JPH0580806B2 - - Google Patents
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- JPH0580806B2 JPH0580806B2 JP58144111A JP14411183A JPH0580806B2 JP H0580806 B2 JPH0580806 B2 JP H0580806B2 JP 58144111 A JP58144111 A JP 58144111A JP 14411183 A JP14411183 A JP 14411183A JP H0580806 B2 JPH0580806 B2 JP H0580806B2
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- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/656—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing Co
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は薄膜堆積法によつて形成される磁気記
録媒体、特に耐食性の優れた磁気記録媒体に関す
るものである。
録媒体、特に耐食性の優れた磁気記録媒体に関す
るものである。
近年、真空蒸着法、スパツタリング法、メツキ
法等の薄膜堆積法により磁気記録媒体を製造する
研究開発が活発化している。これらの製法によつ
て作られた磁気記録媒体は残留磁束密度が高
い、保磁力を大きくできる。磁性層を薄くで
きる等の高密度記録化のための条件を非常によく
満足している。従来、この記録媒体の磁性材料と
しては、CoとNiを主成分とする合金が主に用い
られており、なかでもCo−20%Ni合金が多く検
討されている。その理由はこの合金が比較的耐食
性が良いこと、70wt%以上のCoを含む合金はh.
C.p.構造をもち磁場異方性をコントロールしやす
く面内異方性を卓越させることが容易であるため
といわれる。しかしながら、この合金はCoを70
%以上通常は80%前後も含んでいるために極めて
高価であり、しかもCoは国際情勢の変化により、
価格が大きく変動するという問題を有している。
また耐蝕性も厳しい環境条件に対しては不十分で
ある。
法等の薄膜堆積法により磁気記録媒体を製造する
研究開発が活発化している。これらの製法によつ
て作られた磁気記録媒体は残留磁束密度が高
い、保磁力を大きくできる。磁性層を薄くで
きる等の高密度記録化のための条件を非常によく
満足している。従来、この記録媒体の磁性材料と
しては、CoとNiを主成分とする合金が主に用い
られており、なかでもCo−20%Ni合金が多く検
討されている。その理由はこの合金が比較的耐食
性が良いこと、70wt%以上のCoを含む合金はh.
C.p.構造をもち磁場異方性をコントロールしやす
く面内異方性を卓越させることが容易であるため
といわれる。しかしながら、この合金はCoを70
%以上通常は80%前後も含んでいるために極めて
高価であり、しかもCoは国際情勢の変化により、
価格が大きく変動するという問題を有している。
また耐蝕性も厳しい環境条件に対しては不十分で
ある。
而して本発明は上記欠点を改善すべくCoの含
有量を少なくし、安価で安定供給が可能な磁気記
録媒体を提供すると共に、その磁気特性及び耐蝕
性においても優れた性能を有する磁気記録媒体を
提供することを主たる目的とする。
有量を少なくし、安価で安定供給が可能な磁気記
録媒体を提供すると共に、その磁気特性及び耐蝕
性においても優れた性能を有する磁気記録媒体を
提供することを主たる目的とする。
本発明は堆積法により形成される磁気記録媒体
において磁性層がFeを主成分とし、更にCoを15
〜40wt%、Niを8〜20wt%、Mn及びCuの少な
くとも一方の元素を2〜10wt%含むことを特徴
とするものであり、誘導加熱蒸着法、抵抗加熱蒸
着法、電子ビーム蒸着法、スパツタリング法、イ
オンブレーテイング法、メツキ法等を利用して形
成できるものである。磁性層材料としてCo元素
とFe元素の和が60wt%以上でFeが主成分となる
ように、Co元素をFe元素に置換することにより
磁気的特性は、従来のCo−Ni合金と同等以上の
ものが得られることが認められた。しかしながら
Co元素をFe元素で置換することにより耐蝕性が
劣化するが、Cu、Mn元素を単独又は両方同時に
添加することにより磁気特性を損うことなく耐蝕
性においても従来のCo−Ni合金と同等以上の改
善を図ることができた。
において磁性層がFeを主成分とし、更にCoを15
〜40wt%、Niを8〜20wt%、Mn及びCuの少な
くとも一方の元素を2〜10wt%含むことを特徴
とするものであり、誘導加熱蒸着法、抵抗加熱蒸
着法、電子ビーム蒸着法、スパツタリング法、イ
オンブレーテイング法、メツキ法等を利用して形
成できるものである。磁性層材料としてCo元素
とFe元素の和が60wt%以上でFeが主成分となる
ように、Co元素をFe元素に置換することにより
磁気的特性は、従来のCo−Ni合金と同等以上の
ものが得られることが認められた。しかしながら
Co元素をFe元素で置換することにより耐蝕性が
劣化するが、Cu、Mn元素を単独又は両方同時に
添加することにより磁気特性を損うことなく耐蝕
性においても従来のCo−Ni合金と同等以上の改
善を図ることができた。
本発明の磁気記録媒体についてさらに詳細に説
明する。
明する。
本発明に用いる磁性材料においてFe元素は原
子1個あたりの磁気モーメントを高めBr(残留磁
束密度)を増加させると同時に、展延性を増し磁
性層のワレ、ヒビの発生を防止する。一方前記し
た如くFe元素が増すと耐蝕性が急激に悪くなる
と同時に、残留磁束密度Brを増加させる効果は
むしろ低下する。また、Niは耐蝕性の効果及び
展延性を向上させ磁性層のワレやヒビの発生を防
止する。また、Mn及びCuは単独又は両方同時に
添加することにより、耐蝕性を向上させると共に
磁性層の耐摩耗性に有効であり、さらには磁性層
と磁性層の基材であるベースフイルム等への付着
強度の増大にも寄与する。ただし、添加量が多す
ぎるとBrが減少する等、磁性層の磁気特性を低
下させる。
子1個あたりの磁気モーメントを高めBr(残留磁
束密度)を増加させると同時に、展延性を増し磁
性層のワレ、ヒビの発生を防止する。一方前記し
た如くFe元素が増すと耐蝕性が急激に悪くなる
と同時に、残留磁束密度Brを増加させる効果は
むしろ低下する。また、Niは耐蝕性の効果及び
展延性を向上させ磁性層のワレやヒビの発生を防
止する。また、Mn及びCuは単独又は両方同時に
添加することにより、耐蝕性を向上させると共に
磁性層の耐摩耗性に有効であり、さらには磁性層
と磁性層の基材であるベースフイルム等への付着
強度の増大にも寄与する。ただし、添加量が多す
ぎるとBrが減少する等、磁性層の磁気特性を低
下させる。
以上の結果として良好な磁性層の組成は、
(Fe1-xCox)1−(a+b)NiaXb,X=Mnおよ
び/またはCuで重量組成比が0<x<0.5,0.05
<a<0.25および0.01<b<0.20の範囲のもので
あり、特にCuとMnが単独又は両方の合計で2〜
10wt%、Niが8〜20wt%、Coが15〜40wt%、
残りがFeとするものである。さらに最適な組成
はCuとMnが単独又は合計で2〜9wt%、Niが10
〜16wt%、Coが20〜30wt%、残りがFeの範囲に
ある。
(Fe1-xCox)1−(a+b)NiaXb,X=Mnおよ
び/またはCuで重量組成比が0<x<0.5,0.05
<a<0.25および0.01<b<0.20の範囲のもので
あり、特にCuとMnが単独又は両方の合計で2〜
10wt%、Niが8〜20wt%、Coが15〜40wt%、
残りがFeとするものである。さらに最適な組成
はCuとMnが単独又は合計で2〜9wt%、Niが10
〜16wt%、Coが20〜30wt%、残りがFeの範囲に
ある。
Cu及びMnは、磁性層の耐蝕性及び耐摩耗性を
向上させるが、Cu及びMnが単独又は両方の合計
で10wt%よりも多くなると残留磁束密度Brが減
少する等、磁性層の磁気特性を低下させる。ま
た、Cu及びMnが単独又は両方の合計で2wt%よ
りも少ないと耐蝕性及び耐摩耗性を向上させると
いう効果が十分に得られない。
向上させるが、Cu及びMnが単独又は両方の合計
で10wt%よりも多くなると残留磁束密度Brが減
少する等、磁性層の磁気特性を低下させる。ま
た、Cu及びMnが単独又は両方の合計で2wt%よ
りも少ないと耐蝕性及び耐摩耗性を向上させると
いう効果が十分に得られない。
Niは、磁性層の耐蝕性及び展延性を向上させ
るが、Niが20wt%よりも多くなると磁性層の磁
気特性を低下させる。またNiが8wt%よりも少な
いと耐蝕性及び展延性を向上させという効果が十
分に得られない。
るが、Niが20wt%よりも多くなると磁性層の磁
気特性を低下させる。またNiが8wt%よりも少な
いと耐蝕性及び展延性を向上させという効果が十
分に得られない。
Co及びFeは、磁性層の残留磁束密度Brを増加
させるが、Feを磁性層の主成分とすることによ
り、従来のCo−Ni合金と同等以上の磁気特性と
することができる。Coが40wt%よりも多くなる
と、Feが主成分とならなくなり磁気特性が低下
する。また、Coが15wt%よりも少なくなるとFe
の含有量が多くなるが耐蝕性が急激に悪くなる。
させるが、Feを磁性層の主成分とすることによ
り、従来のCo−Ni合金と同等以上の磁気特性と
することができる。Coが40wt%よりも多くなる
と、Feが主成分とならなくなり磁気特性が低下
する。また、Coが15wt%よりも少なくなるとFe
の含有量が多くなるが耐蝕性が急激に悪くなる。
以下実施例により本発明を説明する。
第1図は、磁気記録媒体の1つである蒸着テー
プの製造装置を示す。真空槽1内にフイルム巻出
し軸2、巻取り軸3、中間フリーローラ4、冷却
キヤン5、蒸着材料収納容器7、電子ビーム発生
源8が配置されている。幅100mm、厚さ15μmのポ
リエチレンテレフタレートのフイルム9はフイル
ム巻出軸2から中間フリーローラ4及び冷却キヤ
ン5を経てフイルム巻取り軸3に送られる。蒸着
材料6は蒸着材料収納容器7内へ入れられ冷却キ
ヤン5と対向して配置され、電子ビーム発生源8
からの電子ビームによつて加熱される。加熱され
た蒸着材料は蒸気流6′となり冷却キヤン5上の
フイルム9に付着して磁性層を形成するが、防着
板11によりフイルム9上に蒸着される蒸気流の
入射角が60〜90°に制限される。真空槽1内は排
気装置10により成膜中の真空度を1×10-4〜5
×10-6torrに保持した。フイルム送り速度は毎分
10mで、形成された磁性層の厚さはほぼ1000Åで
ある。
プの製造装置を示す。真空槽1内にフイルム巻出
し軸2、巻取り軸3、中間フリーローラ4、冷却
キヤン5、蒸着材料収納容器7、電子ビーム発生
源8が配置されている。幅100mm、厚さ15μmのポ
リエチレンテレフタレートのフイルム9はフイル
ム巻出軸2から中間フリーローラ4及び冷却キヤ
ン5を経てフイルム巻取り軸3に送られる。蒸着
材料6は蒸着材料収納容器7内へ入れられ冷却キ
ヤン5と対向して配置され、電子ビーム発生源8
からの電子ビームによつて加熱される。加熱され
た蒸着材料は蒸気流6′となり冷却キヤン5上の
フイルム9に付着して磁性層を形成するが、防着
板11によりフイルム9上に蒸着される蒸気流の
入射角が60〜90°に制限される。真空槽1内は排
気装置10により成膜中の真空度を1×10-4〜5
×10-6torrに保持した。フイルム送り速度は毎分
10mで、形成された磁性層の厚さはほぼ1000Åで
ある。
第2図に上記の方法により作製した蒸着テープ
の磁性層の組成と耐蝕性試験の結果を示す。耐蝕
性試験は、上記実施例に従つて作製されたテープ
を60℃、湿度90%の恒温恒湿槽内に1000時間放置
した後、テープの残留磁束密度Brの変化を測定
した。第2図において◎はBrの低下が5%未満、
○は5〜10%、×は10%以上を表す。
の磁性層の組成と耐蝕性試験の結果を示す。耐蝕
性試験は、上記実施例に従つて作製されたテープ
を60℃、湿度90%の恒温恒湿槽内に1000時間放置
した後、テープの残留磁束密度Brの変化を測定
した。第2図において◎はBrの低下が5%未満、
○は5〜10%、×は10%以上を表す。
第3図に家庭用VTRデツキを用い記録再生し
た時の再生出力を示す。本発明のテープNo.7の再
生出力は曲線20で、比較のため同一条件で作製
したCo−NiテープNo.8の再生出力が曲線21で
示されている。本発明テープの再生出力は従来テ
ープNo.8に比べ、同等ないし2dB高い。No.7のテ
ープの他、第2図中のNo.2、No.3、No.5、No.6の
組成のテープについてもCo−Niテープ以上の再
生出力が得られた。No.4のテープはCo−Niテー
プと同等の出力が得られかつ耐蝕性も優れている
が、Feを主成分とし材料コストを低げるという
本発明の効果が小さい。
た時の再生出力を示す。本発明のテープNo.7の再
生出力は曲線20で、比較のため同一条件で作製
したCo−NiテープNo.8の再生出力が曲線21で
示されている。本発明テープの再生出力は従来テ
ープNo.8に比べ、同等ないし2dB高い。No.7のテ
ープの他、第2図中のNo.2、No.3、No.5、No.6の
組成のテープについてもCo−Niテープ以上の再
生出力が得られた。No.4のテープはCo−Niテー
プと同等の出力が得られかつ耐蝕性も優れている
が、Feを主成分とし材料コストを低げるという
本発明の効果が小さい。
以上述べたように、本発明の磁気記録媒体は
Feを主成分とするために従来のCoが主成分のCo
−Ni合金系記録媒体に比べ非常に安価になるば
かりでなく、Mn,Cu元素を添加することにより
Feが主成分の媒体の欠点である腐蝕性を大巾に
改善し、Co−Ni系合金と同等、あるいはそれ以
上の再生出力、耐蝕性を有するものである。
Feを主成分とするために従来のCoが主成分のCo
−Ni合金系記録媒体に比べ非常に安価になるば
かりでなく、Mn,Cu元素を添加することにより
Feが主成分の媒体の欠点である腐蝕性を大巾に
改善し、Co−Ni系合金と同等、あるいはそれ以
上の再生出力、耐蝕性を有するものである。
第1図は、本実施例に用いた蒸着テープ作製装
置の説明図である。第2図は、磁性層の組成と耐
蝕性テストの結果の対比を示す表である。第3図
は、第2図のNo.7のテープとCo−Niテープの再
生出力の各周波数における比較を表わしたグラフ
である。 1……真空槽、2……フイルム巻出し軸、3…
…フイルム巻取り軸、4……中間フリーローラ、
5……冷却キヤン、6……蒸着材料、7……蒸着
材料収納容器、8……電子ビーム発生源、9……
ポリエチレンテレフタレートフイルム、10……
排気装置、11……防着板、20……本発明の実
施例の再生出力曲線、21……Co−Niの再生出
力曲線。
置の説明図である。第2図は、磁性層の組成と耐
蝕性テストの結果の対比を示す表である。第3図
は、第2図のNo.7のテープとCo−Niテープの再
生出力の各周波数における比較を表わしたグラフ
である。 1……真空槽、2……フイルム巻出し軸、3…
…フイルム巻取り軸、4……中間フリーローラ、
5……冷却キヤン、6……蒸着材料、7……蒸着
材料収納容器、8……電子ビーム発生源、9……
ポリエチレンテレフタレートフイルム、10……
排気装置、11……防着板、20……本発明の実
施例の再生出力曲線、21……Co−Niの再生出
力曲線。
Claims (1)
- 1 非磁性基体上に薄膜堆積法により形成された
磁性層を有する磁気記録媒体において、磁性層が
Feを主成分とし、更にCoを15〜40wt%、Niを8
〜20wt%、Mn及びCuの少なくとも一方の元素を
2〜10wt%含むことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58144111A JPS6034007A (ja) | 1983-08-06 | 1983-08-06 | 磁気記録媒体 |
US06/635,234 US4567116A (en) | 1983-08-06 | 1984-07-27 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58144111A JPS6034007A (ja) | 1983-08-06 | 1983-08-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6034007A JPS6034007A (ja) | 1985-02-21 |
JPH0580806B2 true JPH0580806B2 (ja) | 1993-11-10 |
Family
ID=15354437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58144111A Granted JPS6034007A (ja) | 1983-08-06 | 1983-08-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6034007A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5175503A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Suwa Seikosha Kk | Jikikirokutai |
JPS567231A (en) * | 1979-06-27 | 1981-01-24 | Ulvac Corp | Vapor deposition film type magnetic recording material and its production |
JPS5942642A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-08-06 JP JP58144111A patent/JPS6034007A/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5175503A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Suwa Seikosha Kk | Jikikirokutai |
JPS567231A (en) * | 1979-06-27 | 1981-01-24 | Ulvac Corp | Vapor deposition film type magnetic recording material and its production |
JPS5942642A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6034007A (ja) | 1985-02-21 |
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