JPH0583380U - Titanium sublimation pump - Google Patents

Titanium sublimation pump

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JPH0583380U
JPH0583380U JP2993892U JP2993892U JPH0583380U JP H0583380 U JPH0583380 U JP H0583380U JP 2993892 U JP2993892 U JP 2993892U JP 2993892 U JP2993892 U JP 2993892U JP H0583380 U JPH0583380 U JP H0583380U
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JP
Japan
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titanium
vacuum chamber
container
filament
orifices
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Application number
JP2993892U
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Japanese (ja)
Inventor
真也 大石
Original Assignee
石川島播磨重工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 チタン蒸気が真空チャンバー内に侵入するの
を効果的に防止しつつコンダクタンスを大きくして排気
速度を高める。 【構成】 チタンサブリメーションポンプ14の出口付
近に複数段のオリフィス44,46を互い違いに配置
し、チタンフィラメント26から見て真空チャンバー内
空間24が陰になるようにする。これで、チタン蒸気3
4が真空チャンバー内空間24に侵入して飛散するのが
防止される。また、個々のオリフィス44,46は開口
部50,52,56の面積を広くとることができるの
で、コンダクタンスが大きくなり、排気速度が高められ
る。
(57) [Abstract] [Purpose] To effectively prevent titanium vapor from entering the vacuum chamber and increase the conductance to increase the exhaust speed. [Structure] Plural stages of orifices 44 and 46 are alternately arranged near the outlet of the titanium sublimation pump 14 so that the vacuum chamber internal space 24 is shaded when viewed from the titanium filament 26. With this, titanium vapor 3
4 is prevented from entering the space 24 inside the vacuum chamber and scattering. Further, since the openings 50, 52, 56 can have a large area for each of the orifices 44, 46, the conductance is increased and the exhaust speed is increased.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

この考案は、真空チャンバー内の気体の吸着排気を行なうチタンサブリメーシ ョンポンプに関し、チタン蒸気が真空チャンバー内に侵入するのを防止しつつ排 気速度の向上を図ったものである。 The present invention relates to a titanium sublimation pump that adsorbs and exhausts gas in a vacuum chamber, and aims to improve the exhaust speed while preventing titanium vapor from entering the vacuum chamber.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

チタンサブリメーションポンプは、チタンフィラメントに通電することにより チタンを蒸発させ、その蒸気を真空チャンバー内の壁面に付着させて活性なチタ ン膜を形成し、このチタン膜で真空チャンバー内に浮遊しているガスを吸着排気 して真空チャンバー内を超高真空状態にするものである。 The titanium sublimation pump vaporizes titanium by energizing the titanium filament, deposits the vapor on the wall surface in the vacuum chamber to form an active titanium film, and the titanium film floats in the vacuum chamber. The inside of the vacuum chamber is brought to an ultrahigh vacuum state by adsorbing and exhausting the existing gas.

【0003】 従来のチタンサブリメーションポンプを図2に示す。粒子加速器等の真空チャ ンバー10にはチタンサブリメーションポンプ14を取付けるための円形の開口 部12が形成され、ここにチタンサブリメーションポンプ14の円筒状容器16 がフランジ18をボルト20で止めて外気を遮断した状態で取り付けられている 。A conventional titanium sublimation pump is shown in FIG. A circular opening 12 for mounting a titanium sublimation pump 14 is formed in a vacuum chamber 10 such as a particle accelerator, and a cylindrical container 16 of the titanium sublimation pump 14 has a flange 18 fastened with a bolt 20 to fix outside air to the cylindrical container 16. It is installed in a state where it is shut off.

【0004】 チタンサブリメーションポンプ14内の空間22は真空チャンバー10内の空 間24と連通している。チタンサブリメーションポンプ14内の空間22にはチ タンフィラメント26がその上下両端部を電極兼支持棒28,30で支持されて 配設されている。電極棒28,30は電流導入端子32を介して外部に引き出さ れている。A space 22 inside the titanium sublimation pump 14 communicates with a space 24 inside the vacuum chamber 10. In the space 22 inside the titanium sublimation pump 14, a titanium filament 26 is disposed with its upper and lower ends supported by electrodes and support rods 28 and 30. The electrode rods 28 and 30 are drawn out to the outside through a current introduction terminal 32.

【0005】 外部の電源から電極棒の端子28a,30aを介してチタンフィラメント26 に通電することによりチタンが昇華し、チタン蒸気34が容器16の内壁面に付 着して活性なチタン膜36を形成し、真空チャンバー10内に浮遊している気体 分子を吸着排気する。By energizing the titanium filament 26 from an external power source through the terminals 28a and 30a of the electrode rod, titanium is sublimated, and titanium vapor 34 adheres to the inner wall surface of the container 16 to form an active titanium film 36. The gas molecules formed and floating in the vacuum chamber 10 are adsorbed and exhausted.

【0006】 SOR(シンクロトロン放射光)装置の蓄積リング等の真空チャンバーを排気 するチタンサブリメーションポンプは、チタン蒸気34が真空チャンバー10内 に侵入して飛散するのを防止するため、容器16の出口にオリフィス40を設け ることが多い。A titanium sublimation pump that evacuates a vacuum chamber such as a storage ring of an SOR (synchrotron radiation) device prevents the titanium vapor 34 from entering the vacuum chamber 10 and scattering. An orifice 40 is often provided at the outlet.

【0007】[0007]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

前記従来のチタンサブリメーションポンプによれば、真空チャンバー10内に 浮游している気体分子はオリフィス40の小さな開口部42からしか入り込めな いので、コンダクタンス(気体の流れやすさ)が小さく、排気速度が遅い欠点が あった。 According to the conventional titanium sublimation pump, the gas molecules floating in the vacuum chamber 10 can enter only through the small opening 42 of the orifice 40, so that the conductance (the ease of gas flow) is small and the exhaust gas is exhausted. It had the drawback of being slow.

【0008】 この考案は、上記従来の技術における問題点を解決して、チタン蒸気が真空チ ャンバー内に侵入するのを効果的に防止しつつコンダクタンスを大きくして排気 速度を高めたチタンサブリメーションポンプを提供しようとするものである。The present invention solves the above problems in the prior art, and effectively prevents titanium vapor from entering the vacuum chamber while increasing the conductance and increasing the exhaust speed of titanium sublimation. It is intended to provide a pump.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

この考案は、真空チャンバーに連通する容器と、この容器内に収容されたチタ ンフィラメントと、このチタンフィラメントに前記容器の外部から電流を供給す るチタンフィラメント用電流供給路と、前記容器から前記真空チャンバーに至る 空間中に当該真空チャンバーに向かう方向に互い違いに配置され、前記チタンフ ィラメントに対し当該真空チャンバー方向への陰を形成する複数段のオリフィス とを具備してなるものである。 This invention is directed to a container communicating with a vacuum chamber, a titanium filament contained in the container, a titanium filament current supply path for supplying an electric current to the titanium filament from outside the container, and the titanium filament from the container to In the space leading to the vacuum chamber, the plurality of orifices are arranged alternately in the direction toward the vacuum chamber and form a shade in the vacuum chamber direction with respect to the titanium filament.

【0010】[0010]

【作用】[Action]

チタンフィラメントから昇華したチタン蒸気は直進する性質を有するため、複 数段のオリフィスを互い違いに配置してチタンフィラメントから見て真空チャン バー方向に陰を形成することにより、チタン蒸気が真空チャンバー内に侵入して 飛散するのを防止することができる。しかも、複数段のオリフィスを互い違いに 配置して陰を形成するので、個々のオリフィスは開口面積を大きくとることがで き、これによりコンダクタンスが大きくなって排気速度を高めることができる。 Since the titanium vapor sublimated from the titanium filament has the property of traveling straight, by arranging multiple stages of orifices in a staggered manner and forming a shadow in the vacuum chamber direction when viewed from the titanium filament, the titanium vapor is introduced into the vacuum chamber. It can be prevented from invading and scattering. Moreover, since the shadows are formed by alternately arranging a plurality of stages of orifices, each orifice can have a large opening area, which increases the conductance and increases the exhaust speed.

【0011】[0011]

【実施例】【Example】

(実施例1) この考案の一実施例を図1に示す。SOR装置の蓄積リング等の真空チャンバ ー10にはチタンサブリメーションポンプ14を取付けるための円形の開口部1 2が形成され、ここにチタンサブリメーションポンプ14の円筒状容器16がフ ランジ18をボルト20で止めて外気を遮断した状態で取り付けられている。 (Embodiment 1) FIG. 1 shows an embodiment of the present invention. A circular opening 12 for mounting the titanium sublimation pump 14 is formed in the vacuum chamber 10 such as the storage ring of the SOR device, and the cylindrical container 16 of the titanium sublimation pump 14 bolts the flange 18 thereto. It is installed in a state where it is stopped at 20 and the outside air is shut off.

【0012】 チタンサブリメーションポンプ14内の空間22は真空チャンバー10内の空 間24と連通している。チタンサブリメーションポンプ14内の空間22にはチ タンフィラメント26がその上下両端部を電極兼支持棒28,30で支持されて 配設されている。電極棒28,30は電流導入端子32を介して外部に引き出さ れている。A space 22 inside the titanium sublimation pump 14 communicates with a space 24 inside the vacuum chamber 10. In the space 22 inside the titanium sublimation pump 14, a titanium filament 26 is disposed with its upper and lower ends supported by electrodes and support rods 28 and 30. The electrode rods 28 and 30 are drawn out to the outside through a current introduction terminal 32.

【0013】 チタンフィラメント26から真空チャンバー内空間24に至る途中の容器16 内の空間22内には複数段のオリフィス44,46が配設されている。中側のオ リフィス44は外側のオリフィス46よりも小径のリング状に形成され、容器1 6の内周面に溶接で固定された3本のロッド48に溶接で固定されて、容器16 内の中心軸上に保持されている。外側のオリフィス46は大径のリング状に形成 され、容器46の内周面に溶接で固定されている。A plurality of stages of orifices 44, 46 are arranged in the space 22 in the container 16 on the way from the titanium filament 26 to the space 24 in the vacuum chamber. The inner orifice 44 is formed in a ring shape having a diameter smaller than that of the outer orifice 46, and is fixed by welding to three rods 48 fixed to the inner peripheral surface of the container 16 by welding. It is held on the central axis. The outer orifice 46 is formed in a large-diameter ring shape and is fixed to the inner peripheral surface of the container 46 by welding.

【0014】 これにより、チタンフィラメント26から真空チャンバー内空間24に至る空 間22内にオリフィス44,46が互い違いに配置されることになり、チタンフ ィラメント26から見て真空チャンバー内空間24が略々オリフィス44,46 の陰となる。なお、容器16の内周面およびオリフィス44,46の内側の面は チタン蒸気が付着しやすいように例えば電解研磨等で滑らかに研磨する。As a result, the orifices 44 and 46 are alternately arranged in the space 22 that extends from the titanium filament 26 to the vacuum chamber internal space 24, and the vacuum chamber internal space 24 is viewed substantially from the titanium filament 26. It is behind the orifices 44 and 46. The inner peripheral surface of the container 16 and the inner surfaces of the orifices 44 and 46 are smoothly polished by, for example, electrolytic polishing so that titanium vapor is easily attached.

【0015】 以上の構成によれば、外部の電源から電極棒の端子28a,30aを介してチ タンフィラメント26に通電することによりチタンが昇華し、チタン蒸気34が 容器15の内壁面およびオリフィス44,46の内側の面に付着して活性なチタ ン膜36を形成し、真空チャンバー10内に浮遊している気体分子を吸着排気す る。According to the above configuration, titanium is sublimated by energizing the titanium filament 26 from the external power source through the terminals 28a and 30a of the electrode rod, and the titanium vapor 34 becomes the inner wall surface of the container 15 and the orifice 44. , 46 to form an active titanium film 36 on the inner surface thereof, and gas molecules floating in the vacuum chamber 10 are adsorbed and exhausted.

【0016】 この場合、蒸気チタンフィラメント26から昇華したチタン蒸気34は直進す るので、オリフィス44,46に遮蔽されて真空チャンバー内空間24に侵入し て飛散するのが防止される。In this case, since the titanium vapor 34 sublimated from the vapor titanium filament 26 goes straight, it is prevented that the titanium vapor 34 is shielded by the orifices 44, 46 and enters the vacuum chamber internal space 24 to be scattered.

【0017】 また、オリフィス44は中心部の開口部50と外周の開口部52とにより広い 開口面積を確保することができ(開口部50を通しての飛散は、チタンフィラメ ント26の上端部の支持プレート54自体が遮蔽体となって防止される。)、オ リフィス46はオリフィス44が遮蔽している分中央部に大きな開口部56を形 成することができるので、広い開口面積を確保することができる。したがって、 前記図2に示した従来の1枚のオリフィス40を用いたものに比べてコンダクタ ンスが大きくなり、真空チャンバー10内を浮游している気体分子が容器16内 空間22に入りやすくなって、排気速度が高められる。Further, the orifice 44 can secure a wide opening area by the opening 50 at the central portion and the opening 52 at the outer periphery (scattering through the opening 50 prevents the support plate at the upper end portion of the titanium filament 26 from being scattered. 54 itself serves as a shield and is prevented.) Since the orifice 46 can form a large opening 56 in the central portion because the orifice 44 is shielded, a wide opening area can be secured. it can. Therefore, the conductance becomes large as compared with the conventional one using the single orifice 40 shown in FIG. 2, and the gas molecules floating in the vacuum chamber 10 easily enter the space 22 in the container 16. , The pumping speed is increased.

【0018】 ここで、前記図2の従来装置と図1の本発明装置について排気速度をシミュレ ーションで求めた結果について説明する。Now, the results of simulating the exhaust velocity of the conventional apparatus of FIG. 2 and the apparatus of the present invention of FIG. 1 will be described.

【0019】 まず、図2の従来装置の場合開口部42の内径Bを3.6cmとすると、排気速 度は118リットル/秒であった。First, in the case of the conventional apparatus of FIG. 2, when the inner diameter B of the opening 42 was 3.6 cm, the exhaust speed was 118 liters / second.

【0020】 一方、図1の本発明装置では、容器16内の内径をA、開口部50の内径Bを 3.6cm、開口部56の内径をxとし、また、オリフィス44の外径が開口部5 6の内径xと等しく、オリフィス44,46間の距離も十分広いと仮定すると、 排気速度はAとxの関係で変化する。すなわち、A=14.7cmの場合は、x= 10〜11cmがよく、この時排気速度は約700リットル/秒得られ、x=10 .7cmの時に最大の排気速度709リットル/秒が得られる。また、A=9.6 cmの場合は、x=6.5〜8cmがよく、この時排気速度は約330リットル/秒 得られ、x=7.2cmの時に最大の排気速度約334リットル/秒得られる。On the other hand, in the device of the present invention shown in FIG. 1, the inner diameter of the container 16 is A, the inner diameter B of the opening 50 is 3.6 cm, the inner diameter of the opening 56 is x, and the outer diameter of the orifice 44 is the opening. Assuming that the inner diameter x of the portion 56 is equal and the distance between the orifices 44 and 46 is sufficiently wide, the pumping speed changes depending on the relationship between A and x. That is, when A = 14.7 cm, x = 10 to 11 cm is preferable, and at this time, an evacuation speed of about 700 liters / second is obtained, and x = 10. A maximum pumping speed of 709 l / sec is obtained at 7 cm. When A = 9.6 cm, x = 6.5 to 8 cm is preferable, and at this time, an evacuation speed of about 330 liters / second is obtained, and when x = 7.2 cm, the maximum evacuation speed is about 334 liters / second. Seconds are obtained.

【0021】 このように、図1の本発明装置によれば図2の従来装置に比べて排気速度が格 段に向上する。As described above, according to the device of the present invention shown in FIG. 1, the exhaust speed is significantly improved as compared with the conventional device shown in FIG.

【0022】 (実施例2) この考案の他の実施例を図3に示す。これはオリフイスを3段に配置したもの である。各段のオリフィス62,64,66はそれぞれ小径、中径、大径のリン グ状に形成されている。オリフィス62,64はそれぞれ3本程度のロッド68 ,70にそれぞれ取り付けられて容器16の中心軸上に保持されている。オリフ ィス66は外周部は容器16の内周面に溶接して取り付けられている。このよう にして、オリフィス62,64,66が互い違いに配置されることで、チタンフ ィラメント26に対して真空チャンバー内空間24の方向への陰を形成している 。したがって、チタン蒸気が真空チャンバー内空間24に侵入して飛散するのを 防止できる。また、各オリフィス62,64,66は開口面積を広くとれる(前 記図1の2段のものよりも広くとれる)ので、コンダクタンスが大きく、排気速 度が高められる。(Second Embodiment) FIG. 3 shows another embodiment of the present invention. This is a three-tiered orientation. The orifices 62, 64, 66 of each stage are formed in a ring shape having a small diameter, a medium diameter and a large diameter, respectively. The orifices 62 and 64 are attached to about three rods 68 and 70, respectively, and are held on the central axis of the container 16. The outer periphery of the orifice 66 is attached to the inner peripheral surface of the container 16 by welding. In this way, the orifices 62, 64, 66 are arranged in a staggered manner to form a shadow in the direction of the vacuum chamber internal space 24 with respect to the titanium filament 26. Therefore, it is possible to prevent titanium vapor from entering the space 24 in the vacuum chamber and scattering. Further, since the orifices 62, 64, 66 can have a large opening area (larger than the two-stage one shown in FIG. 1), the conductance is large and the exhaust speed can be increased.

【0023】[0023]

【変更例】[Example of change]

前記実施例では、オリフィスを2段または3段に配置した場合について説明し たが、より多段に配置することもできる。 In the above-mentioned embodiment, the case where the orifices are arranged in two or three stages has been described, but it is also possible to arrange in multiple stages.

【0024】 また、前記実施例でば、オリフイスをリング状に形成し、内側を小径に外側を 大径にしたが、これに限らず内側を大径に外側を小径にしたり、リング状以外の 各種形状に形成することができる。Further, in the above-described embodiment, the orifice is formed in a ring shape, and the inside has a small diameter and the outside has a large diameter. It can be formed in various shapes.

【0025】 また、この考案はSOR装置以外の各種真空チャンバーの排気用に適用できる 。Further, the present invention can be applied to exhaust of various vacuum chambers other than the SOR device.

【0026】[0026]

【考案の効果】[Effect of the device]

以上説明したように、この発明によればチタンフィラメントから昇華したチタ ン蒸気が直進する性質を利用して、複数段のオリフィスを互い違いに配置してチ タンフィラメントから見て真空チャンバー方向に陰を形成するようにしたので、 チタン蒸気が真空チャンバー内に侵入して飛散するのを防止することができる。 しかも、複数段のオリフィスを互い違いに配置して陰を形成するので、個々のオ リフィスは開口面積を大きくとることができ、これによりコンダクタンスが大き くなって排気速度を高めることができる。 As described above, according to the present invention, by utilizing the property that the titanium vapor sublimated from the titanium filament travels straight, a plurality of orifices are staggered to form a shadow in the vacuum chamber direction when viewed from the titanium filament. Since the titanium vapor is formed, it is possible to prevent titanium vapor from entering the vacuum chamber and scattering. Moreover, since a plurality of orifices are alternately arranged to form a shadow, each orifice can have a large opening area, which can increase the conductance and increase the exhaust speed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この考案の一実施例を示す断面側面図およびそ
のA−A矢視断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional side view and an AA arrow cross-sectional view showing an embodiment of the present invention.

【図2】従来装置を示す断面側面図である。FIG. 2 is a cross-sectional side view showing a conventional device.

【図3】この考案の他の実施例を示す断面側面図であ
る。
FIG. 3 is a sectional side view showing another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 真空チャンバー 14 チタンサブリメーションポンプ 16 容器 22 空間 26 チタンフィラメント 32 電流導入端子(チタンフィラメント用電流供給
路) 40,42,62,64,66 オリフィス
10 Vacuum Chamber 14 Titanium Sublimation Pump 16 Container 22 Space 26 Titanium Filament 32 Current Introducing Terminal (Titanium Filament Current Supply Path) 40, 42, 62, 64, 66 Orifice

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】真空チャンバーに連通する容器と、 この容器内に収容されたチタンフィラメントと、 このチタンフィラメントに前記容器の外部から電流を供
給するチタンフィラメント用電流供給路と、 前記容器から前記真空チャンバーに至る空間中に当該真
空チャンバーに向かう方向に互い違いに配置され、前記
チタンフィラメントに対し当該真空チャンバー方向への
陰を形成する複数段のオリフィスとを具備してなるチタ
ンサブリメーションポンプ。
1. A container communicating with a vacuum chamber, a titanium filament contained in the container, a titanium filament current supply path for supplying an electric current to the titanium filament from the outside of the container, and the vacuum from the container. A titanium sublimation pump, comprising: a plurality of orifices arranged alternately in a direction toward the vacuum chamber in a space leading to the chamber and forming a shade in the vacuum chamber direction with respect to the titanium filament.
JP2993892U 1992-04-08 1992-04-08 Titanium sublimation pump Pending JPH0583380U (en)

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