JP3079802B2 - Plasma gun - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はプラズマＣＶＤ、プラズ
マ溶解、アーク放電によるイオンプレーティングなどに
使用するプラズマ発生装置のプラズマ銃に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma gun of a plasma generator used for plasma CVD, plasma melting, ion plating by arc discharge, and the like.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、プラズマ発生装置はプラズマ銃で
プラズマを発生させたプラズマを直接処理母材に照射し
たり、処理母材に蒸着する蒸着分子に衝突させてイオン
化させるなどの種々の用途に使用されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a plasma generator is used for various applications such as directly irradiating a plasma generated by a plasma gun to a processing base material, or colliding with a deposition molecule deposited on the processing base material to ionize the processing base material. in use.
【０００３】このプラズマ発生は例えば、図７に示すよ
うに、真空容器ａの一側部にプラズマ銃ｂを備え、ま
た、このプラズマ銃ｂと対向電極ｃ間に一対の集束コイ
ルｄを備えた構成をしており、さらに、この真空容器ａ
内に蒸発材料が入れられたルツボｅと処理母材ｆを配置
すると共に、電子銃ｇを備えることでイオンプレーティ
ング装置として使用されることになる。In this plasma generation, for example, as shown in FIG. 7, a plasma gun b is provided on one side of a vacuum vessel a, and a pair of focusing coils d are provided between the plasma gun b and a counter electrode c. The vacuum vessel a
A crucible e in which an evaporating material is placed and a processing base material f are arranged, and an electron gun g is provided, so that it can be used as an ion plating apparatus.
【０００４】そして、図示するように、ルツボｅ内の蒸
発材料に電子銃ｇからビームＢを当てて蒸発させ、これ
を真空容器ａ内上部に配置された処理母材ｆに被膜させ
る際に、プラズマ銃ｂから出射される略円柱状のプラズ
マで蒸発粒子をイオン化させて被膜を形成すべき処理母
材ｆへの到達を促進して良好な被膜が形成されるように
したものである。また、この集束コイルｄはプラズマ銃
ｂから出射されるプラズマの周囲に磁場を発生させてプ
ラズマが拡散するのを防止する働きを成している。ま
た、このプラズマ銃ｂは図５及び図６に示すように、一
端に出射口ｈが開口された円筒状のプラズマチャンバー
ｉ内に、プラズマを発生する円筒形のプラズマ源ｊと、
一対のリング状陽極ｋ，ｌを備えた構成をしており、プ
ラズマ源ｊに導入されたガスＧをアーク放電によってプ
ラズマ化し、これを陽極ｋ，ｌの電界力によって出射口
ｈ側へ引き出して出射するものである。[0004] As shown in the figure, a beam B from an electron gun g is applied to an evaporating material in a crucible e to evaporate the material, and when the material is coated on a processing base material f arranged in an upper portion in a vacuum vessel a, The evaporating particles are ionized by the substantially cylindrical plasma emitted from the plasma gun b to promote the arrival at the processing base material f where the coating is to be formed, thereby forming a good coating. The focusing coil d has a function of generating a magnetic field around the plasma emitted from the plasma gun b and preventing the plasma from being diffused. As shown in FIGS. 5 and 6, the plasma gun b has a cylindrical plasma source j for generating plasma in a cylindrical plasma chamber i having an emission port h at one end.
It has a configuration provided with a pair of ring-shaped anodes k and l. The gas G introduced into the plasma source j is turned into plasma by arc discharge, and is drawn out to the exit h by the electric field force of the anodes k and l. It emits light.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、成膜プロセ
ス、化学プロセス分野においては生産効率を向上させる
ために、できるだけ大面積のプラズマが必要となる。し
かしながら、上述したような、従来のプラズマ発生装置
の場合では、プラズマ銃ｂから出射されるプラズマは円
筒形状で出射されるため、その面積は小さいものであっ
た。そのため、本発明者らは上記集束コイルｄを楕円形
状に形成し、プラズマ銃ｂから出射された円筒形状のプ
ラズマを偏平状に集束することで、プラズマ面積を増大
させたプラズマ発生装置を先に提案している（特願平４
−２１３１１号等）。By the way, in the field of film forming process and chemical process, plasma having as large an area as possible is required in order to improve production efficiency. However, in the case of the conventional plasma generator as described above, the plasma emitted from the plasma gun b is emitted in a cylindrical shape, and thus has a small area. For this reason, the present inventors first formed a plasma generating device having an increased plasma area by forming the focusing coil d into an elliptical shape and focusing cylindrical plasma emitted from the plasma gun b in a flat shape. Proposal (Japanese Patent Application No. 4
-21311).
【０００６】しかしながら、この方法では集束コイルｄ
によってのみプラズマを偏平させているため、その偏平
率には限度があり、さらに大きな面積、すなわちシート
状のプラズマを得ることは困難であった。また、さらに
プラズマを集束成形するために設けられた集束コイルｄ
の磁力線がプラズマｂ内にも流れてしまい、プラズマ銃
ｂで発生するプラズマに悪影響を及ぼしてしまうことが
あった。However, in this method, the focusing coil d
However, since the plasma is flattened only by this, the flattening rate is limited, and it is difficult to obtain a larger area, that is, a sheet-like plasma. A focusing coil d provided for further focusing and forming the plasma.
The lines of magnetic force may also flow into the plasma b, adversely affecting the plasma generated by the plasma gun b.
【０００７】そこで、本発明は上記問題点を有効に解決
するために案出されたものであり、その目的は大面積の
プラズマを容易に得ることができると共に、集束コイル
の磁力線による悪影響を未然に防止することができる新
規なプラズマ銃を提供するものである。Accordingly, the present invention has been devised in order to effectively solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to obtain a large-area plasma easily and to prevent adverse effects due to magnetic field lines of a focusing coil. It is intended to provide a novel plasma gun which can be prevented.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の第一の発明はプラズマを発生するプラズマ源と、該プ
ラズマ源で発生したプラズマを引き出すリング状の陽極
と、該リング状陽極で引き出されたプラズマを集束する
集束コイルと、上記プラズマ源に対向して設けられた対
向電極とからなるプラズマ銃において、上記プラズマ源
を複数並列して設けると共に、上記リング状陽極及び集
束コイルを上記プラズマ源の並列方向に楕円状に形成す
るものであり、また、第二の発明は上記プラズマ源及び
楕円状陽極の周囲に、これを囲繞するように磁性体から
なる磁気シールドを設けたものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a plasma source for generating plasma, a ring-shaped anode for extracting plasma generated by the plasma source, and a ring-shaped anode for extracting the plasma generated by the plasma source. In a plasma gun including a focusing coil for focusing the plasma obtained and a counter electrode provided to face the plasma source, a plurality of the plasma sources are provided in parallel, and the ring-shaped anode and the focusing coil are connected to the plasma source. In the second invention, a magnetic shield made of a magnetic material is provided around the plasma source and the elliptical anode so as to surround the same. .
【０００９】[0009]
【作用】第一の発明は上述したように、上記プラズマ源
を複数並列して設けると共に、上記リング状陽極及び集
束コイルを上記プラズマ源の並列方向に楕円状に形成し
たため、リング状陽極によって上記プラズマ源から複数
のプラズマが同時に引き出され、さらに、これらプラズ
マは、楕円状の集束コイルから発生する磁力線によって
拡散を抑えられ、その形状がシート状に成形されつつ対
向電極に到達することになる。従って、本発明のプラズ
マ銃では大面積のプラズマを容易に発生することができ
る。また、第二の発明は上記プラズマ源及び楕円状陽極
の周囲に、これを囲繞するように磁性体からなる磁気シ
ールドを設けたものであるため、集束コイルから発生す
る磁力線がシールドされ、上記プラズマ源及び楕円状陽
極で発生するプラズマに与える悪影響を未然に防止する
ことができる。According to the first invention, as described above, the plurality of plasma sources are provided in parallel, and the ring-shaped anode and the focusing coil are formed in an elliptical shape in the direction parallel to the plasma sources. A plurality of plasmas are simultaneously extracted from the plasma source. Further, these plasmas are suppressed from diffusing by lines of magnetic force generated from the elliptical focusing coil, and reach the counter electrode while being formed into a sheet shape. Therefore, the plasma gun of the present invention can easily generate a large-area plasma. In the second invention, since a magnetic shield made of a magnetic material is provided around the plasma source and the elliptical anode so as to surround the plasma source and the elliptical anode, the magnetic field lines generated from the focusing coil are shielded, and the plasma An adverse effect on the plasma generated by the source and the elliptical anode can be prevented.
【００１０】[0010]
【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面を参照し
ながら詳述する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
【００１１】図１及び図２は本発明に係るプラズマ銃１
の一実施例を示したものである。図示するように、楕円
状のプラズマ出口５が開口された円筒状のケーシング２
内には、陰極となるべく３つのプラズマ源３ａ，３ｂ，
３ｃが上下方向に並列に配置されており、それぞれから
は三つのプラズマＰ1 、Ｐ2 、Ｐ3 が発生されるように
なっている。また、これらプラズマ源３ａ，３ｂ，３ｃ
の下流側にはケーシング２内周面に沿って二つの楕円形
状の陽極４ａ，４ｂが設けられており、プラズマ源３
ａ，３ｂ，３ｃで発生したマイナスイオンからあるプラ
ズマＰを纏めて電気的に引き出し、ケーシング２のプラ
ズマ出口５方向に出射するようになっている。また、図
３及び図４に示すようにケーシング２のプラズマ出口５
にはそれぞれ楕円形状をした一対の集束コイル６ａ，６
ｂが設けられており、発生する磁力線Ｍによって、内部
を通過するプラズマＰの拡散を抑えると共に、これをシ
ート状に集束成形する働きを成している。さらに、この
ケーシング２のプラズマ出口５の対向部には集束コイル
６ｂの断面長さ方向に延出した楕円状あるいは棒状の対
向電極７が設けられており、上記プラズマ源３ａ，３
ｂ，３ｃで発生したプラズマＰを電気的に引き付ける働
きをなしている。また、このケーシング２は鉄、コバル
ト、ニッケル等の磁性体からなっており、集束コイル６
ａ，６ｂで発生する磁力線Ｇがケーシング２内に透過し
ないように磁気シールドの働きをなしている。FIGS. 1 and 2 show a plasma gun 1 according to the present invention.
1 shows an embodiment of the present invention. As shown, a cylindrical casing 2 having an elliptical plasma outlet 5 opened.
Inside, three plasma sources 3a, 3b,
3c are arranged in parallel in the vertical direction, and three plasmas P 1 , P 2 and P 3 are generated from each of them. Further, these plasma sources 3a, 3b, 3c
Along the inner peripheral surface of the casing 2, two elliptical anodes 4a and 4b are provided on the downstream side of the
A certain plasma P is collectively and electrically extracted from the negative ions generated at a, 3b, and 3c and emitted toward the plasma outlet 5 of the casing 2. Also, as shown in FIGS.
Have a pair of focusing coils 6a, 6 each having an elliptical shape.
b is provided to suppress the diffusion of the plasma P passing through the inside by the generated lines of magnetic force M, and to function to converge and form the plasma into a sheet. An elliptical or rod-shaped counter electrode 7 extending in the cross-sectional length direction of the focusing coil 6b is provided at a portion of the casing 2 opposite to the plasma outlet 5, and the plasma sources 3a, 3
It functions to electrically attract the plasma P generated in b and 3c. The casing 2 is made of a magnetic material such as iron, cobalt, and nickel.
The magnetic shield G functions as a magnetic shield so that the lines of magnetic force G generated at a and 6b do not penetrate into the casing 2.
【００１２】次に、本実施例の作用を説明する。Next, the operation of this embodiment will be described.
【００１３】図１に示すように、プラズマ源３ａ，３
ｂ，３ｃで発生した３つのプラズマＰ1 、Ｐ2 、Ｐ3 は
先ず、陽極４ａによって電気的に引き出された後、陽極
４ｂによってさらに加速されてプラズマ出口５から出射
されることになる。このとき、プラズマ源３ａ，３ｂ，
３ｃで発生した３つのプラズマＰ1 、Ｐ2 、Ｐ3 は、そ
れぞれが干渉し合って一つのプラズマＰとなり、扇状に
拡散しつつ出射されることになる。次に、プラズマ出口
５から出射された扇状のプラズマＰは楕円状の集束コイ
ル６ａ，６ｂ内を通過する際に、図３及び図４に示すよ
うに、この集束コイル６ａ，６ｂによって図示するよう
に発生している磁力線Ｍによってその拡散状態が抑えら
れつつ、シート状に集束形成された後、対向電極７に到
達することになる。また、プラズマ源３ａ，３ｂ，３ｃ
側に流れる磁力線Ｍは磁気シールドたるケーシング２を
伝わってその端部より集束コイル６ａ，６ｂの内方側へ
流れプラズマＰを集束する働きをなすことになる。As shown in FIG. 1, the plasma sources 3a, 3
The three plasmas P 1 , P 2 , and P 3 generated in b and 3c are first electrically extracted by the anode 4a, and are further accelerated by the anode 4b and emitted from the plasma outlet 5. At this time, the plasma sources 3a, 3b,
The three plasmas P 1 , P 2 , and P 3 generated in 3c interfere with each other to form one plasma P, and are emitted while diffusing in a fan shape. Next, as shown in FIGS. 3 and 4, the fan-shaped plasma P emitted from the plasma outlet 5 passes through the elliptical focusing coils 6a and 6b, as shown by the focusing coils 6a and 6b. The magnetic flux lines M are generated in a sheet and converged into a sheet while reaching the counter electrode 7 while their diffusion state is suppressed. Further, the plasma sources 3a, 3b, 3c
The lines of magnetic force M flowing to the side travel through the casing 2, which is a magnetic shield, and flow from the end to the inside of the focusing coils 6a and 6b, thereby functioning to focus the plasma P.
【００１４】このように、本発明は従来一つであったプ
ラズマ源を複数並列して設けることで、シート状のプラ
ズマＰを容易に得ることが出来ると共に、その面積を大
巾に増大することができる。また、このプラズマ源の周
囲に磁性体からなる磁気シールドを設けたものであるた
め、集束コイルから発生する磁力線がシールドされ、上
記プラズマ源及び楕円状陽極で発生するプラズマに与え
る悪影響を未然に防止することができる。As described above, according to the present invention, the sheet-shaped plasma P can be easily obtained by providing a plurality of plasma sources in parallel, which has been conventionally one, and the area thereof can be greatly increased. Can be. In addition, since a magnetic shield made of a magnetic material is provided around the plasma source, the lines of magnetic force generated from the focusing coil are shielded, and the adverse effects on the plasma generated by the plasma source and the elliptical anode are prevented. can do.
【００１５】尚、本実施例ではプラズマ源を三つ設けた
構成で説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、その数は必要に応じて増減させても同様の作用、
効果を得ることができることは勿論である。Although the present embodiment has been described with a configuration in which three plasma sources are provided, the present invention is not limited to this, and the same effect can be obtained even if the number is increased or decreased as necessary.
Of course, an effect can be obtained.
【００１６】[0016]
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、シート状
をした大面積のプラズマを容易に得ることが可能となる
ため、成膜プロセス、化学プロセス分野における生産効
率の向上に大巾に貢献することができる。また、磁力線
による悪影響を低減することができるため、成形性の良
い良好なプラズマを得ることができる等といった優れた
効果を有する。In summary, according to the present invention, a large plasma in the form of a sheet can be easily obtained, which greatly contributes to the improvement of production efficiency in the field of film forming process and chemical process. be able to. In addition, since an adverse effect due to the lines of magnetic force can be reduced, excellent effects such as good plasma having good moldability can be obtained.
【図１】本発明の一実施例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing one embodiment of the present invention.
【図２】図１中Ａ−Ａ矢視図である。FIG. 2 is a view taken in the direction of arrows AA in FIG.
【図３】本発明の作用を示す概略図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing the operation of the present invention.
【図４】図３中Ａ−Ａ矢視図である。FIG. 4 is a view taken in the direction of arrows AA in FIG. 3;
【図５】従来のプラズマ銃の構成を示す概略図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing a configuration of a conventional plasma gun.
【図６】図５中Ａ−Ａ矢視図である。6 is a view as viewed in the direction of arrows AA in FIG. 5;
【図７】従来のプラズマ発生装置を用いたイオンプレー
ティングを示す概略図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing ion plating using a conventional plasma generator.
１ プラズマ銃 ２ 磁気シールド ３ａ，３ｂ，３ｃ プラズマ源 ４ａ，４ｂ 陽極 ６ａ，６ｂ 集束コイル ７ 対向電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plasma gun 2 Magnetic shield 3a, 3b, 3c Plasma source 4a, 4b Anode 6a, 6b Focusing coil 7 Counter electrode
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 隆幸 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川 島播磨重工業株式会社 東二テクニカル センター内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H05H 1/24 - 1/54 C23C 14/00 - 16/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Takayuki Nakayama 3-1-1-15 Toyosu, Koto-ku, Tokyo Ishikawajima-Harima Heavy Industries, Ltd. In the Toji Technical Center (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB Name) H05H 1/24-1/54 C23C 14/00-16/00
Claims (2)
ラズマ源で発生したプラズマを引き出すリング状の陽極
と、該リング状陽極で引き出されたプラズマを集束する
集束コイルと、上記プラズマ源に対向して設けられた対
向電極とからなるプラズマ銃において、上記プラズマ源
を複数並列して設けると共に、上記リング状陽極及び集
束コイルを上記プラズマ源の並列方向に楕円状に形成す
ることを特徴とするプラズマ銃。A plasma source for generating plasma; a ring-shaped anode for extracting plasma generated by the plasma source; a focusing coil for focusing plasma extracted by the ring-shaped anode; A plasma gun comprising: a plurality of plasma sources provided in parallel; and a ring-shaped anode and a focusing coil formed in an elliptical shape in a direction parallel to the plasma sources. gun.
に、これを囲繞するように磁性体からなる磁気シールド
を設けたことを特徴とする請求項１記載のプラズマ銃。2. The plasma gun according to claim 1, wherein a magnetic shield made of a magnetic material is provided around the plasma source and the elliptical anode so as to surround them.
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