JPH059172A - 新規なヒドロキシプロリン誘導体及びその製造法 - Google Patents
新規なヒドロキシプロリン誘導体及びその製造法Info
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- JPH059172A JPH059172A JP16074191A JP16074191A JPH059172A JP H059172 A JPH059172 A JP H059172A JP 16074191 A JP16074191 A JP 16074191A JP 16074191 A JP16074191 A JP 16074191A JP H059172 A JPH059172 A JP H059172A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】４−ヒドロキシプロリン含有ペプチドの化学的
合成を可能とする新規な、アミノ基及びヒドロキシ基が
保護された４−ヒドロキシプロリンの活性エステル誘導
体を提供する。 【構成】Fmoc-Hyp-３，４−ジヒドロ−４−オキソ−
１，２，３−ベンゾトリアジン−３−イル エステルの
１６．２ミリモルを塩化メチレン４０ｍｌに溶かし、ド
ライアイス−メタノールで冷却しながらイソブチレン１
８．２ｇ（２０倍当量）及び濃硫酸０．２ｍｌを加え
る。容器を密封し、室温で２日間撹拌する。減圧でイソ
ブチレン及び塩化メチレンを除き、食塩水７０ｍｌ及び
エーテル１００ｍｌを加えて振り混ぜ、エーテル層を回
収する。エーテル抽出を繰り返し、抽出液は合わせて無
水硫酸ナトリウム上で乾燥後、減圧下にエーテルを留去
する。これをデシケータ中、乾燥して、化１で表される
Fmoc-Hyp(t-Bu)-ODhbtを得る。 【化１】
合成を可能とする新規な、アミノ基及びヒドロキシ基が
保護された４−ヒドロキシプロリンの活性エステル誘導
体を提供する。 【構成】Fmoc-Hyp-３，４−ジヒドロ−４−オキソ−
１，２，３−ベンゾトリアジン−３−イル エステルの
１６．２ミリモルを塩化メチレン４０ｍｌに溶かし、ド
ライアイス−メタノールで冷却しながらイソブチレン１
８．２ｇ（２０倍当量）及び濃硫酸０．２ｍｌを加え
る。容器を密封し、室温で２日間撹拌する。減圧でイソ
ブチレン及び塩化メチレンを除き、食塩水７０ｍｌ及び
エーテル１００ｍｌを加えて振り混ぜ、エーテル層を回
収する。エーテル抽出を繰り返し、抽出液は合わせて無
水硫酸ナトリウム上で乾燥後、減圧下にエーテルを留去
する。これをデシケータ中、乾燥して、化１で表される
Fmoc-Hyp(t-Bu)-ODhbtを得る。 【化１】
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、４−ヒドロキシプロリ
ン（Ｈｙｐとも略す）含有ペプチドの化学的合成を可能
とする新規な、アミノ基及びヒドロキシ基が保護された
４−ヒドロキシプロリンの活性エステル誘導体に関す
る。
ン（Ｈｙｐとも略す）含有ペプチドの化学的合成を可能
とする新規な、アミノ基及びヒドロキシ基が保護された
４−ヒドロキシプロリンの活性エステル誘導体に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】イ貝、フジツボ等の貝類の分泌する接着
性タンパク質はポリテトラフロオロエチレン等の低エネ
ルギー表面に対して強い接着力をもっている。この接着
性タンパク質に豊富に含まれている構成アミノ酸の一つ
は４−ヒドロキシプロリンで、４−ヒドロキシプロリン
は接着機構に深く関与していると推定されている。ま
た、４−ヒドロキシプロリンは高等動物の神経に生理活
性を示すペプチド、例えば海ヘビの神経毒のペプチド等
にも多量含まれている。そのため、４−ヒドロキシプロ
リンを含有するペプチドは医薬品への応用も期待され
る。このように、４−ヒドロキシプロリンを含むペプチ
ドを通常のアミノ酸を含むペプチドと同様に化学的に合
成する技術は新しい接着剤や医薬品を開発する上で強く
望まれていた。
性タンパク質はポリテトラフロオロエチレン等の低エネ
ルギー表面に対して強い接着力をもっている。この接着
性タンパク質に豊富に含まれている構成アミノ酸の一つ
は４−ヒドロキシプロリンで、４−ヒドロキシプロリン
は接着機構に深く関与していると推定されている。ま
た、４−ヒドロキシプロリンは高等動物の神経に生理活
性を示すペプチド、例えば海ヘビの神経毒のペプチド等
にも多量含まれている。そのため、４−ヒドロキシプロ
リンを含有するペプチドは医薬品への応用も期待され
る。このように、４−ヒドロキシプロリンを含むペプチ
ドを通常のアミノ酸を含むペプチドと同様に化学的に合
成する技術は新しい接着剤や医薬品を開発する上で強く
望まれていた。
【０００３】アミノ酸を原料として化学合成法でペプチ
ドを合成する場合、脱水縮合反応に関与しないアミノ酸
の主鎖のアミノ基及びカルボキシル基、側鎖のアミノ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基等の官能基を種々の
保護基を用いて保護し、必要に応じて中間生成物から保
護基を外して（脱保護）、その後の反応に関与させるこ
とが必要である。脱水縮合反応に関与しないアミノ基、
カルボキシル基又はヒドロキシ基等の官能基を保護した
アミノ酸と、脱水縮合反応に関与しないアミノ基、カル
ボキシル基又はヒドロキシ基等の官能基を保護した他の
アミノ酸を脱水縮合反応（ペプチド結合）させる場合
は、通常、活性エステル法と呼ばれる方法が用いられ
る。
ドを合成する場合、脱水縮合反応に関与しないアミノ酸
の主鎖のアミノ基及びカルボキシル基、側鎖のアミノ
基、カルボキシル基、ヒドロキシ基等の官能基を種々の
保護基を用いて保護し、必要に応じて中間生成物から保
護基を外して（脱保護）、その後の反応に関与させるこ
とが必要である。脱水縮合反応に関与しないアミノ基、
カルボキシル基又はヒドロキシ基等の官能基を保護した
アミノ酸と、脱水縮合反応に関与しないアミノ基、カル
ボキシル基又はヒドロキシ基等の官能基を保護した他の
アミノ酸を脱水縮合反応（ペプチド結合）させる場合
は、通常、活性エステル法と呼ばれる方法が用いられ
る。
【０００４】活性エステル法としてはジシクロヘキシル
カルボジイミド等のカップリング試薬の存在下にペンタ
フルオロフェノール又は化３
カルボジイミド等のカップリング試薬の存在下にペンタ
フルオロフェノール又は化３
【化３】
で表される３−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロ−４−オ
キソベンゾトリアジン（Ｄｈｂｔ−ＯＨと略す）等の電
子吸引性化合物を反応させる方法が知られている。
キソベンゾトリアジン（Ｄｈｂｔ−ＯＨと略す）等の電
子吸引性化合物を反応させる方法が知られている。
【０００５】電子吸引性化合物としてペンタフルオロフ
ェノールを用いる方法は、キスファルディー（L. Kisfa
ludy）らによって固相ペプチド合成に適用された（Synt
hesis,1983,325;同、1986,303）。これらによると、主
鎖のアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル基又はFmoc基で
保護したのち、ジオキサン又は酢酸エチル等の溶媒中、
等モルのペンタフルオロフェノール及びジシクロヘキシ
ルカルボジイミドと反応させ、アミノ酸のペンタフルオ
ロフェニル誘導体を得ている。
ェノールを用いる方法は、キスファルディー（L. Kisfa
ludy）らによって固相ペプチド合成に適用された（Synt
hesis,1983,325;同、1986,303）。これらによると、主
鎖のアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル基又はFmoc基で
保護したのち、ジオキサン又は酢酸エチル等の溶媒中、
等モルのペンタフルオロフェノール及びジシクロヘキシ
ルカルボジイミドと反応させ、アミノ酸のペンタフルオ
ロフェニル誘導体を得ている。
【０００６】また、電子吸引性化合物としてＤｈｂｔを
用いる方法は、ケーニッヒ（W.Koenig）らによって開発
され（Chem. Ber., 1970, 103, 2034-2040）、アセルト
ン（E. Atherton）ら、カメロン（L. Cameron）ら、ゴ
ッダード（P. Goddard）らによって、固相ペプチド合成
に適用された（J. Chem. Soc. Chem. Commun.,1986, p.
1763；同、1987, p.270；同、1988, p.1025）。これら
によると、主鎖のアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル基
又はFmoc基で保護したのち、テトラヒドロフラン中で等
モルのＤｈｂｔ−ＯＨ及びジシクロヘキシルカルボジイ
ミドを反応させてアミノ酸のＤｈｂｔ誘導体を得てい
る。
用いる方法は、ケーニッヒ（W.Koenig）らによって開発
され（Chem. Ber., 1970, 103, 2034-2040）、アセルト
ン（E. Atherton）ら、カメロン（L. Cameron）ら、ゴ
ッダード（P. Goddard）らによって、固相ペプチド合成
に適用された（J. Chem. Soc. Chem. Commun.,1986, p.
1763；同、1987, p.270；同、1988, p.1025）。これら
によると、主鎖のアミノ基をｔ−ブトキシカルボニル基
又はFmoc基で保護したのち、テトラヒドロフラン中で等
モルのＤｈｂｔ−ＯＨ及びジシクロヘキシルカルボジイ
ミドを反応させてアミノ酸のＤｈｂｔ誘導体を得てい
る。
【０００７】いっぽう、４−ヒドロキシプロリンの主鎖
のアミノ基へのFmoc基の導入は、ラパトサニス（L. Lap
atsanis）らによって初めて行われた（Synthesis, 198
3, 671-673）。更に本発明者らも、簡便に４−ヒドロキ
シプロリンの主鎖のアミノ基へFmoc基を導入する方法を
提案している（特願平３−７７４９４号）。また、４−
ヒドロキシプロリン、セリン及びスレオニン等の側鎖の
ヒドロキシ基はベンジル基、置換ベンジル基及びｔｅｒ
ｔ−ブチル基等の保護基で保護されることが知られてい
る（E. Wunsch et al:Chem. Ber.,1968,101,3659）。
のアミノ基へのFmoc基の導入は、ラパトサニス（L. Lap
atsanis）らによって初めて行われた（Synthesis, 198
3, 671-673）。更に本発明者らも、簡便に４−ヒドロキ
シプロリンの主鎖のアミノ基へFmoc基を導入する方法を
提案している（特願平３−７７４９４号）。また、４−
ヒドロキシプロリン、セリン及びスレオニン等の側鎖の
ヒドロキシ基はベンジル基、置換ベンジル基及びｔｅｒ
ｔ−ブチル基等の保護基で保護されることが知られてい
る（E. Wunsch et al:Chem. Ber.,1968,101,3659）。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、４−ヒ
ドロキシプロリン含有ペプチドの化学的合成を可能とす
る、アミノ基及びヒドロキシ基が保護された４−ヒドロ
キシプロリンの活性エステル誘導体については、未だ知
られていない。本発明は、４−ヒドロキシプロリン含有
ペプチドの化学的合成を可能とする新規な、アミノ基及
びヒドロキシ基が保護された４−ヒドロキシプロリンの
活性エステル誘導体を提供するものである。
ドロキシプロリン含有ペプチドの化学的合成を可能とす
る、アミノ基及びヒドロキシ基が保護された４−ヒドロ
キシプロリンの活性エステル誘導体については、未だ知
られていない。本発明は、４−ヒドロキシプロリン含有
ペプチドの化学的合成を可能とする新規な、アミノ基及
びヒドロキシ基が保護された４−ヒドロキシプロリンの
活性エステル誘導体を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の（１）
〜（４）に関するものである。すなわち、 （１）化４
〜（４）に関するものである。すなわち、 （１）化４
【化４】
（化４中、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒは直鎖
状もしくは分枝状の低級アルキル基、アリール基、ｐ−
ニトロフェニル基、１，３，５−トリクロロフェニル
基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、２，４−ジニトロフェニル基、スクシンイミディル
基、フタルイミディル基、ピペリジニル基、５−ノルボ
ルネン−２，３−ジカルボキシイミディル基、８−キノ
リル基、２−ピリジル基、ｏ−ヒドロキシフェニル基、
ｏ−（フェナンシルオキシ）−フェニル基、１−ベンゾ
トリアジル基又は３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，
２，３−ベンゾトリアゾール−３−イル基を示す）で表
されるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−
４−ヒドロキシプロリン誘導体。（２）化４中のＱが酸
素原子で、Ｒが３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，
２，３−ベンゾトリアゾール−３−イル基である上記
（１）のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
−４−ヒドロキシプロリン誘導体。（３）化４中のＱが
酸素原子で、Ｒがペンタフルオロフェニル基である上記
（１）のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
−４−ヒドロキシプロリン誘導体。 （４）化５
状もしくは分枝状の低級アルキル基、アリール基、ｐ−
ニトロフェニル基、１，３，５−トリクロロフェニル
基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、２，４−ジニトロフェニル基、スクシンイミディル
基、フタルイミディル基、ピペリジニル基、５−ノルボ
ルネン−２，３−ジカルボキシイミディル基、８−キノ
リル基、２−ピリジル基、ｏ−ヒドロキシフェニル基、
ｏ−（フェナンシルオキシ）−フェニル基、１−ベンゾ
トリアジル基又は３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，
２，３−ベンゾトリアゾール−３−イル基を示す）で表
されるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−
４−ヒドロキシプロリン誘導体。（２）化４中のＱが酸
素原子で、Ｒが３，４−ジヒドロ−４−オキソ−１，
２，３−ベンゾトリアゾール−３−イル基である上記
（１）のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
−４−ヒドロキシプロリン誘導体。（３）化４中のＱが
酸素原子で、Ｒがペンタフルオロフェニル基である上記
（１）のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）
−４−ヒドロキシプロリン誘導体。 （４）化５
【化５】
（化５中、Ｑ及びＲは化４中と同じ意味を示す）で表さ
れるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−４
−ヒドロキシプロリン誘導体に触媒量の硫酸の存在下で
イソブチレンを反応させることを特徴とする上記（１）
〜（３）のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ヒドロキシプロリン誘導体の製造法。
れるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−４
−ヒドロキシプロリン誘導体に触媒量の硫酸の存在下で
イソブチレンを反応させることを特徴とする上記（１）
〜（３）のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ヒドロキシプロリン誘導体の製造法。
【００１０】本発明の化４で表されるＮ−（９−フルオ
レニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン
誘導体は、Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ヒドロキシプロリン（Fmoc−ヒドロキシプロ
リン）を溶媒中、カップリング試薬の存在下に電子吸引
性化合物を加え、−３０℃〜０℃で１〜２４時間撹拌
し、反応させて調製した化５で表されるＮ−（９−フル
オレニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリ
ン誘導体に触媒量の硫酸の存在下でイソブチレンを反応
させることにより製造する。
レニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン
誘導体は、Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ヒドロキシプロリン（Fmoc−ヒドロキシプロ
リン）を溶媒中、カップリング試薬の存在下に電子吸引
性化合物を加え、−３０℃〜０℃で１〜２４時間撹拌
し、反応させて調製した化５で表されるＮ−（９−フル
オレニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリ
ン誘導体に触媒量の硫酸の存在下でイソブチレンを反応
させることにより製造する。
【００１１】この際に用いるFmoc−ヒドロキシプロリン
は、ラパトサニス（L. Lapatsanis）らの方法（Synthes
is, 1983, 671-673）によっても得られるが、アンモニ
ア又はアミン類でｐＨを８〜１２に保ちつつ、４−ヒド
ロキシプロリン溶液にFmoc化剤であるＮ−（９−フルオ
レニルメチル）−Ｎ−スクシンイミディルカーボネート
を反応させ、反応液から有機溶媒抽出、ｐＨ調整、再結
晶等により得ることができる（特願平３−７７４９４
号）。
は、ラパトサニス（L. Lapatsanis）らの方法（Synthes
is, 1983, 671-673）によっても得られるが、アンモニ
ア又はアミン類でｐＨを８〜１２に保ちつつ、４−ヒド
ロキシプロリン溶液にFmoc化剤であるＮ−（９−フルオ
レニルメチル）−Ｎ−スクシンイミディルカーボネート
を反応させ、反応液から有機溶媒抽出、ｐＨ調整、再結
晶等により得ることができる（特願平３−７７４９４
号）。
【００１２】Fmoc−ヒドロキシプロリンの溶媒として
は、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、四塩化炭素、
ベンゼン、アセトニトリル、又はジオキサン等が挙げら
れ、これらの２種以上の混合溶液でもよい。
は、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、四塩化炭素、
ベンゼン、アセトニトリル、又はジオキサン等が挙げら
れ、これらの２種以上の混合溶液でもよい。
【００１３】カップリング試薬としては、ジシクロヘキ
シルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチル
アミノプロピル）カルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプ
ロピルカルボジイミド等が挙げられる。
シルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチル
アミノプロピル）カルボジイミド、Ｎ，Ｎ’−ジイソプ
ロピルカルボジイミド等が挙げられる。
【００１４】電子吸引性化合物としては、ｐ−ニトロフ
ェノール、チオフェノール、ｐ−ニトロチオフェノー
ル、１，３，５−トリクロロフェノール、ペンタクロロ
フェノール、ペンタフルオロフェノール、２，４−ジニ
トロフェノール、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシピペリジン、
Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボ
ン酸イミド、８−ヒドロキシキノリン、８−ヒドロキシ
−５−クロロキノリン、２−ヒドロキシピリジン、カテ
コール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ｏ−ベン
ジルカテコール、ｏ−フェナンシルカテコール、３−ヒ
ドロキシ−４−オキソ−３，４−ジヒドロ−１，２，３
−ベンゾトリアジン（Ｄｈｂｔ−ＯＨ）等が挙げられ
る。
ェノール、チオフェノール、ｐ−ニトロチオフェノー
ル、１，３，５−トリクロロフェノール、ペンタクロロ
フェノール、ペンタフルオロフェノール、２，４−ジニ
トロフェノール、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ−
ヒドロキシフタルイミド、Ｎ−ヒドロキシピペリジン、
Ｎ−ヒドロキシ−５−ノルボルネン−２，３−ジカルボ
ン酸イミド、８−ヒドロキシキノリン、８−ヒドロキシ
−５−クロロキノリン、２−ヒドロキシピリジン、カテ
コール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ｏ−ベン
ジルカテコール、ｏ−フェナンシルカテコール、３−ヒ
ドロキシ−４−オキソ−３，４−ジヒドロ−１，２，３
−ベンゾトリアジン（Ｄｈｂｔ−ＯＨ）等が挙げられ
る。
【００１５】化５で表されるＮ−（９−フルオレニルメ
トキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘導体に
触媒量の硫酸の存在下でイソブチレンを反応させるとき
の溶媒としては、塩化メチレン、エーテル又はジオキサ
ン等の溶媒、あるいはこれらの２種以上の混合溶媒が用
いられる。反応は、化５で表されるＮ−（９−フルオレ
ニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘
導体に触媒量の硫酸及び過剰量のイソブチレンを加え、
容器中、好ましくは密封容器中で、−１０〜３０℃、好
ましくは室温で、３〜７２時間、好ましくは２４〜４８
時間反応させる。反応後、炭酸水素ナトリウム等のアル
カリ溶液で中和し、エーテル等の有機溶媒を加えて振り
混ぜ、有機溶媒相から水分を除いたのち、減圧濃縮等の
操作によって、非結晶固体状又は油状の目的生成物を得
る。
トキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘導体に
触媒量の硫酸の存在下でイソブチレンを反応させるとき
の溶媒としては、塩化メチレン、エーテル又はジオキサ
ン等の溶媒、あるいはこれらの２種以上の混合溶媒が用
いられる。反応は、化５で表されるＮ−（９−フルオレ
ニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘
導体に触媒量の硫酸及び過剰量のイソブチレンを加え、
容器中、好ましくは密封容器中で、−１０〜３０℃、好
ましくは室温で、３〜７２時間、好ましくは２４〜４８
時間反応させる。反応後、炭酸水素ナトリウム等のアル
カリ溶液で中和し、エーテル等の有機溶媒を加えて振り
混ぜ、有機溶媒相から水分を除いたのち、減圧濃縮等の
操作によって、非結晶固体状又は油状の目的生成物を得
る。
【００１６】
実施例１
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−４−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシプロリン−３，４−ジヒドロ−４−オ
キソ−１，２，３−ベンゾトリアジン−３−イル エス
テル〔Fmoc-Hyp(t-Bu)-ODhbt〕の合成 Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−Ｌ−４
−ヒドロキシプロリン３，４−ジヒドロ−４−オキソ−
１，２，３−ベンゾトリアジン−３−イル エステル８.
１ｇ（１６．２ミリモル）を容器にとり、塩化メチレン
４０ｍｌに溶かし、ドライアイス−メタノールで冷却し
ながらイソブチレン１８．２ｇ（２０倍当量）及び濃硫
酸０．２ｍｌを加えた。容器を密封し、温度を室温とし
て、２日間撹拌した。減圧下にイソブチレン及び塩化メ
チレンを除いたのち、これに食塩水７０ｍｌ及びエチル
エーテル１００ｍｌを加えて振り混ぜ、エーテル層を回
収した。このエーテル抽出を更に２回（７０ｍｌ、５０
ｍｌ）繰り返した。エーテル抽出液を合わせて、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下にエーテルを留去した
のち、デシケータ中、減圧下に乾燥して、非結晶固体状
の生成物８.３ｇを得た。これをシリカゲル（メルク社
製のキーゼルグール６０Ｆ254）の薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ジエチルエーテル）で分析したところ
Ｒｆ＝０．７９の目的生成物のほかに、未反応物のスポ
ットも検出されたので、更にシリカゲル６０（メルク社
製）を担体とするカラム（内径３０×長さ３００ｍｍ）
に吸着させ、ジエチルエーテルを溶媒としてフラシュク
ロマトグラフィーの手法により溶出した。溶出液中の成
分がシリカゲルの薄層クロマトグラフィーで単一である
ことを確認したのち、減圧下にエーテルを留去し、デシ
ケータ中、減圧下に乾燥して、非結晶固体状の精製物
６.７２ｇ（収率：７４．９％）を得た。
ｅｒｔ−ブトキシプロリン−３，４−ジヒドロ−４−オ
キソ−１，２，３−ベンゾトリアジン−３−イル エス
テル〔Fmoc-Hyp(t-Bu)-ODhbt〕の合成 Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−Ｌ−４
−ヒドロキシプロリン３，４−ジヒドロ−４−オキソ−
１，２，３−ベンゾトリアジン−３−イル エステル８.
１ｇ（１６．２ミリモル）を容器にとり、塩化メチレン
４０ｍｌに溶かし、ドライアイス−メタノールで冷却し
ながらイソブチレン１８．２ｇ（２０倍当量）及び濃硫
酸０．２ｍｌを加えた。容器を密封し、温度を室温とし
て、２日間撹拌した。減圧下にイソブチレン及び塩化メ
チレンを除いたのち、これに食塩水７０ｍｌ及びエチル
エーテル１００ｍｌを加えて振り混ぜ、エーテル層を回
収した。このエーテル抽出を更に２回（７０ｍｌ、５０
ｍｌ）繰り返した。エーテル抽出液を合わせて、無水硫
酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下にエーテルを留去した
のち、デシケータ中、減圧下に乾燥して、非結晶固体状
の生成物８.３ｇを得た。これをシリカゲル（メルク社
製のキーゼルグール６０Ｆ254）の薄層クロマトグラフ
ィー（展開溶媒：ジエチルエーテル）で分析したところ
Ｒｆ＝０．７９の目的生成物のほかに、未反応物のスポ
ットも検出されたので、更にシリカゲル６０（メルク社
製）を担体とするカラム（内径３０×長さ３００ｍｍ）
に吸着させ、ジエチルエーテルを溶媒としてフラシュク
ロマトグラフィーの手法により溶出した。溶出液中の成
分がシリカゲルの薄層クロマトグラフィーで単一である
ことを確認したのち、減圧下にエーテルを留去し、デシ
ケータ中、減圧下に乾燥して、非結晶固体状の精製物
６.７２ｇ（収率：７４．９％）を得た。
【００１７】得られた精製物の分析結果は次の通り。
高速液体クロマトグラフィー：図１
赤外吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法）：図２1
Ｈ核磁気共鳴スペクトル(２５０ＭＨｚ，ｄ6−ＤＭＳ
Ｏ ，ｐｐｍ)： δ８．４〜δ８．３（ｍ，２Ｈ），δ８．２〜δ８．１
（ｍ，１Ｈ）， δ８．２〜δ８．１（ｍ，１Ｈ），δ８．０〜δ７．９
（ｍ，２Ｈ）， δ７．７〜δ７．６（ｍ，２Ｈ），δ７．５〜δ７．３
（ｍ，４Ｈ）， δ５．１〜δ４．８（ｍ，１Ｈ），δ４．５〜δ４．２
（ｍ，４Ｈ）， δ３．７〜δ３．２（ｍ，２Ｈ），δ２．５〜δ２．４
（ｍ，２Ｈ）， δ１．２（ｄ，９Ｈ） 旋光度［α］（２５℃，ＤＭＦ，ｃ＝０.４４０ｇ／ｄ
ｌ，Ｌ＝１０.０ｃｍ）:−１０４．７２
Ｏ ，ｐｐｍ)： δ８．４〜δ８．３（ｍ，２Ｈ），δ８．２〜δ８．１
（ｍ，１Ｈ）， δ８．２〜δ８．１（ｍ，１Ｈ），δ８．０〜δ７．９
（ｍ，２Ｈ）， δ７．７〜δ７．６（ｍ，２Ｈ），δ７．５〜δ７．３
（ｍ，４Ｈ）， δ５．１〜δ４．８（ｍ，１Ｈ），δ４．５〜δ４．２
（ｍ，４Ｈ）， δ３．７〜δ３．２（ｍ，２Ｈ），δ２．５〜δ２．４
（ｍ，２Ｈ）， δ１．２（ｄ，９Ｈ） 旋光度［α］（２５℃，ＤＭＦ，ｃ＝０.４４０ｇ／ｄ
ｌ，Ｌ＝１０.０ｃｍ）:−１０４．７２
【００１８】これらの結果から、得られた精製物は化６
で表されるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ３，４−ジヒ
ドロ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン−３
−イル エステルであることを確認した。
で表されるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ３，４−ジヒ
ドロ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン−３
−イル エステルであることを確認した。
【化６】
【００１９】実施例２
Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−４−ｔ
ｅｒｔ−ブトキシプロリン ペンタフルオロフェニルエ
ステル〔Fmoc-Hyp(t-Bu)-OPfp〕の合成 Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−Ｌ−４
−ヒドロキシプロリンペンタフルオロフェニルエステル
２２．３６ｇ（４３ミリモル）を容器にとり、塩化メチ
レン６０ｍｌに溶かし、ドライアイス−メタノールで冷
却しながらイソブチレン１８．２ｇ（２０倍当量）及び
濃硫酸０．２ｍｌを加えた。容器を密封し、室温で、２
日間撹拌した。減圧下にイソブチレン及び塩化メチレン
を除いたのち、これに食塩水７０ｍｌ及びエチルエーテ
ル１００ｍｌを加えて振り混ぜ、エーテル層を回収し
た。このエーテル抽出を更に２回（７０ｍｌ、５０ｍ
ｌ）繰り返した。エーテル抽出液を合わせて、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、減圧下にエーテルを留去し、デ
シケータに入れ、減圧下に乾燥して、油状の生成物１
８．９４ｇを得た。これをシリカゲル（メルク社製のキ
ーゼルグール６０Ｆ254）の薄層クロマトグラフィー
（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１、容量
比）で分析したところＲｆ＝０．５０の目的生成物のほ
かに、未反応物及び副生物のスポットも検出された。そ
こで、更にシリカゲルプレート（メルク社製のＦ
254Ｓ、２０ｃｍ×２０ｃｍ）を用いた薄層クロマトグ
ラフィーで分離し、薄層から目的物をジエチルエーテル
で抽出し、濃縮してエーテルを留去後、デシケータ中、
減圧下に乾燥して、非結晶固体状の精製物を得た。
ｅｒｔ−ブトキシプロリン ペンタフルオロフェニルエ
ステル〔Fmoc-Hyp(t-Bu)-OPfp〕の合成 Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−Ｌ−４
−ヒドロキシプロリンペンタフルオロフェニルエステル
２２．３６ｇ（４３ミリモル）を容器にとり、塩化メチ
レン６０ｍｌに溶かし、ドライアイス−メタノールで冷
却しながらイソブチレン１８．２ｇ（２０倍当量）及び
濃硫酸０．２ｍｌを加えた。容器を密封し、室温で、２
日間撹拌した。減圧下にイソブチレン及び塩化メチレン
を除いたのち、これに食塩水７０ｍｌ及びエチルエーテ
ル１００ｍｌを加えて振り混ぜ、エーテル層を回収し
た。このエーテル抽出を更に２回（７０ｍｌ、５０ｍ
ｌ）繰り返した。エーテル抽出液を合わせて、無水硫酸
ナトリウム上で乾燥し、減圧下にエーテルを留去し、デ
シケータに入れ、減圧下に乾燥して、油状の生成物１
８．９４ｇを得た。これをシリカゲル（メルク社製のキ
ーゼルグール６０Ｆ254）の薄層クロマトグラフィー
（展開溶媒：ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝４／１、容量
比）で分析したところＲｆ＝０．５０の目的生成物のほ
かに、未反応物及び副生物のスポットも検出された。そ
こで、更にシリカゲルプレート（メルク社製のＦ
254Ｓ、２０ｃｍ×２０ｃｍ）を用いた薄層クロマトグ
ラフィーで分離し、薄層から目的物をジエチルエーテル
で抽出し、濃縮してエーテルを留去後、デシケータ中、
減圧下に乾燥して、非結晶固体状の精製物を得た。
【００２０】得られた精製物の分析結果は次の通り。
高速液体クロマトグラフィー：図３
赤外吸収スペクトル（ｎｅａｔ，ＫＲＳ）：図４1
Ｈ核磁気共鳴スペクトル(２５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ3 ，
ｐｐｍ)： δ７．８〜δ７．７（ｍ，２Ｈ），δ７．６〜δ７．５
（ｍ，２Ｈ）， δ７．４〜δ７．２（ｍ，４Ｈ），δ４．９〜δ４．７
（ｍ，１Ｈ）， δ４．５〜δ４．２（brd，４Ｈ），δ３．８〜δ３．
４（brd，２Ｈ）， δ２．５〜δ２．３（brd，２Ｈ），δ１．３〜δ１．
２（brd，９Ｈ）， δ２．５〜δ２．４（brd，２Ｈ） 旋光度［α］（２５℃，ＤＭＦ，ｃ＝０.４４０ｇ／ｄ
ｌ，Ｌ＝１０.０ｃｍ）:−２７．９５
ｐｐｍ)： δ７．８〜δ７．７（ｍ，２Ｈ），δ７．６〜δ７．５
（ｍ，２Ｈ）， δ７．４〜δ７．２（ｍ，４Ｈ），δ４．９〜δ４．７
（ｍ，１Ｈ）， δ４．５〜δ４．２（brd，４Ｈ），δ３．８〜δ３．
４（brd，２Ｈ）， δ２．５〜δ２．３（brd，２Ｈ），δ１．３〜δ１．
２（brd，９Ｈ）， δ２．５〜δ２．４（brd，２Ｈ） 旋光度［α］（２５℃，ＤＭＦ，ｃ＝０.４４０ｇ／ｄ
ｌ，Ｌ＝１０.０ｃｍ）:−２７．９５
【００２１】これらの結果から、得られた精製物は化７
で表されるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリンのペンタフルオ
ロフェニルエステルであることを確認した。
で表されるＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニ
ル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリンのペンタフルオ
ロフェニルエステルであることを確認した。
【化７】
なお、高速液体クロマトグラフィー（本体：ウォーター
ズ社製、６００シリーズ）はカラムがマイクロボンダス
フェア５μＣ１８−１００Å（３．９ｍｍ×１５０ｍ
ｍ、ウォーターズ社製）で、展開液は水／アセトニトリ
ル（５０：５０、容量比）から１００％アセトニトリル
への連続濃度勾配液（カーブタイプ６）を用い、流速
１．０ｍｌ／ｍｉｎ、検出波長２５４ｎｍで分析し、1
Ｈ核磁気共鳴スペクトルは核磁気共鳴装置（ブルカー社
製、ＡＣ−２５０型）により測定し、また赤外吸収スペ
クトルは赤外分析装置（日立製２７０−５０型）により
測定した。
ズ社製、６００シリーズ）はカラムがマイクロボンダス
フェア５μＣ１８−１００Å（３．９ｍｍ×１５０ｍ
ｍ、ウォーターズ社製）で、展開液は水／アセトニトリ
ル（５０：５０、容量比）から１００％アセトニトリル
への連続濃度勾配液（カーブタイプ６）を用い、流速
１．０ｍｌ／ｍｉｎ、検出波長２５４ｎｍで分析し、1
Ｈ核磁気共鳴スペクトルは核磁気共鳴装置（ブルカー社
製、ＡＣ−２５０型）により測定し、また赤外吸収スペ
クトルは赤外分析装置（日立製２７０−５０型）により
測定した。
【００２２】
【発明の効果】本発明により、４−ヒドロキシプロリン
含有ペプチドの化学的合成を可能とする新規な、アミノ
基及びヒドロキシ基が保護された４−ヒドロキシプロリ
ンの活性エステル誘導体を提供することができた。
含有ペプチドの化学的合成を可能とする新規な、アミノ
基及びヒドロキシ基が保護された４−ヒドロキシプロリ
ンの活性エステル誘導体を提供することができた。
【図１】本発明のＮ−（９−フルオレニルメトキシカル
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ３，４−
ジヒドロ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン
−３−イル エステルの高速液体クロマトグラムであ
る。
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ３，４−
ジヒドロ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン
−３−イル エステルの高速液体クロマトグラムであ
る。
【図２】本発明のＮ−（９−フルオレニルメトキシカル
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ３，４−
ジヒドロ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン
−３−イル エステルの赤外吸収スペクトクルである。
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ３，４−
ジヒドロ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアジン
−３−イル エステルの赤外吸収スペクトクルである。
【図３】本発明のＮ−（９−フルオレニルメトキシカル
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ペンタフ
ルオロフェニルエステルの高速液体クロマトグラムであ
る。
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ペンタフ
ルオロフェニルエステルの高速液体クロマトグラムであ
る。
【図４】本発明のＮ−（９−フルオレニルメトキシカル
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ペンタフ
ルオロフェニルエステルの赤外吸収スペクトクルであ
る。
ボニル）−４−ｔｅｒｔ−ブトキシプロリン ペンタフ
ルオロフェニルエステルの赤外吸収スペクトクルであ
る。
Claims (4)
- 【請求項１】化１ 【化１】 （化１中、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒは直鎖
状もしくは分枝状の低級アルキル基、アリール基、ｐ−
ニトロフェニル基、１，３，５−トリクロロフェニル
基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、２，４−ジニトロフェニル基、スクシンイミディル
基、フタルイミディル基、ピペリジニル基、 ５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミディル
基、８−キノリル基、２−ピリジル基、ｏ−ヒドロキシ
フェニル基、ｏ−（フェナンシルオキシ）−フェニル
基、１−ベンゾトリアジル基又は３，４−ジヒドロ−４
−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−３−イル
基を示す）で表されるＮ−（９−フルオレニルメトキシ
カルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘導体。 - 【請求項２】化１中のＱが酸素原子で、Ｒが３，４−ジ
ヒドロ−４−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアゾール
−３−イル基である請求項１記載のＮ−（９−フルオレ
ニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘
導体。 - 【請求項３】化１中のＱが酸素原子で、Ｒがペンタフル
オロフェニル基である請求項１記載のＮ−（９−フルオ
レニルメトキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン
誘導体。 - 【請求項４】化２ 【化２】 （化２中、Ｑは酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｒは直鎖
状もしくは分枝状の低級アルキル基、アリール基、ｐ−
ニトロフェニル基、１，３，５−トリクロロフェニル
基、ペンタクロロフェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、２，４−ジニトロフェニル基、スクシンイミディル
基、フタルイミディル基、ピペリジニル基、 ５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミディル
基、８−キノリル基、２−ピリジル基、ｏ−ヒドロキシ
フェニル基、ｏ−（フェナンシルオキシ）−フェニル
基、１−ベンゾトリアジル基又は３，４−ジヒドロ−４
−オキソ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−３−イル
基を示す）で表されるＮ−（９−フルオレニルメトキシ
カルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘導体に触媒量
の硫酸の存在下でイソブチレンを反応させることを特徴
とする請求項１〜請求項３のＮ−（９−フルオレニルメ
トキシカルボニル）−４−ヒドロキシプロリン誘導体の
製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16074191A JPH059172A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 新規なヒドロキシプロリン誘導体及びその製造法 |
| US08/224,350 US5380875A (en) | 1991-06-06 | 1994-05-04 | Hydroxyproline derivatives and preparative process therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16074191A JPH059172A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 新規なヒドロキシプロリン誘導体及びその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH059172A true JPH059172A (ja) | 1993-01-19 |
Family
ID=15721456
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16074191A Pending JPH059172A (ja) | 1991-06-06 | 1991-07-02 | 新規なヒドロキシプロリン誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH059172A (ja) |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP16074191A patent/JPH059172A/ja active Pending
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