JPH06100549A - ２−アミノオキサゾリン誘導体 - Google Patents
２−アミノオキサゾリン誘導体Info
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- JPH06100549A JPH06100549A JP5175077A JP17507793A JPH06100549A JP H06100549 A JPH06100549 A JP H06100549A JP 5175077 A JP5175077 A JP 5175077A JP 17507793 A JP17507793 A JP 17507793A JP H06100549 A JPH06100549 A JP H06100549A
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- naphthyl
- naphthylmethyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】一般式
【化５４】
［式中、Ｒ1 はアルキル基、アラルキル基、アリル基、
シリル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、Ｒ6 ＯＣ
Ｏ−基（式中、Ｒ6 はアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基又はシリル基を示す。）あるいは保護されていて
もよいグルコシル基またはガラクトシル基を示し、Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異なって水素原子、
アルキル基又は水酸基の保護基を示す。］で表される化
合物。 【効果】本発明の化合物は、優れた糖加水分解酵素阻害
活性を有する。また、本発明方法により、これら誘導体
を効率よく製造できる。
シリル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、Ｒ6 ＯＣ
Ｏ−基（式中、Ｒ6 はアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基又はシリル基を示す。）あるいは保護されていて
もよいグルコシル基またはガラクトシル基を示し、Ｒ
2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異なって水素原子、
アルキル基又は水酸基の保護基を示す。］で表される化
合物。 【効果】本発明の化合物は、優れた糖加水分解酵素阻害
活性を有する。また、本発明方法により、これら誘導体
を効率よく製造できる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた糖加水分解酵素
阻害活性を有し、抗肥満薬、抗糖尿病薬、殺虫剤及び抗
ＨＩＶ剤として有用な２−アミノオキサゾリン誘導体及
びそ製法に関する。
阻害活性を有し、抗肥満薬、抗糖尿病薬、殺虫剤及び抗
ＨＩＶ剤として有用な２−アミノオキサゾリン誘導体及
びそ製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】優れた糖加水分解酵素阻害活性を有し、
抗肥満薬、抗糖尿病薬、殺虫剤及び抗ＨＩＶ剤として有
用な２−アミノオキサゾリン誘導体
抗肥満薬、抗糖尿病薬、殺虫剤及び抗ＨＩＶ剤として有
用な２−アミノオキサゾリン誘導体
【０００３】
【化５】
【０００４】は、従来、ミクロモノスポラ属放線菌の培
養液より単離されているトレハゾリン（ジャーナル・オ
ブ・アンチバイオティクス、４４巻、１１６５頁、１９
９１年）を加水分解することにより製造するか、また
は、ミクロモノスポラ属放線菌若しくはアミコラトプシ
ス属放線菌の培養液から単離することにより直接得られ
ているが（特願平３−２１３４５０号）、いずれの方法
によっても大量に目的物である２−アミノオキサゾリン
誘導体を得ることは困難であり、実用性はなかった。ま
た、さらに高い活性を有する種々の誘導体合成（例え
ば、水酸基の配位の異なる誘導体）も得ることもできな
かった。
養液より単離されているトレハゾリン（ジャーナル・オ
ブ・アンチバイオティクス、４４巻、１１６５頁、１９
９１年）を加水分解することにより製造するか、また
は、ミクロモノスポラ属放線菌若しくはアミコラトプシ
ス属放線菌の培養液から単離することにより直接得られ
ているが（特願平３−２１３４５０号）、いずれの方法
によっても大量に目的物である２−アミノオキサゾリン
誘導体を得ることは困難であり、実用性はなかった。ま
た、さらに高い活性を有する種々の誘導体合成（例え
ば、水酸基の配位の異なる誘導体）も得ることもできな
かった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、前述し
た優れた糖加水分解酵素阻害活性を有する２−アミノオ
キサゾリン誘導体について、また、それら誘導体を、容
易に入手しうる既知物質を利用して、簡便に、短工程
で、大量に、安価で、高収率で、かつ、種々の誘導体を
も効率よく製造する方法について、永年に亘り鋭意研究
を行なった結果、これらの課題を達成できる新規で優れ
た２−アミノオキサゾリン誘導体及びその製造法を見出
し、本発明を完成した。
た優れた糖加水分解酵素阻害活性を有する２−アミノオ
キサゾリン誘導体について、また、それら誘導体を、容
易に入手しうる既知物質を利用して、簡便に、短工程
で、大量に、安価で、高収率で、かつ、種々の誘導体を
も効率よく製造する方法について、永年に亘り鋭意研究
を行なった結果、これらの課題を達成できる新規で優れ
た２−アミノオキサゾリン誘導体及びその製造法を見出
し、本発明を完成した。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の化合物は、一般
式
式
【０００７】
【化６】
【０００８】［式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、
アラルキル基、アリル基、シリル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、Ｒ6 ＯＣＯ−基（式中、Ｒ6 はアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基又はシリル基を示
す。）あるいは保護されていてもよいグルコシル基また
はガラクトシル基を示し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は
同一又は異なって水素原子、アルキル基又は水酸基の保
護基を示す。但し、下記Ａ群に記載される化合物を除
く。］で表される化合物である。
アラルキル基、アリル基、シリル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、Ｒ6 ＯＣＯ−基（式中、Ｒ6 はアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基又はシリル基を示
す。）あるいは保護されていてもよいグルコシル基また
はガラクトシル基を示し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は
同一又は異なって水素原子、アルキル基又は水酸基の保
護基を示す。但し、下記Ａ群に記載される化合物を除
く。］で表される化合物である。
【０００９】［Ａ群］
【００１０】
【化７】
【００１１】また、本発明のアミノオキサゾリン誘導体
の製法は、以下に示す方法である。すなわち、一般式
の製法は、以下に示す方法である。すなわち、一般式
【００１２】
【化８】
【００１３】［式中、Ｒ1 は、水素原子、アルキル基、
アラルキル基、アリル基、シリル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、Ｒ6 ＯＣＯ−基（式中、Ｒ6 はアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基又はシリル基を示
す。）あるいは保護されていてもよいグルコシル基又は
ガラクトシル基を示し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同
一又は異なって水素原子、アルキル基又は水酸基の保護
基を示す。］で表される化合物に、脱硫化水素剤を反応
させることを特徴とする一般式
アラルキル基、アリル基、シリル基、脂肪族アシル基、
芳香族アシル基、Ｒ6 ＯＣＯ−基（式中、Ｒ6 はアルキ
ル基、アラルキル基、アリール基又はシリル基を示
す。）あるいは保護されていてもよいグルコシル基又は
ガラクトシル基を示し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同
一又は異なって水素原子、アルキル基又は水酸基の保護
基を示す。］で表される化合物に、脱硫化水素剤を反応
させることを特徴とする一般式
【００１４】
【化９】
【００１５】［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5
は前述のものと同意義を示す。］で表される２−アミノ
オキサゾリン化合物の製法である。
は前述のものと同意義を示す。］で表される２−アミノ
オキサゾリン化合物の製法である。
【００１６】上記式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 、Ｒ5
及びＲ6 のアルキル基としては、炭素数１乃至４個の直
鎖又は分枝鎖のものであり、例えば、メチル、エチル、
n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-
ブチル、t-ブチル基があげられ、好適には、メチル、エ
チル基である。
及びＲ6 のアルキル基としては、炭素数１乃至４個の直
鎖又は分枝鎖のものであり、例えば、メチル、エチル、
n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブチル、s-
ブチル、t-ブチル基があげられ、好適には、メチル、エ
チル基である。
【００１７】Ｒ1 及びＲ6 のシリル基としては、例え
ば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピ
ルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、ジエチル
イソプロピルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メ
チルジ-t- ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのよ
うなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリ
ル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピル
シリル、フェニルジイソプロピルシリルのような1 乃至
2 個のアリ−ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル
基等のシリル基があげられ、好適には、t-ブチルジメチ
ルシリル基である。
ば、トリメチルシリル、トリエチルシリル、イソプロピ
ルジメチルシリル、t-ブチルジメチルシリル、ジエチル
イソプロピルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メ
チルジ-t- ブチルシリル、トリイソプロピルシリルのよ
うなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシリ
ル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピル
シリル、フェニルジイソプロピルシリルのような1 乃至
2 個のアリ−ル基で置換されたトリ低級アルキルシリル
基等のシリル基があげられ、好適には、t-ブチルジメチ
ルシリル基である。
【００１８】Ｒ1 の脂肪族アシル基としては、炭素数１
乃至６個の直鎖又は分枝鎖のものであり、例えば、ホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイルオキシ、ピバロイルオキシ基があげら
れ、好適には、アセチル基である。
乃至６個の直鎖又は分枝鎖のものであり、例えば、ホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイルオキシ、ピバロイルオキシ基があげら
れ、好適には、アセチル基である。
【００１９】Ｒ1 及びＲ6 のアラルキル基としては、ベ
ンジル、フェネチル、ナフチルメチル、ナフチルエチル
基及びこれらに置換基を導入有した基であり、具体的に
は、べンジル、α- ナフチルメチル、β- ナフチルメチ
ル、1-フェネチル、2-フェネチル、1-ナフチルエチル、
2-ナフチルエチルのような無置換のアラルキル基；2-フ
ルオロベンジル、3-フルオロベンジル、4-フルオロベン
ジル、2-クロロベンジル、3-クロロベンジル、4-クロロ
ベンジル、2-ブロモベンジル、3-ブロモベンジル、4-ブ
ロモベンジル、3,5-ジフルオロベンジル、2,5-ジフルオ
ロフェネチル、2,6-ジフルオロベンジル、2,4-ジフルオ
ロフェネチル、3,5-ジブロモベンジル、2,5-ジブロモフ
ェネチル、2,6-ジクロロベンジル、2,4-ジクロロフェネ
チル、2,3,6-トリフルオロベンジル、2,3,4-トリフルオ
ロフェネチル、3,4,5-トリフルオロベンジル、2,5,6-ト
リフルオロフェネチル、2,4,6-トリフルオロベンジル、
2,3,6-トリブロモフェネチル、2,3,4-トリブロモベンジ
ル、3,4,5-トリブロモフェネチル、2,5,6-トリクロロベ
ンジル、2,4,6-トリクロロフェネチル、1-フルオロ- 2-
ナフチルメチル、2-フルオロ-1- ナフチルエチル、3-フ
ルオロ-1- ナフチルメチル、1-クロロ-2- ナフチルエチ
ル、2-クロロ-1- ナフチルメチル、3-ブロモ-1- ナフチ
ルエチル、3,8-ジフルオロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジ
フルオロ-1-ナフチルエチル、4,8-ジフルオロ-1- ナフ
チルメチル、5,6-ジフルオロ-1- ナフチルエチル、3,8-
ジクロロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジクロロ-1- ナフチ
ルエチル、4,8-ジブロモ-1- ナフチルメチル、5,6-ジブ
ロモ-1- ナフチルエチル、2,3,6-トリフルオロ-1- ナフ
チルメチル、2,3,4-トリフルオロ-1- ナフチルエチル、
3,4,5-トリフルオロ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリフ
ルオロ-1- ナフチルエチル、2,4,8-トリフルオロ-1- ナ
フチルメチルのようなハロゲン原子で置換されたアラル
キル基；2-トリフルオロメチルベンジル、3-トリフルオ
ロメチルフェネチル、4-トリフルオロメチルベンジル、
2-トリクロロメチルフェネチル、3-ジクロロメチルベン
ジル、4-トリクロロメチルフェネチル、2-トリブロモメ
チルベンジル、3-ジブロモメチルフェネチル、4-ジブロ
モメチルベンジル、3,5-ビストリフルオロメチルフェネ
チル、2,5-ビストリフルオロメチルベンジル、2,6-ビス
トリフルオロメチルフェネチル、2,4-ビストリフルオロ
メチルベンジル、3,5-ビストリブロモメチルフェネチ
ル、2,5-ビスジブロモメチルベンジル、2,6-ビスジクロ
ロメチルメチルフェネチル、2,4-ビスジクロロメチルベ
ンジル、2,3,6-トリストリフルオロメチルフェネチル、
2,3,4-トリストリフルオロメチルベンジル、3,4,5-トリ
ストリフルオロメチルフェネチル、2,5,6-トリストリフ
ルオロメチルベンジル、2,4,6-トリストリフルオロメチ
ルフェネチル、2,3,6-トリストリブロモメチルベンジ
ル、2,3,4-トリスジブロモメチルフェネチル、3,4,5-ト
リストリブロモメチルベンジル、2,5,6-トリスジクロロ
メチルメチルフェネチル、2,4,6-トリスジクロロメチル
ベンジル、1-トリフルオロメチル−2-ナフチルエチル、
2-トリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、3-トリフル
オロメチル-1- ナフチルエチル、1-トリクロロメチル−
2-ナフチルメチル、2-ジクロロメチル-1- ナフチルエチ
ル、3-トリブロモメチル-1- ナフチルメチル、3,8-ビス
トリフルオロメチル-1-ナフチルエチル、2,3-ビストリ
フルオロメチル-1- ナフチルメチル、4,8-ビストリフル
オロメチル-1- ナフチルエチル、5,6-ビストリフルオロ
メチル-1- ナフチルメチル、3,8-ビストリクロロメチル
-1- ナフチルエチル、2,3-ビスジクロロメチル-1- ナフ
チルメチル、4,8-ビスジブロモメチル-1- ナフチルエチ
ル、5,6-ビストリブロモメチル-1- ナフチルメチル、2,
3,6-トリストリフルオロメチル-1-ナフチルエチル、2,
3,4-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、3,
4,5-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルエチル、4,
5,6-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、2,
4,8-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルメチルのよ
うなハロゲノ低級アルキル基で置換されたアラルキル
基；2-メチルベンジル、3-メチルベンジル、4-メチルベ
ンジル、2-メチルフェネチル、4-メチルフェネチル、2-
エチルベンジル、3-プロピルフェネチル、4-エチルベン
ジル、2-ブチルフェネチル、3-ペンチルベンジル、4-ペ
ンチルフェネチル、3,5-ジメチルベンジル、2,5-ジメチ
ルフェネチル、2,6-ジメチルベンジル、2,4-ジメチルフ
ェネチル、3,5-ジブチルベンジル、2,5-ジペンチルフェ
ネチル、2,6-ジプロピルベンジル、2,4-ジプロピルフェ
ネチル、2,3,6-トリメチルベンジル、2,3,4-トリメチル
フェネチル、3,4,5-トリメチルベンジル、2,4,6-トリメ
チルベンジル、2,5,6-トリメチルフェネチル、2,3,6-ト
リブチルフェネチル、2,3,4-トリペンチルベンジル、3,
4,5-トリブチルフェネチル、2,5,6-トリプロピルベンジ
ル、2,4,6-トリプロピルフェネチル、1-メチル−2-ナフ
チルメチル、2-メチル-1- ナフチルエチル、3-メチル-1
- ナフチルメチル、1-エチル−2-ナフチルエチル、2-プ
ロピル-1- ナフチルメチル、3-ブチル-1- ナフチルエチ
ル、3,8-ジメチル-1- ナフチルメチル、2,3-ジメチル-1
- ナフチルエチル、4,8-ジメチル-1- ナフチルメチル、
5,6-ジメチル-1- ナフチルエチル、3,8-ジエチル-1- ナ
フチルメチル、2,3-ジプロピル-1- ナフチルメチル、4,
8-ジペンチル-1- ナフチルエチル、5,6-ジブチル-1- ナ
フチルメチル、2,3,6-トリメチル-1- ナフチルメチル、
2,3,4-トリメチル-1- ナフチルエチル、3,4,5-トリメチ
ル-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリメチル-1- ナフチル
メチル、2,4,8-トリメチル-1- ナフチルメチルのような
低級アルキル基で置換されたアラルキル基；2-メトキシ
ベンジル、3-メトキシベンジル、4-メトキシベンジル、
3-メトキシフェネチル、2-エトキシフェネチル、3-プロ
ポキシベンジル、4-エトキシフェネチル、2-ブトキシベ
ンジル、3-ペントキシフェネチル、4-ペントキシベンジ
ル、3,5-ジメトキシフェネチル、2,5-ジメトキシベンジ
ル、2,6-ジメトキシフェネチル、2,4-ジメトキシベンジ
ル、3,5-ジブトキシフェネチル、2,5-ジペントキシベン
ジル、2,6-ジプロポキシフェネチル、2,4-ジプロポキシ
ベンジル、2,3,6-トリメトキシフェネチル、2,3,4-トリ
メトキシベンジル、3,4,5-トリメトキシフェネチル、2,
5,6-トリメトキシベンジル、2,4,6-トリメトキシフェネ
チル、2,3,6-トリブトキシベンジル、2,3,4-トリペント
キシフェネチル、3,4,5-トリブトキシベンジル、2,5,6-
トリプロポキシフェネチル、2,4,6-トリプロポキシベン
ジル、1-メトキシ−2-ナフチルメチル、2-メトキシ-1-
ナフチルメチル、3-メトキシ-1- ナフチルエチル、1-エ
トキシ−2-ナフチルメチル、2-プロポキシ-1- ナフチル
メチル、3-ブトキシ-1- ナフチルエチル、3,8-ジメトキ
シ-1- ナフチルメチル、2,3-ジメトキシ-1- ナフチルメ
チル、4,8-ジメトキシ-1- ナフチルエチル、5,6-ジメト
キシ-1- ナフチルメチル、3,8-ジエトキシ-1- ナフチル
メチル、2,3-ジプロポキシ-1- ナフチルエチル、4,8-ジ
ペントキシ-1- ナフチルメチル、5,6-ジブトキシ-1- ナ
フチルメチル、2,3,6-トリメトキシ-1- ナフチルエチ
ル、2,3,4-トリメトキシ-1- ナフチルメチル、3,4,5-ト
リメトキシ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリメトキシ-1
- ナフチルエチル、2,4,8-トリメトキシ-1- ナフチルメ
チルのような低級アルコキシ基で置換されたアラルキル
基；2-アミノフェネチル、3-アミノベンジル、4-アミノ
フェネチル、3,5-ジアミノベンジル、2,5-ジアミノフェ
ネチル、2,6-ジアミノベンジル、2,4-ジアミノフェネチ
ル、2,3,6-トリアミノベンジル、2,3,4-トリアミノフェ
ネチル、3,4,5-トリアミノベンジル、2,5,6-トリアミノ
フェネチル、2,4,6-トリアミノベンジル、1-アミノ-2-
ナフチルメチル、2-アミノ-1- ナフチルエチル、3-アミ
ノ-1- ナフチルメチル、3,8-ジアミノ-1- ナフチルメチ
ル、2,3-ジアミノ-1- ナフチルエチル、4,8-ジアミノ-1
- ナフチルメチル、5,6-ジアミノ-1- ナフチルメチル、
2,3,6-トリアミノ-1- ナフチルエチル、2,3,4-トリアミ
ノ-1- ナフチルメチル、3,4,5-トリアミノ-1- ナフチル
メチル、4,5,6-トリアミノ-1- ナフチルエチル、2,4,8-
トリアミノ-1- ナフチルメチルのようなアミノ基で置換
されたアラルキル基；2-ニトロフェネチル、3-ニトロベ
ンジル、4-ニトロベンジル、4-ニトロフェネチル、3,5-
ジニトロベンジル、2,5-ジニトロフェネチル、2,6-ジニ
トロベンジル、2,4-ジニトロフェネチル、2,3,6-トリニ
トロベンジル、2,3,4-トリニトロフェネチル、3,4,5-ト
リニトロベンジル、2,5,6-トリニトロフェネチル、2,4,
6-トリニトロベンジル、1-ニトロ−2-ナフチルメチル、
2-ニトロ-1- ナフチルエチル、3-ニトロ-1-ナフチルメチル、3,8
-ジニトロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジニトロ-1- ナフ
チルエチル、4,8-ジニトロ-1- ナフチルメチル、5,6-ジ
ニトロ-1- ナフチルメチル、2,3,6-トリニトロ-1- ナフ
チルエチル、2,3,4-トリニトロ-1- ナフチルメチル、3,
4,5-トリニトロ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリニトロ
-1- ナフチルエチル、2,4,8-トリニトロ-1- ナフチルメ
チルのようなニトロ基で置換されたアラルキル基；2-シ
アノフェネチル、3-シアノベンジル、4-シアノベンジ
ル、4-シアノベンジルジフェニルメチル、4-シアノフェ
ネチル、3,5-ジシアノベンジル、2,5-ジシアノフェネチ
ル、2,6-ジシアノベンジル、2,4-ジシアノフェネチル、
2,3,6-トリシアノベンジル、2,3,4-トリシアノフェネチ
ル、3,4,5-トリシアノベンジル、2,5,6-トリシアノフェ
ネチル、2,4,6-トリシアノベンジル、1-シアノ−2-ナフ
チルメチル、3-シアノ-1- ナフチルメチル、3,8-ジシア
ノ-1- ナフチルメチル、2,3-ジシアノ-1- ナフチルエチ
ル、4,8-ジシアノ-1- ナフチルメチル、5,6-ジシアノ-1
- ナフチルメチル、2,3,6-トリシアノ-1- ナフチルエチ
ル、2,3,4-トリシアノ-1- ナフチルメチル、3,4,5-トリ
シアノ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリシアノ-1- ナフ
チルエチル、2,4,8-トリシアノ-1- ナフチルメチルのよ
うなシアノ基で置換されたアラルキル基；2-アセチルフ
ェネチル、3-アセチルベンジル、4-アセチルフェネチ
ル、3,5-ジアセチルベンジル、2,5-ジアセチルフェネチ
ル、2,6-ジアセチルベンジル、2,4-ジアセチルフェネチ
ル、2,3,6-トリプロピオニルベンジル、2,3,4-トリプロ
ピオニルフェネチル、3,4,5-トリプロピオニルベンジ
ル、2,5,6-トリブチリルフェネチル、2,4,6-トリブチリ
ルベンジル、1-アセチル−2-ナフチルメチル、2-アセチ
ル-1- ナフチルエチル、3-アセチル-1- ナフチルメチ
ル、3,8-ジアセチル-1- ナフチルメチル、2,3-ジプロピ
オニル-1- ナフチルエチル、4,8-ジブチリル-1- ナフチ
ルメチル、5,6-ジブチリル-1- ナフチルメチル、2,3,6-
トリアセチル-1- ナフチルエチル、2,3,4-トリアセチル
-1- ナフチルメチル、3,4,5-トリプロピオニル-1- ナフ
チルメチル、4,5,6-トリブチリル-1- ナフチルエチル、
2,4,8-トリブチリル-1- ナフチルメチルのような脂肪族
アシル基で置換されたアラルキル基；2-カルボキシフェ
ネチル、3-カルボキシベンジル、4-カルボキシフェネチ
ル、3,5-ジカルボキシベンジル、2,5-ジカルボキシフェ
ネチル、2,6-ジカルボキシベンジル、2,4-ジカルボキシ
フェネチルのようなカルボキシ基で置換されたアラルキ
ル基；2-カルバモイルベンジル、3-カルバモイルフェネ
チル、4-カルバモイルベンジル、3,5-ジカルバモイルフ
ェネチル、2,5-ジカルバモイルベンジル、2,6-ジカルバ
モイルフェネチル、2,4-ジカルバモイルベンジルのよう
なカルバモイル基で置換されたアラルキル基及び3,4-メ
チレンジオキシベンジル、3,4-メチレンジオキシフェネ
チルのようなアルキレンジオキシ基で置換されたアラル
キル基を挙げることができ、好適には、無置換のベンジ
ル基又は低級アルキル、低級アルコキシ若しくはニトロ
基で置換されたベンジル基があげられ、さらに好適に
は、無置換のベンジル基である。
ンジル、フェネチル、ナフチルメチル、ナフチルエチル
基及びこれらに置換基を導入有した基であり、具体的に
は、べンジル、α- ナフチルメチル、β- ナフチルメチ
ル、1-フェネチル、2-フェネチル、1-ナフチルエチル、
2-ナフチルエチルのような無置換のアラルキル基；2-フ
ルオロベンジル、3-フルオロベンジル、4-フルオロベン
ジル、2-クロロベンジル、3-クロロベンジル、4-クロロ
ベンジル、2-ブロモベンジル、3-ブロモベンジル、4-ブ
ロモベンジル、3,5-ジフルオロベンジル、2,5-ジフルオ
ロフェネチル、2,6-ジフルオロベンジル、2,4-ジフルオ
ロフェネチル、3,5-ジブロモベンジル、2,5-ジブロモフ
ェネチル、2,6-ジクロロベンジル、2,4-ジクロロフェネ
チル、2,3,6-トリフルオロベンジル、2,3,4-トリフルオ
ロフェネチル、3,4,5-トリフルオロベンジル、2,5,6-ト
リフルオロフェネチル、2,4,6-トリフルオロベンジル、
2,3,6-トリブロモフェネチル、2,3,4-トリブロモベンジ
ル、3,4,5-トリブロモフェネチル、2,5,6-トリクロロベ
ンジル、2,4,6-トリクロロフェネチル、1-フルオロ- 2-
ナフチルメチル、2-フルオロ-1- ナフチルエチル、3-フ
ルオロ-1- ナフチルメチル、1-クロロ-2- ナフチルエチ
ル、2-クロロ-1- ナフチルメチル、3-ブロモ-1- ナフチ
ルエチル、3,8-ジフルオロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジ
フルオロ-1-ナフチルエチル、4,8-ジフルオロ-1- ナフ
チルメチル、5,6-ジフルオロ-1- ナフチルエチル、3,8-
ジクロロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジクロロ-1- ナフチ
ルエチル、4,8-ジブロモ-1- ナフチルメチル、5,6-ジブ
ロモ-1- ナフチルエチル、2,3,6-トリフルオロ-1- ナフ
チルメチル、2,3,4-トリフルオロ-1- ナフチルエチル、
3,4,5-トリフルオロ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリフ
ルオロ-1- ナフチルエチル、2,4,8-トリフルオロ-1- ナ
フチルメチルのようなハロゲン原子で置換されたアラル
キル基；2-トリフルオロメチルベンジル、3-トリフルオ
ロメチルフェネチル、4-トリフルオロメチルベンジル、
2-トリクロロメチルフェネチル、3-ジクロロメチルベン
ジル、4-トリクロロメチルフェネチル、2-トリブロモメ
チルベンジル、3-ジブロモメチルフェネチル、4-ジブロ
モメチルベンジル、3,5-ビストリフルオロメチルフェネ
チル、2,5-ビストリフルオロメチルベンジル、2,6-ビス
トリフルオロメチルフェネチル、2,4-ビストリフルオロ
メチルベンジル、3,5-ビストリブロモメチルフェネチ
ル、2,5-ビスジブロモメチルベンジル、2,6-ビスジクロ
ロメチルメチルフェネチル、2,4-ビスジクロロメチルベ
ンジル、2,3,6-トリストリフルオロメチルフェネチル、
2,3,4-トリストリフルオロメチルベンジル、3,4,5-トリ
ストリフルオロメチルフェネチル、2,5,6-トリストリフ
ルオロメチルベンジル、2,4,6-トリストリフルオロメチ
ルフェネチル、2,3,6-トリストリブロモメチルベンジ
ル、2,3,4-トリスジブロモメチルフェネチル、3,4,5-ト
リストリブロモメチルベンジル、2,5,6-トリスジクロロ
メチルメチルフェネチル、2,4,6-トリスジクロロメチル
ベンジル、1-トリフルオロメチル−2-ナフチルエチル、
2-トリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、3-トリフル
オロメチル-1- ナフチルエチル、1-トリクロロメチル−
2-ナフチルメチル、2-ジクロロメチル-1- ナフチルエチ
ル、3-トリブロモメチル-1- ナフチルメチル、3,8-ビス
トリフルオロメチル-1-ナフチルエチル、2,3-ビストリ
フルオロメチル-1- ナフチルメチル、4,8-ビストリフル
オロメチル-1- ナフチルエチル、5,6-ビストリフルオロ
メチル-1- ナフチルメチル、3,8-ビストリクロロメチル
-1- ナフチルエチル、2,3-ビスジクロロメチル-1- ナフ
チルメチル、4,8-ビスジブロモメチル-1- ナフチルエチ
ル、5,6-ビストリブロモメチル-1- ナフチルメチル、2,
3,6-トリストリフルオロメチル-1-ナフチルエチル、2,
3,4-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、3,
4,5-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルエチル、4,
5,6-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルメチル、2,
4,8-トリストリフルオロメチル-1- ナフチルメチルのよ
うなハロゲノ低級アルキル基で置換されたアラルキル
基；2-メチルベンジル、3-メチルベンジル、4-メチルベ
ンジル、2-メチルフェネチル、4-メチルフェネチル、2-
エチルベンジル、3-プロピルフェネチル、4-エチルベン
ジル、2-ブチルフェネチル、3-ペンチルベンジル、4-ペ
ンチルフェネチル、3,5-ジメチルベンジル、2,5-ジメチ
ルフェネチル、2,6-ジメチルベンジル、2,4-ジメチルフ
ェネチル、3,5-ジブチルベンジル、2,5-ジペンチルフェ
ネチル、2,6-ジプロピルベンジル、2,4-ジプロピルフェ
ネチル、2,3,6-トリメチルベンジル、2,3,4-トリメチル
フェネチル、3,4,5-トリメチルベンジル、2,4,6-トリメ
チルベンジル、2,5,6-トリメチルフェネチル、2,3,6-ト
リブチルフェネチル、2,3,4-トリペンチルベンジル、3,
4,5-トリブチルフェネチル、2,5,6-トリプロピルベンジ
ル、2,4,6-トリプロピルフェネチル、1-メチル−2-ナフ
チルメチル、2-メチル-1- ナフチルエチル、3-メチル-1
- ナフチルメチル、1-エチル−2-ナフチルエチル、2-プ
ロピル-1- ナフチルメチル、3-ブチル-1- ナフチルエチ
ル、3,8-ジメチル-1- ナフチルメチル、2,3-ジメチル-1
- ナフチルエチル、4,8-ジメチル-1- ナフチルメチル、
5,6-ジメチル-1- ナフチルエチル、3,8-ジエチル-1- ナ
フチルメチル、2,3-ジプロピル-1- ナフチルメチル、4,
8-ジペンチル-1- ナフチルエチル、5,6-ジブチル-1- ナ
フチルメチル、2,3,6-トリメチル-1- ナフチルメチル、
2,3,4-トリメチル-1- ナフチルエチル、3,4,5-トリメチ
ル-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリメチル-1- ナフチル
メチル、2,4,8-トリメチル-1- ナフチルメチルのような
低級アルキル基で置換されたアラルキル基；2-メトキシ
ベンジル、3-メトキシベンジル、4-メトキシベンジル、
3-メトキシフェネチル、2-エトキシフェネチル、3-プロ
ポキシベンジル、4-エトキシフェネチル、2-ブトキシベ
ンジル、3-ペントキシフェネチル、4-ペントキシベンジ
ル、3,5-ジメトキシフェネチル、2,5-ジメトキシベンジ
ル、2,6-ジメトキシフェネチル、2,4-ジメトキシベンジ
ル、3,5-ジブトキシフェネチル、2,5-ジペントキシベン
ジル、2,6-ジプロポキシフェネチル、2,4-ジプロポキシ
ベンジル、2,3,6-トリメトキシフェネチル、2,3,4-トリ
メトキシベンジル、3,4,5-トリメトキシフェネチル、2,
5,6-トリメトキシベンジル、2,4,6-トリメトキシフェネ
チル、2,3,6-トリブトキシベンジル、2,3,4-トリペント
キシフェネチル、3,4,5-トリブトキシベンジル、2,5,6-
トリプロポキシフェネチル、2,4,6-トリプロポキシベン
ジル、1-メトキシ−2-ナフチルメチル、2-メトキシ-1-
ナフチルメチル、3-メトキシ-1- ナフチルエチル、1-エ
トキシ−2-ナフチルメチル、2-プロポキシ-1- ナフチル
メチル、3-ブトキシ-1- ナフチルエチル、3,8-ジメトキ
シ-1- ナフチルメチル、2,3-ジメトキシ-1- ナフチルメ
チル、4,8-ジメトキシ-1- ナフチルエチル、5,6-ジメト
キシ-1- ナフチルメチル、3,8-ジエトキシ-1- ナフチル
メチル、2,3-ジプロポキシ-1- ナフチルエチル、4,8-ジ
ペントキシ-1- ナフチルメチル、5,6-ジブトキシ-1- ナ
フチルメチル、2,3,6-トリメトキシ-1- ナフチルエチ
ル、2,3,4-トリメトキシ-1- ナフチルメチル、3,4,5-ト
リメトキシ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリメトキシ-1
- ナフチルエチル、2,4,8-トリメトキシ-1- ナフチルメ
チルのような低級アルコキシ基で置換されたアラルキル
基；2-アミノフェネチル、3-アミノベンジル、4-アミノ
フェネチル、3,5-ジアミノベンジル、2,5-ジアミノフェ
ネチル、2,6-ジアミノベンジル、2,4-ジアミノフェネチ
ル、2,3,6-トリアミノベンジル、2,3,4-トリアミノフェ
ネチル、3,4,5-トリアミノベンジル、2,5,6-トリアミノ
フェネチル、2,4,6-トリアミノベンジル、1-アミノ-2-
ナフチルメチル、2-アミノ-1- ナフチルエチル、3-アミ
ノ-1- ナフチルメチル、3,8-ジアミノ-1- ナフチルメチ
ル、2,3-ジアミノ-1- ナフチルエチル、4,8-ジアミノ-1
- ナフチルメチル、5,6-ジアミノ-1- ナフチルメチル、
2,3,6-トリアミノ-1- ナフチルエチル、2,3,4-トリアミ
ノ-1- ナフチルメチル、3,4,5-トリアミノ-1- ナフチル
メチル、4,5,6-トリアミノ-1- ナフチルエチル、2,4,8-
トリアミノ-1- ナフチルメチルのようなアミノ基で置換
されたアラルキル基；2-ニトロフェネチル、3-ニトロベ
ンジル、4-ニトロベンジル、4-ニトロフェネチル、3,5-
ジニトロベンジル、2,5-ジニトロフェネチル、2,6-ジニ
トロベンジル、2,4-ジニトロフェネチル、2,3,6-トリニ
トロベンジル、2,3,4-トリニトロフェネチル、3,4,5-ト
リニトロベンジル、2,5,6-トリニトロフェネチル、2,4,
6-トリニトロベンジル、1-ニトロ−2-ナフチルメチル、
2-ニトロ-1- ナフチルエチル、3-ニトロ-1-ナフチルメチル、3,8
-ジニトロ-1- ナフチルメチル、2,3-ジニトロ-1- ナフ
チルエチル、4,8-ジニトロ-1- ナフチルメチル、5,6-ジ
ニトロ-1- ナフチルメチル、2,3,6-トリニトロ-1- ナフ
チルエチル、2,3,4-トリニトロ-1- ナフチルメチル、3,
4,5-トリニトロ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリニトロ
-1- ナフチルエチル、2,4,8-トリニトロ-1- ナフチルメ
チルのようなニトロ基で置換されたアラルキル基；2-シ
アノフェネチル、3-シアノベンジル、4-シアノベンジ
ル、4-シアノベンジルジフェニルメチル、4-シアノフェ
ネチル、3,5-ジシアノベンジル、2,5-ジシアノフェネチ
ル、2,6-ジシアノベンジル、2,4-ジシアノフェネチル、
2,3,6-トリシアノベンジル、2,3,4-トリシアノフェネチ
ル、3,4,5-トリシアノベンジル、2,5,6-トリシアノフェ
ネチル、2,4,6-トリシアノベンジル、1-シアノ−2-ナフ
チルメチル、3-シアノ-1- ナフチルメチル、3,8-ジシア
ノ-1- ナフチルメチル、2,3-ジシアノ-1- ナフチルエチ
ル、4,8-ジシアノ-1- ナフチルメチル、5,6-ジシアノ-1
- ナフチルメチル、2,3,6-トリシアノ-1- ナフチルエチ
ル、2,3,4-トリシアノ-1- ナフチルメチル、3,4,5-トリ
シアノ-1- ナフチルメチル、4,5,6-トリシアノ-1- ナフ
チルエチル、2,4,8-トリシアノ-1- ナフチルメチルのよ
うなシアノ基で置換されたアラルキル基；2-アセチルフ
ェネチル、3-アセチルベンジル、4-アセチルフェネチ
ル、3,5-ジアセチルベンジル、2,5-ジアセチルフェネチ
ル、2,6-ジアセチルベンジル、2,4-ジアセチルフェネチ
ル、2,3,6-トリプロピオニルベンジル、2,3,4-トリプロ
ピオニルフェネチル、3,4,5-トリプロピオニルベンジ
ル、2,5,6-トリブチリルフェネチル、2,4,6-トリブチリ
ルベンジル、1-アセチル−2-ナフチルメチル、2-アセチ
ル-1- ナフチルエチル、3-アセチル-1- ナフチルメチ
ル、3,8-ジアセチル-1- ナフチルメチル、2,3-ジプロピ
オニル-1- ナフチルエチル、4,8-ジブチリル-1- ナフチ
ルメチル、5,6-ジブチリル-1- ナフチルメチル、2,3,6-
トリアセチル-1- ナフチルエチル、2,3,4-トリアセチル
-1- ナフチルメチル、3,4,5-トリプロピオニル-1- ナフ
チルメチル、4,5,6-トリブチリル-1- ナフチルエチル、
2,4,8-トリブチリル-1- ナフチルメチルのような脂肪族
アシル基で置換されたアラルキル基；2-カルボキシフェ
ネチル、3-カルボキシベンジル、4-カルボキシフェネチ
ル、3,5-ジカルボキシベンジル、2,5-ジカルボキシフェ
ネチル、2,6-ジカルボキシベンジル、2,4-ジカルボキシ
フェネチルのようなカルボキシ基で置換されたアラルキ
ル基；2-カルバモイルベンジル、3-カルバモイルフェネ
チル、4-カルバモイルベンジル、3,5-ジカルバモイルフ
ェネチル、2,5-ジカルバモイルベンジル、2,6-ジカルバ
モイルフェネチル、2,4-ジカルバモイルベンジルのよう
なカルバモイル基で置換されたアラルキル基及び3,4-メ
チレンジオキシベンジル、3,4-メチレンジオキシフェネ
チルのようなアルキレンジオキシ基で置換されたアラル
キル基を挙げることができ、好適には、無置換のベンジ
ル基又は低級アルキル、低級アルコキシ若しくはニトロ
基で置換されたベンジル基があげられ、さらに好適に
は、無置換のベンジル基である。
【００２０】Ｒ1 及びＲ6 のアリール基としては、フェ
ニル、ナフチル基及びこれらに置換基を導入した基であ
り、具体的な基としては、フェニル、ナフチルのような
アリ−ル基；2-フルオロフェニル、3-フルオロフェニ
ル、4-フルオロフェニル、2-クロロフェニル、3-クロロ
フェニル、4-クロロフェニル、2-ブロモフェニル、3-ブ
ロモフェニル、4-ブロモフェニル、3,5-ジフルオロフェ
ニル、2,5-ジフルオロフェニル、2,6-ジフルオロフェニ
ル、2,4-ジフルオロフェニル、3,5-ジブロモフェニル、
2,5-ジブロモフェニル、2,6-ジクロロフェニル、2,4-ジ
クロロフェニル、2,3,6-トリフルオロフェニル、2,3,4-
トリフルオロフェニル、3,4,5-トリフルオロフェニル、
2,5,6-トリフルオロフェニル、2,4,6-トリフルオロフェ
ニル、2,3,6-トリブロモフェニル、2,3,4-トリブロモフ
ェニル、3,4,5-トリブロモフェニル、2,5,6-トリクロロ
フェニル、2,4,6-トリクロロフェニル、1-フルオロ-2-
ナフチル、2-フルオロ-1- ナフチル、3-フルオロ-1- ナ
フチル、1-クロロ-2- ナフチル、2-クロロ-1- ナフチ
ル、3-ブロモ-1- ナフチル、3,8-ジフルオロ-1- ナフチ
ル、2,3-ジフルオロ-1- ナフチル、4,8-ジフルオロ-1-
ナフチル、5,6-ジフルオロ- 1-ナフチル、3,8-ジクロロ
-1- ナフチル、2,3-ジクロロ-1- ナフチル、4,8-ジブロ
モ-1- ナフチル、5,6-ジブロモ-1- ナフチル、2,3,6-ト
リフルオロ-1- ナフチル、2,3,4-トリフルオロ-1- ナフ
チル、3,4,5-トリフルオロ-1- ナフチル、4,5,6-トリフ
ルオロ-1- ナフチル、2,4,8-トリフルオロ-1- ナフチル
のようなハロゲン原子で置換されたアリール基；2-トリ
フルオロメチルフェニル、3-トリフルオロメチルフェニ
ル、4-トリフルオロメチルフェニル、2-トリクロロメチ
ルフェニル、3-ジクロロメチルフェニル、4-トリクロロ
メチルフェニル、2-トリブロモメチルフェニル、3-ジブ
ロモメチルフェニル、4-ジブロモメチルフェニル、3,5-
ビストリフルオロメチルフェニル、2,5-ビストリフルオ
ロメチルフェニル、2,6-ビストリフルオロメチルフェニ
ル、2,4-ビストリフルオロメチルフェニル、3,5-ビスト
リブロモメチルフェニル、2,5-ビスジブロモメチルフェ
ニル、2,6-ビスジクロロメチルメチルフェニル、2,4-ビ
スジクロロメチルフェニル、2,3,6-トリストリフルオロ
メチルフェニル、2,3,4-トリストリフルオロメチルフェ
ニル、3,4,5-トリストリフルオロメチルフェニル、2,5,
6-トリストリフルオロメチルフェニル、2,4,6-トリスト
リフルオロメチルフェニル、2,3,6-トリストリブロモメ
チルフェニル、2,3,4-トリスジブロモメチルフェニル、
3,4,5-トリストリブロモメチルフェニル、2,5,6-トリス
ジクロロメチルメチルフェニル、2,4,6-トリスジクロロ
メチルフェニル、1-トリフルオロメチル- 2-ナフチル、
2-トリフルオロメチル- 1-ナフチル、3-トリフルオロメ
チル- 1-ナフチル、1-トリクロロメチル- 2-ナフチル、
2-ジクロロメチル- 1-ナフチル、3-トリブロモメチル-
1-ナフチル、3,8-ビストリフルオロメチル- 1-ナフチ
ル、2,3-ビストリフルオロメチル- 1-ナフチル、4,8-ビ
ストリフルオロメチル- 1-ナフチル、5,6-ビストリフル
オロメチル- 1-ナフチル、3,8-ビストリクロロメチル-
1-ナフチル、2,3-ビスジクロロメチル- 1-ナフチル、4,
8-ビスジブロモメチル- 1-ナフチル、5,6-ビストリブロ
モメチル- 1-ナフチル、2,3,6-トリストリフルオロメチ
ル- 1-ナフチル、2,3,4-トリストリフルオロメチル- 1-
ナフチル、3,4,5-トリストリフルオロメチル- 1-ナフチ
ル、4,5,6-トリストリフルオロメチル- 1-ナフチル、2,
4,8-トリストリフルオロメチル- 1-ナフチルのようなハ
ロゲン化低級アルキル基で置換されたアリール基；2-メ
チルフェニル、3-メチルフェニル、4-メチルフェニル、
2-エチルフェニル、3-プロピルフェニル、4-エチルフェ
ニル、2-ブチルフェニル、3-ペンチルフェニル、4-ペン
チルフェニル、3,5-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフ
ェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニ
ル、3,5-ジブチルフェニル、2,5-ジペンチルフェニル、
2,6-ジプロピルメチルフェニル、2,4-ジプロピルフェニ
ル、2,3,6-トリメチルフェニル、2,3,4-トリメチルフェ
ニル、3,4,5-トリメチルフェニル、2,5,6-トリメチルフ
ェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、2,3,6-トリブチル
フェニル、2,3,4-トリペンチルフェニル、3,4,5-トリブ
チルフェニル、2,5,6-トリプロピルメチルフェニル、2,
4,6-トリプロピルフェニル、1-メチル- 2-ナフチル、2-
メチル- 1-ナフチル、3-メチル- 1-ナフチル、1-エチル
- 2-ナフチル、2-プロピル- 1-ナフチル、3-ブチル-1-
ナフチル、3,8-ジメチル- 1-ナフチル、2,3-ジメチル-
1-ナフチル、4,8-ジメチル- 1-ナフチル、5,6-ジメチル
-1- ナフチル、3,8-ジエチル-1- ナフチル、2,3-ジプロ
ピル-1- ナフチル、4,8-ジペンチル-1- ナフチル、5,6-
ジブチル-1- ナフチル、2,3,6-トリメチル-1- ナフチ
ル、2,3,4-トリメチル- 1-ナフチル、3,4,5-トリメチル
-1- ナフチル、4,5,6-トリメチル-1- ナフチル、2,4,8-
トリメチル- 1-ナフチルのような低級アルキル基で置換
されたアリール基；2-メトキシフェニル、3-メトキシフ
ェニル、4-メトキシフェニル、2-エトキシフェニル、3-
プロポキシフェニル、4-エトキシフェニル、2-ブトキシ
フェニル、3-ペントキシフェニル、4-ペントキシフェニ
ル、3,5-ジメトキシフェニル、2,5-ジメトキシフェニ
ル、2,6-ジメトキシフェニル、2,4-ジメトキシフェニ
ル、3,5-ジブトキシフェニル、2,5-ジペントキシフェニ
ル、2,6-ジプロポキシメトキシフェニル、2,4-ジプロポ
キシフェニル、2,3,6-トリメトキシフェニル、2,3,4-ト
リメトキシフェニル、3,4,5-トリメトキシフェニル、2,
5,6-トリメトキシフェニル、2,4,6-トリメトキシフェニ
ル、2,3,6-トリブトキシフェニル、2,3,4-トリペントキ
シフェニル、3,4,5-トリブトキシフェニル、2,5,6-トリ
プロポキシフェニル、2,4,6-トリプロポキシフェニル、
1-メトキシ-2- ナフチル、2-メトキシ- 1-ナフチル、3-
メトキシ- 1-ナフチル、1-エトキシ- 2-ナフチル、2-プ
ロポキシ- 1-ナフチル、3-ブトキシ- 1-ナフチル、3,8-
ジメトキシ-1-ナフチル、2,3-ジメトキシ- 1-ナフチ
ル、4,8-ジメトキシ- 1-ナフチル、5,6-ジメトキシ- 1-
ナフチル、3,8-ジエトキシ- 1-ナフチル、2,3-ジプロポ
キシ- 1-ナフチル、4,8-ジペントキシ- 1-ナフチル、5,
6-ジブトキシ- 1-ナフチル、2,3,6-トリメトキシ- 1-ナ
フチル、2,3,4-トリメトキシ- 1-ナフチル、3,4,5-トリ
メトキシ- 1-ナフチル、4,5,6-トリメトキシ- 1-ナフチ
ル、2,4,8-トリメトキシ-1-ナフチルのような低級アル
コキシ基で置換されたアリール基；2-アミノフェニル、
3-アミノフェニル、4-アミノフェニル、3,5-ジアミノフ
ェニル、2,5-ジアミノフェニル、2,6-ジアミノフェニ
ル、2,4-ジアミノフェニル、2,3,6-トリアミノフェニ
ル、2,3,4-トリアミノフェニル、3,4,5-トリアミノフェ
ニル、2,5,6-トリアミノフェニル、2,4,6-トリアミノフ
ェニル、1-アミノ-2- ナフチル、2-アミノ-1-ナフチ
ル、3-アミノ- 1-ナフチル、3,8-ジアミノ- 1-ナフチ
ル、2,3-ジアミノ- 1-ナフチル、4,8-ジアミノ-1- ナフ
チル、5,6-ジアミノ-1- ナフチル、2,3,6-トリアミノ-
1-ナフチル、2,3,4-トリアミノ-1- ナフチル、3,4,5-ト
リアミノ-1-ナフチル、4,5,6-トリアミノ- 1-ナフチ
ル、2,4,8-トリアミノ- 1-ナフチルのようなアミノ基で
置換されたアリール基；2-ニトロフェニル、3-ニトロフ
ェニル、4-ニトロフェニル、3,5-ジニトロフェニル、2,
5-ジニトロフェニル、2,6-ジニトロフェニル、2,4-ジニ
トロフェニル、2,3,6-トリニトロフェニル、2,3,4-トリ
ニトロフェニル、3,4,5-トリニトロフェニル、2,5,6-ト
リニトロフェニル、2,4,6-トリニトロフェニル、1-ニト
ロ- 2-ナフチル、2-ニトロ- 1-ナフチル、3-ニトロ- 1-
ナフチル、3,8-ジニトロ- 1-ナフチル、2,3-ジニトロ-
1-ナフチル、4,8-ジニトロ- 1-ナフチル、5,6-ジニトロ
- 1-ナフチル、2,3,6-トリニトロ- 1-ナフチル、2,3,4-
トリニトロ- 1-ナフチル、3,4,5-トリニトロ- 1-ナフチ
ル、４，5,6-トリニトロ- 1-ナフチル、2,4,8-トリニト
ロ- 1-ナフチルのようなニトロ基で置換されたアリール
基；2-シアノフェニル、3-シアノフェニル、4-シアノフ
ェニル、3,5-ジシアノフェニル、2,5-ジシアノフェニ
ル、2,6-ジシアノフェニル、2,4-ジシアノフェニル、2,
3,6-トリシアノフェニル、2,3,4-トリシアノフェニル、
3,4,5-トリシアノフェニル、2,5,6-トリシアノフェニ
ル、2,4,6-トリシアノフェニル、1-シアノ- 2-ナフチ
ル、2-シアノ- 1-ナフチル、3-シアノ- 1-ナフチル、3,
8-ジシアノ- 1-ナフチル、2,3-ジシアノ- 1-ナフチル、
4,8-ジシアノ- 1-ナフチル、5,6-ジシアノ- 1-ナフチ
ル、2,3,6-トリシアノ- 1-ナフチル、2,3,4-トリシアノ
- 1-ナフチル、3,4,5-トリシアノ-1- ナフチル、4,5,6-
トリシアノ- 1-ナフチル、2,4,8-トリシアノ- 1-ナフチ
ルのようなシアノ基で置換されたアリール基；2-アセチ
ルフェニル、3-アセチルフェニル、4-アセチルフェニ
ル、3,5-ジアセチルフェニル、2,5-ジアセチルフェニ
ル、2,6-ジアセチルフェニル、2,4-ジアセチルフェニ
ル、2,3,6-トリプロピオニルフェニル、2,3,4-トリプロ
ピオニルフェニル、3,4,5-トリプロピオニルフェニル、
2,5,6-トリブチリルフェニル、2,4,6-トリブチリルフェ
ニル、1-アセチル- 2-ナフチル、2-アセチル- 1-ナフチ
ル、3-アセチル-1- ナフチル、3,8-ジアセチル- 1-ナフ
チル、2,3-ジプロピオニル-1-ナフチル、4,8-ジブチリ
ル- 1-ナフチル、5,6-ジブチリル- 1-ナフチル、2,3,6-
トリアセチル- 1-ナフチル、2,3,4-トリアセチル- 1-ナ
フチル、3,4,5-トリプロピオニル- 1-ナフチル、4,5,6-
トリブチリル- 1-ナフチル、2,4,8-トリブチリル- 1-ナ
フチルのような脂肪族アシル基で置換されたアリール
基；2-カルボキシフェニル、3-カルボキシフェニル、4-
カルボキシフェニル、3,5-ジカルボキシフェニル、2,5-
ジカルボキシフェニル、2,6-ジカルボキシフェニル、2,
4-ジカルボキシフェニルのようなカルボキシ基で置換さ
れたアリール基；2-カルバモイルフェニル、3-カルバモ
イルフェニル、4-カルバモイルフェニル、3,5-ジカルバ
モイルフェニル、2,5-ジカルバモイルフェニル、2,6-ジ
カルバモイルフェニル、2,4-ジカルバモイルフェニルの
ようなカルバモイル基で置換されたアリール基；3,4-メ
チレンジオキシフェニルのようなアルキレンジオキシ基
で置換されたアリール基を挙げることができる。好適に
は、無置換のフェニル基又は低級アルキル若しくは低級
アルコキシ基で置換されたフェニル基であり、さらに好
適には、無置換のフェニル基である。
ニル、ナフチル基及びこれらに置換基を導入した基であ
り、具体的な基としては、フェニル、ナフチルのような
アリ−ル基；2-フルオロフェニル、3-フルオロフェニ
ル、4-フルオロフェニル、2-クロロフェニル、3-クロロ
フェニル、4-クロロフェニル、2-ブロモフェニル、3-ブ
ロモフェニル、4-ブロモフェニル、3,5-ジフルオロフェ
ニル、2,5-ジフルオロフェニル、2,6-ジフルオロフェニ
ル、2,4-ジフルオロフェニル、3,5-ジブロモフェニル、
2,5-ジブロモフェニル、2,6-ジクロロフェニル、2,4-ジ
クロロフェニル、2,3,6-トリフルオロフェニル、2,3,4-
トリフルオロフェニル、3,4,5-トリフルオロフェニル、
2,5,6-トリフルオロフェニル、2,4,6-トリフルオロフェ
ニル、2,3,6-トリブロモフェニル、2,3,4-トリブロモフ
ェニル、3,4,5-トリブロモフェニル、2,5,6-トリクロロ
フェニル、2,4,6-トリクロロフェニル、1-フルオロ-2-
ナフチル、2-フルオロ-1- ナフチル、3-フルオロ-1- ナ
フチル、1-クロロ-2- ナフチル、2-クロロ-1- ナフチ
ル、3-ブロモ-1- ナフチル、3,8-ジフルオロ-1- ナフチ
ル、2,3-ジフルオロ-1- ナフチル、4,8-ジフルオロ-1-
ナフチル、5,6-ジフルオロ- 1-ナフチル、3,8-ジクロロ
-1- ナフチル、2,3-ジクロロ-1- ナフチル、4,8-ジブロ
モ-1- ナフチル、5,6-ジブロモ-1- ナフチル、2,3,6-ト
リフルオロ-1- ナフチル、2,3,4-トリフルオロ-1- ナフ
チル、3,4,5-トリフルオロ-1- ナフチル、4,5,6-トリフ
ルオロ-1- ナフチル、2,4,8-トリフルオロ-1- ナフチル
のようなハロゲン原子で置換されたアリール基；2-トリ
フルオロメチルフェニル、3-トリフルオロメチルフェニ
ル、4-トリフルオロメチルフェニル、2-トリクロロメチ
ルフェニル、3-ジクロロメチルフェニル、4-トリクロロ
メチルフェニル、2-トリブロモメチルフェニル、3-ジブ
ロモメチルフェニル、4-ジブロモメチルフェニル、3,5-
ビストリフルオロメチルフェニル、2,5-ビストリフルオ
ロメチルフェニル、2,6-ビストリフルオロメチルフェニ
ル、2,4-ビストリフルオロメチルフェニル、3,5-ビスト
リブロモメチルフェニル、2,5-ビスジブロモメチルフェ
ニル、2,6-ビスジクロロメチルメチルフェニル、2,4-ビ
スジクロロメチルフェニル、2,3,6-トリストリフルオロ
メチルフェニル、2,3,4-トリストリフルオロメチルフェ
ニル、3,4,5-トリストリフルオロメチルフェニル、2,5,
6-トリストリフルオロメチルフェニル、2,4,6-トリスト
リフルオロメチルフェニル、2,3,6-トリストリブロモメ
チルフェニル、2,3,4-トリスジブロモメチルフェニル、
3,4,5-トリストリブロモメチルフェニル、2,5,6-トリス
ジクロロメチルメチルフェニル、2,4,6-トリスジクロロ
メチルフェニル、1-トリフルオロメチル- 2-ナフチル、
2-トリフルオロメチル- 1-ナフチル、3-トリフルオロメ
チル- 1-ナフチル、1-トリクロロメチル- 2-ナフチル、
2-ジクロロメチル- 1-ナフチル、3-トリブロモメチル-
1-ナフチル、3,8-ビストリフルオロメチル- 1-ナフチ
ル、2,3-ビストリフルオロメチル- 1-ナフチル、4,8-ビ
ストリフルオロメチル- 1-ナフチル、5,6-ビストリフル
オロメチル- 1-ナフチル、3,8-ビストリクロロメチル-
1-ナフチル、2,3-ビスジクロロメチル- 1-ナフチル、4,
8-ビスジブロモメチル- 1-ナフチル、5,6-ビストリブロ
モメチル- 1-ナフチル、2,3,6-トリストリフルオロメチ
ル- 1-ナフチル、2,3,4-トリストリフルオロメチル- 1-
ナフチル、3,4,5-トリストリフルオロメチル- 1-ナフチ
ル、4,5,6-トリストリフルオロメチル- 1-ナフチル、2,
4,8-トリストリフルオロメチル- 1-ナフチルのようなハ
ロゲン化低級アルキル基で置換されたアリール基；2-メ
チルフェニル、3-メチルフェニル、4-メチルフェニル、
2-エチルフェニル、3-プロピルフェニル、4-エチルフェ
ニル、2-ブチルフェニル、3-ペンチルフェニル、4-ペン
チルフェニル、3,5-ジメチルフェニル、2,5-ジメチルフ
ェニル、2,6-ジメチルフェニル、2,4-ジメチルフェニ
ル、3,5-ジブチルフェニル、2,5-ジペンチルフェニル、
2,6-ジプロピルメチルフェニル、2,4-ジプロピルフェニ
ル、2,3,6-トリメチルフェニル、2,3,4-トリメチルフェ
ニル、3,4,5-トリメチルフェニル、2,5,6-トリメチルフ
ェニル、2,4,6-トリメチルフェニル、2,3,6-トリブチル
フェニル、2,3,4-トリペンチルフェニル、3,4,5-トリブ
チルフェニル、2,5,6-トリプロピルメチルフェニル、2,
4,6-トリプロピルフェニル、1-メチル- 2-ナフチル、2-
メチル- 1-ナフチル、3-メチル- 1-ナフチル、1-エチル
- 2-ナフチル、2-プロピル- 1-ナフチル、3-ブチル-1-
ナフチル、3,8-ジメチル- 1-ナフチル、2,3-ジメチル-
1-ナフチル、4,8-ジメチル- 1-ナフチル、5,6-ジメチル
-1- ナフチル、3,8-ジエチル-1- ナフチル、2,3-ジプロ
ピル-1- ナフチル、4,8-ジペンチル-1- ナフチル、5,6-
ジブチル-1- ナフチル、2,3,6-トリメチル-1- ナフチ
ル、2,3,4-トリメチル- 1-ナフチル、3,4,5-トリメチル
-1- ナフチル、4,5,6-トリメチル-1- ナフチル、2,4,8-
トリメチル- 1-ナフチルのような低級アルキル基で置換
されたアリール基；2-メトキシフェニル、3-メトキシフ
ェニル、4-メトキシフェニル、2-エトキシフェニル、3-
プロポキシフェニル、4-エトキシフェニル、2-ブトキシ
フェニル、3-ペントキシフェニル、4-ペントキシフェニ
ル、3,5-ジメトキシフェニル、2,5-ジメトキシフェニ
ル、2,6-ジメトキシフェニル、2,4-ジメトキシフェニ
ル、3,5-ジブトキシフェニル、2,5-ジペントキシフェニ
ル、2,6-ジプロポキシメトキシフェニル、2,4-ジプロポ
キシフェニル、2,3,6-トリメトキシフェニル、2,3,4-ト
リメトキシフェニル、3,4,5-トリメトキシフェニル、2,
5,6-トリメトキシフェニル、2,4,6-トリメトキシフェニ
ル、2,3,6-トリブトキシフェニル、2,3,4-トリペントキ
シフェニル、3,4,5-トリブトキシフェニル、2,5,6-トリ
プロポキシフェニル、2,4,6-トリプロポキシフェニル、
1-メトキシ-2- ナフチル、2-メトキシ- 1-ナフチル、3-
メトキシ- 1-ナフチル、1-エトキシ- 2-ナフチル、2-プ
ロポキシ- 1-ナフチル、3-ブトキシ- 1-ナフチル、3,8-
ジメトキシ-1-ナフチル、2,3-ジメトキシ- 1-ナフチ
ル、4,8-ジメトキシ- 1-ナフチル、5,6-ジメトキシ- 1-
ナフチル、3,8-ジエトキシ- 1-ナフチル、2,3-ジプロポ
キシ- 1-ナフチル、4,8-ジペントキシ- 1-ナフチル、5,
6-ジブトキシ- 1-ナフチル、2,3,6-トリメトキシ- 1-ナ
フチル、2,3,4-トリメトキシ- 1-ナフチル、3,4,5-トリ
メトキシ- 1-ナフチル、4,5,6-トリメトキシ- 1-ナフチ
ル、2,4,8-トリメトキシ-1-ナフチルのような低級アル
コキシ基で置換されたアリール基；2-アミノフェニル、
3-アミノフェニル、4-アミノフェニル、3,5-ジアミノフ
ェニル、2,5-ジアミノフェニル、2,6-ジアミノフェニ
ル、2,4-ジアミノフェニル、2,3,6-トリアミノフェニ
ル、2,3,4-トリアミノフェニル、3,4,5-トリアミノフェ
ニル、2,5,6-トリアミノフェニル、2,4,6-トリアミノフ
ェニル、1-アミノ-2- ナフチル、2-アミノ-1-ナフチ
ル、3-アミノ- 1-ナフチル、3,8-ジアミノ- 1-ナフチ
ル、2,3-ジアミノ- 1-ナフチル、4,8-ジアミノ-1- ナフ
チル、5,6-ジアミノ-1- ナフチル、2,3,6-トリアミノ-
1-ナフチル、2,3,4-トリアミノ-1- ナフチル、3,4,5-ト
リアミノ-1-ナフチル、4,5,6-トリアミノ- 1-ナフチ
ル、2,4,8-トリアミノ- 1-ナフチルのようなアミノ基で
置換されたアリール基；2-ニトロフェニル、3-ニトロフ
ェニル、4-ニトロフェニル、3,5-ジニトロフェニル、2,
5-ジニトロフェニル、2,6-ジニトロフェニル、2,4-ジニ
トロフェニル、2,3,6-トリニトロフェニル、2,3,4-トリ
ニトロフェニル、3,4,5-トリニトロフェニル、2,5,6-ト
リニトロフェニル、2,4,6-トリニトロフェニル、1-ニト
ロ- 2-ナフチル、2-ニトロ- 1-ナフチル、3-ニトロ- 1-
ナフチル、3,8-ジニトロ- 1-ナフチル、2,3-ジニトロ-
1-ナフチル、4,8-ジニトロ- 1-ナフチル、5,6-ジニトロ
- 1-ナフチル、2,3,6-トリニトロ- 1-ナフチル、2,3,4-
トリニトロ- 1-ナフチル、3,4,5-トリニトロ- 1-ナフチ
ル、４，5,6-トリニトロ- 1-ナフチル、2,4,8-トリニト
ロ- 1-ナフチルのようなニトロ基で置換されたアリール
基；2-シアノフェニル、3-シアノフェニル、4-シアノフ
ェニル、3,5-ジシアノフェニル、2,5-ジシアノフェニ
ル、2,6-ジシアノフェニル、2,4-ジシアノフェニル、2,
3,6-トリシアノフェニル、2,3,4-トリシアノフェニル、
3,4,5-トリシアノフェニル、2,5,6-トリシアノフェニ
ル、2,4,6-トリシアノフェニル、1-シアノ- 2-ナフチ
ル、2-シアノ- 1-ナフチル、3-シアノ- 1-ナフチル、3,
8-ジシアノ- 1-ナフチル、2,3-ジシアノ- 1-ナフチル、
4,8-ジシアノ- 1-ナフチル、5,6-ジシアノ- 1-ナフチ
ル、2,3,6-トリシアノ- 1-ナフチル、2,3,4-トリシアノ
- 1-ナフチル、3,4,5-トリシアノ-1- ナフチル、4,5,6-
トリシアノ- 1-ナフチル、2,4,8-トリシアノ- 1-ナフチ
ルのようなシアノ基で置換されたアリール基；2-アセチ
ルフェニル、3-アセチルフェニル、4-アセチルフェニ
ル、3,5-ジアセチルフェニル、2,5-ジアセチルフェニ
ル、2,6-ジアセチルフェニル、2,4-ジアセチルフェニ
ル、2,3,6-トリプロピオニルフェニル、2,3,4-トリプロ
ピオニルフェニル、3,4,5-トリプロピオニルフェニル、
2,5,6-トリブチリルフェニル、2,4,6-トリブチリルフェ
ニル、1-アセチル- 2-ナフチル、2-アセチル- 1-ナフチ
ル、3-アセチル-1- ナフチル、3,8-ジアセチル- 1-ナフ
チル、2,3-ジプロピオニル-1-ナフチル、4,8-ジブチリ
ル- 1-ナフチル、5,6-ジブチリル- 1-ナフチル、2,3,6-
トリアセチル- 1-ナフチル、2,3,4-トリアセチル- 1-ナ
フチル、3,4,5-トリプロピオニル- 1-ナフチル、4,5,6-
トリブチリル- 1-ナフチル、2,4,8-トリブチリル- 1-ナ
フチルのような脂肪族アシル基で置換されたアリール
基；2-カルボキシフェニル、3-カルボキシフェニル、4-
カルボキシフェニル、3,5-ジカルボキシフェニル、2,5-
ジカルボキシフェニル、2,6-ジカルボキシフェニル、2,
4-ジカルボキシフェニルのようなカルボキシ基で置換さ
れたアリール基；2-カルバモイルフェニル、3-カルバモ
イルフェニル、4-カルバモイルフェニル、3,5-ジカルバ
モイルフェニル、2,5-ジカルバモイルフェニル、2,6-ジ
カルバモイルフェニル、2,4-ジカルバモイルフェニルの
ようなカルバモイル基で置換されたアリール基；3,4-メ
チレンジオキシフェニルのようなアルキレンジオキシ基
で置換されたアリール基を挙げることができる。好適に
は、無置換のフェニル基又は低級アルキル若しくは低級
アルコキシ基で置換されたフェニル基であり、さらに好
適には、無置換のフェニル基である。
【００２１】Ｒ1 の芳香族アシル基としては、ベンゾイ
ル、ナフトイル基及びこれらに置換基を導入した基であ
り、具体的には、前述したＲ1 及びＲ6 のアリール基に
カルボニル基結合したものがあげられ、好適には、無置
換のベンゾイル基又は低級アルキル若しくは低級アルコ
キシ基で置換されたベンゾイル基であり、さらに好適に
は無置換のベンゾイル基である。
ル、ナフトイル基及びこれらに置換基を導入した基であ
り、具体的には、前述したＲ1 及びＲ6 のアリール基に
カルボニル基結合したものがあげられ、好適には、無置
換のベンゾイル基又は低級アルキル若しくは低級アルコ
キシ基で置換されたベンゾイル基であり、さらに好適に
は無置換のベンゾイル基である。
【００２２】Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 の水酸基
の保護基としては、合成上、使用されるものであれば、
特に限定はないが、好適には、Ｒ2 については、グリコ
シル基であり、Ｒ3 については、グリコシル基であり、
Ｒ4 については、グリコシル基であり、Ｒ5 について
は、グリコシル基である。
の保護基としては、合成上、使用されるものであれば、
特に限定はないが、好適には、Ｒ2 については、グリコ
シル基であり、Ｒ3 については、グリコシル基であり、
Ｒ4 については、グリコシル基であり、Ｒ5 について
は、グリコシル基である。
【００２３】また、隣接する水酸基２個を同時に保護す
る基として、メチリデン、エチリデン、イソプロピリデ
ンのような低級アルキリデン基；ベンジリデンのような
アラルキリデン基；メトキシエチリデン、エトキシエチ
リデンのようなアルコキシエチリデン基；オキソメチレ
ン；チオキソメチレン及びジメチルシリル、フェニルメ
チルシリル、ジフェニルシリル、ジメトキシシリルのよ
うな２価のシリル基を挙げることができ、好適にはイソ
プロピリデン、ベンジリデン基である。
る基として、メチリデン、エチリデン、イソプロピリデ
ンのような低級アルキリデン基；ベンジリデンのような
アラルキリデン基；メトキシエチリデン、エトキシエチ
リデンのようなアルコキシエチリデン基；オキソメチレ
ン；チオキソメチレン及びジメチルシリル、フェニルメ
チルシリル、ジフェニルシリル、ジメトキシシリルのよ
うな２価のシリル基を挙げることができ、好適にはイソ
プロピリデン、ベンジリデン基である。
【００２４】Ｒ1 の保護されていてもよい糖質の保護基
としては、前述した水酸基の保護基と同様のものがあげ
られ、好適には、無置換のベンジル基又は低級アルキ
ル、低級アルコキシ若しくはニトロ基で置換されたベン
ジル基があげられ、さらに好適には、無置換のベンジル
基である。
としては、前述した水酸基の保護基と同様のものがあげ
られ、好適には、無置換のベンジル基又は低級アルキ
ル、低級アルコキシ若しくはニトロ基で置換されたベン
ジル基があげられ、さらに好適には、無置換のベンジル
基である。
【００２５】以下に本発明の化合物のうち、好適な化合
物を示す。
物を示す。
【００２６】表中、1- Glc等は１−グルコシル基等を示
し、1- Gal等は１−ガラクトシル基等を示し、Ｍｅはメ
チル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、ｉ
Ｐｒはイソプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、ｉＢｕは
イソブチル基を、ｓＢｕはｓ−ブチル基を、ｔＢｕはｔ
−ブチル基を示す。
し、1- Gal等は１−ガラクトシル基等を示し、Ｍｅはメ
チル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｐｒはプロピル基を、ｉ
Ｐｒはイソプロピル基を、Ｂｕはブチル基を、ｉＢｕは
イソブチル基を、ｓＢｕはｓ−ブチル基を、ｔＢｕはｔ
−ブチル基を示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【化１０】
【００２９】 ──────────────────────────────────── 番号 Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 Ｒ5 ──────────────────────────────────── 1 1- Glc H H H H 2 2- Glc H H H H 3 3- Glc H H H H 4 4- Glc H H H H 5 6- Glc H H H H 6 Me H H H H 7 Et H H H H 8 Pr H H H H 9 iPr H H H H 10 Bu H H H H 11 iBu H H H H 12 sBu H H H H 13 tBu H H H H 14 Me PhCH2 H PhCH2 H 15 Me PhCH2 PhCH2 H H 16 Me PhCH2 H H H 17 Et PhCH2 H PhCH2 H 18 Et PhCH2 PhCH2 H H 19 Et PhCH2 H H H 20 4-MeOPhCH2 H H H H 21 3-Cl-PhCH2 H H H H 22 2-Me-PhCH2 H H H H 23 2-Et-PhCH2 H H H H 24 3-MeOPh H H H H 25 2-Cl-Ph H H H H 26 4-Me-Ph H H H H 27 (tBu)Me2Si H H H H 28 (tBu)Ph2Si H H H H 29 CH3CO H H H H 30 EtCO H H H H 31 4-Me-PhCO H H H H 32 3-Et-PhCO H H H H 33 2-Cl-PhCO H H H H 34 3-EtO-PhCO H H H H 35 CH3OCO H H H H 36 EtOCO H H H H 37 4-Me-PhCH2OCO H H H H 38 3-Et-PhCH2OCO H H H H 39 2-Cl-PhCH2OCO H H H H 40 4-Me-PhOCO H H H H 41 3-Et-PhOCO H H H H 42 2-Cl-PhOCO H H H H 43 1- Glc PhCH2 H PhCH2 H 44 1- Glc PhCH2 H H H 45 1- Glc PhCH2 PhCH2 H H 46 2- Glc PhCH2 H PhCH2 H 47 2- Glc PhCH2 H H H 48 2- Glc PhCH2 PhCH2 H H 49 3- Glc PhCH2 H PhCH2 H 50 3- Glc PhCH2 H H H 51 3- Glc PhCH2 PhCH2 H H 52 4- Glc PhCH2 H PhCH2 H 53 6- Glc PhCH2 H PhCH2 H 54 1- Gal H H H H 55 2- Gal H H H H 56 3- Gal H H H H 57 4- Gal H H H H 58 6- Gal H H H H 59 Me H H H H 60 Et H H H H 61 Pr H H H H 62 iPr H H H H 63 Bu H H H H 64 iBu H H H H 65 sBu H H H H 66 tBu H H H H 67 Me PhCH2 H PhCH2 H 68 Me PhCH2 PhCH2 H H 69 Me PhCH2 H H H 70 Et PhCH2 H PhCH2 H 71 Et PhCH2 PhCH2 H H 72 Et PhCH2 H H H 73 4-MeOPhCH2 H H H H 74 3-Cl-PhCH2 H H H H 75 2-Me-PhCH2 H H H H 76 2-Et-PhCH2 H H H H 77 3-MeOPh H H H H 78 2-Cl-Ph H H H H 79 4-Me-Ph H H H H 80 (tBu)Me2Si H H H H 81 (tBu)Ph2Si H H H H 82 CH3CO H H H H 83 EtCO H H H H 84 4-Me-PhCO H H H H 85 3-Et-PhCO H H H H 86 2-Cl-PhCO H H H H 87 3-EtO-PhCO H H H H 88 CH3OCO H H H H 89 EtOCO H H H H 90 4-Me-PhCH2OCO H H H H 91 3-Et-PhCH2OCO H H H H 92 2-Cl-PhCH2OCO H H H H 93 4-Me-PhOCO H H H H 94 3-Et-PhOCO H H H H 95 2-Cl-PhOCO H H H H 96 1- Gal PhCH2 H PhCH2 H 97 1- Gal PhCH2 H H H 98 2- Gal PhCH2 H PhCH2 H 99 2- Gal PhCH2 PhCH2 H H 100 3- Gal PhCH2 H PhCH2 H 101 3- Gal PhCH2 PhCH2 H H 102 3- Gal PhCH2 H H H 103 4- Gal PhCH2 H PhCH2 H 104 6- Gal PhCH2 H PhCH2 H ──────────────────────────────────── 上記、例示化合物のうち、さらに好適な化合物として
は、化合物番号１、４、５、４３、４４、４５、５２、
５３、があげられる。以下に、反応工程表を示す。
は、化合物番号１、４、５、４３、４４、４５、５２、
５３、があげられる。以下に、反応工程表を示す。
【００３０】
【化１１】
【００３１】反応工程表における第３工程が本発明の製
造法に相当する。
造法に相当する。
【００３２】工程表において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4
及びＲ5 は前述のものと同意義を示し、Ｒ7 は同一又は
異なって水素原子又は水酸基の保護基（前述の水酸基の
保護基と同様のものがあげられ、好適にはトリメチルシ
リル、ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリアルキル
シリル基、メトキシメチルのようなアルコキシメチル基
である。）を示す。
及びＲ5 は前述のものと同意義を示し、Ｒ7 は同一又は
異なって水素原子又は水酸基の保護基（前述の水酸基の
保護基と同様のものがあげられ、好適にはトリメチルシ
リル、ｔ−ブチルジメチルシリルのようなトリアルキル
シリル基、メトキシメチルのようなアルコキシメチル基
である。）を示す。
【００３３】本発明の製造法の出発物質（３）は公知の
方法により製造することができる化合物（１）（特願平
４−７１６４８号）を用いて、第１及び第２工程により
製造することができる。
方法により製造することができる化合物（１）（特願平
４−７１６４８号）を用いて、第１及び第２工程により
製造することができる。
【００３４】（第１工程）本工程は、不活性溶剤中、出
発化合物（１）にＲ1 ＮＣＳ（Ｒ1 は前述のものと同意
義を示す。）を反応させることにより化合物（３ａ）を
製造する工程である。
発化合物（１）にＲ1 ＮＣＳ（Ｒ1 は前述のものと同意
義を示す。）を反応させることにより化合物（３ａ）を
製造する工程である。
【００３５】使用される溶剤としては、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲ
ン化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類 酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類が
あげられ、好適には、エーテル類（特にテトラヒドロフ
ラン）である。
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレンのような芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロ
ロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲ
ン化水素類、アセトニトリルのようなニトリル類 酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類が
あげられ、好適には、エーテル類（特にテトラヒドロフ
ラン）である。
【００３６】反応温度は０℃乃至１００℃であり、好適
には、０℃乃至５０℃である。
には、０℃乃至５０℃である。
【００３７】反応時間は化合物、反応温度により変化す
るが、通常１５分乃至１０時間であり、好適には３０分
乃至６時間である。
るが、通常１５分乃至１０時間であり、好適には３０分
乃至６時間である。
【００３８】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、飽和食塩水で
洗浄し、抽出液より溶剤を留去することによって得られ
るものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望によ
り、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製す
ることもできる。
液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、飽和食塩水で
洗浄し、抽出液より溶剤を留去することによって得られ
るものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望によ
り、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製す
ることもできる。
【００３９】Ｒ1 ＮＣＳのＲ1 が保護された糖質の場合
は、公知の方法により製造することができる（シンセシ
ス、５０９頁、１９８４年（Synthesis, 509(1984)）,
シンセシス、３００頁、シンセシス（Synthesis 300(19
89))）。
は、公知の方法により製造することができる（シンセシ
ス、５０９頁、１９８４年（Synthesis, 509(1984)）,
シンセシス、３００頁、シンセシス（Synthesis 300(19
89))）。
【００４０】（第２工程）本工程は、化合物（３ａ）の
保護基Ｒ7 を除去して、化合物（３）を製造する工程で
ある。
保護基Ｒ7 を除去して、化合物（３）を製造する工程で
ある。
【００４１】保護基の除去はその種類によって異なる
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下のように実施される。
が、一般にこの分野の技術において周知の方法によって
以下のように実施される。
【００４２】水酸基の保護基として、シリル基を使用し
た場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウムのよ
うな弗素アニオンを生成する化合物で処理することによ
り除去される。反応溶媒は、反応を阻害しないものであ
れば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類が好適である。反応温度及び反応
時間は、特に限定はないが、通常、室温で１０乃至１８
時間実施される。
た場合には、通常、弗化テトラブチルアンモニウムのよ
うな弗素アニオンを生成する化合物で処理することによ
り除去される。反応溶媒は、反応を阻害しないものであ
れば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類が好適である。反応温度及び反応
時間は、特に限定はないが、通常、室温で１０乃至１８
時間実施される。
【００４３】水酸基の保護基が、アラルキル基又はアラ
ルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、溶媒
中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下
に常温にて接触還元）除去する方法、酸化剤を用いて除
去する方法、アルカリ金属類を還元的に除去する方法又
はルイス酸を用いて除去する方法が好適である。
ルキルオキシカルボニル基である場合には、通常、溶媒
中、還元剤と接触させることにより（好適には、触媒下
に常温にて接触還元）除去する方法、酸化剤を用いて除
去する方法、アルカリ金属類を還元的に除去する方法又
はルイス酸を用いて除去する方法が好適である。
【００４４】接触還元による除去において使用される溶
媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定
はないが、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル
のようなアルコ−ル類、ジエチルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、トルエン、
ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸プロピルのようなエステル類、酢酸のような
脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適
である。
媒としては、本反応に関与しないものであれば特に限定
はないが、メタノ−ル、エタノ−ル、イソプロパノ−ル
のようなアルコ−ル類、ジエチルエ−テル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、トルエン、
ベンゼン、キシレンのような芳香族炭化水素類、ヘキサ
ン、シクロヘキサンのような脂肪族炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸プロピルのようなエステル類、酢酸のような
脂肪酸類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適
である。
【００４５】使用される触媒としては、通常、接触還元
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、
白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホ
スフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが
用いられる。圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃
至１００℃で、５分乃至２４時間実施される。酸化によ
る除去において使用される溶媒としては、本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水
有機溶媒である。このような有機溶媒として好適には、
アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、ア
セトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類及びジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げることが
できる。使用される酸化剤としては、酸化に使用される
化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カ
リウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイ
トレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベン
ゾキノン(DDQ) が用いられる。反応温度及び反応時間
は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、
通常、０乃至１５０℃で、１０分乃至２４時間実施され
る。
反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好
適には、パラジウム炭素、ラネ−ニッケル、酸化白金、
白金黒、ロジウム−酸化アルミニウム、トリフェニルホ
スフィン−塩化ロジウム、パラジウム−硫酸バリウムが
用いられる。圧力は、特に限定はないが、通常１乃至１
０気圧で行なわれる。反応温度及び反応時間は、出発物
質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、０乃
至１００℃で、５分乃至２４時間実施される。酸化によ
る除去において使用される溶媒としては、本反応に関与
しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水
有機溶媒である。このような有機溶媒として好適には、
アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロロ
ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、ア
セトニトリルのようなニトリル類、ジエチルエ−テル、
テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−テル類、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサ
メチルホスホロトリアミドのようなアミド類及びジメチ
ルスルホキシドのようなスルホキシド類を挙げることが
できる。使用される酸化剤としては、酸化に使用される
化合物であれば特に限定はないが、好適には、過硫酸カ
リウム、過硫酸ナトリウム、アンモニウムセリウムナイ
トレイト(CAN) 、2,3-ジクロロ-5,6- ジシアノ-p- ベン
ゾキノン(DDQ) が用いられる。反応温度及び反応時間
は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、
通常、０乃至１５０℃で、１０分乃至２４時間実施され
る。
【００４６】又、液体アンモニア中若しくはメタノ−
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−７８
乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。
ル、エタノ−ルのようなアルコ−ル中において、−７８
乃至−２０℃で、金属リチウム、金属ナトリウムのよう
なアルカリ金属類を作用させることによっても除去でき
る。
【００４７】更に、溶媒中、ルイス酸、例えば、塩化ア
ルミニウム−沃化ナトリウム、又はトリメチルシリルイ
オダイドのようなアルキルシリルハライド類を用いても
除去することができる。 使用される溶媒としては、本
反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適
には、アセトニトリルのようなニトリル類、メチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又
はこれらの混合溶媒が使用される。反応温度及び反応時
間は、出発物質、溶媒等により異なるが、通常は０乃至
５０℃で、５分乃至３日間実施される。
ルミニウム−沃化ナトリウム、又はトリメチルシリルイ
オダイドのようなアルキルシリルハライド類を用いても
除去することができる。 使用される溶媒としては、本
反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適
には、アセトニトリルのようなニトリル類、メチレンク
ロリド、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類又
はこれらの混合溶媒が使用される。反応温度及び反応時
間は、出発物質、溶媒等により異なるが、通常は０乃至
５０℃で、５分乃至３日間実施される。
【００４８】尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。
好適には、塩化アルミニウム−沃化ナトリウムが用いら
れる。
【００４９】水酸基の保護基が、脂肪族アシル基、芳香
族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合に
は、溶媒中、塩基で処理することにより除去される。
族アシル基又はアルコキシカルボニル基である場合に
は、溶媒中、塩基で処理することにより除去される。
【００５０】使用される塩基としては、化合物の他の部
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適にはナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド
類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物
又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのような
アンモニア類が用いられる。使用される溶媒としては、
通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定
はなく、水；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル
のようなアルコ−ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶
媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間
は、出発物質、溶媒及び使用される塩基等により異なり
特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常は０
乃至１５０℃で、1 乃至１０時間実施される。
分に影響を与えないものであれば特に限定はないが、好
適にはナトリウムメトキシドのような金属アルコキシド
類；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸塩；水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化物
又はアンモニア水、濃アンモニア−メタノ−ルのような
アンモニア類が用いられる。使用される溶媒としては、
通常の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定
はなく、水；メタノ−ル、エタノ−ル、n-プロパノ−ル
のようなアルコ−ル類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ンのようなエ−テル類等の有機溶媒又は水と上記有機溶
媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時間
は、出発物質、溶媒及び使用される塩基等により異なり
特に限定はないが、副反応を抑制するために、通常は０
乃至１５０℃で、1 乃至１０時間実施される。
【００５１】水酸基の保護基が、アルコキシメチル基、
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニ
ル基又は置換されたエチル基である場合には、通常、溶
媒中、酸で処理することにより除去される。使用される
酸としては、通常、ブレンステッド酸として使用される
ものであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸の
ような無機酸又は酢酸、パラトルエンスルホン酸のよう
な有機酸であるが、ダウエックス５０Ｗのような強酸性
の陽イオン交換樹脂も使用することができる。使用され
る溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に
限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ
−ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−
テル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適で
ある。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使
用される酸の種類等により異なるが、通常は０乃至５０
℃で、１０分乃至１８時間である。
テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオフラニ
ル基又は置換されたエチル基である場合には、通常、溶
媒中、酸で処理することにより除去される。使用される
酸としては、通常、ブレンステッド酸として使用される
ものであれば特に限定はなく、好適には、塩酸、硫酸の
ような無機酸又は酢酸、パラトルエンスルホン酸のよう
な有機酸であるが、ダウエックス５０Ｗのような強酸性
の陽イオン交換樹脂も使用することができる。使用され
る溶媒としては、本反応に関与しないものであれば特に
限定はないが、メタノ−ル、エタノ−ルのようなアルコ
−ル類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ−
テル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適で
ある。反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び使
用される酸の種類等により異なるが、通常は０乃至５０
℃で、１０分乃至１８時間である。
【００５２】水酸基の保護基が、アルケニルオキシカル
ボニル基である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の
脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボ
ニル基である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基
と処理することにより達成される。
ボニル基である場合は、通常、水酸基の保護基が前記の
脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボ
ニル基である場合の除去反応の条件と同様にして、塩基
と処理することにより達成される。
【００５３】尚、アリルオキシカルボニルの場合は、特
にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくはニ
ッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡便
で、副反応が少なく実施することができる。
にパラジウム、及びトリフェニルホスフィン若しくはニ
ッケルテトラカルボニルを使用して除去する方法が簡便
で、副反応が少なく実施することができる。
【００５４】Ｒ7 がアルコキシメチル基である場合に
は、以下のようにして除去できる。
は、以下のようにして除去できる。
【００５５】使用される溶剤としては、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコ
ールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエ−テル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、及びこれらと水の混合溶剤があげられ、好適に
は、水とエーテル類（特にジオキサン）の混合溶剤であ
る。
タノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコ
ールのようなアルコール類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンの
ようなエ−テル類、塩化メチレン、クロロホルム、四塩
化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素
類、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化
水素類、及びこれらと水の混合溶剤があげられ、好適に
は、水とエーテル類（特にジオキサン）の混合溶剤であ
る。
【００５６】使用される酸触媒としては、通常の反応に
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレ
ンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリ
クロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミド
のようなルイス酸をあげることができ、好適には無機酸
であり、更に好適には塩酸である。
おいて酸触媒として使用されるものであれば特に限定は
ないが、好適には塩酸、臭化水素酸、硫酸、過塩素酸、
燐酸のような無機酸又は酢酸、蟻酸、蓚酸、メタンスル
ホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、
トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸等のブレ
ンステッド酸或いは塩化亜鉛、四塩化スズ、ボロントリ
クロリド、ボロントリフルオリド、ボロントリブロミド
のようなルイス酸をあげることができ、好適には無機酸
であり、更に好適には塩酸である。
【００５７】反応温度は０℃乃至１００℃であり、好適
には、３０℃乃至８０℃である。反応時間は化合物、反
応温度により変化するが、通常１５分乃至４８時間であ
り、好適には２乃至２４時間である。
には、３０℃乃至８０℃である。反応時間は化合物、反
応温度により変化するが、通常１５分乃至４８時間であ
り、好適には２乃至２４時間である。
【００５８】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、飽和重曹水及
び飽和食塩水で洗浄し、抽出液より溶剤を留去すること
によって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用
いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、飽和重曹水及
び飽和食塩水で洗浄し、抽出液より溶剤を留去すること
によって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用
いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法によ
り、単離精製することもできる。
【００５９】（第３工程）本工程は、不活性溶剤中、塩
基触媒の存在下、化合物（３）に脱硫化水素剤を作用さ
せて、本発明の目的化合物（４）を得る工程である。な
お、本工程は、所望によりＲ2 、Ｒ3 、Ｒ4 又はＲ5 の
保護基の除去工程も含む。
基触媒の存在下、化合物（３）に脱硫化水素剤を作用さ
せて、本発明の目的化合物（４）を得る工程である。な
お、本工程は、所望によりＲ2 、Ｒ3 、Ｒ4 又はＲ5 の
保護基の除去工程も含む。
【００６０】使用される溶剤としては、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲン化
水素類、アセトニトリルのようなニトリル類があげら
れ、好適には、ニトリル類（特にアセトニトリル）であ
る。
ル、ジイソプロピルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、四塩化炭素、ジクロロエタンのようなハロゲン化
水素類、アセトニトリルのようなニトリル類があげら
れ、好適には、ニトリル類（特にアセトニトリル）であ
る。
【００６１】使用される脱硫化水素剤としては、一般に
使用されるものであれば、特に制限はないが、好適には
使用されるものであれば、特に制限はないが、好適には
【００６２】
【化１２】
【００６３】（Ｗは低級アルキル基（好適には、メチル
又はエチル基）を示し、Ｘはハロゲン原子（好適には弗
素又は塩素）を示し、Ｙはアンモニウム塩の対イオン
（好適には、ＢＦ4 -、ＦＳＯ3 -）を示し、Ｚは酸素原子
又は硫黄原子を示す。）又は
又はエチル基）を示し、Ｘはハロゲン原子（好適には弗
素又は塩素）を示し、Ｙはアンモニウム塩の対イオン
（好適には、ＢＦ4 -、ＦＳＯ3 -）を示し、Ｚは酸素原子
又は硫黄原子を示す。）又は
【００６４】
【化１３】
【００６５】（Ｒ10は、メチル、エチル又はフェニル基
を示し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、水素原
子、ハロゲン（好適には塩素）、炭素数１乃至４個の低
級アルキル又は置換基（好適には、メチル、メトキシ）
を有していてもよいフェニル基、Ｇはアンモニウム塩の
対イオン（好適には、ＴｓＯ- 、ＢＦ4 -、Ｂｒ- 、Ｉ
- ）を示す。）で表される化合物であり、さらに好適に
は
を示し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、水素原
子、ハロゲン（好適には塩素）、炭素数１乃至４個の低
級アルキル又は置換基（好適には、メチル、メトキシ）
を有していてもよいフェニル基、Ｇはアンモニウム塩の
対イオン（好適には、ＴｓＯ- 、ＢＦ4 -、Ｂｒ- 、Ｉ
- ）を示す。）で表される化合物であり、さらに好適に
は
【００６６】
【化１４】
【００６７】である。
【００６８】使用される塩基触媒としては、通常の反応
において塩基として使用されるものであれば、特に限定
はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素
化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水
素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化
物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメ
ルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウム
のようなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミ
ノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルア
ニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,
4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジア
ザビシクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有
機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミドのような有機金属塩基類があげられ、好適には、
三級低級アルキルアミン（特にトリエチルアミン）であ
げられる。反応温度は０℃乃至５０℃であり、好適に
は、０℃乃至３０℃である。反応時間は化合物、反応温
度により変化するが、通常１５分乃至８時間であり、好
適には３０分乃至６時間である。
において塩基として使用されるものであれば、特に限定
はないが、好適には、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸リチウムのようなアルカリ金属炭酸塩類；炭酸水素
ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウムのよ
うなアルカリ金属炭酸水素塩類；水素化リチウム、水素
化ナトリウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水
素化物類；水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
バリウム、水酸化リチウムのようなアルカリ金属水酸化
物類等の無機塩基類；ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメト
キシドのようなアルカリ金属アルコキシド類；メチルメ
ルカプタンナトリウム、エチルメルカプタンナトリウム
のようなメルカプタンアルカリ金属類；トリエチルアミ
ン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
N-メチルモルホリン、ピリジン、4-(N,N- ジメチルアミ
ノ) ピリジン、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルア
ニリン、1,5-ジアザビシクロ[4.3.0] ノナ-5- エン、1,
4-ジアザビシクロ[2.2.2] オクタン(DABCO) 、1,8-ジア
ザビシクロ[5.4.0] ウンデク- 7-エン(DBU) のような有
機塩基類又はブチルリチウム、リチウムジイソプロピル
アミドのような有機金属塩基類があげられ、好適には、
三級低級アルキルアミン（特にトリエチルアミン）であ
げられる。反応温度は０℃乃至５０℃であり、好適に
は、０℃乃至３０℃である。反応時間は化合物、反応温
度により変化するが、通常１５分乃至８時間であり、好
適には３０分乃至６時間である。
【００６９】反応終了後、たとえば溶剤を留去し、反応
液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。
液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼ
ン、エ−テル、酢酸エチルなどで抽出し、抽出液より溶
剤を留去することによって得られるものを、通常、その
まま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトある
いは再結晶法により、単離精製することもできる。
【００７０】
【発明の効果】本発明の製造法により又は本発明により
得られる化合物の保護基を適宜、通常の脱保護反応を行
なうことにより、優れた糖加水分解酵素阻害活性を有す
る２−アミノオキサゾリン誘導体を、容易に入手しうる
既知物質を利用して、簡便に、短工程で、大量に、安価
で、高収率で、かつ、種々の誘導体をも効率よく製造で
きた。
得られる化合物の保護基を適宜、通常の脱保護反応を行
なうことにより、優れた糖加水分解酵素阻害活性を有す
る２−アミノオキサゾリン誘導体を、容易に入手しうる
既知物質を利用して、簡便に、短工程で、大量に、安価
で、高収率で、かつ、種々の誘導体をも効率よく製造で
きた。
【００７１】
【実施例】実施例及び参考例中、ＭＯＭはメトキシメチ
ル基を、Ｂｎはベンジル基を示す。
ル基を、Ｂｎはベンジル基を示す。
【００７２】
【実施例１】 （１ａ）
【００７３】
【化１５】
【００７４】アミン体（Ｉ）０．１３９２ｇ（０．３１
mmol）を無水テトラヒドロフラン７．０mlに溶解し、氷
水冷却下にてイソチオシアン酸ベンジル０．０７ml
（０．４７mmol）を加え、５分後室温に昇温し、そのま
ま３時間攪拌した。反応終了確認後、反応液に酢酸エチ
ル１００mlを加え、飽和食塩水５０mlにて洗浄し、無水
硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル６
０：３０ｇ、展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝４／
１）にて精製し、目的化合物のチオウレア体（II）を無
色透明のシロップとして０．１７９１ｇ（収率９６．５
％）得た。
mmol）を無水テトラヒドロフラン７．０mlに溶解し、氷
水冷却下にてイソチオシアン酸ベンジル０．０７ml
（０．４７mmol）を加え、５分後室温に昇温し、そのま
ま３時間攪拌した。反応終了確認後、反応液に酢酸エチ
ル１００mlを加え、飽和食塩水５０mlにて洗浄し、無水
硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル６
０：３０ｇ、展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝４／
１）にて精製し、目的化合物のチオウレア体（II）を無
色透明のシロップとして０．１７９１ｇ（収率９６．５
％）得た。
【００７５】核磁気共鳴スペクトル（270MHz、CDCl3)δ
(ppm) ：7.50〜7.25(m,15H),7.18(bs,1H),6.81(bs,1H),
4.8 〜4.57(m,8H),4.53 及び 4.48(各々 d,1H ×2,J=1
0.4Hz),4.35〜4.09(m,2H),4.03(d,1H,J=4.0 Hz),3.87
(d,2H,J=5.3 Hz),3.72(d,1H,J=9.9 Hz),3.68(bs,1H),3.
37 及び3.32( 各々 s,3H ×２） 元素分析 計算値 Ｃ：６４．４１ Ｈ：6.76 Ｎ：4.69 Ｓ：
5.37 測定値 Ｃ：64.18 Ｈ：6.67 Ｎ：4.68 Ｓ：5.22 （１ｂ）
(ppm) ：7.50〜7.25(m,15H),7.18(bs,1H),6.81(bs,1H),
4.8 〜4.57(m,8H),4.53 及び 4.48(各々 d,1H ×2,J=1
0.4Hz),4.35〜4.09(m,2H),4.03(d,1H,J=4.0 Hz),3.87
(d,2H,J=5.3 Hz),3.72(d,1H,J=9.9 Hz),3.68(bs,1H),3.
37 及び3.32( 各々 s,3H ×２） 元素分析 計算値 Ｃ：６４．４１ Ｈ：6.76 Ｎ：4.69 Ｓ：
5.37 測定値 Ｃ：64.18 Ｈ：6.67 Ｎ：4.68 Ｓ：5.22 （１ｂ）
【００７６】
【化１６】
【００７７】（１ａ）で得た化合物（II）０．０８２４
ｇ（０．１４mmol）をジオキサン２．５mlに溶解し、そ
こへ０．５Ｎ塩酸２．５mlを加え、６０℃にて２４時間
攪拌した。
ｇ（０．１４mmol）をジオキサン２．５mlに溶解し、そ
こへ０．５Ｎ塩酸２．５mlを加え、６０℃にて２４時間
攪拌した。
【００７８】反応終了確認後、反応液に酢酸エチル１０
０mlを加え、飽和重曹水５０ml及び飽和食塩水５０mlに
て洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（キ
ーゼルゲル６０：１５ｇ、展開溶媒：ベンゼン／酢酸エ
チル＝１／１）にて精製し、目的化合物（III ）を無色
透明シロップとして０．０５１９ｇ（収率７３．９％）
得た。
０mlを加え、飽和重曹水５０ml及び飽和食塩水５０mlに
て洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（キ
ーゼルゲル６０：１５ｇ、展開溶媒：ベンゼン／酢酸エ
チル＝１／１）にて精製し、目的化合物（III ）を無色
透明シロップとして０．０５１９ｇ（収率７３．９％）
得た。
【００７９】核磁気共鳴スペクトル（270MHz、CDCl3)
δ(ppm) ：7.45〜7.1(m,15H),6.72(bs,1H),6.55(d,1H,J
=6.9Hz),5.24(bs,1H),4.76及び 4.66(各々 d,1H ×2,J=
11.9Hz),4.85〜4.60(m,1H),4.50 〜4.25(m,4H),4.00 〜
3.8(m,2H),3.95(d,1H,J=6.6Hz),3.82(d,1H,J=6.6Hz),3.
65 及び 3.43(各々 d,1H ×２，J=9.4Hz),2.40(bs,1H) 元素分析 計算値 Ｃ：66.12 Ｈ：6.34 Ｎ：5.51 Ｓ：6.30 測定値 Ｃ：66.14 Ｈ：6.47 Ｎ：5.73 Ｓ：6.12 Rf値： 0.19（展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝２／
１） （１ｃ）
δ(ppm) ：7.45〜7.1(m,15H),6.72(bs,1H),6.55(d,1H,J
=6.9Hz),5.24(bs,1H),4.76及び 4.66(各々 d,1H ×2,J=
11.9Hz),4.85〜4.60(m,1H),4.50 〜4.25(m,4H),4.00 〜
3.8(m,2H),3.95(d,1H,J=6.6Hz),3.82(d,1H,J=6.6Hz),3.
65 及び 3.43(各々 d,1H ×２，J=9.4Hz),2.40(bs,1H) 元素分析 計算値 Ｃ：66.12 Ｈ：6.34 Ｎ：5.51 Ｓ：6.30 測定値 Ｃ：66.14 Ｈ：6.47 Ｎ：5.73 Ｓ：6.12 Rf値： 0.19（展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝２／
１） （１ｃ）
【００８０】
【化１７】
【００８１】テトラホウ酸２−クロロ−３−エチルベン
ゾキサゾリウム０．０３１８ｇ（０．１２mmol）のアセ
トニトリル溶液２．５ml中に原料（III)０．０５０ｇ
（０．１mmol）のアセトニトリル溶液２．５mlを氷冷
下、窒素気流下にて注加し、そのまま１時間攪拌した。
そこへトリエチルアミン０．０３３ml（０．２４mmol）
を徐々に滴下しさらに２時間攪拌した。
ゾキサゾリウム０．０３１８ｇ（０．１２mmol）のアセ
トニトリル溶液２．５ml中に原料（III)０．０５０ｇ
（０．１mmol）のアセトニトリル溶液２．５mlを氷冷
下、窒素気流下にて注加し、そのまま１時間攪拌した。
そこへトリエチルアミン０．０３３ml（０．２４mmol）
を徐々に滴下しさらに２時間攪拌した。
【００８２】反応終了確認後、反応液に酢酸エチル１０
０mlを加え、飽和重曹水５０mlにて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル６０：１０
ｇ、展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１２／１）
にて精製し、無色透明のシロップ状の目的物（IV）を
０．０４１４ｇ（収率８１．６％）得た。
０mlを加え、飽和重曹水５０mlにて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル６０：１０
ｇ、展開溶媒：塩化メチレン／メタノール＝１２／１）
にて精製し、無色透明のシロップ状の目的物（IV）を
０．０４１４ｇ（収率８１．６％）得た。
【００８３】核磁気共鳴スペクトル（270MHz、CDCl3)
δ(ppm) ：7.40〜7.10(m,15H),5.00(dd,1H,J=8.0,1.4H
z),4.65,4.61,4.54及び 4.44(各々 d,1H ×4,J=11.8H
z),4.48(dd,1H,J=8.0,1.4Hz),4.30(s,1H),4.26 及び 4.
19(各々 d,J=14.5Hz),3.94(d,J=9.9Hz),3.78 〜3.75(m,
2H),3.45(bs,3H) 赤外吸収スペクトル（CDCl3) (cm-1) ：3450,2930,170
5,1670,1510,1500,1450,1410,1360,1290,1090,1070,102
0,700 Rf値：0.27（塩化メチレン／メタノール＝１２／１）
δ(ppm) ：7.40〜7.10(m,15H),5.00(dd,1H,J=8.0,1.4H
z),4.65,4.61,4.54及び 4.44(各々 d,1H ×4,J=11.8H
z),4.48(dd,1H,J=8.0,1.4Hz),4.30(s,1H),4.26 及び 4.
19(各々 d,J=14.5Hz),3.94(d,J=9.9Hz),3.78 〜3.75(m,
2H),3.45(bs,3H) 赤外吸収スペクトル（CDCl3) (cm-1) ：3450,2930,170
5,1670,1510,1500,1450,1410,1360,1290,1090,1070,102
0,700 Rf値：0.27（塩化メチレン／メタノール＝１２／１）
【００８４】
【実施例２】 （２ａ）
【００８５】
【化１８】
【００８６】アミン体（Ｉ）４４．１mg（０．０９９mm
ol）をメタノール０．７mlに室温にて溶解させ、系内に
氷水冷却下にて１０％塩酸ガス−メタノール溶液０．７
mlを加え、５分後６０℃油浴に反応系を移し、そのまま
５時間攪拌した。反応終了確認後、反応液を減圧濃縮
し、残渣を３時間減圧乾燥した。
ol）をメタノール０．７mlに室温にて溶解させ、系内に
氷水冷却下にて１０％塩酸ガス−メタノール溶液０．７
mlを加え、５分後６０℃油浴に反応系を移し、そのまま
５時間攪拌した。反応終了確認後、反応液を減圧濃縮
し、残渣を３時間減圧乾燥した。
【００８７】この得られた脱メトキシメチル体（粗生成
物３８．１mg）を無水テトラヒドロフラン２．２mlに懸
濁させ、氷冷下にてトリエチルアミン０．０２０５ml
（０．１５mmol）を加え、次に２，３，４，６−テトラ
−ｏ−ベンジル−Ｄ−グルコシル−α−イソチオシアナ
ート０．０５７５ｇ（０．１mmol）の無水テトラヒドロ
フラン溶液２．２mlを加え、５分後室温に戻し、そのま
ま１３時間攪拌した。
物３８．１mg）を無水テトラヒドロフラン２．２mlに懸
濁させ、氷冷下にてトリエチルアミン０．０２０５ml
（０．１５mmol）を加え、次に２，３，４，６−テトラ
−ｏ−ベンジル−Ｄ−グルコシル−α−イソチオシアナ
ート０．０５７５ｇ（０．１mmol）の無水テトラヒドロ
フラン溶液２．２mlを加え、５分後室温に戻し、そのま
ま１３時間攪拌した。
【００８８】反応終了確認後、反応液を酢酸エチル５０
ml、飽和食塩水２５mlにて分液操作し、有機相を無水硫
酸マグネシウムにて乾燥後、濾過、濾物を酢酸エチルに
て洗浄した。濾液、洗液を減圧濃縮した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル
−６０：１５ｇ、ベンゼン／酢酸エチル＝５／２）にて
精製し、無色透明シロップとして目的化合物（Ｖ）を６
０．８mg（収率６９．３％（２工程））得た。
ml、飽和食塩水２５mlにて分液操作し、有機相を無水硫
酸マグネシウムにて乾燥後、濾過、濾物を酢酸エチルに
て洗浄した。濾液、洗液を減圧濃縮した。得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル
−６０：１５ｇ、ベンゼン／酢酸エチル＝５／２）にて
精製し、無色透明シロップとして目的化合物（Ｖ）を６
０．８mg（収率６９．３％（２工程））得た。
【００８９】核磁気共鳴スペクトル（270MHz、CDCl3) δ（ppm):7.75(d, 1H, J＝5.9 Hz), 7.40-7.20(m, 30
H), 6.66(bs, 1H), 5.59(s, 1H), 5.04(bs, 1H), 4.95-
4.44(m, 10H), 4.41(s, 2H), 4.33 及び 4.20(各々 d,1
H ×2, J＝12.5Hz), 4.10-3.93(m, 3H), 3.90(d, 1H, J
＝6.6Hz), 3.8-3.5(m, 8H), 3.42(t, 1H, J ＝8.8Hz),
2.31(s, 2H). Rf値：0.32（展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝５／
２) （２ｂ）
H), 6.66(bs, 1H), 5.59(s, 1H), 5.04(bs, 1H), 4.95-
4.44(m, 10H), 4.41(s, 2H), 4.33 及び 4.20(各々 d,1
H ×2, J＝12.5Hz), 4.10-3.93(m, 3H), 3.90(d, 1H, J
＝6.6Hz), 3.8-3.5(m, 8H), 3.42(t, 1H, J ＝8.8Hz),
2.31(s, 2H). Rf値：0.32（展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝５／
２) （２ｂ）
【００９０】
【化１９】
【００９１】テトラホウ酸２−クロロ−３−エチルベン
ゾキサゾリウム０．０２６９ｇ（０．１mmol）の無水ア
セトニトリル溶液２．７ml中に、化合物（Ｖ) ５４．４
mg（０．０６mmol）の無水アセトニトリル溶液３．０ml
を氷冷下、窒素気流下にて注加し、そのまま１時間攪拌
した。
ゾキサゾリウム０．０２６９ｇ（０．１mmol）の無水ア
セトニトリル溶液２．７ml中に、化合物（Ｖ) ５４．４
mg（０．０６mmol）の無水アセトニトリル溶液３．０ml
を氷冷下、窒素気流下にて注加し、そのまま１時間攪拌
した。
【００９２】そこへトリエチルアミン０．０２６ml
（０．１９mmol）を徐々に滴下し、さらに１時間攪拌し
た。
（０．１９mmol）を徐々に滴下し、さらに１時間攪拌し
た。
【００９３】反応終了確認後、反応液に酢酸エチル１０
０mlを加え、飽和重曹水５０mlにて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル−６０：５
ｇ、展開溶媒；ベンゼン／酢酸エチル＝１／１）にて精
製し、目的物（VI）を無色透明シロップにて、３５．４
mg（収率６７．６％）得た。
０mlを加え、飽和重曹水５０mlにて洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（キーゼルゲル−６０：５
ｇ、展開溶媒；ベンゼン／酢酸エチル＝１／１）にて精
製し、目的物（VI）を無色透明シロップにて、３５．４
mg（収率６７．６％）得た。
【００９４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz、CDCl3)
δ(ppm);7.40-7.00(m, 30H), 5.32(d, 1H, J＝5.3 Hz),
4.97(dd, 1H, J ＝8.6 Hz, J<1.0Hz), 4.86, 4.74, 4.
62,4.56及び4.43( 各々 d, 1H×5, J＝11.3Hz),4.54,
4.52, 4.40, 及び4.37( 各々d, 1H×4, J＝12.6Hz), 4.
50(d, 1H, J＝8.6 Hz), 4.28(s, 1H), 4.04(s, 2H),4.0
0 及び 3.78(各々 d, 1H×2, J＝9.9Hz), 3.72(s, 1H),
3.70-3.57(m, 4H),3.54 及び 3.43(各々 d, 1H×2, J
＝11.0Hz), 3.35-2.40(bs, 3H) （実施例３） （３ａ）
δ(ppm);7.40-7.00(m, 30H), 5.32(d, 1H, J＝5.3 Hz),
4.97(dd, 1H, J ＝8.6 Hz, J<1.0Hz), 4.86, 4.74, 4.
62,4.56及び4.43( 各々 d, 1H×5, J＝11.3Hz),4.54,
4.52, 4.40, 及び4.37( 各々d, 1H×4, J＝12.6Hz), 4.
50(d, 1H, J＝8.6 Hz), 4.28(s, 1H), 4.04(s, 2H),4.0
0 及び 3.78(各々 d, 1H×2, J＝9.9Hz), 3.72(s, 1H),
3.70-3.57(m, 4H),3.54 及び 3.43(各々 d, 1H×2, J
＝11.0Hz), 3.35-2.40(bs, 3H) （実施例３） （３ａ）
【００９５】
【化２０】
【００９６】アミン体（VII ）53mg（0.17mmol）を２％
塩酸−メタノール１０mlに溶解し、５０℃で３時間加温
した。溶媒を減圧下除き、無水テトラヒドロフラン５ml
及び水１mlの混液に溶解し、さらに、トリエチルアミン
１４０mgを加えた。そこへ２，３，４，６−テトラ−Ｏ
−ベンジル−１−デオキシ−α−Ｄ−グルコピラノシル
イソチオシアナート１４０mgのＴＨＦ溶液３mlを加え、
室温２時間で撹拌し、減圧下濃縮した後、シリカゲルク
ロマトを行い、酢酸エチルで溶出すると１０４mg（７１
％）のチオ尿素（VIII）が得られた。
塩酸−メタノール１０mlに溶解し、５０℃で３時間加温
した。溶媒を減圧下除き、無水テトラヒドロフラン５ml
及び水１mlの混液に溶解し、さらに、トリエチルアミン
１４０mgを加えた。そこへ２，３，４，６−テトラ−Ｏ
−ベンジル−１−デオキシ−α−Ｄ−グルコピラノシル
イソチオシアナート１４０mgのＴＨＦ溶液３mlを加え、
室温２時間で撹拌し、減圧下濃縮した後、シリカゲルク
ロマトを行い、酢酸エチルで溶出すると１０４mg（７１
％）のチオ尿素（VIII）が得られた。
【００９７】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3) δ
(ppm) ：3.34-3.79(8H,m), 4.09-4.18(2H,m), 4.25(1H,
t,J=4.6-5.3Hz), 4.37-4.94(10H,m), 5.05-5.07(1H,m,a
nomeric H), 6.65(1H,s,NH), 7.15-7.18(2H,m), 7.22-
7.40(23H,m), 7.78(1H,d,J=7.3Hz,NH). 〔α〕D 25 = +117.6 °(C=1.1, CHCl3). （３ｂ）
(ppm) ：3.34-3.79(8H,m), 4.09-4.18(2H,m), 4.25(1H,
t,J=4.6-5.3Hz), 4.37-4.94(10H,m), 5.05-5.07(1H,m,a
nomeric H), 6.65(1H,s,NH), 7.15-7.18(2H,m), 7.22-
7.40(23H,m), 7.78(1H,d,J=7.3Hz,NH). 〔α〕D 25 = +117.6 °(C=1.1, CHCl3). （３ｂ）
【００９８】
【化２１】
【００９９】実施例（２ｂ）と同様に処理することによ
り目的物（IX）が８５％の収率で得られた。
り目的物（IX）が８５％の収率で得られた。
【０１００】赤外吸収スペクトル νmax (CHCl3) 355
0, 3430, 1672cm-1. (Nujol) 3600-3100, 1660cm -1. 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3) δ(ppm) ： 3.1
8(1H,bs,NH,D2O exchanged), 3.31(1H,t,J=9.2Hz), 3.4
1(1H,dd,J=6.2,9.9Hz), 3.60-4.02(7H,m,containing 0H
×1), 4.20(1H,d,J=6.6Hz), 4.34(1H,dd,J=4.6,5.3Hz),
4.38-4.69(6H,m,containing 0H ×1), 4.72-4.92(5H,
m), 5.36(1H,d,J=4.6Hz,anomeric?), 7.07-7.09(2H,m),
7.24-7.40(23H,m), 7.40-7.58(3H,m). （実施例４）
0, 3430, 1672cm-1. (Nujol) 3600-3100, 1660cm -1. 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3) δ(ppm) ： 3.1
8(1H,bs,NH,D2O exchanged), 3.31(1H,t,J=9.2Hz), 3.4
1(1H,dd,J=6.2,9.9Hz), 3.60-4.02(7H,m,containing 0H
×1), 4.20(1H,d,J=6.6Hz), 4.34(1H,dd,J=4.6,5.3Hz),
4.38-4.69(6H,m,containing 0H ×1), 4.72-4.92(5H,
m), 5.36(1H,d,J=4.6Hz,anomeric?), 7.07-7.09(2H,m),
7.24-7.40(23H,m), 7.40-7.58(3H,m). （実施例４）
【０１０１】
【化２２】
【０１０２】参考例２と同様に処理することにより３７
％の収率で目的物（Ｘ）が得られた。
％の収率で目的物（Ｘ）が得られた。
【０１０３】核磁気共鳴スペクトル（400MHz,D2O) δ(p
pm) ： 3.22(1H,t,J=9.3-9.8Hz), 3.38(1H,ddd,J=2.0,
4.9,9.8Hz,C5'-H), 3.47(1H,t,J=8.8-9.8Hz), 3.52-3.6
4(4H,m), 3.74(1H,d,J=4.4Hz), 3.77(1H,d,AB-qの片方,
J=12.2Hz), 3.98(1H,d,J=7.3Hz), 4.27(1H,dd,J=4.4,
5.4Hz), 4.87(1H,t,J=5.9-6.8Hz), 5.13(1H,d,J=4.9H
z). 赤外吸収スペクトル νmax (KBr) 3371, 2929, 1671,
1549, 1103, 1048cm-1. （実施例５） （５ａ）
pm) ： 3.22(1H,t,J=9.3-9.8Hz), 3.38(1H,ddd,J=2.0,
4.9,9.8Hz,C5'-H), 3.47(1H,t,J=8.8-9.8Hz), 3.52-3.6
4(4H,m), 3.74(1H,d,J=4.4Hz), 3.77(1H,d,AB-qの片方,
J=12.2Hz), 3.98(1H,d,J=7.3Hz), 4.27(1H,dd,J=4.4,
5.4Hz), 4.87(1H,t,J=5.9-6.8Hz), 5.13(1H,d,J=4.9H
z). 赤外吸収スペクトル νmax (KBr) 3371, 2929, 1671,
1549, 1103, 1048cm-1. （実施例５） （５ａ）
【０１０４】
【化２３】
【０１０５】化合物（XI）を実施例（３ａ）と同様に処
理することにより目的物（XII ）が１７％の収率で得ら
れた。
理することにより目的物（XII ）が１７％の収率で得ら
れた。
【０１０６】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3) δ
(ppm) ： 2.69(1H,bs,0H), 3.16(2H,bs,0H×2), 3.40-
3.80(16H,m), 4.11-5.16(9H,m), 6.60(1H,bs,NH), 7.14
-7.50(30H,m), 7.78(1H,d,J=9.3Hz,NH). （５ｂ）
(ppm) ： 2.69(1H,bs,0H), 3.16(2H,bs,0H×2), 3.40-
3.80(16H,m), 4.11-5.16(9H,m), 6.60(1H,bs,NH), 7.14
-7.50(30H,m), 7.78(1H,d,J=9.3Hz,NH). （５ｂ）
【０１０７】
【化２４】
【０１０８】化合物（XII ）を実施例（２ｂ）と同様に
処理することにより目的物（XIII）が９０％の収率で得
られた。
処理することにより目的物（XIII）が９０％の収率で得
られた。
【０１０９】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3) δ
(ppm) ： 2.90(3H,broad s), 3.25-3.50(2H,m), 3.60-
3.92(4H,m), 3.95-4.15(2H,m), 4.10-5.00(14H,m), 5.3
6(1H,d,J=4.0Hz), 7.09-7.15(2H,m), 7.20-7.50(30H,
m). （実施例６）
(ppm) ： 2.90(3H,broad s), 3.25-3.50(2H,m), 3.60-
3.92(4H,m), 3.95-4.15(2H,m), 4.10-5.00(14H,m), 5.3
6(1H,d,J=4.0Hz), 7.09-7.15(2H,m), 7.20-7.50(30H,
m). （実施例６）
【０１１０】
【化２５】
【０１１１】化合物（XIII）を参考例２と同様に処理す
ることにより目的物（Ｘ）が４６％の収率で得られた。
物理恒数は実施例４で得られる化合物（Ｘ）と全く同一
であった。
ることにより目的物（Ｘ）が４６％の収率で得られた。
物理恒数は実施例４で得られる化合物（Ｘ）と全く同一
であった。
【０１１２】（実施例７） （７ａ）
【０１１３】
【化２６】
【０１１４】化合物（XIV ）を実施例３と同様に処理す
ることにより、目的物（XV）が８９％の収率で得られ
た。
ることにより、目的物（XV）が８９％の収率で得られ
た。
【０１１５】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3+D2O
)δ(ppm) ： 3.44-3.81(9H,m), 4.00(1H,d,J=5.3Hz),
4.13-4.23(2H,m), 4.41-4.92(8H,m,benzyl×4), 5.21(1
H,bs,anomeric H), 6.87(8H,bs,NH), 7.10-7.13(2H,m),
7.21-7.48(20H,m), 7.71(1H,d,J=7.3Hz,NH). 赤外吸収スペクトル νmax (Nujol) 3500-3200 cm-1. （７ｂ）
)δ(ppm) ： 3.44-3.81(9H,m), 4.00(1H,d,J=5.3Hz),
4.13-4.23(2H,m), 4.41-4.92(8H,m,benzyl×4), 5.21(1
H,bs,anomeric H), 6.87(8H,bs,NH), 7.10-7.13(2H,m),
7.21-7.48(20H,m), 7.71(1H,d,J=7.3Hz,NH). 赤外吸収スペクトル νmax (Nujol) 3500-3200 cm-1. （７ｂ）
【０１１６】
【化２７】
【０１１７】化合物（XV）を実施例（２ｂ）と同様に処
理することにより目的物（XVI ）が８４％の収率で得ら
れた。
理することにより目的物（XVI ）が８４％の収率で得ら
れた。
【０１１８】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3+D2O
)δ(ppm) ： 3.25-3.90(12H,m,7H +0H×4 + NH AB-q
含む), 4.03(1H,d,J=11.9Hz,AB-qの片方), 4.18(1H,d,J
=7.3Hz), 4.33(1H,t,J=4.6Hz), 4.40 & 4.91(2H,AB-q,J
=11.2Hz), 4.47(2H,s), 4.58,4.62(2H,AB-q,J=12.5Hz),
4.72-4.79(2H,m), 4.86(1H,t,J=5.9-6.5Hz), 5.30(1H,
d,J=5.3Hz,anomeric), 7.06-7.13(2H,m), 7.20-7.29(18
H,m). （実施例８）
)δ(ppm) ： 3.25-3.90(12H,m,7H +0H×4 + NH AB-q
含む), 4.03(1H,d,J=11.9Hz,AB-qの片方), 4.18(1H,d,J
=7.3Hz), 4.33(1H,t,J=4.6Hz), 4.40 & 4.91(2H,AB-q,J
=11.2Hz), 4.47(2H,s), 4.58,4.62(2H,AB-q,J=12.5Hz),
4.72-4.79(2H,m), 4.86(1H,t,J=5.9-6.5Hz), 5.30(1H,
d,J=5.3Hz,anomeric), 7.06-7.13(2H,m), 7.20-7.29(18
H,m). （実施例８）
【０１１９】
【化２８】
【０１２０】化合物（XVI ）を参考例２と同様に処理す
ることにより目的物（Ｘ）が４３％の収率で得られた。
物理恒数は実施例４で得られた化合物（Ｘ）と全く同一
であった。
ることにより目的物（Ｘ）が４３％の収率で得られた。
物理恒数は実施例４で得られた化合物（Ｘ）と全く同一
であった。
【０１２１】（実施例９） （９ａ）
【０１２２】
【化２９】
【０１２３】アミン体（VII ）２９mg（0.094mmol)を２
％塩酸−メタノールに溶解し、５０℃で３時間加温し
た。減圧下、溶媒を除き、そこへ、ＴＨＦ−Ｈ2 Ｏ
（５：１，3.6ml)を加え、溶解した。この溶液にトリエ
チルアミン３０mgを加え、更にベンジルイソチオシアネ
ート４１mgを加え、２時間撹拌した。減圧下濃縮し、シ
リカゲルカラムクロマトを用い、酢酸エチルにて溶出す
ると１９mg（４８％）の目的物（XVII）が得られた。
％塩酸−メタノールに溶解し、５０℃で３時間加温し
た。減圧下、溶媒を除き、そこへ、ＴＨＦ−Ｈ2 Ｏ
（５：１，3.6ml)を加え、溶解した。この溶液にトリエ
チルアミン３０mgを加え、更にベンジルイソチオシアネ
ート４１mgを加え、２時間撹拌した。減圧下濃縮し、シ
リカゲルカラムクロマトを用い、酢酸エチルにて溶出す
ると１９mg（４８％）の目的物（XVII）が得られた。
【０１２４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3+D2O
)δ(ppm) ： 3.69, 3.92(2H,AB-q,J=10.3Hz,C1-CH2),
3.88(1H,bs,C2-H?), 4.14(1H,d,J=6.5Hz,C5-H), 4.30,
4.45(2H,AB-q,J=15.8Hz,BH2-ph), 4.37(3H,bs), 4.56(2
H,s,CH2ph), 4.80(3H,bs,D2O exchanged), 4.88-4.89(1
H,m), 7.21-7.48(10H,m). （実施例１０）
)δ(ppm) ： 3.69, 3.92(2H,AB-q,J=10.3Hz,C1-CH2),
3.88(1H,bs,C2-H?), 4.14(1H,d,J=6.5Hz,C5-H), 4.30,
4.45(2H,AB-q,J=15.8Hz,BH2-ph), 4.37(3H,bs), 4.56(2
H,s,CH2ph), 4.80(3H,bs,D2O exchanged), 4.88-4.89(1
H,m), 7.21-7.48(10H,m). （実施例１０）
【０１２５】
【化３０】
【０１２６】化合物（XVII）実施例２と同様に処理する
ことにより、目的物（XVIII ）が３１％の収率で得られ
た。
ことにより、目的物（XVIII ）が３１％の収率で得られ
た。
【０１２７】〔α〕D 23 = +34.0°(c=0.1, H2O). 赤外吸収スペクトル νmax (KBr) 3380(strong),2926,
2855,1715,1680cm-1. 核磁気共鳴スペクトル（400MHz,D2O) δ(ppm) ：3.56 a
nd 3.75(2H,AB-q,J=12.2 Hz,Cl-CH2-O), 3.73(1H,d,J=
4.4 Hz,C2-H),3.96(1H,dd,J=1.0 and 7.3 Hz, C5-H),
4.26(1H,dd,J=4.4 and 5.9 Hz), 4.91(1H,t,5.9 and 7.
3Hz, C4-H) （実施例１１） （１１ａ）
2855,1715,1680cm-1. 核磁気共鳴スペクトル（400MHz,D2O) δ(ppm) ：3.56 a
nd 3.75(2H,AB-q,J=12.2 Hz,Cl-CH2-O), 3.73(1H,d,J=
4.4 Hz,C2-H),3.96(1H,dd,J=1.0 and 7.3 Hz, C5-H),
4.26(1H,dd,J=4.4 and 5.9 Hz), 4.91(1H,t,5.9 and 7.
3Hz, C4-H) （実施例１１） （１１ａ）
【０１２８】
【化３１】
【０１２９】アミン体（ＸＸＩＩ）0.0463ｇ（0.10mmo
l）をメタノール 0.7mlに溶解し、室温にて１０％塩酸
(y) メタノール溶液 0.7mlを加え、６０℃にて、４時間
撹拌した。
l）をメタノール 0.7mlに溶解し、室温にて１０％塩酸
(y) メタノール溶液 0.7mlを加え、６０℃にて、４時間
撹拌した。
【０１３０】反応終了確認後、反応液を濃縮し、残渣を
３時間、減圧下乾燥した。
３時間、減圧下乾燥した。
【０１３１】得られた残渣を乾燥ＴＨＦ 2.3mlに懸濁
し、氷冷下、ＴＥＡ0.0215ml（0.16mmol）を加え、続い
て２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−グルコ
シル−β−イソチオシアナート 0.0724ｇ（0.12mmol）
の乾燥ＴＨＦ溶液 2.3mlを加え、５分後室温に戻し、そ
のまま１３時間撹拌した。
し、氷冷下、ＴＥＡ0.0215ml（0.16mmol）を加え、続い
て２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−グルコ
シル−β−イソチオシアナート 0.0724ｇ（0.12mmol）
の乾燥ＴＨＦ溶液 2.3mlを加え、５分後室温に戻し、そ
のまま１３時間撹拌した。
【０１３２】反応終了確認後、反応液を酢酸エチル１０
０ml、飽和食塩水５０mlにて分液操作をし、有機相をＭ
ｇＳＯ4 で乾燥後、濾過し、濾液を減圧下濃縮した。
０ml、飽和食塩水５０mlにて分液操作をし、有機相をＭ
ｇＳＯ4 で乾燥後、濾過し、濾液を減圧下濃縮した。
【０１３３】得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（Kieselgel- 60:12ｇ，展開溶媒，Ｐｈ
Ｈ／ＥｔｏＡｃ＝５／２）にて精製し、無色透明syrup
状の目的化合物（XX）を76.8mg（収率78.7％、２段階)
で得た。
マトグラフィー（Kieselgel- 60:12ｇ，展開溶媒，Ｐｈ
Ｈ／ＥｔｏＡｃ＝５／２）にて精製し、無色透明syrup
状の目的化合物（XX）を76.8mg（収率78.7％、２段階)
で得た。
【０１３４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3 )δ
(ppm) ：7.50-7.10(m,30H,Ph of benzyl group),7.05(b
s,1H),6.17(bs,1H),5.32(bs,1H),5.00-4.32(m,13H), 4.
06(dd,1H,J=3.5Hz,J=8.0Hz),4.00-3.45(m,10H), 3.25(b
s,1H),2.35(bs,2H) 〔α〕D 24=+12.2°(C=0.83,CHCl3) （１１ｂ）
(ppm) ：7.50-7.10(m,30H,Ph of benzyl group),7.05(b
s,1H),6.17(bs,1H),5.32(bs,1H),5.00-4.32(m,13H), 4.
06(dd,1H,J=3.5Hz,J=8.0Hz),4.00-3.45(m,10H), 3.25(b
s,1H),2.35(bs,2H) 〔α〕D 24=+12.2°(C=0.83,CHCl3) （１１ｂ）
【０１３５】
【化３２】
【０１３６】（第１法）２−クロロ−３−エチルベンゾ
キサゾリウムテトラフルオロボレート0.049ｇ（0.18mmo
l）の無水アセトニトリル 6.0ml溶液に、窒素雰囲気
下、氷水冷却下にて、チオウレア体（XX）0.1051ｇ（0.
11mmol）の無水アセトニトリル 3.0ml溶液を滴下し、そ
のまま、１時間２０分撹拌した。その後、トリエチルア
ミン0.05ml（0.36mmol）を滴下し、さらに４０分間撹拌
した。
キサゾリウムテトラフルオロボレート0.049ｇ（0.18mmo
l）の無水アセトニトリル 6.0ml溶液に、窒素雰囲気
下、氷水冷却下にて、チオウレア体（XX）0.1051ｇ（0.
11mmol）の無水アセトニトリル 3.0ml溶液を滴下し、そ
のまま、１時間２０分撹拌した。その後、トリエチルア
ミン0.05ml（0.36mmol）を滴下し、さらに４０分間撹拌
した。
【０１３７】反応終了確認後、反応液を酢酸エチル５０
ml×２、飽和重曹水５０mlで分液抽出後、有機相を飽和
食塩水５０mlにて洗浄し、有機相を硫酸マグネシウムに
て乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Kieselgel- 6
0:10ｇ，ＰｈＨ／ＭｅＣＮ＝２／１）にて３回精製し目
的化合物（XXI ）を無色透明foamy glass として、 0.0
43ｇ（収率４３％）で得た。
ml×２、飽和重曹水５０mlで分液抽出後、有機相を飽和
食塩水５０mlにて洗浄し、有機相を硫酸マグネシウムに
て乾燥後、濾過した。濾液を減圧濃縮し、得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Kieselgel- 6
0:10ｇ，ＰｈＨ／ＭｅＣＮ＝２／１）にて３回精製し目
的化合物（XXI ）を無色透明foamy glass として、 0.0
43ｇ（収率４３％）で得た。
【０１３８】本方法では、α体が約１０％、anomerizat
ion によって生成した。
ion によって生成した。
【０１３９】（第２法）ヨウ化 ２−クロロ−１−メチ
ルピリジニウム０．０６３８ｇ（０．２５ｍｍｏｌｅ）
の無水アセトニトリル溶液６．０ｍｌに化合物（XX）
０．１１５８ｇ（０．１２ｍｍｏｌｅ）の無水アセトニ
トリル溶液３．０ｍｌを窒素雰囲気下、０℃にて滴下
し、そのまま、４０分間撹拌した。次にトリエチルアミ
ン０．０７ｍｌ（０．５１ｍｍｏｌｅ）を同条件下で加
え、さらに１時間撹拌した。反応液に酢酸エチルと飽和
重曹水を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）で２回、分液抽
出した。出られた有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮、濃縮残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−（Kieselgel-60,12g, 展
開溶媒ベンゼン／アセトニトリル＝２／１）で精製し、
目的化合物（XXI ）を０．０７７９ｇ（収率：７０％）
を無色透明のfoam glassとして得た。核磁気共鳴スペク
トル（270MHz,CDCl3 )δ(ppm) ： 7.45-7.05(m,30H,Ph
of benzyl group),4.97(d,1H,J=7.4Hz),4.89 and 4.83
(each d,1H×2,J=11.0Hz),4.765(d,1H,J=5.8Hz),4.72
(s,2H), 4.59, 4.52, 4.43 & 4.40(each d,2H ×4), 4.
53(d,1H,J=7.4Hz), 4.23(s,1H), 3.94 and 3.74(each
d,1H ×2,J=9.6Hz), 3.72-3.57(m,5H),3.48(dd like,1
H,J=2.0Hz,J=8.4Hz), 3.34(t,1H,J=8.4Hz), 3.03(bs,3
H) 〔α〕D 24=+4.6 °(C=1.0,CHCl3), （実施例１２）
ルピリジニウム０．０６３８ｇ（０．２５ｍｍｏｌｅ）
の無水アセトニトリル溶液６．０ｍｌに化合物（XX）
０．１１５８ｇ（０．１２ｍｍｏｌｅ）の無水アセトニ
トリル溶液３．０ｍｌを窒素雰囲気下、０℃にて滴下
し、そのまま、４０分間撹拌した。次にトリエチルアミ
ン０．０７ｍｌ（０．５１ｍｍｏｌｅ）を同条件下で加
え、さらに１時間撹拌した。反応液に酢酸エチルと飽和
重曹水を加え、酢酸エチル（５０ｍｌ）で２回、分液抽
出した。出られた有機相を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮、濃縮残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−（Kieselgel-60,12g, 展
開溶媒ベンゼン／アセトニトリル＝２／１）で精製し、
目的化合物（XXI ）を０．０７７９ｇ（収率：７０％）
を無色透明のfoam glassとして得た。核磁気共鳴スペク
トル（270MHz,CDCl3 )δ(ppm) ： 7.45-7.05(m,30H,Ph
of benzyl group),4.97(d,1H,J=7.4Hz),4.89 and 4.83
(each d,1H×2,J=11.0Hz),4.765(d,1H,J=5.8Hz),4.72
(s,2H), 4.59, 4.52, 4.43 & 4.40(each d,2H ×4), 4.
53(d,1H,J=7.4Hz), 4.23(s,1H), 3.94 and 3.74(each
d,1H ×2,J=9.6Hz), 3.72-3.57(m,5H),3.48(dd like,1
H,J=2.0Hz,J=8.4Hz), 3.34(t,1H,J=8.4Hz), 3.03(bs,3
H) 〔α〕D 24=+4.6 °(C=1.0,CHCl3), （実施例１２）
【０１４０】
【化３３】
【０１４１】Hexabenzyl体（XXI ）0.0412ｇ（0.045mmo
l)をメタノール 8.2mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ1.
25ｇを添加後、６０℃油浴にて、水素雰囲気下、常圧で
３０分間撹拌した。
l)をメタノール 8.2mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ1.
25ｇを添加後、６０℃油浴にて、水素雰囲気下、常圧で
３０分間撹拌した。
【０１４２】反応終了確認後、反応液を濾過、濾物をメ
タノールにて洗浄後、濾液、洗液を合わせて減圧濃縮し
た。
タノールにて洗浄後、濾液、洗液を合わせて減圧濃縮し
た。
【０１４３】得られた残渣をＣＧ−５０（ＮＨ4 + type
／Ｈ+ type＝３／2.5 ml相当）にて精製し、凍結乾燥す
ることにより、目的化合物（XXII）を白色固体として
7.8mg（収率51.2％）を得た。
／Ｈ+ type＝３／2.5 ml相当）にて精製し、凍結乾燥す
ることにより、目的化合物（XXII）を白色固体として
7.8mg（収率51.2％）を得た。
【０１４４】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,D2O )δ(p
pm) ：4.73(dd,1H,J=2.9Hz,J=8.8Hz),4.51(d,1H,J=8.8H
z), 4.15(d,1H,J=8.8Hz), 4.00(dd,1H,J=2.9Hz,J=5.9H
z),3.75(d,1H,J=5.9Hz), 3.68(dd,1H,J=12.7Hz,J=2.0H
z), 3.62 and 3.51(each d,1H ×2,J=12.2Hz),3.55(dd,
1H,J=12.7Hz,J=4.4Hz), 3.35(t,1H,J=8.8Hz), 3.31(dd
d,1H,J=2.0Hz,J=4.4Hz,J=8.8Hz), 3.24(t,1H,J=8.8Hz),
3.18(t,1H,J=8.8Hz) 〔α〕D 24=+5.3 °(c=0.78,H2O) （実施例１３） （１３ａ）
pm) ：4.73(dd,1H,J=2.9Hz,J=8.8Hz),4.51(d,1H,J=8.8H
z), 4.15(d,1H,J=8.8Hz), 4.00(dd,1H,J=2.9Hz,J=5.9H
z),3.75(d,1H,J=5.9Hz), 3.68(dd,1H,J=12.7Hz,J=2.0H
z), 3.62 and 3.51(each d,1H ×2,J=12.2Hz),3.55(dd,
1H,J=12.7Hz,J=4.4Hz), 3.35(t,1H,J=8.8Hz), 3.31(dd
d,1H,J=2.0Hz,J=4.4Hz,J=8.8Hz), 3.24(t,1H,J=8.8Hz),
3.18(t,1H,J=8.8Hz) 〔α〕D 24=+5.3 °(c=0.78,H2O) （実施例１３） （１３ａ）
【０１４５】
【化３４】
【０１４６】アミノサイクリトール（XXIII ） 0.023ｇ
（0.13mmol）を蒸留水0.23ml、ＴＨＦ 1.2mlに溶解し、
次に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−グル
コシル−α−イソチオシアネート 0.0836 ｇ（0.14mmo
l）のＴＨＦ0.23mlの溶液を室温にて注加し、2 日間撹
拌した。
（0.13mmol）を蒸留水0.23ml、ＴＨＦ 1.2mlに溶解し、
次に２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル−Ｄ−グル
コシル−α−イソチオシアネート 0.0836 ｇ（0.14mmo
l）のＴＨＦ0.23mlの溶液を室温にて注加し、2 日間撹
拌した。
【０１４７】反応終了確認後、反応液を濃縮し、残渣を
減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ki
eselgel- 60:20ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０／
１）にて精製し、目的化合物（XXIV）を白色フォーム状
固体として、0.0863ｇ（収率88.3％）得た。
減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ki
eselgel- 60:20ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０／
１）にて精製し、目的化合物（XXIV）を白色フォーム状
固体として、0.0863ｇ（収率88.3％）得た。
【０１４８】〔α〕D 25=+146.7 °(C=0.48,CHCl3) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3 )δ(ppm) ： 7.7
4(bs,1H), 7.55-7.00(m,20H), 6.75(bs,1H),5.45(bs,1
H),5.18(bs,1H),5.00-4.25(m,8H),4.20-3.20(m,12H),
1.70(bs,4H) （１３ｂ）
4(bs,1H), 7.55-7.00(m,20H), 6.75(bs,1H),5.45(bs,1
H),5.18(bs,1H),5.00-4.25(m,8H),4.20-3.20(m,12H),
1.70(bs,4H) （１３ｂ）
【０１４９】
【化３５】
【０１５０】２−クロロ−３−エチルベンゾキサゾリウ
ム テトラフルオロボレート 0.042ｇ（0.16mmol）の無
水アセトニトリル 3.4ml溶液に窒素雰囲気下、氷冷下、
チオウレア体（XXIV）0.0679ｇ（0.09mmol）の無水アセ
トニトリル 2.0ml溶液を滴下し、１時間撹拌した。さら
に、ＴＥＡ 0.045ml（0.32mmol）を注加し、１時間半撹
拌した。
ム テトラフルオロボレート 0.042ｇ（0.16mmol）の無
水アセトニトリル 3.4ml溶液に窒素雰囲気下、氷冷下、
チオウレア体（XXIV）0.0679ｇ（0.09mmol）の無水アセ
トニトリル 2.0ml溶液を滴下し、１時間撹拌した。さら
に、ＴＥＡ 0.045ml（0.32mmol）を注加し、１時間半撹
拌した。
【０１５１】反応終了確認後、反応液を酢酸エチル２５
ml×２、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２５mlにて分液
抽出後、得られた有機相を飽和食塩水２５mlにて洗浄し
た。有機相をＭｇＳＯ4 にて乾燥後、濾過、濾物を酢酸
エチルにて洗浄した。
ml×２、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２５mlにて分液
抽出後、得られた有機相を飽和食塩水２５mlにて洗浄し
た。有機相をＭｇＳＯ4 にて乾燥後、濾過、濾物を酢酸
エチルにて洗浄した。
【０１５２】濾液、洗液を合わせて濃縮し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（Kieselgel- 60:10
ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０／１）にて精製し、
目的化合物（XXV ）を白色フォーム状固体として0.0473
ｇ（収率72.9％）得た。
カゲルカラムクロマトグラフィー（Kieselgel- 60:10
ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０／１）にて精製し、
目的化合物（XXV ）を白色フォーム状固体として0.0473
ｇ（収率72.9％）得た。
【０１５３】〔α〕D 26=+60°(C=0.61,CHCl3) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3 )δ(ppm) ：7.45
-7.05(m,20H,Ph of benzyl group),5.31(d,1H,J=5.28H
z,anomeric proton),4.91,4.78,4.76,4.46,4.44 and 4.
40(each d,1H ×6,J=11.21Hz,benzylic protons),4.80
(d,1H,J=7.91Hz,H-4),4.60 and 4.55(each d,1H ×2,J=
11.8Hz),4.31(d,1H,J=7.91Hz,H-5),4.05-3.60(m,13H),
3.53(dd,1H,J=5.94Hz,J=9.9Hz), 3.41(t,1H,J=9.23Hz) （実施例１４）
-7.05(m,20H,Ph of benzyl group),5.31(d,1H,J=5.28H
z,anomeric proton),4.91,4.78,4.76,4.46,4.44 and 4.
40(each d,1H ×6,J=11.21Hz,benzylic protons),4.80
(d,1H,J=7.91Hz,H-4),4.60 and 4.55(each d,1H ×2,J=
11.8Hz),4.31(d,1H,J=7.91Hz,H-5),4.05-3.60(m,13H),
3.53(dd,1H,J=5.94Hz,J=9.9Hz), 3.41(t,1H,J=9.23Hz) （実施例１４）
【０１５４】
【化３６】
【０１５５】原料化合物（XXV ）0.0431ｇ（0.06mmol）
をメタノール 8.6mlに溶解し、そこへＰｄ（ＯＨ）2 −
Ｃを添加後、６０℃油浴中にて水素雰囲気下常圧にて４
０分間撹拌した。
をメタノール 8.6mlに溶解し、そこへＰｄ（ＯＨ）2 −
Ｃを添加後、６０℃油浴中にて水素雰囲気下常圧にて４
０分間撹拌した。
【０１５６】反応終了確認後、反応液を濾過、濾物をメ
タノールにて洗浄し、濾液、洗液を合わせて濃縮した。
得られた残渣をＣＧ−５０（ＮＨ4 + type／Ｈ+ type＝
３／2.5 ml，Ｈ2 Ｏ→ 0.5ＭＮＨ3 aq）にて精製し、溶
出液を濃縮し、得られた残渣に水に溶解後、凍結乾燥
し、目的化合物（XXXIX ）を白色固体として0.0103ｇ
（収率47.5％）で得た。
タノールにて洗浄し、濾液、洗液を合わせて濃縮した。
得られた残渣をＣＧ−５０（ＮＨ4 + type／Ｈ+ type＝
３／2.5 ml，Ｈ2 Ｏ→ 0.5ＭＮＨ3 aq）にて精製し、溶
出液を濃縮し、得られた残渣に水に溶解後、凍結乾燥
し、目的化合物（XXXIX ）を白色固体として0.0103ｇ
（収率47.5％）で得た。
【０１５７】尚、物理定数は、天然トレハゾリンと一致
した。
した。
【０１５８】（実施例１５） （１５ａ）
【０１５９】
【化３７】
【０１６０】アミノサイクリトール（XXIII ）0.0356ｇ
（0.2mmol)をＴＨＦ 1.8ml及び蒸留水 0.4mlの混合溶液
に溶解し、イソチオシアナート体（XXVI）0.0595ｇ（0.
18mmol）のＴＨＦ 0.6ml溶液を室温にて注加し、そのま
ま７日間撹拌した。
（0.2mmol)をＴＨＦ 1.8ml及び蒸留水 0.4mlの混合溶液
に溶解し、イソチオシアナート体（XXVI）0.0595ｇ（0.
18mmol）のＴＨＦ 0.6ml溶液を室温にて注加し、そのま
ま７日間撹拌した。
【０１６１】反応終了確認後、反応液を減圧濃縮し残渣
を減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Kieselgel- 60:15ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０
／１）にて精製し、目的化合物（XXVII ）を白色フォー
ム状固体として0.0766ｇ（収率85.0％）にて得た。
を減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Kieselgel- 60:15ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０
／１）にて精製し、目的化合物（XXVII ）を白色フォー
ム状固体として0.0766ｇ（収率85.0％）にて得た。
【０１６２】〔α〕D 25=+38.1°(C=0.74,MeOH) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CD3OD )δ(ppm) ： 7.4
0-7.15(m,10H,Ph of benzyl group), 4.78(bs,4H),4.52
6(s,4H,benzylic protons), 4.01(bs,1H),3.89(dd,1H,J
=7.3Hz,J=3.2Hz),3.83(d,1H,J=7.3Hz), 3.77-3.52(m,6
H) （１５ｂ）
0-7.15(m,10H,Ph of benzyl group), 4.78(bs,4H),4.52
6(s,4H,benzylic protons), 4.01(bs,1H),3.89(dd,1H,J
=7.3Hz,J=3.2Hz),3.83(d,1H,J=7.3Hz), 3.77-3.52(m,6
H) （１５ｂ）
【０１６３】
【化３８】
【０１６４】２−クロロ−３−エチルベンゾキサゾリウ
ム テトラフルオロボレート 0.058ｇ（0.22mmol）の無
水塩化メチレン 3.5mlの懸濁液にチオウレア体（XXVII
）0.0706ｇ（0.14mmol）の無水アセトニトリル 6.0ml
溶液を窒素雰囲気下、氷冷下にて滴下し、１時間撹拌し
た。さらに、トリエチルアミン0.06ml（0.43mmol）を加
え、１時間撹拌した。
ム テトラフルオロボレート 0.058ｇ（0.22mmol）の無
水塩化メチレン 3.5mlの懸濁液にチオウレア体（XXVII
）0.0706ｇ（0.14mmol）の無水アセトニトリル 6.0ml
溶液を窒素雰囲気下、氷冷下にて滴下し、１時間撹拌し
た。さらに、トリエチルアミン0.06ml（0.43mmol）を加
え、１時間撹拌した。
【０１６５】反応終了確認後、反応液を塩化メチレン２
５ml×２、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２５mlにて分
液抽出後、有機相を飽和食塩水にて洗浄した。
５ml×２、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２５mlにて分
液抽出後、有機相を飽和食塩水にて洗浄した。
【０１６６】得られた有機相をＭｇＳＯ4 にて乾燥後、
濾過、濾物を塩化メチレンにて洗浄した。
濾過、濾物を塩化メチレンにて洗浄した。
【０１６７】濾液、洗液を合わせて減圧濃縮し、得られ
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ki
eselgel- 60:10ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝５／１）
にて精製し、目的化合物（XXVIII）を淡黄色フォーム状
固体として、0.0355ｇ（収率５４％）で得た。
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ki
eselgel- 60:10ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝５／１）
にて精製し、目的化合物（XXVIII）を淡黄色フォーム状
固体として、0.0355ｇ（収率５４％）で得た。
【０１６８】〔α〕D 25=+1.91°(C=1.0,CHCl3) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3 )δ(ppm) ：7.35
-7.10(m,10H,Ph of benzyl group),4.85(bd,1H,J=8.58H
z), 4.72(bs,5H),4.40(s,4H), 4.33(d,1H,J=8.58Hz),4.
08(bs,1H),4.01(bd,1H,J=4.96Hz), 3.90-3.70(m,3H),3.
60-3.35(m,4H,H-1a,1b) （実施例１６）
-7.10(m,10H,Ph of benzyl group),4.85(bd,1H,J=8.58H
z), 4.72(bs,5H),4.40(s,4H), 4.33(d,1H,J=8.58Hz),4.
08(bs,1H),4.01(bd,1H,J=4.96Hz), 3.90-3.70(m,3H),3.
60-3.35(m,4H,H-1a,1b) （実施例１６）
【０１６９】
【化３９】
【０１７０】Dibenzyl体（XXVIII）0.0146ｇ（0.03mmo
l）をメタノール 3.0mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ
0.15 ｇ（１０倍量）を添加し、６０℃油浴中で、常
圧、水素雰囲気下にて３０分間撹拌した。
l）をメタノール 3.0mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ
0.15 ｇ（１０倍量）を添加し、６０℃油浴中で、常
圧、水素雰囲気下にて３０分間撹拌した。
【０１７１】反応終了確認後、反応液を濾過、濾物をメ
タノールで洗浄した。
タノールで洗浄した。
【０１７２】濾液、洗液を濃縮し、得られた残渣をＣＧ
−５０（ＮＨ4 + type／Ｈ+ type＝３／２ ５ml）にて
精製し、凍結乾燥により、目的化合物（XXIX）を 6.0mg
（収率64.5％）にて白色固体として得た。
−５０（ＮＨ4 + type／Ｈ+ type＝３／２ ５ml）にて
精製し、凍結乾燥により、目的化合物（XXIX）を 6.0mg
（収率64.5％）にて白色固体として得た。
【０１７３】Rfvalue :0.58(MeCN:H2O:AcOH:13:5:2) 〔α〕D 25=+18°(C=0.5,H2O) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz,D2O )δ(ppm) ： 4.72
(dd,1H,J4-5=8.79Hz,J4- 3=2.44Hz),4.14(d,1H,J4-5=8.7
9Hz), 3.99(dd,1H,J3-4=2.44Hz,J3-2=5.37Hz),3.75(d,1
H,J2-3=5.37Hz), 3.62 and 3.52(each d,1H ×2,J=12.2
Hz),3.55-3.43(m,5H) （実施例１７） （１７ａ）
(dd,1H,J4-5=8.79Hz,J4- 3=2.44Hz),4.14(d,1H,J4-5=8.7
9Hz), 3.99(dd,1H,J3-4=2.44Hz,J3-2=5.37Hz),3.75(d,1
H,J2-3=5.37Hz), 3.62 and 3.52(each d,1H ×2,J=12.2
Hz),3.55-3.43(m,5H) （実施例１７） （１７ａ）
【０１７４】
【化４０】
【０１７５】アミノサイクリトール（XXIII ） 0.032ｇ
（0.18mmol）を蒸留水 0.3ml、ＴＨＦ 0.3mlに溶解し、
次に、２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−６−イソチオ
シアニル−メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド（XXX ）
0.1088 ｇ（0.22mmol）のＴＨＦ 3.0ml溶液を室温で注
加し、４日間撹拌した。
（0.18mmol）を蒸留水 0.3ml、ＴＨＦ 0.3mlに溶解し、
次に、２，３，４−トリ−Ｏ−ベンジル−６−イソチオ
シアニル−メチル−α−Ｄ−グルコピラノシド（XXX ）
0.1088 ｇ（0.22mmol）のＴＨＦ 3.0ml溶液を室温で注
加し、４日間撹拌した。
【０１７６】反応終了確認後、反応液を減圧濃縮し、残
渣を減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Kieselgel- 60:30ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０
／１）にて精製し、目的化合物（XXXI）を白色フォーム
状固体として、0.1080ｇ（収率88.3％）得た。
渣を減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Kieselgel- 60:30ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０
／１）にて精製し、目的化合物（XXXI）を白色フォーム
状固体として、0.1080ｇ（収率88.3％）得た。
【０１７７】〔α〕D 25=+130.1 °(C=0.71,CHCl3) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz, (CDCl3/MeOH=2/1) )δ
(ppm) ： 7.45-7.25(m,15H), 4.974 and 4.82(each d,
1H×2,J=10.2Hz),4.845 and 4.705(each d,1H ×2,J=1
0.2Hz),4.778 and 4.678(each d,1H ×2,J=11.6Hz),4.6
9(d,1H,J=3.96Hz),4.90-4.78(bs,1H), 4.77-4.55(bs,1
H), 4.05-3.45(m including dd at 3.523ppm,12H,dd at
3.523ppm,1H,J=3.3Hz,J=9.9Hz), 3.375(s,3H) （１７ｂ）
(ppm) ： 7.45-7.25(m,15H), 4.974 and 4.82(each d,
1H×2,J=10.2Hz),4.845 and 4.705(each d,1H ×2,J=1
0.2Hz),4.778 and 4.678(each d,1H ×2,J=11.6Hz),4.6
9(d,1H,J=3.96Hz),4.90-4.78(bs,1H), 4.77-4.55(bs,1
H), 4.05-3.45(m including dd at 3.523ppm,12H,dd at
3.523ppm,1H,J=3.3Hz,J=9.9Hz), 3.375(s,3H) （１７ｂ）
【０１７８】
【化４１】
【０１７９】チオウレア体（XXXI）0.0988ｇ（0.14mmo
l）の無水アセトニトリル溶液４５ｍｌを氷水冷却下、
窒素雰囲気下にて２−クロロ−３−エチルベンゾキサゾ
リウムテトラフルオロボレート ０．０５９ｇ（0.22mm
ol）の無水アセトニトリル溶液 4.9ml中に滴下し、１時
間撹拌した。さらに、トリエチルアミン0.06mlを滴下
し、２時間撹拌した。
l）の無水アセトニトリル溶液４５ｍｌを氷水冷却下、
窒素雰囲気下にて２−クロロ−３−エチルベンゾキサゾ
リウムテトラフルオロボレート ０．０５９ｇ（0.22mm
ol）の無水アセトニトリル溶液 4.9ml中に滴下し、１時
間撹拌した。さらに、トリエチルアミン0.06mlを滴下
し、２時間撹拌した。
【０１８０】反応終了確認後、反応液を塩化メチレン×
２（５０ml×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水（各５０ml）にて分液抽出し、得られた有機相
をＭｇＳＯ4 にて乾燥後、濾過、濾物を塩化メチレンに
て洗浄した。得られた濾液、洗液を合わせて濃縮後、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ki
eselgel- 60:15ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝８／１）
にて精製し、目的化合物（XXXII ）を白色フォーム状固
体として 0.044ｇ（収率46.9％）得た。
２（５０ml×２）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水（各５０ml）にて分液抽出し、得られた有機相
をＭｇＳＯ4 にて乾燥後、濾過、濾物を塩化メチレンに
て洗浄した。得られた濾液、洗液を合わせて濃縮後、得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ki
eselgel- 60:15ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝８／１）
にて精製し、目的化合物（XXXII ）を白色フォーム状固
体として 0.044ｇ（収率46.9％）得た。
【０１８１】〔α〕D 25+26.9 °(C:1.10,CHCl3) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz, CDCl3 ) δ(ppm) ：7.
35-7.25(m,15H), 4.937,4.822,4.741,4.651,4.605 and
4.537(each d,1H ×6,J=11.5Hz),4.89(bd,1H,J=8.3Hz),
4.58(d,1H,J=3.1Hz), 4.362(d,1H,J=8.3Hz),5.1-4.45
(m,5H), 4.032(bs,1H), 4.01-3.89(m,2H),3.97(bs,1H),
3.942(t,1H,J=9.2Hz),3.832 and 3.755(eachbd,1H×2,J
=12.3Hz),3.70-3.58(m,1H),3.474(dd,1H,J=9.2Hz,J=3.1
Hz), 3.42(bs,1H),3.36-3.13(m,4H),3.295(s,3H) （実施例１８）
35-7.25(m,15H), 4.937,4.822,4.741,4.651,4.605 and
4.537(each d,1H ×6,J=11.5Hz),4.89(bd,1H,J=8.3Hz),
4.58(d,1H,J=3.1Hz), 4.362(d,1H,J=8.3Hz),5.1-4.45
(m,5H), 4.032(bs,1H), 4.01-3.89(m,2H),3.97(bs,1H),
3.942(t,1H,J=9.2Hz),3.832 and 3.755(eachbd,1H×2,J
=12.3Hz),3.70-3.58(m,1H),3.474(dd,1H,J=9.2Hz,J=3.1
Hz), 3.42(bs,1H),3.36-3.13(m,4H),3.295(s,3H) （実施例１８）
【０１８２】
【化４２】
【０１８３】原料化合物（XXXII ）0.0409ｇ（0.06mmo
l）をメタノール 8.0mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ
0.68ｇを添加し、水素雰囲気下、常圧にて６０℃油浴に
て３０分間撹拌した。反応終了確認後、反応液を濾過、
濾物をメタノールにて洗浄した。
l）をメタノール 8.0mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ
0.68ｇを添加し、水素雰囲気下、常圧にて６０℃油浴に
て３０分間撹拌した。反応終了確認後、反応液を濾過、
濾物をメタノールにて洗浄した。
【０１８４】濾液、洗液を減圧濃縮し、得られた残渣を
ＣＧ−５０（ＮＨ4 + ／Ｈ+ ＝３／2.5ml)にて精製し、
凍結乾燥により、目的化合物（XXXIII）を白色固体とし
て0.0131ｇ（収率54.8％）にて得た。
ＣＧ−５０（ＮＨ4 + ／Ｈ+ ＝３／2.5ml)にて精製し、
凍結乾燥により、目的化合物（XXXIII）を白色固体とし
て0.0131ｇ（収率54.8％）にて得た。
【０１８５】Rfvalue :0.45(MeCN:H2O:AcOH:13:5:2) 〔α〕D 25=+65.4°(C=0.87,H2O) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz, D2O)δ(ppm) ： 4.71
(dd,1H,J=2.44Hz,J=8.79Hz)，4.59(d,1H,J=3.42Hz),4.1
4(d,1H,J=8.79Hz),3.97(dd,1H,J=2.44Hz,J=4.89Hz),3.7
5(d,1H,J=4.88Hz),3.63 and 3.53(each d,1H ×2,J=12.
21Hz), 3.50-3.43(m,2H),3.37(dd,1H,J=3.42Hz,J=9.77H
z),3.32(dd,1H,J=14.65Hz,J=2.44Hz), 3.21(s,3H), 3.2
1(dd,1H,J=14.65Hz,J=6.34Hz), 3.14(t,1H,J=9.77Hz) （実施例１９） （１９ａ）
(dd,1H,J=2.44Hz,J=8.79Hz)，4.59(d,1H,J=3.42Hz),4.1
4(d,1H,J=8.79Hz),3.97(dd,1H,J=2.44Hz,J=4.89Hz),3.7
5(d,1H,J=4.88Hz),3.63 and 3.53(each d,1H ×2,J=12.
21Hz), 3.50-3.43(m,2H),3.37(dd,1H,J=3.42Hz,J=9.77H
z),3.32(dd,1H,J=14.65Hz,J=2.44Hz), 3.21(s,3H), 3.2
1(dd,1H,J=14.65Hz,J=6.34Hz), 3.14(t,1H,J=9.77Hz) （実施例１９） （１９ａ）
【０１８６】
【化４３】
【０１８７】アミノサイクリトール（XXIII ） 0.035ｇ
（0.2mmol)の水溶液 0.6ml中に室温にて、イソチオシア
ナート体（XXXIV ）0.0657ｇ（0.13mmol）のＴＨＦ 3.3
ml溶液を加え、そのまま６日間撹拌した。
（0.2mmol)の水溶液 0.6ml中に室温にて、イソチオシア
ナート体（XXXIV ）0.0657ｇ（0.13mmol）のＴＨＦ 3.3
ml溶液を加え、そのまま６日間撹拌した。
【０１８８】反応終了確認後、反応液を減圧濃縮し、残
渣を減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Kieselgel- 60:15ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０
／１）にて精製し、目的化合物（XXXV）を白色フォーム
状固体として0.0833ｇ、収率93.6％にて得た。
渣を減圧乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（Kieselgel- 60:15ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝１０
／１）にて精製し、目的化合物（XXXV）を白色フォーム
状固体として0.0833ｇ、収率93.6％にて得た。
【０１８９】〔α〕D 24+76.5 °(C:0.54,MeOH) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz, CD3OD ) δ(ppm) ：
７．４５−７．２０（ｍ，１５Ｈ）， ４．８５−４．
４５（ｍ，９Ｈ），４．１０−３．４５（ｍ，１２
Ｈ）， ３．４０（ｓ，３Ｈ） （１９ｂ）
７．４５−７．２０（ｍ，１５Ｈ）， ４．８５−４．
４５（ｍ，９Ｈ），４．１０−３．４５（ｍ，１２
Ｈ）， ３．４０（ｓ，３Ｈ） （１９ｂ）
【０１９０】
【化４４】
【０１９１】２−クロロ−３−エチルベンゾキサゾリウ
ム テトラフルオロボレート 0.059ｇ（0.22mmol）の無
水アセトニトリル 3.6ml溶液中に窒素雰囲気下、氷冷に
てチオウレア体（XXXV）0.0727ｇ（0.11mmol）の無水ア
セトニトリル 3.0ml溶液を滴下し、１時間撹拌した。さ
らに、トリエチルアミン0.06ml（0.43mmol）を注加し、
１時間撹拌した。
ム テトラフルオロボレート 0.059ｇ（0.22mmol）の無
水アセトニトリル 3.6ml溶液中に窒素雰囲気下、氷冷に
てチオウレア体（XXXV）0.0727ｇ（0.11mmol）の無水ア
セトニトリル 3.0ml溶液を滴下し、１時間撹拌した。さ
らに、トリエチルアミン0.06ml（0.43mmol）を注加し、
１時間撹拌した。
【０１９２】反応終了確認後、反応液を酢酸エチル２５
ml×２、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２５ml、飽和食
塩水２５mlにて分液抽出し、得られた有機相をＭｇＳＯ
4 にて乾燥後、濾過、濾物を酢酸エチルにて洗浄した。
ml×２、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液２５ml、飽和食
塩水２５mlにて分液抽出し、得られた有機相をＭｇＳＯ
4 にて乾燥後、濾過、濾物を酢酸エチルにて洗浄した。
【０１９３】濾液、洗液を合わせて濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（Kieselgel- 60:7.5
ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝８／１）にて精製し、目
的化合物（XXXVI ）を淡黄色フォーム状固体として0.04
99ｇ（収率72.2％）にて得た。
カゲルカラムクロマトグラフィー（Kieselgel- 60:7.5
ｇ，ＣＨ2 Ｃｌ2 ／ＭｅＯＨ＝８／１）にて精製し、目
的化合物（XXXVI ）を淡黄色フォーム状固体として0.04
99ｇ（収率72.2％）にて得た。
【０１９４】〔α〕D 24=+27.2°(C=0.54,CHCl3) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz, CDCl3 ) δ(ppm) ：7.
45-7.20(m,15H,Ph of benzyl group),4.874 and 4.576
(each d,1H ×2,J=11.2Hz),4.714 and 4.64(eachd,1H×
2,J=11.8Hz),4.708(d,1H,J=7.9Hz),4.56(d,1H,J=3.7H
z), 4.477(s,2H),4.213(d,1H,J=7.9Hz),5.0-3.8(bs,5
H), 3.946(bs,1H), 3.896(bs,1H), 3.84-3.69(m,4H),3.
63-3.45(m,4H),3.324(s,3H,MeO) （実施例２０）
45-7.20(m,15H,Ph of benzyl group),4.874 and 4.576
(each d,1H ×2,J=11.2Hz),4.714 and 4.64(eachd,1H×
2,J=11.8Hz),4.708(d,1H,J=7.9Hz),4.56(d,1H,J=3.7H
z), 4.477(s,2H),4.213(d,1H,J=7.9Hz),5.0-3.8(bs,5
H), 3.946(bs,1H), 3.896(bs,1H), 3.84-3.69(m,4H),3.
63-3.45(m,4H),3.324(s,3H,MeO) （実施例２０）
【０１９５】
【化４５】
【０１９６】原料化合物（XXXVI ）0.0455ｇ（0.07mmo
l）をメタノール 9.5mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ
0.7ｇ（15.4倍量）を添加し、６０℃油浴中で１気圧水
素雰囲気下にて１時間撹拌した。
l）をメタノール 9.5mlに溶解し、Ｐｄ（ＯＨ）2 −Ｃ
0.7ｇ（15.4倍量）を添加し、６０℃油浴中で１気圧水
素雰囲気下にて１時間撹拌した。
【０１９７】反応終了確認後、反応液を濾過、濾物をメ
タノールにて洗浄した。
タノールにて洗浄した。
【０１９８】濾液、洗液を濃縮し、得られた残渣をＣＧ
−５０（ＮＨ4 + type／Ｈ+ type＝３／２，６ml）にて
精製し、目的化合物（XXXVII）を白色粉末として15.2m
g、収率57.1％で得た。
−５０（ＮＨ4 + type／Ｈ+ type＝３／２，６ml）にて
精製し、目的化合物（XXXVII）を白色粉末として15.2m
g、収率57.1％で得た。
【０１９９】〔α〕D 25+107.8°(C:0.99,H2O) 核磁気共鳴スペクトル（270MHz, D2O ) δ(ppm) ：4.74
3(dd,1H,J=8.3Hz,J=1.5Hz), 4.635(d,1H,J=3.9Hz),4.13
1(d,1H,J=8.3Hz),3.975(dd,1H,J=3.4Hz,J=1.5Hz), 3.74
9(d,1H,J=3.41Hz), 3.639(d,1H,J=12.2Hz), 3.6-3.4(m,
6H, including d,1H,J=12.2Hz at 3.549ppm), 3.205(s,
3H),3.159(t,1H,J=10.0Hz) （実施例２１） （２１ａ）
3(dd,1H,J=8.3Hz,J=1.5Hz), 4.635(d,1H,J=3.9Hz),4.13
1(d,1H,J=8.3Hz),3.975(dd,1H,J=3.4Hz,J=1.5Hz), 3.74
9(d,1H,J=3.41Hz), 3.639(d,1H,J=12.2Hz), 3.6-3.4(m,
6H, including d,1H,J=12.2Hz at 3.549ppm), 3.205(s,
3H),3.159(t,1H,J=10.0Hz) （実施例２１） （２１ａ）
【０２００】
【化４６】
【０２０１】原料１(XXIII) 0.0344ｇ（0.19mmol）の水
溶液0.68mlに、イソチオシアナート体(XXXVIII) 0.0680
ｇ（0.13mmol）のテトラヒドロフラン溶液3.4ml を室温
で加え、７日間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られ
た濃縮残渣は減圧下乾燥後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（Kieselgel-60：20ｇ、展開溶媒、塩化メチ
レン／メタノール１０／１）にて精製し、目的化合物(X
XXIX) 0.0798ｇ、収率86.6％）を白色フォーム状固体と
して得た。
溶液0.68mlに、イソチオシアナート体(XXXVIII) 0.0680
ｇ（0.13mmol）のテトラヒドロフラン溶液3.4ml を室温
で加え、７日間撹拌した。反応液を減圧濃縮し、得られ
た濃縮残渣は減圧下乾燥後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（Kieselgel-60：20ｇ、展開溶媒、塩化メチ
レン／メタノール１０／１）にて精製し、目的化合物(X
XXIX) 0.0798ｇ、収率86.6％）を白色フォーム状固体と
して得た。
【０２０２】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CD3OD) δ(ppm) ；7.50〜7.20(m,15H),5.37(bs,1H),4.95〜4.50
(m,8H),4.20 〜4.10(m,1H),4.09 〜3.45(m,11H),3.38
(s,3H) 比旋光度 〔α〕D 26＝＋113.6 °（Ｃ＝0.56，CHCl3) 元素分析 Ｃ35H44N2SO10 ・1/2H2Oとして 計算値 Ｃ；60.59 ，Ｈ；6.39，Ｎ；4.03，Ｓ；4.62 測定値 Ｃ；60.79 ，Ｈ；6.54，Ｎ；4.01，Ｓ；4.47 Rf値；0.48（展開溶媒、塩化メチレン：メタノール＝1
0：１） （２１ｂ）
(m,8H),4.20 〜4.10(m,1H),4.09 〜3.45(m,11H),3.38
(s,3H) 比旋光度 〔α〕D 26＝＋113.6 °（Ｃ＝0.56，CHCl3) 元素分析 Ｃ35H44N2SO10 ・1/2H2Oとして 計算値 Ｃ；60.59 ，Ｈ；6.39，Ｎ；4.03，Ｓ；4.62 測定値 Ｃ；60.79 ，Ｈ；6.54，Ｎ；4.01，Ｓ；4.47 Rf値；0.48（展開溶媒、塩化メチレン：メタノール＝1
0：１） （２１ｂ）
【０２０３】
【化４７】
【０２０４】２−クロロ−３−エチルベンゾオキサゾリ
ウムテトラフルオロボレート0.056ｇ（0.21mmol）の無
水アセトニトリル3.5ml 溶液に原料(XXXIX) 0.0694ｇ
（0.1mmol)の無水アセトニトリル3.0ml 溶液を０℃、窒
素雰囲気下で滴下し、１時間撹拌した。次にトリエチル
アミン0.06ml（0.43mmol）を同条件下で滴下し、さらに
１時間撹拌した。反応液に酢酸エチル25ml、飽和重曹水
25mlを加え、分液抽出した。得られた有機相は、飽和食
塩水25mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧
濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（Kieselgel-60：10ｇ、展開溶媒、塩化メ
チレン−メタノール＝10：１）にて精製し、目的化合物
(XXXX)４（0.0532ｇ、収率80.7％）を白色フォーム状固
体として得た。
ウムテトラフルオロボレート0.056ｇ（0.21mmol）の無
水アセトニトリル3.5ml 溶液に原料(XXXIX) 0.0694ｇ
（0.1mmol)の無水アセトニトリル3.0ml 溶液を０℃、窒
素雰囲気下で滴下し、１時間撹拌した。次にトリエチル
アミン0.06ml（0.43mmol）を同条件下で滴下し、さらに
１時間撹拌した。反応液に酢酸エチル25ml、飽和重曹水
25mlを加え、分液抽出した。得られた有機相は、飽和食
塩水25mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後減圧
濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（Kieselgel-60：10ｇ、展開溶媒、塩化メ
チレン−メタノール＝10：１）にて精製し、目的化合物
(XXXX)４（0.0532ｇ、収率80.7％）を白色フォーム状固
体として得た。
【０２０５】核磁気共鳴スペクトル（270MHz,CDCl3) δ(ppm) ；7.45〜7.50(m,15H),4.81(d,1H,J=7.9Hz),4.7
5and4.57(each d,1H×2,J=11.9Hz),4.68(s,2H),4.595
(d,1H,J=3.3Hz),4.48(s,2H),4.32(d,1H,J=7.9Hz),4.18
(bd,1H,J=2.6Hz),4.10 〜3.40(m,14H),3.28(s,3H) 比旋光度 〔α〕D 25＝＋24.5°（C ＝0.51，CHCl3) 元素分析 Ｃ35H42N2O10・3/2H2Oとして 計算値 Ｃ；62.0，Ｈ；6.69，Ｎ；4.13， 測定値 Ｃ；61.83 ，Ｈ；6.78，Ｎ；4.16 IR(KBr) ；3341,2924,1698,1663 Rf値；0.44（展開溶媒；塩化メチレン−メタノール＝
８：１） （２１ｃ）
5and4.57(each d,1H×2,J=11.9Hz),4.68(s,2H),4.595
(d,1H,J=3.3Hz),4.48(s,2H),4.32(d,1H,J=7.9Hz),4.18
(bd,1H,J=2.6Hz),4.10 〜3.40(m,14H),3.28(s,3H) 比旋光度 〔α〕D 25＝＋24.5°（C ＝0.51，CHCl3) 元素分析 Ｃ35H42N2O10・3/2H2Oとして 計算値 Ｃ；62.0，Ｈ；6.69，Ｎ；4.13， 測定値 Ｃ；61.83 ，Ｈ；6.78，Ｎ；4.16 IR(KBr) ；3341,2924,1698,1663 Rf値；0.44（展開溶媒；塩化メチレン−メタノール＝
８：１） （２１ｃ）
【０２０６】
【化４８】
【０２０７】原料(XXXX) 0.0465 ｇ（0.07mmol）をメタ
ノール9.3ml に溶解し、水酸化パラジウム0.7 ｇを添加
後、水素雰囲気下、常圧、60℃にて30分間撹拌した。反
応液を濾過、濾液を減圧濃縮後、得られた濃縮残渣を
（G-50(NH4 + type／H + type＝３／２，５ml, 水洗後0.
5 Ｍアンモニア水で溶出）にて精製し、目的化合物(XXX
XI) (0.0125 ｇ, 収率46％）を白色固体として得た。
ノール9.3ml に溶解し、水酸化パラジウム0.7 ｇを添加
後、水素雰囲気下、常圧、60℃にて30分間撹拌した。反
応液を濾過、濾液を減圧濃縮後、得られた濃縮残渣を
（G-50(NH4 + type／H + type＝３／２，５ml, 水洗後0.
5 Ｍアンモニア水で溶出）にて精製し、目的化合物(XXX
XI) (0.0125 ｇ, 収率46％）を白色固体として得た。
【０２０８】 核磁気共鳴スペクトル（400MHz,D2O/external TMS) δ(ppm) ；4.68(dd,1H,J=8.8Hz,2.9Hz),4.65(d,1H,J=4.
4Hz),4.10(d,1H,J=8.8Hz),3.99(dd,1H,J=6.6Hz,J=2.9H
z),3.85〜3.80(m,2H),3.76(dd,1H,J=10.7Hz,4.4Hz),3.7
3(d,1H,J=6.6Hz),3.58and3.49(each d,1H×2,J=12.2H
z),3.52(dd,1H,J=10.7Hz,4.4Hz),3.46(d,2H,J=6.4H),3.
22(s,3H) 比旋光度 〔α〕D 25＝＋107.1 °（C ＝0.89，CHCl3) IR(KBr) ；3366，2935，1959，1547，1085，1059，1039
cm-1 Rf値；0.38（アセトニトリル：水：酢酸＝13：５：２） （実施例２２） （２２ａ）
4Hz),4.10(d,1H,J=8.8Hz),3.99(dd,1H,J=6.6Hz,J=2.9H
z),3.85〜3.80(m,2H),3.76(dd,1H,J=10.7Hz,4.4Hz),3.7
3(d,1H,J=6.6Hz),3.58and3.49(each d,1H×2,J=12.2H
z),3.52(dd,1H,J=10.7Hz,4.4Hz),3.46(d,2H,J=6.4H),3.
22(s,3H) 比旋光度 〔α〕D 25＝＋107.1 °（C ＝0.89，CHCl3) IR(KBr) ；3366，2935，1959，1547，1085，1059，1039
cm-1 Rf値；0.38（アセトニトリル：水：酢酸＝13：５：２） （実施例２２） （２２ａ）
【０２０９】
【化４９】
【０２１０】原料(XXIII) ６ 0.0452ｇ（0.1mmol)をメ
タノール2.3ml に溶解し、10％塩酸ガス−メタノール溶
液2.3ml を室温で加えた。60℃にて７時間撹拌し、反応
液を減圧濃縮、得られた濃縮残渣を２時間減圧下乾燥し
た。次にこの残渣を無水テトラヒドロフラン2.3ml に懸
濁させ、室温で２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル
−α−Ｄ−グルコピラノシルイソチオシアナート0.071
ｇ（0.12mmol）の無水テトラヒドロフラン2.1ml 溶液と
トリエチルアミン0.0168ml(0.12mmol)を０℃で加え、12
時間室温で撹拌した。反応液に酢酸エチル10ml、飽和食
塩水10mlを加え、酢酸エチル（25ml×２）で分液抽出
し、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃
縮、得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（Kieselgel-60：20ｇ、展開溶媒、ベンゼン−ア
セトニトリル＝４：１）にて精製し、目的化合物(XXXXI
I)（0.0708ｇ、収率74.3％（２steps)) を白色フォーム
状固体として得た。
タノール2.3ml に溶解し、10％塩酸ガス−メタノール溶
液2.3ml を室温で加えた。60℃にて７時間撹拌し、反応
液を減圧濃縮、得られた濃縮残渣を２時間減圧下乾燥し
た。次にこの残渣を無水テトラヒドロフラン2.3ml に懸
濁させ、室温で２，３，４，６−テトラ−Ｏ−ベンジル
−α−Ｄ−グルコピラノシルイソチオシアナート0.071
ｇ（0.12mmol）の無水テトラヒドロフラン2.1ml 溶液と
トリエチルアミン0.0168ml(0.12mmol)を０℃で加え、12
時間室温で撹拌した。反応液に酢酸エチル10ml、飽和食
塩水10mlを加え、酢酸エチル（25ml×２）で分液抽出
し、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後濃
縮、得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（Kieselgel-60：20ｇ、展開溶媒、ベンゼン−ア
セトニトリル＝４：１）にて精製し、目的化合物(XXXXI
I)（0.0708ｇ、収率74.3％（２steps)) を白色フォーム
状固体として得た。
【０２１１】核磁気共鳴スペクトル（270MHz，CDCl3) δ(ppm) ；7.75(d,1H,J=4.4Hz),7.45 〜7.05(m,30H),6.
61(bs,1H),5.21(bs,1H),4.98(bs,1H),4.95〜4.40(m,9
H),4.35 〜4.15(m,4H),4.00(bd,3H,J=11.9Hz),3.70(bs,
4H),3.54(bd,2H,J=9.9Hz),3.29(bd,2H,J=8.6Hz),2.94(b
s,1H),2.86(bd,1H,J=9.9Hz) 比旋光度 〔α〕D 25＝＋113.6 （C ＝1.01，CHCl3) 元素分析 Ｃ55H10N2O10Ｓとして 計算値 Ｃ；70.19 ，Ｈ；6.43，Ｎ；2.98，Ｈ；3.41， 測定値 Ｃ；70.01 ，Ｈ；6.71，Ｎ；3.10，Ｈ；3.72， Rf値；0.44（展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝２／
１） （２２ｂ）
61(bs,1H),5.21(bs,1H),4.98(bs,1H),4.95〜4.40(m,9
H),4.35 〜4.15(m,4H),4.00(bd,3H,J=11.9Hz),3.70(bs,
4H),3.54(bd,2H,J=9.9Hz),3.29(bd,2H,J=8.6Hz),2.94(b
s,1H),2.86(bd,1H,J=9.9Hz) 比旋光度 〔α〕D 25＝＋113.6 （C ＝1.01，CHCl3) 元素分析 Ｃ55H10N2O10Ｓとして 計算値 Ｃ；70.19 ，Ｈ；6.43，Ｎ；2.98，Ｈ；3.41， 測定値 Ｃ；70.01 ，Ｈ；6.71，Ｎ；3.10，Ｈ；3.72， Rf値；0.44（展開溶媒：ベンゼン／酢酸エチル＝２／
１） （２２ｂ）
【０２１２】
【化５０】
【０２１３】２−クロロ−３−エチルベンゾオキサゾリ
テトラフルオロボレート0.048 ｇ（0.18mmol）の無水ア
セトニトリル3.3ml 溶液に原料(XXXXII)0.0611ｇ（0.07
mmol）の無水アセトニトリル3.0ml 溶液を０℃、窒素雰
囲気下で滴加し、１時間撹拌した。次にトリエチルアミ
ン0.05ml（0.36mmol）を同条件下で滴下し、さらに１時
間撹拌した。反応液に酢酸エチル25ml、飽和重曹水25ml
を加え、酢酸エチル（25ml×２）で分液抽出した。得ら
れた有機相を飽和食塩水25mlで洗浄、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（Kieselgel-60：８ｇ、展開溶媒トル
エン−アセトニトリル＝５／２）にて精製し、目的化合
物８（0.0451ｇ、収率70.8％）を白色フォーム状固体と
して得た。
テトラフルオロボレート0.048 ｇ（0.18mmol）の無水ア
セトニトリル3.3ml 溶液に原料(XXXXII)0.0611ｇ（0.07
mmol）の無水アセトニトリル3.0ml 溶液を０℃、窒素雰
囲気下で滴加し、１時間撹拌した。次にトリエチルアミ
ン0.05ml（0.36mmol）を同条件下で滴下し、さらに１時
間撹拌した。反応液に酢酸エチル25ml、飽和重曹水25ml
を加え、酢酸エチル（25ml×２）で分液抽出した。得ら
れた有機相を飽和食塩水25mlで洗浄、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（Kieselgel-60：８ｇ、展開溶媒トル
エン−アセトニトリル＝５／２）にて精製し、目的化合
物８（0.0451ｇ、収率70.8％）を白色フォーム状固体と
して得た。
【０２１４】 核磁気共鳴スペクトル（270MHz，CDCl3) δ(ppm) ；7.45〜7.10(m,30H),5.37(d,1H,J=5.3Hz),4.9
5(d,1H,J=7.9Hz),4.88,4.79,4.76,4.49(each d,1H ×4,
J=10.6Hz),4.67.4.65,4.59,4.58,4.47,4.406(eacd,1H×
6,J=11.9Hz),4.495(s,2H),4.415(d,1H,J=7.9Hz),4.17(b
s,1H),3.85〜3.55(m,8H),3.49(d,1H,J=5.3Hz),3.35(bs,
1H),2.60〜1.40(bs,2H) 比旋光度 〔α〕D 24＝＋12.0°（Ｃ＝1.13，CHCl3) Rf値；0.23（ベンゼン−アセトニトリル＝３／１） （２２ｃ）
5(d,1H,J=7.9Hz),4.88,4.79,4.76,4.49(each d,1H ×4,
J=10.6Hz),4.67.4.65,4.59,4.58,4.47,4.406(eacd,1H×
6,J=11.9Hz),4.495(s,2H),4.415(d,1H,J=7.9Hz),4.17(b
s,1H),3.85〜3.55(m,8H),3.49(d,1H,J=5.3Hz),3.35(bs,
1H),2.60〜1.40(bs,2H) 比旋光度 〔α〕D 24＝＋12.0°（Ｃ＝1.13，CHCl3) Rf値；0.23（ベンゼン−アセトニトリル＝３／１） （２２ｃ）
【０２１５】
【化５１】
【０２１６】原料(XXXXIII) 0.0428ｇ（0.05mmol）をメ
タノール8.6 mlに溶解し、水酸化パラジウムｇを添加
後、60℃、水素雰囲気下、常圧で撹拌した。反応液を濾
過、濾液を減圧濃縮し、得られた濃縮残渣をCG−50（NH
4 + /H+ ＝３／２、水洗後0.5 Ｍアンモニア水で溶出）
にて精製し、目的化合物(XXXXIV)(0.0034 ｇ、19.7％）
を白色固体として得た。
タノール8.6 mlに溶解し、水酸化パラジウムｇを添加
後、60℃、水素雰囲気下、常圧で撹拌した。反応液を濾
過、濾液を減圧濃縮し、得られた濃縮残渣をCG−50（NH
4 + /H+ ＝３／２、水洗後0.5 Ｍアンモニア水で溶出）
にて精製し、目的化合物(XXXXIV)(0.0034 ｇ、19.7％）
を白色固体として得た。
【０２１７】 ［α］D 24 ＝＋１１０．３°（Ｃ＝０．３４，H2O ） 核磁気共鳴スペクトル（external TMS/D2O) δppm ：5.
13(1H,bd,J=2.8 Hz), 4.78(1H,dd,J=8.3 & 1.0 Hz), 4.
19(1H,d,J=8.3 Hz),4.00(1H,dd,J=5.4 & 1.0 Hz), 3.75
(1H,d,J=5.4 Hz),3.62(1H,dd,J=12.2 & 2.4 Hz),3.58-
3.48(3H,m,including d at 3.55,J=11.7 Hz),3.45(1H,
t,J=9.3 Hz),3.37(1H,ddd,J=9.3, 5.4 & 2.4Hz), 3.21
(1H,t,J=9.3 Hz) ＩＲスペクトル（ｋＢｒ）：3368,2932,1667,1546,142
1,13501242,1062,1017,912,88,838,722,639,598,579,43
3 Ｒｆ値 ０．２２（アセトニトリル：水：酢酸＝１３：
５：２）
13(1H,bd,J=2.8 Hz), 4.78(1H,dd,J=8.3 & 1.0 Hz), 4.
19(1H,d,J=8.3 Hz),4.00(1H,dd,J=5.4 & 1.0 Hz), 3.75
(1H,d,J=5.4 Hz),3.62(1H,dd,J=12.2 & 2.4 Hz),3.58-
3.48(3H,m,including d at 3.55,J=11.7 Hz),3.45(1H,
t,J=9.3 Hz),3.37(1H,ddd,J=9.3, 5.4 & 2.4Hz), 3.21
(1H,t,J=9.3 Hz) ＩＲスペクトル（ｋＢｒ）：3368,2932,1667,1546,142
1,13501242,1062,1017,912,88,838,722,639,598,579,43
3 Ｒｆ値 ０．２２（アセトニトリル：水：酢酸＝１３：
５：２）
【０２１８】
【参考例１】
【０２１９】
【化５２】
【０２２０】化合物（IV）１１．３mg（０．０２４mmo
l）をメタノール1.5ml に溶解し、さらに水酸化パラジ
ウム０．１６９７ｇを加え、水素雰囲気下、常圧、６０
℃にて接触水素還元を４０分間行った。反応終了確認
後、反応液を濾過し、濾物をメタノールにて洗浄し、濾
液、洗液を合わせて減圧濃縮した。残渣をＣＧ−５０
（アンモニウムタイプ）４mlにて精製し、目的化合物
（XXXVIII ）を白色固体として３．５mg（収率７１．４
％）得た。 核磁気共鳴スペクトル(270Hz、D2O/TMS) δ(ppm) ：4.8
(ddd,1H,J=8.8Hz,J=2.5Hz,J<1Hz),4.16(d,1H,J=8.8Hz),
4.02(dd,1H,J=3.9, 2.5Hz),3.77(dt,1H,J=3.9Hz,J<1Hz,
J<1Hz), 3.59 及び 3.53(各々 d,1H ×2,J=9.8Hz) Rf値：0.58（展開溶媒：アセトニトリル／水／酢酸＝１
３／５／２）
l）をメタノール1.5ml に溶解し、さらに水酸化パラジ
ウム０．１６９７ｇを加え、水素雰囲気下、常圧、６０
℃にて接触水素還元を４０分間行った。反応終了確認
後、反応液を濾過し、濾物をメタノールにて洗浄し、濾
液、洗液を合わせて減圧濃縮した。残渣をＣＧ−５０
（アンモニウムタイプ）４mlにて精製し、目的化合物
（XXXVIII ）を白色固体として３．５mg（収率７１．４
％）得た。 核磁気共鳴スペクトル(270Hz、D2O/TMS) δ(ppm) ：4.8
(ddd,1H,J=8.8Hz,J=2.5Hz,J<1Hz),4.16(d,1H,J=8.8Hz),
4.02(dd,1H,J=3.9, 2.5Hz),3.77(dt,1H,J=3.9Hz,J<1Hz,
J<1Hz), 3.59 及び 3.53(各々 d,1H ×2,J=9.8Hz) Rf値：0.58（展開溶媒：アセトニトリル／水／酢酸＝１
３／５／２）
【０２２１】
【参考例２】
【０２２２】
【化５３】
【０２２３】化合物（VIII) ３３．３mg（０．０３６mm
ol）をメタノール６．７mlに溶解し、さらに水酸化パラ
ジウム１．０ｇを加え、水素雰囲気下、常圧、６０℃に
て接触水素還元を３０分間行った。反応終了確認後、反
応液を濾過し、濾物をメタノールにて洗浄し、濾液、洗
液を合わせて減圧濃縮した。残渣をＣＧ−５０（NH4 +
type／Ｈ+ type＝3/2)１０mlにて精製し、目的物（XXXI
X ）を白色固体として５．９mg（収率４４％）得た。 核磁気スペクトル (360 MHz, D2O) δ(ppm);5.23(d, 1H, J ＝5.4 Hz), 4.27(d, 1H, J＝8.
6 Hz), 4.13(dd, 1H,J ＝2.2, 4.8Hz), 3.87(d, 1H, J
＝4.8Hz), 3.8-3.61(m, 5H), 3.57(dd, 1H, J＝9.0, 1
0.3Hz), 3.47(ddd, 1H, J ＝10.2, 5.4, 2.6Hz), 3.32
(dd,1H, J＝9.0,10.2 Hz). Rf値：０．３２（展開溶媒：アセトニトリル：水：酢酸
＝８：５：２）
ol）をメタノール６．７mlに溶解し、さらに水酸化パラ
ジウム１．０ｇを加え、水素雰囲気下、常圧、６０℃に
て接触水素還元を３０分間行った。反応終了確認後、反
応液を濾過し、濾物をメタノールにて洗浄し、濾液、洗
液を合わせて減圧濃縮した。残渣をＣＧ−５０（NH4 +
type／Ｈ+ type＝3/2)１０mlにて精製し、目的物（XXXI
X ）を白色固体として５．９mg（収率４４％）得た。 核磁気スペクトル (360 MHz, D2O) δ(ppm);5.23(d, 1H, J ＝5.4 Hz), 4.27(d, 1H, J＝8.
6 Hz), 4.13(dd, 1H,J ＝2.2, 4.8Hz), 3.87(d, 1H, J
＝4.8Hz), 3.8-3.61(m, 5H), 3.57(dd, 1H, J＝9.0, 1
0.3Hz), 3.47(ddd, 1H, J ＝10.2, 5.4, 2.6Hz), 3.32
(dd,1H, J＝9.0,10.2 Hz). Rf値：０．３２（展開溶媒：アセトニトリル：水：酢酸
＝８：５：２）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 31/42 ＡＤＹ ＡＥＤ
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アラルキル基、
アリル基、シリル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル
基、Ｒ6 ＯＣＯ−基（式中、Ｒ6 はアルキル基、アラル
キル基、アリール基又はシリル基を示す。）あるいは保
護されていてもよいグルコシル基またはガラクトシル基
を示し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異なって
水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基を示す。但
し、下記Ａ群に記載される化合物を除く。］で表される
化合物。 ［Ａ群］ 【化２】 - 【請求項２】一般式 【化３】 ［式中、Ｒ1 は水素原子、アルキル基、アラルキル基、
アリル基、シリル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル
基、Ｒ6 ＯＣＯ−基（式中、Ｒ6 はアルキル基、アラル
キル基、アリール基又はシリル基を示す。）あるいは保
護されていてもよいグルコシル基またはガラクトシル基
を示し、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は同一又は異なって
水素原子、アルキル基又は水酸基の保護基を示す。］で
表される化合物に、脱硫化水素剤を反応させることを特
徴とする一般式 【化４】 ［式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 及びＲ5 は前述のもの
と同意義を示す。］で表される２−アミノオキサゾリン
化合物の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5175077A JPH06100549A (ja) | 1992-07-17 | 1993-07-15 | ２−アミノオキサゾリン誘導体 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19036592 | 1992-07-17 | ||
| JP21121892 | 1992-08-07 | ||
| JP4-211218 | 1992-08-07 | ||
| JP4-190365 | 1992-08-07 | ||
| JP5175077A JPH06100549A (ja) | 1992-07-17 | 1993-07-15 | ２−アミノオキサゾリン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06100549A true JPH06100549A (ja) | 1994-04-12 |
Family
ID=27324038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5175077A Pending JPH06100549A (ja) | 1992-07-17 | 1993-07-15 | ２−アミノオキサゾリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100549A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0713873A2 (en) * | 1994-11-22 | 1996-05-29 | Seikagaku Kogyo Kabushiki Kaisha (Seikagaku Corporation) | Aminocyclopentane derivative |
| JP2006347922A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Hiroshima Pref Gov | インフルエンザウイルスのヘマグルチニンに対する抗体酵素 |
-
1993
- 1993-07-15 JP JP5175077A patent/JPH06100549A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0713873A2 (en) * | 1994-11-22 | 1996-05-29 | Seikagaku Kogyo Kabushiki Kaisha (Seikagaku Corporation) | Aminocyclopentane derivative |
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