JPH0579168B2 - - Google Patents

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JPH0579168B2
JPH0579168B2 JP10770086A JP10770086A JPH0579168B2 JP H0579168 B2 JPH0579168 B2 JP H0579168B2 JP 10770086 A JP10770086 A JP 10770086A JP 10770086 A JP10770086 A JP 10770086A JP H0579168 B2 JPH0579168 B2 JP H0579168B2
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JP
Japan
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sulfuric acid
tank
duct
air
waste liquid
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP10770086A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS62264633A (en
Inventor
Mitsuharu Wakasugi
Taketoshi Betsupu
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Yamato Scientific Co Ltd
Original Assignee
Yamato Scientific Co Ltd
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Publication date
Application filed by Yamato Scientific Co Ltd filed Critical Yamato Scientific Co Ltd
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Publication of JPS62264633A publication Critical patent/JPS62264633A/en
Publication of JPH0579168B2 publication Critical patent/JPH0579168B2/ja
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  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体(I.C)のパツケージに溶解
液を噴射してチツプを露出させるオープナー装置
において、送風ダクト内の排液を取除く排液取出
装置に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to an opener device that injects a solution into a semiconductor (IC) package to expose the chip, and a drain extraction method that removes drain liquid in a ventilation duct. It is related to the device.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、半導体(I.C)の不良解析時、又は品質
チエツクを行なう際に、半導体のパツケージに溶
解液、例えば加熱した熱硫酸を当ててチツプを露
出させる手段がとられていた。
Conventionally, when analyzing semiconductor (IC) failures or performing quality checks, a method has been used to expose the chip by applying a dissolving solution, such as heated hot sulfuric acid, to the semiconductor package.

半導体のパツケージは作業テーブルのセツト部
に載置され、噴射ノズルより噴射された熱硫酸が
前記パツケージに当るようになつている。
A semiconductor package is placed on a set portion of a work table so that hot sulfuric acid sprayed from a spray nozzle hits the package.

半導体のチツプが露出し、仕事を終えた排液は
排液冷却部で冷却された後、排液貯留タンク部へ
送り出される構造となつている。
The semiconductor chip is exposed, and the waste liquid that has finished its work is cooled in the waste liquid cooling section and then sent to the waste liquid storage tank.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

前記した如くオープナー装置は、チツプを露出
させる溶解液として沸点近く約290℃まで加熱し
た熱硫酸を使用する所から仕事を終えた熱硫酸は
排液例部で約100℃前後まで冷却された後、排液
貯留タンク部へ送り出される。
As mentioned above, the opener device uses hot sulfuric acid heated to about 290℃, near its boiling point, as the dissolving solution to expose the chip.After the hot sulfuric acid has finished its work, it is cooled to about 100℃ in the drain section. , is sent to the wastewater storage tank section.

排液貯留タンク部内の熱硫酸は約100℃前後の
温度があり、蒸気が発生する所から該蒸気を送風
ダクトへ誘導するようになつている。送風ダクト
内に誘導された蒸気は冷気によつて凝固して送風
ダクトの底に溜まる恐れがあり、ダクトの底に溜
まつた液体は硫酸のため処理が大変面倒であつ
た。
The temperature of the hot sulfuric acid in the waste liquid storage tank is around 100°C, and the steam is guided from the place where it is generated to the ventilation duct. There is a risk that the vapor guided into the air duct will solidify due to the cold air and accumulate at the bottom of the air duct, and the liquid that has accumulated at the bottom of the duct is sulfuric acid, making it very troublesome to dispose of it.

そこで、この発明は送風ダクト内に溜る硫酸の
処理が安全かつ、容易に行なえるようにすること
を目的としている。
Therefore, it is an object of the present invention to make it possible to safely and easily dispose of the sulfuric acid accumulated in the ventilation duct.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

前記目的を達成するためにこの発明にあつて
は、送風ダクト内に設けられた半導体開口部で仕
事を終えた排液を該ダクト内を通る冷却風によつ
て冷却する冷却トラツプと、冷却トラツプ内の排
液を一時溜めておく排液貯留タンク部とを備えた
オープナー装置において、前記送風ダクト内に、
該ダクトの底部近接部位に取入口が臨む第1、第
2接続部を備えた排液取出管を設けると共に第1
接続部をエアポンプの吐出口に、第2接続部に排
液貯留タンク部にそれぞれ接続連通させてある。
In order to achieve the above object, the present invention provides a cooling trap that cools the waste liquid that has finished its work in a semiconductor opening provided in a blower duct by cooling air passing through the duct, and a cooling trap. In the opener device, the opener device is equipped with a drainage liquid storage tank section for temporarily storing the drainage liquid inside the air duct,
A drain outlet pipe is provided near the bottom of the duct and has a first and a second connection portion with an intake port facing the drain outlet pipe.
The connecting portion is connected to the discharge port of the air pump, and the second connecting portion is connected to the drain liquid storage tank portion.

〔作用〕[Effect]

かかるオープナー装置におして、送風ダクト内
で凝固して溜つた硫酸は、排液取出管の取入口よ
り取入れられる。取入口より取入られた硫酸はエ
アポンプから吐出されるエアによて排液貯留タン
ク部へ順次送り出され、送風ダクト内に溜る排液
の処理が安全、かつ容易に行なえるようになる。
In such an opener device, the sulfuric acid that has solidified and accumulated in the ventilation duct is taken in through the intake port of the drain pipe. The sulfuric acid taken in from the intake port is sequentially sent out to the waste liquid storage tank section by air discharged from the air pump, making it possible to safely and easily dispose of the waste liquid accumulated in the ventilation duct.

〔実施例〕〔Example〕

以下、第1図と第2図の図面を参照しながらこ
の発明の一実施例を詳細に説明する。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings of FIGS. 1 and 2.

第1図は装置全体の概要図を示しており、該装
置は、貯蔵タンク部1と、予熱ヒータ部3と、半
導体開口部5と、排液冷却部7と、排液貯留タン
ク部9とを備えており、これらは機体内に配置さ
れている。
FIG. 1 shows a schematic diagram of the entire device, which includes a storage tank section 1, a preheater section 3, a semiconductor opening section 5, a drain cooling section 7, and a drain reservoir tank section 9. These are located inside the aircraft.

貯蔵タンク部1のタンク本体11は耐酸性の合
成樹脂材で形成され、上部に常時閉状態の第1電
磁弁13が設けられている。また、タンク本体1
1は常時閉状態の第2電磁弁16を介して予熱ヒ
ータ部3のヒータタンク17と連通し、ヒータタ
ンク17は前記タンク本体11より低い位置に配
置されている。これにより、タンク本体11内の
硫酸が落差でヒータタンク17内に折り込まれる
ようになつている。
A tank body 11 of the storage tank section 1 is made of an acid-resistant synthetic resin material, and a first electromagnetic valve 13 that is normally closed is provided at the top. In addition, tank body 1
1 communicates with a heater tank 17 of the preheating heater section 3 via a second solenoid valve 16 which is normally closed, and the heater tank 17 is arranged at a lower position than the tank body 11. Thereby, the sulfuric acid in the tank body 11 is folded into the heater tank 17 by the drop.

ヒータタンク17は後述するエアーポンプ25
からの空気圧(エア圧)が作用することでタンク
17内の硫酸が強制的に送り出されるもので、該
タンク17には温度セサ19によつてタンク17
内の硫酸が約250℃に管理制御されるニクロム線
等の熱源部21が設けられている。
The heater tank 17 is an air pump 25 which will be described later.
The sulfuric acid in the tank 17 is forcibly sent out by the action of air pressure from the tank 17.
A heat source section 21 such as a nichrome wire is provided in which the sulfuric acid contained therein is managed and controlled at about 250°C.

第1、第2電磁弁13,15はヒータタンク1
7内に設けられた硫酸の有無を検知する液面セン
サ23によつて開閉自在に制御され、ヒータタン
ク17内の硫酸が空になつたことを前記液面セン
サ23が検知すると開となる。これにより、タン
ク本体11は大気に開放される一方、タンク本体
11内の硫酸が落差でヒータタンク17内に流れ
込むようになる。
The first and second solenoid valves 13 and 15 are the heater tank 1
It is controlled to open and close freely by a liquid level sensor 23 provided in the heater tank 17 that detects the presence or absence of sulfuric acid, and opens when the liquid level sensor 23 detects that the sulfuric acid in the heater tank 17 is empty. As a result, the tank body 11 is opened to the atmosphere, while the sulfuric acid in the tank body 11 flows into the heater tank 17 by a drop.

エアーポンプ25は所望の駆動手段によつて駆
動され、該ポンプ25の吐出側に第3、第4、第
4電磁弁27,29,30が直列に設けられてい
る。
The air pump 25 is driven by a desired driving means, and third, fourth, and fourth electromagnetic valves 27, 29, and 30 are provided in series on the discharge side of the air pump 25.

第3、第4、第5電磁弁27,29,30は取
入口となるポートPの外にノーマルクローズのポ
ートP1とノーマルオープンのポートP2を有し第
5電磁弁30のポートP2はエア管31と連通し
ポートP1はヒータタンク17と連通している。
また、第5電磁弁30は半導体開口部5の液面セ
ンサ45からの空の信号で切換え制御される。
The third, fourth, and fifth solenoid valves 27, 29, and 30 have a normally closed port P1 and a normally open port P2 in addition to the intake port P, and the fifth solenoid valve 30 has a port P2. communicates with the air pipe 31, and port P1 communicates with the heater tank 17.
Further, the fifth solenoid valve 30 is switched and controlled by an empty signal from the liquid level sensor 45 of the semiconductor opening 5.

なお、エアー管31には後述する溶解槽41内
の蒸気を排液貯留タンク部9へ逃がす常時開の第
7電磁弁53と、前記第5電磁弁30のポート
P2と連通のエアー取入口37と、エアー管31
内で凝固した硫酸を溶解槽41へ戻すバイパス通
路33が設けられている。
The air pipe 31 includes a normally open seventh solenoid valve 53 that releases steam in the dissolution tank 41 to the waste liquid storage tank section 9, which will be described later, and a port for the fifth solenoid valve 30.
Air intake port 37 communicating with P 2 and air pipe 31
A bypass passage 33 is provided for returning the sulfuric acid solidified therein to the dissolution tank 41.

第4電磁弁29は後述する電極センサ49から
の指令信号によつて切換制御され、ポートPは第
3電磁弁27のポートP2と連通し、ポートP1
前記第5電磁弁30のポートPと連通している。
また、第4電磁弁29のポートP2は後述する排
液取出管77を連通している。
The fourth solenoid valve 29 is switched and controlled by a command signal from an electrode sensor 49, which will be described later, the port P communicates with the port P2 of the third solenoid valve 27, and the port P1 communicates with the port of the fifth solenoid valve 30. It communicates with P.
Further, the port P2 of the fourth electromagnetic valve 29 communicates with a drain liquid extraction pipe 77, which will be described later.

第3電磁弁27はフード61の「開」で切換制
御される。
The third solenoid valve 27 is switched and controlled when the hood 61 is opened.

フード61はヒンジを支点として開閉可能で閉
時において半導体開口部5の作業台39をカバー
するようになると共に該フード61の「開」時に
おいて、オンとなる検知スイツチ69が機体に設
けられている。
The hood 61 can be opened and closed using a hinge as a fulcrum, and when it is closed, it covers the workbench 39 of the semiconductor opening 5, and a detection switch 69 that is turned on when the hood 61 is "open" is provided on the machine body. There is.

検知スイツチ69は、第3電磁弁27を切換制
御する。これにより、ポートP1とP2は切換わり
エアーポンプ25からのエアーがアスピレータ6
3のノズル67に流れフード61の開時におい
て、作業台39の内部に溜つた硫酸の蒸気を吸引
し作業者が蒸気を吸うのを防いでいる。
The detection switch 69 switches and controls the third solenoid valve 27 . As a result, ports P 1 and P 2 are switched and air from the air pump 25 is routed to the aspirator 6.
When the hood 61 is opened, the sulfuric acid vapor accumulated inside the workbench 39 is sucked out to prevent the worker from inhaling the vapor.

ヒータタンク17に設けられた第6電磁弁38
は常時は開で、ヒータタンク17内の蒸気を排液
貯留タンク部9へ逃がすよう機能すると共に温度
センサ19及び後述する液面センサ45の信号で
閉に制御される。これにより空気圧がヒータタン
ク17内に作用するようになる。
Sixth solenoid valve 38 provided in heater tank 17
is normally open and functions to release steam in the heater tank 17 to the waste liquid storage tank section 9, and is controlled to be closed by signals from the temperature sensor 19 and a liquid level sensor 45, which will be described later. This causes air pressure to act within the heater tank 17.

なお、前記温度センサ19は硫酸が約250℃以
下の場合はスタツトスイツチを作動してもスタツ
トの指令信号が出力するのを押える機能を備えて
いる。
The temperature sensor 19 has a function of suppressing the output of the stat command signal even if the stat switch is activated when the temperature of the sulfuric acid is about 250° C. or lower.

半導体開口部5は、DIPタイプの半導体Wをセ
ツトする作業台39と、該作業台39の下位に配
置された溶解槽41と、前記半導体Wのパツケー
ジに硫酸を噴射するポンプ43とから成り、溶解
槽41は前記ヒータタンク17と連通している。
The semiconductor opening 5 consists of a workbench 39 on which a DIP type semiconductor W is set, a dissolution tank 41 disposed below the workbench 39, and a pump 43 that injects sulfuric acid into the package of the semiconductor W. The dissolution tank 41 communicates with the heater tank 17 .

溶解槽41には前記した液面センサ45と、電
極センサ49の外に温度センサ47がそれぞれ設
けられている。液面センサ45は溶解槽41内の
硫酸の有無を検出する。
The dissolution tank 41 is provided with the above-mentioned liquid level sensor 45 and a temperature sensor 47 outside the electrode sensor 49, respectively. The liquid level sensor 45 detects the presence or absence of sulfuric acid in the dissolution tank 41.

温度センサ47は溶解槽41内の硫酸の温度を
約290℃前後にニクロム線等の熱源部51を管理
制御する機能を有し、約290℃に達したことを検
知するとポンプ43をオンに駆動する。また、電
極センサ49は、半導体Wのパツケージが溶解し
て内部のチツプが露出した特に硫酸を介して流れ
る電流を検知し、検出後に作動するタイマーによ
り一定時間経過後ポンプ43の駆動を停止する一
方、第4電磁弁29を切換制御し、かつ、常時開
の第6電磁弁53を閉とする。これにより、溶解
槽41にはエアー管31を介して空気圧が作用す
る。なお、電極センサ49と半導体Wのチツプ端
子は該半導体Wを保持するホルダー57と電気的
に接続し硫酸を介して電気回路が形成されるよう
になつている。
The temperature sensor 47 has a function of controlling the heat source 51 such as a nichrome wire to maintain the temperature of the sulfuric acid in the melting tank 41 at around 290°C, and when it detects that the temperature of the sulfuric acid in the melting tank 41 has reached about 290°C, it turns on the pump 43. do. Further, the electrode sensor 49 detects the current flowing through the sulfuric acid when the package of the semiconductor W is melted and the internal chip is exposed, and stops driving the pump 43 after a certain period of time by a timer activated after detection. , controls switching of the fourth solenoid valve 29, and closes the normally open sixth solenoid valve 53. As a result, air pressure acts on the dissolution tank 41 via the air pipe 31. The electrode sensor 49 and the chip terminal of the semiconductor W are electrically connected to a holder 57 that holds the semiconductor W, so that an electric circuit is formed via sulfuric acid.

排液冷却部7は前記溶解槽41と連通する冷却
トラツプ71と該トラツプ71に冷却風を送風す
る冷却フアン73とから成り、冷却トラツプ71
は前記冷却フアン73を備えて送風ダクト75内
に設けられている。送風ダクト75内に冷却風が
流れることでトラツプ71内の排液は約100℃前
後まで冷却されるようになる。
The waste liquid cooling section 7 consists of a cooling trap 71 communicating with the dissolving tank 41 and a cooling fan 73 blowing cooling air to the trap 71.
is equipped with the cooling fan 73 and is provided inside the ventilation duct 75. As the cooling air flows through the blower duct 75, the liquid in the trap 71 is cooled down to about 100°C.

送風ダクト75内には排液取出管77が設けら
れると共に取入口79が送風ダクト79の底部近
接部位に臨んでいる。
A drain pipe 77 is provided inside the blower duct 75, and an intake port 79 faces a portion near the bottom of the blower duct 79.

排液取出管77の第1接続部81は第4電磁弁
29のポートP2と接続連通し、第2接続部83
は排液貯留タンク部9のタンク85とそれぞれ接
続連通している。
The first connection part 81 of the drain liquid extraction pipe 77 is connected and communicated with the port P 2 of the fourth solenoid valve 29, and the second connection part 83
are connected and communicated with the tank 85 of the drain liquid storage tank section 9, respectively.

排液貯留タンク部9のタンク部85は前記冷却
トラツプ71と連通しフツ素樹脂(テフロン)の
合成樹脂材で形成され、タンク部85に設けられ
た一対の液面センサ87が液面に触れることで排
液を介して電流が流れ、満杯になつたことがわか
るようになつている。これにより、スタートスイ
ツチをオンとしても機能停止状態のままとなる。
A tank section 85 of the drained liquid storage tank section 9 communicates with the cooling trap 71 and is made of a synthetic resin material such as fluororesin (Teflon), and a pair of liquid level sensors 87 provided in the tank section 85 touch the liquid surface. This causes an electric current to flow through the drain, letting you know when it's full. As a result, even if the start switch is turned on, the function remains in a stopped state.

なお、満杯になつたタンク部85は蛇腹89に
対し離脱自在で、新しいタンク部と交換可能とな
つている。
Note that the full tank section 85 can be detached from the bellows 89 and replaced with a new tank section.

このように構成されたオープナー装置におい
て、半導体開口部5で仕事を終えた熱硫酸は第4
電磁弁29のポートP1の開でエアー管31にエ
アーが流れる。こにより、溶解槽41内の熱硫酸
は空気圧で冷却トラツプ71に送り出され、該ト
ラツプ71で約100℃前後まで冷却された後、排
液貯留タンク部9のタンク85内へ送り出され
る。
In the opener device constructed in this way, the hot sulfuric acid that has finished its work in the semiconductor opening 5 is transferred to the fourth
Air flows into the air pipe 31 when the port P 1 of the solenoid valve 29 is opened. As a result, the hot sulfuric acid in the dissolution tank 41 is sent to the cooling trap 71 by air pressure, and after being cooled down to about 100° C. in the trap 71, it is sent into the tank 85 of the waste liquid storage tank section 9.

排液貯留タンク部9のタンク85より発生した
蒸気は送風ダクト内に送られるが、この時、凝固
した硫酸は送風ダクト75の底部に時間と共に溜
まるようになる。
The steam generated from the tank 85 of the waste liquid storage tank section 9 is sent into the ventilation duct, but at this time, solidified sulfuric acid accumulates at the bottom of the ventilation duct 75 over time.

送風ダクト75の底部に溜つた硫酸が一定量に
達すると排液取出管77の取入口79より流入す
る。
When the sulfuric acid accumulated at the bottom of the ventilation duct 75 reaches a certain amount, it flows through the intake port 79 of the drain pipe 77.

この時、第4電磁弁29を介してポンプ25の
エアーが排液取出管77内に送り込まれると、取
入口79より流入した熱硫酸は粘性があるため多
数の気泡が発生する。この気泡は順次送り込まれ
るエアーによつて成長し上昇へ押し上げられてい
く。以下、気泡の発生によつて排液取出管77内
の熱硫酸は排液貯留タンク部9へ送り出され常に
取入口79の位置まで排出処理される。
At this time, when air from the pump 25 is sent into the drain pipe 77 via the fourth electromagnetic valve 29, many bubbles are generated because the hot sulfuric acid flowing in from the intake port 79 is viscous. These bubbles grow and are pushed upward by the air that is successively introduced. Thereafter, due to the generation of bubbles, the hot sulfuric acid in the drain liquid take-out pipe 77 is sent to the drain liquid storage tank section 9 and is constantly discharged to the position of the intake port 79.

この場合、排液取出管77の第1接続部81側
に圧力調整口90を設け、この調整口90の調整
によつて気泡ができる最適な圧力状態に設定する
ことで良り効率のよい硫酸の取出しが可能とな
る。
In this case, a pressure adjustment port 90 is provided on the first connection portion 81 side of the drain liquid extraction pipe 77, and by adjusting this adjustment port 90, the pressure can be set to the optimum pressure state where air bubbles can be generated. can be taken out.

なお、排液取出管77は第2図に示す如く排液
取出管本対91に取入口79を有する導管93と
第1接続部81へ続くノズル95を設け、該ノズ
ル95から噴き出されるエアによつて本体91内
の負圧部97が作られるようにし、該負圧によつ
て排液を吸い出すアスピレータとすることも可能
である。この場合、第2接続部83は排液貯留タ
ンク部9と接続連通し第1接続部81は第4電磁
弁29を介してポンプ25の吐出口と接続連通す
るようになる。
As shown in FIG. 2, the drain pipe 77 is provided with a conduit 93 having an intake port 79 in the main pair 91 of the drain pipe and a nozzle 95 that continues to the first connecting part 81. It is also possible to create a negative pressure section 97 inside the main body 91 by using the negative pressure, and to use the negative pressure as an aspirator to suck out the drained liquid. In this case, the second connecting portion 83 is connected and communicated with the drain liquid storage tank portion 9, and the first connecting portion 81 is connected and communicated with the discharge port of the pump 25 via the fourth electromagnetic valve 29.

これにより、送風ダクト75内の排液は導管9
3を介して本体91内に吸い上げられた後、排液
貯留タンク部9へ確実に送り出されるようにな
る。
As a result, the liquid in the ventilation duct 75 is drained from the conduit 9.
After being sucked up into the main body 91 through the waste liquid storage tank 9, the waste liquid is reliably sent to the waste liquid storage tank section 9.

なお、ポンプ25は排液処理用のものを利用し
ているためコストの低減が図れると共にレイアウ
トの面でも好しいものとなる。
Incidentally, since the pump 25 is used for treating waste liquid, the cost can be reduced and the layout is also favorable.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上、説明したようにこの発明によれば、硫酸
の蒸気が凝固して送風ダクト内に溜ると排液取出
管によつて容易に取出すことができるようにな
り、硫酸の処理が安全に行なえるようになる。
As explained above, according to the present invention, when sulfuric acid vapor solidifies and accumulates in the ventilation duct, it can be easily taken out through the drain pipe, making it possible to safely process sulfuric acid. It becomes like this.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はオープナー装置の全体の概要説明図、
第2図は排液取出装置の切断面図、第3図は排液
取出装置の別の実施例を示した第2図と同様の切
断面図である。 主な図面符号の説明、5……半導体開口部、9
……排液貯留タンク部、25……ポンプ、71…
…冷却トラツプ、75……送風ダクト、77……
排液取出管、79……取入口、81,83……第
1・第2接続部。
Figure 1 is an overall schematic explanatory diagram of the opener device;
FIG. 2 is a sectional view of the drain fluid extraction device, and FIG. 3 is a sectional view similar to FIG. 2, showing another embodiment of the drainage fluid extraction device. Explanation of main drawing symbols, 5...Semiconductor opening, 9
... Drainage storage tank section, 25 ... Pump, 71 ...
...Cooling trap, 75...Blower duct, 77...
Drainage outlet pipe, 79...intake port, 81, 83...first and second connection parts.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 送風ダクト内に設けられ半導体開口部で仕事
を終えた排液を該ダクト内を通る冷却風によつて
冷却する冷却トラツプと、冷却トラツプ内の排液
を一時溜めておく排液貯留タンク部とを備えたオ
ープナー装置において、前記送風ダクト内に、該
ダクトの底部近接部位に取入口が臨む第1、第2
接続部を備えた排液取出管を設けると共に第1接
続部をエアポンプの吐出口に、第2接続部に排液
貯留タンク部にそれぞれ接続連通させたことを特
徴とするオープナー装置の送風ダクト内の排液取
出装置。
1 A cooling trap provided in the ventilation duct that cools the waste liquid that has finished its work at the semiconductor opening by cooling air passing through the duct, and a waste liquid storage tank that temporarily stores the waste liquid in the cooling trap. In the opener device, the air blower duct includes first and second intake ports, each of which has an intake port facing a portion near the bottom of the duct.
Inside a blower duct of an opener device, characterized in that a drain outlet pipe is provided with a connecting portion, and the first connecting portion is connected to a discharge port of an air pump, and the second connecting portion is connected to a drain fluid storage tank portion. drainage extraction device.
JP10770086A 1986-05-13 1986-05-13 Drainage takeoff device in blast duct of opener Granted JPS62264633A (en)

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