃50
27水銀アークフォトポリマーランプ（Exposure System
社、Brid-geport,CT）の出力を用いて紫外線と可視光線
に露出された。次に露出された被覆物を100℃で30〜60
分間通常の対流式エアオーブンに入れて熱処理した。
各ホログラフィックミラーの透過光のスペクトルをPerk
in ElmerモデルLambda-9およびモデル330分光光度計を
使用して400〜700nmで記録した。最大反射効率、反射波
長、および1/2最大値における帯域巾（fwhm）を透過ス
ペクトルから求めた。感度を最大効率を得るのに必要な
最少エネルギーを選ぶことによって露光エネルギーに対
する反射効率プロットから求めた。プロフィロメーター
（profilometer）（Sloan-Dektacモデル3030）を用いて
処理し解析したホログラフィックミラーで被覆の厚さを
測定した。被覆物の厚さ、反射光の波長および到達し得
る最大反射効率をCoupled波理論（Kogelnikの理論）を
使用して各被覆物についての屈折率変調を計算するのに
使用した。
実施例１ この実施例では、ポリカーボネート基体に、熱処理した
ホログラフィックミラーをラミネートすることによって
多層ホログラフィックノッチフィルターを製造する例を
説明する。Vinac B-100:66.0％、DEAW:0.03％、FC-43
0:0.20％、MMT:2.1％、o-Cl HABI:3.7％、Sartmer349:
3.0％、NVC:7.9％およびPhotomer 4039:17％を含有す
る組成物を、ジクロロメタン（97％）とメタノール（３
％）の混合物から押出しダイ被覆して25.0ミクロンの厚
さの被覆物を製造した。被覆溶液は“全固体”で17.5％
であった。ここで、“全固体”とは成分の幾つかは室温
で固体というよりはむしろ非揮発性の液体であるとして
も組成物中における非揮発性成分の全量を指す。
この組成物を厚さ2-mil（0.05mm）の透明なポリエチレ
ンテレフタレートフイルム支持体の上に塗布した。乾燥
器の巾を塗布したフイルムを通して溶媒を蒸発させた。
0.92-mil（0.02mm）のポリエチレンテレフタレートフイ
ルムのカバーシートを乾燥器からとり出された時に被覆
物にラミネートした。被覆した試料を、使用の時まで、
室温で黒色りポリエチレンの袋に貯蔵した。
試料をカバーシートおよび支持体を伴ったまま514nmの
光で像形成し、後露光し、次に上記した一般的な処理手
順で100℃で１時間加熱して熱処理した。カバーシート
を取除き、像形成したフイルムをRiston HRL-24ラミネ
ート装置を使用して、80℃ 40psiでポリカーボネートシ
ート（Rhom社、厚さ1.2mm）にラミネートした。試料を
冷却後、ポリエステル支持体シートを取除き、最初の像
形成フイルムと同様の方法で露光し処理された第２の像
形成フイルム片をそのカバーシートを取除きそして像形
成にフイルムの第１の片に露光したフォトポリマー層に
その露光したフォトポリマー層をラミネートすることに
よって最初のフイルムにラミネートした。第２のフイル
ム片の支持体を保護層として残した。
ラミネートの前に、最初のミラーは523.4nmで3.32の最
大光学濃度および0.030の屈折率変調を有していた。第
２のミラーは、525.7nmで3.16の最大光学濃度および0.0
29の屈折率変調を有していた。多層ホログラフィックノ
ッチフィルターは522.8nmで4.16よりも大きい最大光学
濃度を有することが測定され、この最大光学濃度は、分
光光度計で測定し得る最も高い光学濃度であった。これ
は最大吸収波長における入射光の0.01％より少ない透過
に相当する。２つのミラーの光学濃度の合計から計算さ
れる最大光学濃度は約6.4であり、これは、最大吸収波
長における入射光の0.0001％より少ない透過に相当す
る。
実施例２〜３ 本実施例では、ホログラフィックノッチフィルターの製
造において、熱処理工程がポリカーボネート支持体への
ラミネート前またはラミネート後に行い得ることを示
す。
実施例１の工程に従って、試料をカバーシートおよび支
持体をそのまま付けて514nmで像形成し、後露光し、そ
して上記した一般的な処理手順で80℃で５分間加熱して
熱処理した。次にそれを実施例１に述べたようにしてポ
リカーボネートシートにラミネートした。その結果得ら
れたホログラフィックノッチフィルターは519.3nmで3.0
9の最大光学濃度を、そして0.028の屈折率変調を有して
いた。
実施例１の工程に従って、試料をカバーシートおよび支
持体を付けたままで514nmで像形成し、そして実施例１
に記載したようにしてポリカーボネート支持体にラミネ
ートした。次にミラーとポリカーボネートのラミネート
物を上記した一般的な処理手順で80℃で50分間加熱によ
って熱処理した。その結果得られたホログラフィックノ
ッチフィルターは514.7nmで1.28の最大光学濃度を有
し、そして0.14の屈折率変調を有していた。
実施例４ 本実施例では、異なる波長で照射された複数の熱処理し
たホログラフィックミラーをポリカーボネート基体にラ
ミネートすることによって２つの最大吸収を有する多層
ホログラフィックノッチフィルターを製造する例を示
す。
実施例１の工程にしたがって、カバーシートおよび支持
体を付けたまま２つの試料を488nmで像形成し、後露光
し、そしてポリカーボネートシートにラミネートして多
層フィルターを製造した。垂直から約17°の入射光で露
光した。
次に、514nmの光で像形成し、同様にして処理された２
つの試料の第２のセットを実施例１に記載した。最初の
試料にあけるようにして一緒にラミネートした。垂直か
ら約17°の入射光で再度露光した。その結果得られたホ
ログラフィックノッチフィルターは515.3nmで5.08より
大きい最大光学濃度を有し、そして490.2nmでは3.82よ
りも大きい最大光学濃度を有していた。
最後に、本発明の要約およびその具体的な態様を要約し
て以下に示す。
１）反射ホログラムを含む透明重合体フイルムを有する
透明基体からなり、前記反射ホログラムは最大反射波長
で約２よりも大きい光学濃度を有しそしてホログラムの
記録前の前記重合体フイルムが、 （ａ）ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、
ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、その主
要セグメントを含む共重合体およびその混合物よりなる
群から選ばれた重合体バインダー約25〜75％、 （ｂ）カルバゾール含有単量体およびフェニル、ビフェ
ニル、フェノキシ、ナフチル、ナフチルオキシ、３個ま
での芳香環を有するヘテロ芳香族基、塩素および臭素を
１個またはそれ以上含む液体単量体よりなる群から選ば
れたエチレン系不飽和単量体約５〜60％、 （ｃ）可塑剤約０〜25％および （ｄ）活性線照射によって活性化されうる光開始剤系約
0.1〜10％、 （前記％はフィルムの全重量にもとづいた重量％であ
る） より本質的になるホログラフィックノッチフィルター。
２）フィルターは最大反射波長で、少なくとも約３の光
学濃度を有する前記第１項のホログラフィックノッチフ
ィルター。
３）透明基体が、ガラス、石英、ポリメチルネタクリレ
ート、ポリカーボネートおよびポリスチレンよりなる群
から選ばれた前記第１項のホログラフィックノッチフィ
ルター。
４）透明重合体フィルムの１つまたはそれ以上をさらに
含む前記第１項のホログラフィックノッチフィルター。
５）透明重合体フィルムに結合した保護層をさらに含む
前記１項のホログラフィックノッチフィルター。
６）ホログラムが約0.01よりも大きい屈折率変調を有す
る前記第１項のホログラフィックノッチフィルター。
７）エチレン系不飽和単量体が、２−フェノキシエチル
アクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレート、
フェノールエトキシレートモノアクリレート、２−（１
−ナフチルオキシ）エチルアクリレート、ｏ−ビフェニ
ルメタクリレート、ｏ−ビフェニルアクリレートおよび
それらの混合物からなる群から選ばれる前記第６項のホ
ログラフィックノッチフィルター。
８）エチレン系不飽和単量体が、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、3,6−ジブロモ−９−ビニルカルバゾール、2,4,6−
トリブロモフェニルクリレートまたはメタクリレート、
ペンタクロロフェニルアクリレートまたはメタクリレー
ト、２−ビニルナフタレン、２−ナフチルアクリレート
またはメタクリレート、２−（２−ナフチルオキシ）エ
チルアクリレートまたはメタクリレート、ｐ−ビフェニ
ルメタクリレート、ｔ−ブチルフェニルメタクリレー
ト、テトラブロモビスフェノール−Ａのジ−（２−アク
リルオキシエチル）エーテルおよびそれらの混合物より
なる群から選ばれた固体単量体と、２−フェノキシエチ
ルアクリレート、２−フェノキシエチルメタクリレー
ト、フェノールエトキシレートモノアクリレート、２−
（１−ナフチルオキシ）エチルアクリレート、ｏ−ビフ
ェニルメタクリレート、ｏ−ビフェニルアクリレートお
よびそれらの混合物から成る群から選ばれた液体単量体
との混合物である前記第６項のホログラフィックノッチ
フィルター。
９）成分がバインダー約45〜75％、単量体約15〜50％お
よび可塑剤約０〜15％の重量範囲で存在する前記第６項
のホログラフィックノッチフィルター。
10）ホログラムが約0.025より大きい屈折率変調を有す
る前記第９項のホログラフィックノッチフィルター。
11）透明基体がガラス、石英、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネートおよびポリスチレンよりなる群か
ら選ばれる前記第６項のホログラフィックノッチフィル
ター。
12）透明重合体フィルムの１つまたはそれ以上をさらに
含む前記第６項ホログラフィックノッチフィルター。
13）透明重合体フィルムに結合した保護層をさらに含む
前記第６項のホログラフィックノッチフィルター。
14）フィルムが約10〜100μｍの範囲の厚さを有する前
記第６項のホログラフィックノッチフィルター。
15）異なる波長の反射光で像形成された多数の重合体フ
ィルムを含む前記第１項のノッチフィルター。
16）重合体フィルムが異なる波長の反射光で像形成され
た前記第１項のノッチフィルター。
【図面の簡単な説明】
第１図は反射ホログラフィックミラーを形成するオフ−
アキス法を説明する略図である。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】反射ホログラムを含む透明重合体フィルム
    を有する透明基体からなり、前記反射ホログラムは最大
    反射波長で約２よりも大きい光学濃度を有しそしてホロ
    グラムの記録前の前記重合体フィルムが （ａ）ポリビニルアセテート、ポリビニルブチラール、
    ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、その主
    要セグメントを含む共重合体およびその混合物よりなる
    群から選ばれた重合体バインダー約25〜75％ （ｂ）カルバゾール含有単量体およびフェニル、ビフェ
    ニル、フェノキシ、ナフチル、ナフチルオキシ、３個ま
    での芳香環を有するヘテロ芳香族基、塩素および臭素を
    １個またはそれ以上含む液体単量体よりなる群から選ば
    れたエチレン系不飽和単量体約５〜60％ （ｃ）可塑剤約０〜25％および （ｄ）活性線照射によって活性化されうる光開始剤系約
    0.1〜10％ （前記％はフィルムの全重量にもとづいた重量％であ
    る） より本質的になるホログラフィックノッチフィルター。
  2. 【請求項２】透明重合体フィルムの１つまたはそれ以上
    をさらに含む請求項１記載のホログラフィックノッチフ
    ィルター。
  3. 【請求項３】透明重合体フィルムに結合された保護層を
    さらに含む請求項１記載のホログラフィックノッチフィ
    ルター。
  4. 【請求項４】ホログラムが約0.01よりも大きい屈折率変
    調を有する請求項１記載のホログラフィックノッチフィ
    ルター。
  5. 【請求項５】透明重合体フィルムの１つまたはそれ以上
    をさらに含む請求項４記載のホログラフィックノッチフ
    ィルター。
  6. 【請求項６】透明重合体フィルムに結合した保護層をさ
    らに含む請求項４記載のホログラフィックノッチフィル
    ター。
  7. 【請求項７】異なる波長の反射光で像形成された１つま
    たは複数の重合体フィルムを含む請求項１記載のノッチ
    フィルター。
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Families Citing this family (61)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5439768A (en) * 1988-05-17 1995-08-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electrostatic information recording medium and electrostatic information recording and reproducing method
US5731116A (en) * 1989-05-17 1998-03-24 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Electrostatic information recording medium and electrostatic information recording and reproducing method
US5096790A (en) * 1988-07-28 1992-03-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process of forming hologram and polymeric holographic recording medium with sensitizer
US5442438A (en) * 1988-12-22 1995-08-15 Renishaw Plc Spectroscopic apparatus and methods
US5250391A (en) * 1990-05-10 1993-10-05 Hughes Aircraft Company Photopolymer composition and its use
US5135837A (en) * 1990-09-05 1992-08-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive elastomeric element having improved solvent resistance
GB9105520D0 (en) * 1991-03-15 1991-05-01 Marconi Gec Ltd Holograms
US5238991A (en) * 1991-05-17 1993-08-24 The Goodyear Tire & Rubber Company Vulcanizable rubber composition with improved durability
EP0514786B1 (en) * 1991-05-23 1997-03-19 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Hologram recording material, hologram recording device, method of manufacturing the same, and method of hologram recording
US5282066A (en) * 1991-05-31 1994-01-25 Hughes Aircraft Company Multiple layer holograms
US5335098A (en) * 1991-07-26 1994-08-02 Accuwave Corporation Fixing method for narrow bandwidth volume holograms in photorefractive materials
US5796096A (en) * 1991-07-26 1998-08-18 Accuwave Corporation Fabrication and applications of long-lifetime, holographic gratings in photorefractive materials
US5440669A (en) * 1991-07-26 1995-08-08 Accuwave Corporation Photorefractive systems and methods
US5491570A (en) * 1991-07-26 1996-02-13 Accuwave Corporation Methods and devices for using photorefractive materials at infrared wavelengths
US5691989A (en) * 1991-07-26 1997-11-25 Accuwave Corporation Wavelength stabilized laser sources using feedback from volume holograms
EP0598761A1 (en) * 1991-07-26 1994-06-01 Accuwave Corporation Photorefractive systems and methods
EP0740133B1 (en) * 1991-11-16 1997-09-10 RENISHAW plc Sample illumination for spectroscopic apparatus and method
FR2687484A1 (fr) * 1992-02-18 1993-08-20 Sextant Avionique Filtre holographique de protection contre des rayonnements, notamment laser.
JPH05273900A (ja) * 1992-03-27 1993-10-22 Nippon Paint Co Ltd カラーホログラム用多層体
JP3370762B2 (ja) * 1993-11-04 2003-01-27 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー フィルム組成物およびその組成物を含む積層構造
US5526145A (en) * 1994-06-10 1996-06-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Color tuned holographic optical elements and methods of making and using the elements
JP4104651B2 (ja) * 1994-06-10 2008-06-18 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 液晶ディスプレイに使用するためのホログラフィック多色光学要素および該要素の製造方法およびディスプレイ装置
US5892598A (en) * 1994-07-15 1999-04-06 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Head up display unit, liquid crystal display panel, and method of fabricating the liquid crystal display panel
US5606433A (en) * 1994-08-31 1997-02-25 Hughes Electronics Lamination of multilayer photopolymer holograms
EP2254003A3 (en) † 1996-09-19 2011-11-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Multilayered volume hologram structure, and label for making multilayered volume hologram structure
WO1998056489A1 (de) 1997-06-13 1998-12-17 Hoelter Heinz Ionisationsfilter zur reinigung von luft
US6139147A (en) * 1998-11-20 2000-10-31 Novartis Ag Actively controllable multifocal lens
HUP0100523A2 (hu) * 1997-12-29 2001-05-28 Novartis Ag. Holografikus szemlencse
US6139146A (en) * 1997-12-29 2000-10-31 Novartis Ag Programmable corrective lenses
US5997140A (en) * 1997-12-29 1999-12-07 Novartis Ag Actively controllable multifocal lens
US6482551B1 (en) 1998-03-24 2002-11-19 Inphase Technologies Optical article and process for forming article
EP1102101A1 (de) 1999-11-22 2001-05-23 Leica Microsystems Heidelberg GmbH Laserscanmikroskop
DE10001954B4 (de) * 1999-11-22 2004-07-22 Leica Microsystems Heidelberg Gmbh Laserscanmikroskop
US7700270B1 (en) 2000-01-04 2010-04-20 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Double-bragg-grating scanning transmitter/receiver
US7326500B1 (en) 2000-01-04 2008-02-05 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Sensitization of photo-thermo-refractive glass to visible radiation by two-step illumination
US8399155B1 (en) 2000-01-04 2013-03-19 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Production of high efficiency diffractive and refractive optical elements in multicomponent glass by nonlinear photo-ionization followed by thermal development
US6673497B2 (en) 2000-01-04 2004-01-06 University Of Central Florida High efficiency volume diffractive elements in photo-thermo-refractive glass
US6586141B1 (en) 2000-01-04 2003-07-01 University Of Central Florida Process for production of high efficiency volume diffractive elements in photo-thermo-refractive glass
JP2002328235A (ja) * 2001-04-27 2002-11-15 Jasco Corp マルチ構造ホログラフィックノッチフィルタ及びその製造方法
US20030044690A1 (en) * 2001-06-27 2003-03-06 Imation Corp. Holographic photopolymer data recording media, method of manufacture and method of holographically reading, recording and storing data
US7158995B2 (en) * 2002-05-08 2007-01-02 Oracle International Corporation Method for managing pointers to external objects in a run-time environment
GB0305590D0 (en) * 2003-03-11 2003-04-16 Smart Holograms Ltd Sensors and their production
US7609743B2 (en) * 2004-04-27 2009-10-27 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Volume Bragg lasers based on high efficiency diffractive elements in photo-thermo-refractive glass
US20060147810A1 (en) * 2004-12-14 2006-07-06 Koch Gene C Holographic optical elements, devices and methods
US20070041421A1 (en) * 2005-08-18 2007-02-22 Texas Instruments Incorporated Holographic element for stabilizing coupled laser and SHG resonators
US7742672B2 (en) * 2005-08-24 2010-06-22 General Electric Company Composition, optical device article, and associated method
US8179526B2 (en) 2007-01-25 2012-05-15 Renishaw Plc Spectroscopic apparatus with dispersive device for collecting sample data in synchronism with relative movement of a focus
GB0707692D0 (en) * 2007-04-20 2007-05-30 Smart Holograms Ltd Methods of making holographic devices
GB0708582D0 (en) 2007-05-03 2007-06-13 Renishaw Plc Spectroscope apparatus and methods
US20090201782A1 (en) * 2008-02-07 2009-08-13 International Business Machines Corporation Holographic disk with optical-notch-filter label
DE102008052067A1 (de) * 2008-10-17 2010-04-22 Ovd Kinegram Ag Volumenhologramm mit Expansionsmittelschicht bzw. Kontraktionsmittelschicht
CN101982310B (zh) * 2010-08-30 2014-05-21 昆山展亮电子材料有限公司 塑料载带快速成型工艺
EP3132316A1 (en) * 2014-04-18 2017-02-22 E. I. du Pont de Nemours and Company Multilayer film and authentication label
TWI722990B (zh) * 2014-06-25 2021-04-01 日商日東電工股份有限公司 改善色彩識別的裝置及其製作和使用方法
WO2016091965A1 (de) * 2014-12-12 2016-06-16 Covestro Deutschland Ag Naphthylacrylate als schreibmonomere für photopolymere
JP6722672B2 (ja) * 2014-12-19 2020-07-15 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ Ａｇ 水分に安定なホログラフィック媒体
GB201604995D0 (en) * 2016-03-24 2016-05-11 Bae Systems Plc Filter
DE102017124296A1 (de) 2017-10-18 2019-04-18 Carl Zeiss Jena Gmbh Leuchteinrichtung für Fahrzeuge
EP3495886A1 (de) * 2017-12-06 2019-06-12 Covestro Deutschland AG Klebstofffreier photopolymerschichtaufbau
DE102018115574A1 (de) 2018-06-28 2020-01-02 Carl Zeiss Jena Gmbh Leuchteneinrichtung für Fahrzeuge
DE102018117001A1 (de) 2018-07-13 2020-01-16 Carl Zeiss Jena Gmbh Leuchteinrichtung für Fahrzeuge

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4945254B1 (ja) * 1969-05-15 1974-12-03
BE755251A (fr) * 1969-08-25 1971-02-25 Du Pont Enregistrement holographique dans des couches photopoly- merisables
US3809732A (en) * 1972-12-18 1974-05-07 Bell Telephone Labor Inc Photo-locking technique for producing integrated optical circuits
US3993485A (en) * 1975-05-27 1976-11-23 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Photopolymerization process and related devices
JPS5315152A (en) * 1976-07-27 1978-02-10 Canon Inc Hologram
US4786125A (en) * 1983-08-22 1988-11-22 Farrand Optical Co. Ocular protective apparatus
US4802719A (en) * 1983-08-22 1989-02-07 Farrand Optical Co. Infra-red laser shield
US4535041A (en) * 1984-08-20 1985-08-13 Polaroid Corporation Stabilization of holograms
US4942102A (en) * 1988-01-15 1990-07-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic optical elements having a reflection hologram formed in a photopolymer
US4950567A (en) * 1988-01-15 1990-08-21 E. I. Du Pont De Nemours And Company Holographic optical combiners for head-up displays

Also Published As

Publication number Publication date
AU5613190A (en) 1991-05-09
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