JPH06101317B2 - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPH06101317B2 JPH06101317B2 JP62212803A JP21280387A JPH06101317B2 JP H06101317 B2 JPH06101317 B2 JP H06101317B2 JP 62212803 A JP62212803 A JP 62212803A JP 21280387 A JP21280387 A JP 21280387A JP H06101317 B2 JPH06101317 B2 JP H06101317B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- discharge
- plasma
- ray generator
- electrode
- ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、Ｘ線発生装置に係り、特に半導体集積回路製
造のための微細パターン転写用露光装置に用いて、高安
定な軟Ｘ線を発生するＸ線発生装置に関する。
造のための微細パターン転写用露光装置に用いて、高安
定な軟Ｘ線を発生するＸ線発生装置に関する。
〔従来の技術〕 近年、より高性能な半導体集積回路を製造するために、
0.5μｍ以下の寸法を有する微細パターンを、半導体基
板上に形成する要求が高まっている。Ｘ線（主に４〜13
Åの軟Ｘ線）を使用したパターンの精度が極めて高く、
特にサブミクロンパターン形成において有力な技術とさ
れている。
0.5μｍ以下の寸法を有する微細パターンを、半導体基
板上に形成する要求が高まっている。Ｘ線（主に４〜13
Åの軟Ｘ線）を使用したパターンの精度が極めて高く、
特にサブミクロンパターン形成において有力な技術とさ
れている。
ところで、Ｘ線露光法を実施するには高出力で安定なＸ
線発生装置を必要とする。そこで最近、放電プラズマを
Ｘ線源とするＸ線発生装置が研究されている。この方式
は放電によりプラズマを生成し、プラズマに数100kAの
大電流を流すことによつて、電流の作る磁場とプラズマ
との電磁作用によりプラズマを自己収束（ピンチ）させ
て、高温・高密度のプラズマを形成し、その高温・高密
度プラズマからＸ線を発生させる装置である。このよう
に、大電流を流してプラズマを形成する装置であること
から、プラズマ生成用電極、放電スイツチ等の消耗対策
が必要となる。
線発生装置を必要とする。そこで最近、放電プラズマを
Ｘ線源とするＸ線発生装置が研究されている。この方式
は放電によりプラズマを生成し、プラズマに数100kAの
大電流を流すことによつて、電流の作る磁場とプラズマ
との電磁作用によりプラズマを自己収束（ピンチ）させ
て、高温・高密度のプラズマを形成し、その高温・高密
度プラズマからＸ線を発生させる装置である。このよう
に、大電流を流してプラズマを形成する装置であること
から、プラズマ生成用電極、放電スイツチ等の消耗対策
が必要となる。
この対策案として特開昭61−173496に示されている様
に、プラズマ生成用電極と並列に短絡器を設けることが
提案されている。第４図を用いて説明する。プラズマ生
成用電極３に放電スイツチ２を介して、コンデンサ１が
接続されている。コンデンサ１は電流制限用抵抗６を介
して充電用電源７に接続されている。８は安定化抵抗、
９はプラズマ生成用電源３と並列に接続された短絡器、
10は放電スイツチ２及び短絡器９の開閉を制御するもの
で放電スイツチ２を閉じてから設定可変の遅れ時間が経
過した時点に短絡器９を閉じさせる制御を行う制御回路
である。４はプラズマ生成電極３間で発生したプラズマ
で、このプラズマ中からＸ線５を発生させる。
に、プラズマ生成用電極と並列に短絡器を設けることが
提案されている。第４図を用いて説明する。プラズマ生
成用電極３に放電スイツチ２を介して、コンデンサ１が
接続されている。コンデンサ１は電流制限用抵抗６を介
して充電用電源７に接続されている。８は安定化抵抗、
９はプラズマ生成用電源３と並列に接続された短絡器、
10は放電スイツチ２及び短絡器９の開閉を制御するもの
で放電スイツチ２を閉じてから設定可変の遅れ時間が経
過した時点に短絡器９を閉じさせる制御を行う制御回路
である。４はプラズマ生成電極３間で発生したプラズマ
で、このプラズマ中からＸ線５を発生させる。
第５図は従来例配置を示す。11は放電スイツチ容器、12
は短絡器容器、13は放電容器、14は電力伝送板、15は絶
縁物である。
は短絡器容器、13は放電容器、14は電力伝送板、15は絶
縁物である。
上記従来技術は短絡器の時間制御の点について配慮がさ
れておらず、短絡器を作動させるのに問題があつた。す
なわち、プラズマ生成用電極３に流れる大電流は、一般
に立ち上り時間約１〜２μｓで、放電ノイズ中に、放電
電流を検知し、短絡器の遅れ時間を１μｓ程度のオーダ
ーで制御することは、大電流技術の点で仲々困難であ
る。しかもこの動作を毎秒数回で107〜108回の寿命が要
求される。しかも短絡器も放電スイツチと同様消耗度に
は、ほぼ同程度となるので、第５図例のように複数個設
ける。このためＸ線発生装置として大型化し、クリーン
ルームの専有面積が大きくなるという問題点もあつた。
れておらず、短絡器を作動させるのに問題があつた。す
なわち、プラズマ生成用電極３に流れる大電流は、一般
に立ち上り時間約１〜２μｓで、放電ノイズ中に、放電
電流を検知し、短絡器の遅れ時間を１μｓ程度のオーダ
ーで制御することは、大電流技術の点で仲々困難であ
る。しかもこの動作を毎秒数回で107〜108回の寿命が要
求される。しかも短絡器も放電スイツチと同様消耗度に
は、ほぼ同程度となるので、第５図例のように複数個設
ける。このためＸ線発生装置として大型化し、クリーン
ルームの専有面積が大きくなるという問題点もあつた。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点を除去し、安
定なＸ線出力が得られ、プラズマ生成用電極の消耗を低
減化することのできるＸ線発生装置を提供することにあ
る。
定なＸ線出力が得られ、プラズマ生成用電極の消耗を低
減化することのできるＸ線発生装置を提供することにあ
る。
本発明では上記目的を達成するために、同一容器内にプ
ラズマ生成用電極と並列に放電ギヤツプを設けた。
ラズマ生成用電極と並列に放電ギヤツプを設けた。
放電ギヤツプは、放電開始前においては、印加電圧に対
して、耐電圧する様に設定されているが、一度プラズマ
生成用電極で放電が開始すると、ガスが発生するため、
放電ギヤツプの耐電圧が落ち、減衰振動波形の途中で、
放電ギヤツプが働く。このためギヤツプが作動後の電流
は、プラズマ生成電極に流れず、消耗の低減を計ること
ができる。しかも、時間制御の点において、放電スイツ
チと連動する必要はなく、高度な制御機器は不要とな
る。
して、耐電圧する様に設定されているが、一度プラズマ
生成用電極で放電が開始すると、ガスが発生するため、
放電ギヤツプの耐電圧が落ち、減衰振動波形の途中で、
放電ギヤツプが働く。このためギヤツプが作動後の電流
は、プラズマ生成電極に流れず、消耗の低減を計ること
ができる。しかも、時間制御の点において、放電スイツ
チと連動する必要はなく、高度な制御機器は不要とな
る。
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。ここ
で第４図、第５図の従来例と同一構成要素には同一番号
を付けてある。放電容器13に対向するプラズマ生成用電
極31,32を設け、電極32は通電路33に接合されている。
回路のインダクタンスを低減させるため、電極31,32と
通電路33は同軸上に、絶縁物18を介して配置されてい
る。放電ギヤツプは電極31と通電路33に対向配置してい
る。真空容器13にはＸ線取出窓16を設けてある。
で第４図、第５図の従来例と同一構成要素には同一番号
を付けてある。放電容器13に対向するプラズマ生成用電
極31,32を設け、電極32は通電路33に接合されている。
回路のインダクタンスを低減させるため、電極31,32と
通電路33は同軸上に、絶縁物18を介して配置されてい
る。放電ギヤツプは電極31と通電路33に対向配置してい
る。真空容器13にはＸ線取出窓16を設けてある。
Ｘ線発生にあたつては、コンデンサ１に充電装置７より
電流制限抵抗６を介して充電する。充電後、放電スイツ
チ２を入れると、プラズマ生成電極31,32間で放電が開
始し、放電プラズマがピンチレ、高温・高密度プラズマ
中からＸ線５を発生する。プラズマが発生すると、容器
13内の真空度が低下する。このため放電ギヤツプの耐電
圧が落ち、減衰振動電流波形の途中で、放電ギヤツプが
働く、このためギヤツプ作動後の電流はプラズマ生成電
極に流れず、消耗の低減を計る効果がある。Ｘ線発生
は、一般に電流値が最も大きくなる最初の1/4周期内で
生じるため、減衰振動波形の途中で放電ギヤツプが働い
ても、Ｘ線発生そのものには影響しない。本発明の場
合、放電ギヤツプ17をプラズマ生成用電極31,33と同一
容器13内に設けているため、Ｘ線発生装置は大型化せ
ず、クリーンルームの専有面積を小さくできるとう効果
もある。
電流制限抵抗６を介して充電する。充電後、放電スイツ
チ２を入れると、プラズマ生成電極31,32間で放電が開
始し、放電プラズマがピンチレ、高温・高密度プラズマ
中からＸ線５を発生する。プラズマが発生すると、容器
13内の真空度が低下する。このため放電ギヤツプの耐電
圧が落ち、減衰振動電流波形の途中で、放電ギヤツプが
働く、このためギヤツプ作動後の電流はプラズマ生成電
極に流れず、消耗の低減を計る効果がある。Ｘ線発生
は、一般に電流値が最も大きくなる最初の1/4周期内で
生じるため、減衰振動波形の途中で放電ギヤツプが働い
ても、Ｘ線発生そのものには影響しない。本発明の場
合、放電ギヤツプ17をプラズマ生成用電極31,33と同一
容器13内に設けているため、Ｘ線発生装置は大型化せ
ず、クリーンルームの専有面積を小さくできるとう効果
もある。
第２図は本発明の他の実施例を示す。プラズマ発生部を
ガス注入型の電極構成で実施した場合である。20は高速
ガス開閉ガスバルブである。電極31,33間にガス19を注
入して、一定の遅延時間後に放電させ、プラズマを形成
する方式である。本実施例の場合においても、第１図と
同様の効果を得ることができる。
ガス注入型の電極構成で実施した場合である。20は高速
ガス開閉ガスバルブである。電極31,33間にガス19を注
入して、一定の遅延時間後に放電させ、プラズマを形成
する方式である。本実施例の場合においても、第１図と
同様の効果を得ることができる。
第３図はさらに他の実施例で、第１図のAB断面図であ
る。同軸上に配設された電極31と通電路33間に複数の放
電ギヤツプ対（第３図は４組）を設けてある。放電ギヤ
ツプを複数個設けることにより、多数回放電による寿命
を長くする効果がある。一部の放電ギヤツプに初期段階
で集中し、放電ギヤツプ間隙長が消耗のため長くなつた
としても、他の放電ギヤツプが作動し、安定なＸ線発生
装置を提供することができる。
る。同軸上に配設された電極31と通電路33間に複数の放
電ギヤツプ対（第３図は４組）を設けてある。放電ギヤ
ツプを複数個設けることにより、多数回放電による寿命
を長くする効果がある。一部の放電ギヤツプに初期段階
で集中し、放電ギヤツプ間隙長が消耗のため長くなつた
としても、他の放電ギヤツプが作動し、安定なＸ線発生
装置を提供することができる。
本発明によれば、同一容器内にプラズマ生成用電極と並
列に放電ギヤツプを設けたものであるから、プラズマ生
成電極放電開始後、減衰振動電流波形の途中で、放電ギ
ヤツプが作動し、プラズマ生成電極の消耗を低減できる
効果を有する。さらに、放電ギヤツプを同一容器内に設
けてあるため、Ｘ線発生装置を小型化できる効果もあ
る。
列に放電ギヤツプを設けたものであるから、プラズマ生
成電極放電開始後、減衰振動電流波形の途中で、放電ギ
ヤツプが作動し、プラズマ生成電極の消耗を低減できる
効果を有する。さらに、放電ギヤツプを同一容器内に設
けてあるため、Ｘ線発生装置を小型化できる効果もあ
る。
第１図は本発明の一実施例の縦断面図、第２図は本発明
の他の実施例の縦断面図、第３図は第１図のAB断面図、
第４図は従来例の構成図、第５図は従来例の配置図であ
る。 31,32…プラズマ生成電極、33…通電路、17…放電ギヤ
ツプ。
の他の実施例の縦断面図、第３図は第１図のAB断面図、
第４図は従来例の構成図、第５図は従来例の配置図であ
る。 31,32…プラズマ生成電極、33…通電路、17…放電ギヤ
ツプ。
Claims (2)
- 【請求項１】プラズマ生成用の少なくとも一対の電極
が、放電スイツチを介してコンデンサに接続され、前記
コンデンサは充電用電源に接続されたＸ線発生装置にお
いて、上記プラズマ生成用電極と並列に放電ギヤツプを
設けたことを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項において、前記プラ
ズマ生成用電極と放電ギヤツプを同一容器内に設けたこ
とを特徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62212803A JPH06101317B2 (ja) | 1987-08-28 | 1987-08-28 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62212803A JPH06101317B2 (ja) | 1987-08-28 | 1987-08-28 | Ｘ線発生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6457551A JPS6457551A (en) | 1989-03-03 |
| JPH06101317B2 true JPH06101317B2 (ja) | 1994-12-12 |
Family
ID=16628633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62212803A Expired - Lifetime JPH06101317B2 (ja) | 1987-08-28 | 1987-08-28 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06101317B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100594428C (zh) * | 2002-09-19 | 2010-03-17 | Asml荷兰有限公司 | 辐射源、光刻装置和器件的制造方法 |
| JP2007172347A (ja) * | 2005-12-22 | 2007-07-05 | Toshiba Tec Corp | コード読取装置およびコード読取りプログラム |
| JP5900172B2 (ja) * | 2012-06-08 | 2016-04-06 | 株式会社Ihi | プラズマ光源 |
-
1987
- 1987-08-28 JP JP62212803A patent/JPH06101317B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6457551A (en) | 1989-03-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6116571B2 (ja) | ||
| JP2001238470A (ja) | パルス電力発生用スイッチ回路 | |
| JP2002359979A (ja) | 高電圧パルス発生回路 | |
| JPH08132321A (ja) | 放電励起パルスレーザ装置 | |
| JPH06101317B2 (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JPH0642462B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
| JP2564390B2 (ja) | 真空スイツチ | |
| US7166853B2 (en) | Active method and system of establishing electrical contact | |
| US4443682A (en) | Superimposed high striking voltage power supply circuit for electrical discharge machining | |
| EP0077930B1 (en) | Gate turn-off thyristor | |
| JPS62108588A (ja) | 充放電装置 | |
| Chang | Electromagnetic emissions from atmospheric pressure gas discharges | |
| JP4119991B2 (ja) | パルス電源回路及びこれを利用した放電光源とその駆動方法 | |
| US3504232A (en) | Laser controlled spark-gap means for a circuit for providing a magnetic field | |
| JPS6436204A (en) | Radio frequency generator | |
| JPS63229786A (ja) | 高繰返しパルスレ−ザ電源装置 | |
| JPS6086743A (ja) | ガスプラズマ型エツクス線発生装置 | |
| JP2532597B2 (ja) | プラズマｘ線発生装置 | |
| Chang | Research of Dual Spark Gap Application for High Voltage Pulse Generator | |
| JPS63228554A (ja) | プラズマｘ線発生装置 | |
| JPH0760649B2 (ja) | Ｘ線発生装置 | |
| JP2532443B2 (ja) | プラズマｘ線発生装置 | |
| JPH02103977A (ja) | パルスレーザ用電源 | |
| JPS61193344A (ja) | プラズマｘ線装置 | |
| JP2693566B2 (ja) | パルス発生装置 |