JPH058458U - Lighting device for defect inspection - Google Patents
Lighting device for defect inspectionInfo
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Abstract
(57)【要約】
[目的] 被検査対象物上面の欠陥を明確に識別し得る
ように照明する照明装置を提供すること。
[構成] 被検査対象物であるリードパターン11の上
方に下方にむけて照射光を発するリング状の光源13を
配置し、リードパターン11とリング状の光源13間に
リードパターン11の外周囲を取り巻くようにしてリン
グミラー14を配置し、リング光源13からの照射光を
リングミラー14によりリードパターン11の上面に向
け斜め上方から所望の俯角で全周から反射させるように
した。
(57) [Summary] [Purpose] To provide an illuminating device that illuminates so that defects on the upper surface of the inspection object can be clearly identified. [Structure] A ring-shaped light source 13 that emits irradiation light toward the lower side is arranged above the lead pattern 11 that is the inspection object, and the outer periphery of the lead pattern 11 is placed between the lead pattern 11 and the ring-shaped light source 13. The ring mirror 14 is arranged so as to surround it, and the irradiation light from the ring light source 13 is reflected by the ring mirror 14 toward the upper surface of the lead pattern 11 obliquely from above with a desired depression angle from the entire circumference.
Description
【0001】[0001]
本考案は、TAB(Tape Automated Bonding)テープに形成されたリードパタ ーン上のピンホールなどの欠陥を検査するのに好適な欠陥検査用の照明装置に関 する。 The present invention relates to an illuminating device for defect inspection suitable for inspecting defects such as pinholes on a lead pattern formed on a TAB (Tape Automated Bonding) tape.
【0002】[0002]
近年、液晶表示用ドライバ等に用いられるLSIチップなどからなる電子デバ イスを基板上に実装するボンディング技術として、TAB方式が注目されている 。 このTAB方式は、デバイスの高機能化に伴う多ピン化要求や、薄型・小形化 に対応でき、実装密度も高くできるという種々の利点を有する。 またTAB方式に用いられるTABテープは、ポリイミドなどのフィルムテー プにデバイスホール、パーフォレーションなどの穴あけを行うパンチング工程、 パンチングされたフィルムテープに銅箔を貼着する工程、銅箔上にホトレジスト を塗布した後、露光し現像する工程、およびエッチングによりリードパターンを 形成するエッチング工程等を経て製造される。 In recent years, the TAB method has been attracting attention as a bonding technique for mounting an electronic device such as an LSI chip used for a liquid crystal display driver on a substrate. This TAB method has various advantages that it can respond to the demand for a large number of pins as the functionality of the device becomes higher, and it can be made thinner and smaller, and the packaging density can be increased. The TAB tape used in the TAB method is a punching process for punching device holes and perforations on a film tape such as polyimide, a process for attaching copper foil to a punched film tape, and a photoresist applied on the copper foil. After that, it is manufactured through a step of exposing and developing, an etching step of forming a lead pattern by etching, and the like.
【0003】 ところで、TABテープ上にリードパターンを形成するエッチング工程におい ては、リードパターン形成用のホトレジスト層にピンホールまたはキズなどが生 じていると、このピンホールまたはキズと対応する銅箔上に窪み(ピンホール) が形成されてしまう。By the way, in the etching process for forming a lead pattern on a TAB tape, if a pinhole or a flaw is generated in the photoresist layer for forming the lead pattern, a copper foil corresponding to the pinhole or the flaw is formed. A pit (pinhole) is formed on the top.
【0004】 図4の(a)〜(c)は、ホトレジスト層のピンホールまたはキズにより、パ ターン上に窪みが発生する過程を示したものである。 図4において、1はポリイミドなどからなるフィルムテープ、2はフィルムテ ープ1上に貼着された銅箔、3はリードパターン形成用のホトレジストであり、 3aはホトレジスト3に発生したピンホールまたはキズである。 図4の(a)に示す構造のフィルムテープがエッチング液に浸漬されると、ホ トレジスト3でカバーされた部分以外の銅箔が除去され、図4の(b)に示すよ うにリードパターン4が形成される。 これと同時に、ホトレジスト3のピンホールまたはキズ3aから浸み込んだエ ッチング液がリードパターン4の上面を侵食する。 その結果、ホトレジスト3を除去した後のリードパターン4の上面には、図4 の(c)に示すように窪み(またはピンホール)5が生成されてしまう。FIGS. 4A to 4C show a process in which a depression is generated on a pattern due to a pinhole or a scratch in the photoresist layer. In FIG. 4, 1 is a film tape made of polyimide or the like, 2 is a copper foil stuck on the film tape 1, 3 is a photoresist for forming a lead pattern, and 3a is a pinhole or a scratch generated in the photoresist 3. Is. When the film tape having the structure shown in FIG. 4 (a) is immersed in the etching solution, the copper foil other than the portion covered by the photoresist 3 is removed, and the lead pattern 4 is formed as shown in FIG. 4 (b). Is formed. At the same time, the etching liquid that has penetrated from the pinholes or the scratches 3a of the photoresist 3 erodes the upper surface of the lead pattern 4. As a result, recesses (or pinholes) 5 are formed on the upper surface of the lead pattern 4 after the photoresist 3 is removed, as shown in FIG.
【0005】 従来、このようなリードパターン上面に生成された窪み等の欠陥を検査する場 合、リードパターン上面に照明光を当て、ルーペなどを用いて目視により行って いるのが現状である。Conventionally, in the case of inspecting defects such as depressions formed on the upper surface of the lead pattern, it is the current situation to illuminate the upper surface of the lead pattern and visually using a loupe or the like.
【0006】[0006]
しかしながら、目視による欠陥検査は、リードパターンに対する照明光の照射 方向によって欠陥が見えたり見えなかったりして、検査員の負担が大きくなり、 個人差や疲労により判断基準が変動し、検査精度が低下するおそれがあり、また 、人的作業であるため検査能率にも限界があり、TABテープの生産性が低く、 コスト高になる問題があった。 本考案は前記事情に鑑み案出されたものであって、被検査物上面の欠陥を明確 に自動的に識別する検査装置を構成する場合などに好適な欠陥検査用の照明装置 を提供することを目的とする。 However, in visual defect inspection, defects are visible or invisible depending on the illumination direction of the lead pattern, which increases the burden on the inspector. In addition, there is a problem that the productivity of TAB tape is low and the cost is high because the inspection efficiency is limited due to the manual work. The present invention has been devised in view of the above circumstances, and provides a lighting device for defect inspection, which is suitable for a case where an inspection device that clearly and automatically identifies a defect on the upper surface of an object to be inspected is configured. With the goal.
【0007】[0007]
上記目的を達成するために本考案は、被検査物の上方に、該被検査物の外周囲 を取り巻くように配置され、前記被検査物に向けて照射光を発する光源と、前記 被検査物と前記光源間に配置され、前記光源からの照射光が前記被検査物の斜め 上方から該被検査物の上面に所望の俯角で照射されるように、前記照射光を反射 させるミラーとを備えたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, the present invention provides a light source, which is disposed above an object to be inspected and surrounds the outer periphery of the object to be inspected, and which emits irradiation light toward the object to be inspected. And a mirror that is disposed between the light source and that reflects the irradiation light so that the irradiation light from the light source is irradiated obliquely above the inspection object to the upper surface of the inspection object at a desired depression angle. It is characterized by that.
【0008】[0008]
以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説明する。 図1は、本考案による照明装置をTABテープ上のリードパターンの欠陥検査 に利用した場合の斜視図を示す。 図1において、10は、矢印X方向に連続送りされるTABテープであり、そ の表面には、ICチップをボンディングするリードパターン11が長手方向に間 隔をおいて多数形成されている。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of an illumination device according to the present invention used for defect inspection of a lead pattern on a TAB tape. In FIG. 1, 10 is a TAB tape which is continuously fed in the direction of arrow X, and a large number of lead patterns 11 for bonding IC chips are formed on the surface thereof at intervals in the longitudinal direction.
【0009】 12は、TABテープ10の真上に近接して配置した照明装置である。 この照明装置12は、リードパターン11の上面を、リードパターン11の外 周囲を取り巻くようにして斜め上方から照明するためのもので、下方にむけてリ ング状のライン光を発生するリング状の光源13と、このリング状の光源13か ら発生するリング状ライン光13aをリードパターン11の上面に向け斜め上方 から反射させるリング状のミラー14とから構成される。 リング状のミラー14は、その内側にリング状ライン光13aからの照射光を パターン上面に対し30度程度の俯角をもつ平行な光に方向変換してリードパタ ーン11の上面へ向ける反射曲面(回転放物面)14aを有する。Reference numeral 12 is an illuminating device which is arranged immediately above the TAB tape 10 and in proximity thereto. This illuminating device 12 is for illuminating the upper surface of the lead pattern 11 from diagonally above so as to surround the outer periphery of the lead pattern 11, and has a ring shape for generating a ring-shaped line light toward the lower side. The light source 13 and a ring-shaped mirror 14 that reflects the ring-shaped line light 13a generated from the ring-shaped light source 13 toward the upper surface of the lead pattern 11 obliquely from above. The ring-shaped mirror 14 redirects the irradiation light from the ring-shaped line light 13a into parallel light having a depression angle of about 30 degrees with respect to the upper surface of the pattern and directs it toward the upper surface of the lead pattern 11 ( It has a paraboloid of revolution 14a.
【0010】 15は、照明装置12の上方に、その中心軸線と一致して配置したCCDイメ ージセンサ等からなる撮像カメラであり、その光軸上に移送されてくるリードパ ターン11を撮影する。撮像カメラ15により撮影された画像信号は画像処理装 置16に出力される。Reference numeral 15 denotes an image pickup camera including a CCD image sensor and the like arranged above the illuminating device 12 so as to coincide with the central axis of the illuminating device 12, and photographs the lead pattern 11 transferred onto the optical axis thereof. The image signal captured by the image capturing camera 15 is output to the image processing device 16.
【0011】 次に動作について説明する。 照明装置12の下面で移送されるTABテープ10上のリードパターン11が リング状のミラー14の下面中央に位置すると、撮像カメラ15が動作してリー ドパターン11を含む所定の領域を撮像する。 このとき、照明装置12のリング状の光源13から発生するリング状ライン光 13aはリング状のミラー14の曲面14aにより図1に示す矢印方向に反射さ れるため、リードパターン11の上面を含む周囲は、リードパターン11を中心 とする外周囲の斜め上方から30°の俯角で照明される。 このような照明光がリードパターン11のリード上面に生成された窪み11a に照射されると、図2に示すような内面反射を起こすとともに、そのエッジ部1 1bの輝度が大きくなり、窪み11aの輪郭が明確化される。Next, the operation will be described. When the lead pattern 11 on the TAB tape 10 transferred on the lower surface of the illuminating device 12 is located at the center of the lower surface of the ring-shaped mirror 14, the imaging camera 15 operates to image a predetermined area including the lead pattern 11. At this time, the ring-shaped line light 13a generated from the ring-shaped light source 13 of the illumination device 12 is reflected in the direction of the arrow shown in FIG. Is illuminated at a depression angle of 30 ° from diagonally above the outer periphery centered on the lead pattern 11. When such a illuminating light is applied to the depression 11a formed on the upper surface of the lead of the lead pattern 11, the inner surface reflection as shown in FIG. 2 occurs, and the brightness of the edge portion 11b increases, so that the depression 11a The contour is clarified.
【0012】 例えば、エッチング後のリードパターン11の断面形状が図3の(a)に示す ように窪み11aを有する形状であるとすると、このリードパターン11に矢印 Aに示す上面方向から照明光が照射された場合、撮像カメラ15のCCDイメー ジセンサの輝度に対する出力信号波形は図3の(b)に示すようになる。 また、図3(a)の矢印Bに示す斜め上方(水平面に対し30°の角度)から 照明光が照射された場合の輝度に対する出力信号波形は図3の(c)に示すよう になり、窪み11aに対応する部分の出力レベルが他より高いレベルとなる。 また、図3(a)の矢印cに示す真横から照明光を照射した場合は、図3の( d)に示す出力信号波形となる。 すなわち、リードパターン11の上面に発生する窪み(またはピンホール)を 検出しようとする場合は、照射光をリードパターン11の斜め上方から照射する のが最も効果的となる。For example, if the cross-sectional shape of the lead pattern 11 after etching is a shape having a depression 11a as shown in FIG. 3A, the lead pattern 11 is exposed to illumination light from the upper surface direction indicated by arrow A. When irradiated, the output signal waveform with respect to the luminance of the CCD image sensor of the imaging camera 15 is as shown in FIG. Further, the output signal waveform with respect to the brightness when the illumination light is irradiated from diagonally above (the angle of 30 ° with respect to the horizontal plane) shown by the arrow B in FIG. 3A is as shown in FIG. The output level of the portion corresponding to the depression 11a is higher than the others. Further, when the illumination light is irradiated from right beside shown by the arrow c in FIG. 3A, the output signal waveform shown in FIG. 3D is obtained. That is, when detecting a depression (or a pinhole) generated on the upper surface of the lead pattern 11, it is most effective to irradiate the irradiation light obliquely from above the lead pattern 11.
【0013】 このように照射光で窪み11aの輪郭が明確化されたリードパターン11の上 面は撮像カメラ15により撮像され、その画像は内蔵のCCDイメージセンサ部 で電気信号に変換されるとともに、イメージセンサ部の走査手段によりそのスキ ャンごとに順次読み出され、画像処理装置16に入力される。 画像処理装置16では、入力される画像データを画像処理することにより、リ ードパターン11の上面に窪みがあるか否かを判定する。As described above, the upper surface of the lead pattern 11 in which the contour of the depression 11a is clarified by the irradiation light is imaged by the imaging camera 15, and the image is converted into an electric signal by the built-in CCD image sensor unit, and at the same time, The scanning means of the image sensor unit sequentially reads out the respective scans and inputs them to the image processing device 16. The image processing device 16 processes the input image data to determine whether or not there is a depression on the upper surface of the lead pattern 11.
【0014】 このように本実施例によれば、TABテープ10上のリードパターン11に対 し、その外周囲を取り巻く照明装置12により、水平面に対し略30°の俯角で 斜め上方かつ周囲全周から照明光を照射するようにしたので、リードパターン1 1の上面にレジストのピンホールなどによりエッチング液で浸食された窪み11 aを輝度的に強調できる。 これに伴い撮像カメラ15による窪み11aの入力画像が鮮明になり、その画 像処理も容易になるとともに、リードパターン11の上面に生じた窪みを確実に 認識でき、その検査の自動化も容易になる。As described above, according to this embodiment, the lighting device 12 surrounding the lead pattern 11 on the TAB tape 10 and its outer periphery is obliquely upward and the entire circumference of the periphery at a depression angle of about 30 ° with respect to the horizontal plane. Since the illumination light is emitted from the above, the recess 11 a eroded by the etching liquid by the pinhole of the resist or the like on the upper surface of the lead pattern 11 can be emphasized in terms of brightness. Along with this, the input image of the depression 11a by the imaging camera 15 becomes clear, the image processing becomes easy, and the depression formed on the upper surface of the lead pattern 11 can be surely recognized, and the inspection can be automated easily. .
【0015】 なお、本考案はリードパターンの欠陥検査のみに限定されず、他の種々の製品 面の欠陥検査に適用可能である。The present invention is not limited to the defect inspection of the lead pattern, but can be applied to the defect inspection of various other product surfaces.
【0016】[0016]
以上説明したように本考案によれば、被検査物の上方に位置しその外周囲を取 り巻く光源から発せられる照明光の光束を、前記被検査物と光源との間に配設さ れたミラーによって、前記被検査物の斜め上方から所望の俯角で被検査物の上面 に照射されるように折曲する構成にしたので、被検査物の上面に生じた欠陥の輪 郭を輝度的に明確にし、欠陥を強調できる。これに伴い欠陥の認識が容易となり 、被検査物上面の欠陥を明確に自動的に識別する検査装置を構成する場合などに 好適な欠陥検査用の照明装置が得られる。 As described above, according to the present invention, the luminous flux of the illumination light emitted from the light source located above the object to be inspected and surrounding the outer periphery is disposed between the object to be inspected and the light source. Since the mirror is bent so as to irradiate the upper surface of the inspection object at a desired depression angle from the obliquely upper side of the inspection object, the contour of the defect generated on the upper surface of the inspection object is changed in brightness. Can clarify and highlight defects. Along with this, it becomes easy to recognize defects, and it is possible to obtain an illuminating device for defect inspection, which is suitable when an inspection device that clearly and automatically identifies defects on the upper surface of the inspection object is configured.
【図1】本考案の一実施例を示す一部切欠きの斜視図で
ある。FIG. 1 is a partially cutaway perspective view showing an embodiment of the present invention.
【図2】本実施例における窪みの照明状態を示す説明図
である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing an illumination state of a depression in the present embodiment.
【図3】(a)〜(d)はリードパターンに対する照明
光の方向とこれに対応する出力波形の状態を示す説明図
である。3A to 3D are explanatory diagrams showing the direction of illumination light with respect to a lead pattern and the state of an output waveform corresponding to this direction.
【図4】(a)〜(c)はリードパターン上面のエッチ
ング液による窪み成形過程を示す説明図である。4 (a) to 4 (c) are explanatory views showing a process of forming a dimple on the upper surface of the lead pattern with an etching solution.
10 TABテープ 11 リードパターン 11a 窪み 12 照明装置 13 リング光源 14 リングミラー 14a 曲面 10 TAB Tape 11 Lead Pattern 11a Dimple 12 Illuminator 13 Ring Light Source 14 Ring Mirror 14a Curved Surface
Claims (1)
を取り巻くように配置され、前記被検査物に向けて照射
光を発する光源と、 前記被検査物と前記光源間に配置され、前記光源からの
照射光が前記被検査物の斜め上方から該被検査物の上面
に所望の俯角で照射されるように、前記照射光を反射さ
せるミラーと、 を備えたことを特徴とする欠陥検査用の照明装置。Claims for utility model registration: 1. A light source, which is disposed above an object to be inspected and surrounds the outer periphery of the object to be inspected, and which emits irradiation light toward the object to be inspected. A mirror which is arranged between the inspection object and the light source, and which reflects the irradiation light so that the irradiation light from the light source is applied obliquely above the inspection object to the upper surface of the inspection object at a desired depression angle. An illuminating device for defect inspection, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP062736U JPH058458U (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Lighting device for defect inspection |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP062736U JPH058458U (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Lighting device for defect inspection |
Publications (1)
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JPH058458U true JPH058458U (en) | 1993-02-05 |
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ID=13208966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP062736U Pending JPH058458U (en) | 1991-07-12 | 1991-07-12 | Lighting device for defect inspection |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH058458U (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009128268A (en) * | 2007-11-27 | 2009-06-11 | Nippon Avionics Co Ltd | Pattern inspection apparatus |
JP2017018126A (en) * | 2011-05-06 | 2017-01-26 | ビオメリューBiomerieux | Bio-imaging method |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH02183147A (en) * | 1989-01-09 | 1990-07-17 | Nikon Corp | Fine foreign matter inspecting device |
JPH03269246A (en) * | 1990-03-19 | 1991-11-29 | Fujitsu Ltd | Bonding wire inspecting apparatus |
-
1991
- 1991-07-12 JP JP062736U patent/JPH058458U/en active Pending
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