JPH0416434Y2 - - Google Patents
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Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この考案は半導体のパツケージに溶解液を噴射
してチツプを露出させる半導体のオープナー装置
に関するものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] This invention relates to a semiconductor opener device that sprays a dissolving liquid onto a semiconductor package to expose the chip.
[従来の技術]
従来、半導体(I,C)の不良解析時、又は品
質チエツクを行なう際に、半導体のパツケージに
溶解液、例えば加熱した熱硫酸を当ててチツプを
露出させる手段がとられている。[Prior Art] Conventionally, when analyzing failures of semiconductors (I, C) or performing quality checks, methods have been used to expose the chips by applying a dissolving solution, such as heated hot sulfuric acid, to the semiconductor package. There is.
半導体のパツケージは作業台のセツト部に載置
され、噴射ノズルより噴射された熱硫酸が前記パ
ツケージに当るようになつている。 A semiconductor package is placed on a set portion of a workbench so that hot sulfuric acid sprayed from a spray nozzle hits the package.
熱硫酸が噴射されている作動時において、作業
台はフードによつてカバーされた構造となつてい
る。 During operation when hot sulfuric acid is being injected, the workbench is covered by a hood.
[考案が解決しようとする問題点]
前記した如くオープナー装置は、チツプを露出
させる溶解液として沸点近くまで加熱した熱硫酸
を使用する所から作業中は半導体開口部の溶解槽
内に多数の蒸気が発生する。発生した蒸気は作業
終了後、フードを開けて作業台より半導体を取外
す時に作業台から逃げるようになり、その蒸気を
作業者が吸い込む恐れがあつた。このため作業者
の健康管理面においてのぞましくなかつた。[Problems to be solved by the invention] As mentioned above, the opener device uses hot sulfuric acid heated to near the boiling point as a dissolving solution to expose the chip, and during operation, a large amount of steam is generated in the dissolving tank of the semiconductor opening. occurs. The generated steam would escape from the workbench when the hood was opened and the semiconductor was removed from the workbench after the work was completed, and there was a risk that the worker would inhale the steam. For this reason, it was not desirable in terms of health management of workers.
そこで、この考案は半導体の交換時に作業者が
蒸気を吸うことがないようにした半導体のオープ
ナー装置を提供することを目的としている。 Therefore, the object of this invention is to provide a semiconductor opener device that prevents workers from inhaling vapor when replacing semiconductors.
[問題点を解決するための手段]
前記目的を達成するために、この考案にあつて
は、開閉可能なフードによつて作業台がカバーさ
れる半導体開口部を備えたオープナー装置におい
て、前記作業台に、該半導体開口部で発生した蒸
気を外部へ誘導する蒸気抜き管を設け、該蒸気抜
き管に、前記フードの「開」でオンとなる吸引装
置を接続してある。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, this invention provides an opener device having a semiconductor opening in which a workbench is covered by a hood that can be opened and closed. The stand is provided with a steam vent pipe for guiding the steam generated in the semiconductor opening to the outside, and a suction device that is turned on when the hood is opened is connected to the steam vent pipe.
[作用]
かかるオープナー装置において、作業終了後に
フードを開とすると吸引装置が働き蒸気は蒸気抜
き管によつて外部へ誘導される。このため、作業
台より半導体を取外す時に作業者が蒸気を吸い込
む恐れがなくなる。[Function] In such an opener device, when the hood is opened after work is completed, the suction device is activated and steam is guided to the outside through the steam vent pipe. Therefore, there is no fear that the worker will inhale steam when removing the semiconductor from the workbench.
[実施例]
以下、第1図乃至第3図の図面を参照しながら
この考案の一実施例を詳細に説明する。[Embodiment] Hereinafter, an embodiment of this invention will be described in detail with reference to the drawings of FIGS. 1 to 3.
第1図は装置全体の概略図を示しており、該装
置は、貯蔵タンク部1と、予熱ヒータ部3と、半
導体開口部5と、排液冷却部7と、排液貯留タン
ク部9とを備えており、これらは機体内に配置さ
れている。 FIG. 1 shows a schematic diagram of the entire device, which includes a storage tank section 1, a preheater section 3, a semiconductor opening section 5, a waste liquid cooling section 7, and a waste liquid storage tank section 9. These are located inside the aircraft.
貯蔵タンク部1のタンク本体11は耐酸性の合
成樹脂材で形成され、上部に常時閉状態の第1電
磁弁13が設けられている。また、タンク本体1
1は常時閉状態の第2電磁弁15を介して予熱ヒ
ータ部3のヒータタンク17と連通し、ヒータタ
ンク17は前記タンク本体11より低い位置に配
置されている。これにより、タンク本体11内の
硫酸が落差でヒータタンク17内に送り込まれる
ようになつている。 A tank body 11 of the storage tank section 1 is made of an acid-resistant synthetic resin material, and a first electromagnetic valve 13 that is normally closed is provided at the top. In addition, tank body 1
1 communicates with a heater tank 17 of the preheating heater section 3 via a second electromagnetic valve 15 which is normally closed, and the heater tank 17 is arranged at a lower position than the tank body 11. Thereby, the sulfuric acid in the tank body 11 is sent into the heater tank 17 by a drop.
ヒータタンク17は後述するエアーポンプ25
からの空気圧(エア圧)が作用することでタンク
17内の硫酸が強制的に送り出されるもので、該
タンク17には温度センサ19によつてタンク1
7内の硫酸が約250℃に管理制御されるニクロム
線等の熱源部21が設けられている。 The heater tank 17 is connected to an air pump 25 which will be described later.
The sulfuric acid in the tank 17 is forcibly sent out by the action of air pressure from the tank 17.
A heat source section 21 such as a nichrome wire is provided in which the sulfuric acid contained in the sulfuric acid 7 is controlled to be about 250.degree.
第1、第2電磁弁13,15はヒータタンク1
7内に設けられた硫酸の有無を検知する液面セン
サ23によつて開閉自在に制御され、ヒータタン
ク17内の硫酸が空になつたことを前記液面セン
サ23が検知すると開になる。これにより、タン
ク本体11は大気に解放される一方、タンク本体
11内の硫酸が落差でヒータタンク17内に流れ
込むようになる。 The first and second solenoid valves 13 and 15 are the heater tank 1
It is controlled to open and close freely by a liquid level sensor 23 provided in the heater tank 17 that detects the presence or absence of sulfuric acid, and opens when the liquid level sensor 23 detects that the sulfuric acid in the heater tank 17 is empty. As a result, the tank body 11 is released to the atmosphere, while the sulfuric acid in the tank body 11 flows into the heater tank 17 by a drop.
エアーポンプ25は所望の駆動手段によつて駆
動され、該ポンプ25の吐出側に第3、第4、第
5電磁弁27,29,30が直列に設けられてい
る。 The air pump 25 is driven by a desired driving means, and third, fourth, and fifth electromagnetic valves 27, 29, and 30 are provided in series on the discharge side of the air pump 25.
第3、第4、第5電磁弁27,29,30は取
入口となるポートPの外にノーマルクローズのポ
ートP1とノーマルオープンのポートP2を有する
3方弁となつていて第5電磁弁30のポートP2
はエア管31と連通しポートP1は遊んでいる。 The third, fourth, and fifth solenoid valves 27, 29, and 30 are three-way valves that have a normally closed port P1 and a normally open port P2 in addition to the intake port P. Port P2 of valve 30
is in communication with the air pipe 31, and port P1 is idle.
なお、エア管31には後述する溶解槽41内の
蒸気を排液貯留タンク部9へ逃がす常時開の第7
電磁弁53と、前記第5電磁弁30のポートP2
と連通のエア取入口37と、凝縮した硫酸を溶解
槽41へ戻すバイパス通路55が設けられてい
る。 In addition, the air pipe 31 has a normally open seventh pipe that releases the steam in the dissolution tank 41 to the waste liquid storage tank section 9, which will be described later.
Solenoid valve 53 and port P 2 of the fifth solenoid valve 30
An air intake port 37 communicating with the dissolving tank 41 and a bypass passage 55 for returning condensed sulfuric acid to the dissolution tank 41 are provided.
第4電磁弁29は後述する電極センサ49から
の指令信号によつて切換制御され、ポートPは第
3電磁弁27のポートP2と連通し、ポートP1は
前記第5電磁弁30のポートPと連通している。
また、第4電磁弁29のポートP2はヒータタン
ク17と連通している。 The fourth solenoid valve 29 is switched and controlled by a command signal from an electrode sensor 49, which will be described later, the port P communicates with the port P2 of the third solenoid valve 27, and the port P1 communicates with the port of the fifth solenoid valve 30. It communicates with P.
Further, port P 2 of the fourth solenoid valve 29 communicates with the heater tank 17 .
第3電磁弁27は後述するフード61の「開」
で切換制御される。ヒータタンク17に設けられ
た第6電磁弁38は常時は開で、ヒータタンク1
7内の蒸気を排液貯留センサ部9へ逃がすよう機
能すると共に温度センサ19及び後述する液面セ
ンサ45の信号で閉に制御される。これにより空
気圧がヒータタンク17内に作用するようにな
る。 The third solenoid valve 27 is used to open the hood 61, which will be described later.
Switching is controlled by . The sixth solenoid valve 38 provided in the heater tank 17 is normally open and
It functions to release the steam in the liquid storage sensor section 7 to the waste liquid storage sensor section 9, and is controlled to be closed by signals from the temperature sensor 19 and a liquid level sensor 45, which will be described later. This causes air pressure to act within the heater tank 17.
なお、前記温度センサ19は硫酸が約250℃以
下の場合はスタートスイツチを作動してもスター
トの指令信号が出力するのを押える機能を備えて
いる。 The temperature sensor 19 has a function of suppressing the output of a start command signal even if the start switch is operated when the temperature of the sulfuric acid is about 250° C. or lower.
一方、半導体開口部5は、DIPタイプの半導体
Wをセツトする作業台39と、該作業台39の下
位に配置された溶解液41と、前記半導体Wのパ
ツケージに硫酸を噴射するポンプ43とから成
り、溶解槽41は前記ヒータタンク17と連通し
ている。 On the other hand, the semiconductor opening 5 is connected to a workbench 39 on which a DIP type semiconductor W is set, a solution 41 disposed below the workbench 39, and a pump 43 that injects sulfuric acid into the package of the semiconductor W. The dissolution tank 41 is in communication with the heater tank 17.
溶解槽41には液面センサ45と、温度センサ
47と電極センサ49がそれぞれ設けられてい
る。液面センサ45は溶解槽41内の硫酸の有無
を検知する。 The dissolution tank 41 is provided with a liquid level sensor 45, a temperature sensor 47, and an electrode sensor 49, respectively. The liquid level sensor 45 detects the presence or absence of sulfuric acid in the dissolution tank 41.
温度センサ47は溶解槽41内の硫酸の温度を
約290℃前後にニクロム線等の熱源部51を管理
制御する機能を有し、約290℃に達したことを検
知するとポンプ43をオンに駆動する。また、電
極センサ49は、半導体Wのパツケージが溶解し
て内部のチツプが露出した時に硫酸を介して流れ
る電流を検知し、検知後に作動するタイマーによ
り一定時間経過後ポンプ43の駆動を停止する一
方、第4電磁弁29を切換制御し、かつ、常時開
の第7電磁弁53を閉とする。これにより、溶解
槽41には空気圧が作用する。なお、電極センサ
49と半導体Wのチツプ端子は該半導体Wを保持
するホルダー57と電気的に接続し硫酸を介して
電気回路が形成されるようになる。 The temperature sensor 47 has a function of controlling the heat source 51 such as a nichrome wire to maintain the temperature of the sulfuric acid in the melting tank 41 at around 290°C, and when it detects that the temperature of the sulfuric acid in the melting tank 41 has reached about 290°C, it turns on the pump 43. do. Further, the electrode sensor 49 detects the current flowing through the sulfuric acid when the package of the semiconductor W is melted and the internal chip is exposed, and a timer that is activated after the detection stops the drive of the pump 43 after a certain period of time has elapsed. , controls the switching of the fourth solenoid valve 29, and closes the normally open seventh solenoid valve 53. As a result, air pressure acts on the dissolution tank 41. The electrode sensor 49 and the chip terminal of the semiconductor W are electrically connected to the holder 57 that holds the semiconductor W, so that an electric circuit is formed via sulfuric acid.
作業台39には前記溶解槽41の上方に臨む蒸
気抜き管59が装着されると共に蒸気抜き管59
はフード61の「開」で作動するアスピレータ6
3等の吸引装置65と接続連通している。アスピ
レータ63はノズル67からエアが吹き出される
時に発生する負圧によつて蒸気を吸引し、吸引し
た蒸気を排液貯留タンク部9へ逃がすように機能
する。また、ノズル67は前記第3電磁弁27の
ポートP1と連通すると共に、螺旋状となつてい
る。これにより強い負圧が得られるようになる。 A steam vent pipe 59 facing above the melting tank 41 is attached to the workbench 39, and the steam vent pipe 59
is the aspirator 6 that operates when the hood 61 is opened.
It is connected and communicated with a suction device 65 such as No. 3. The aspirator 63 functions to suction steam by the negative pressure generated when air is blown out from the nozzle 67 and to release the suctioned steam to the drain liquid storage tank section 9. Further, the nozzle 67 communicates with the port P1 of the third electromagnetic valve 27 and has a spiral shape. This makes it possible to obtain strong negative pressure.
フード61は、ヒンジを支点として開閉可能で
閉時において作業台39をカバーするようになる
と共に該フード61の「開」時において、オンと
なる検知スイツチ69が機体に設けられている。 The hood 61 can be opened and closed using a hinge as a fulcrum, and covers the workbench 39 when closed, and is provided with a detection switch 69 on the body that is turned on when the hood 61 is opened.
検知スイツチ69は、第3電磁弁3を切換制御
する。これにより、ポートP1は開となりエアポ
ンプ25からのエアがアスピレータ63のノズル
67に流れるようになる。 The detection switch 69 switches and controls the third solenoid valve 3. As a result, port P 1 is opened, allowing air from air pump 25 to flow into nozzle 67 of aspirator 63.
排液冷却部7は前記溶解槽41と連通する冷却
トラツプ71と該トラツプ71に冷却風を送風す
る冷却フアン73とから成り、冷却フアン73に
よつてトラツプ71内の排液は約100℃前後まで
冷却されるようになる。 The drained liquid cooling section 7 consists of a cooling trap 71 communicating with the dissolving tank 41 and a cooling fan 73 that blows cooling air to the trap 71. The cooling fan 73 cools the drained liquid in the trap 71 to about 100°C. It will be cooled down to.
排液貯留タンク部9は前記冷却トラツプ71と
連通しフツ素樹脂(テフロン)の合成樹脂材で形
成され、タンク部75に設けられた一対の液面セ
ンサ77が液面に触れることで排液を介して電流
が流れ、満杯になつたことがわかるようになつて
いる。これにより、スタートスイツチをオンとし
ても機能停止状態のままとなる。 The drained liquid storage tank section 9 communicates with the cooling trap 71 and is made of a synthetic resin material such as fluororesin (Teflon), and drains when a pair of liquid level sensors 77 provided in the tank section 75 touch the liquid surface. A current flows through it, allowing you to know when it's full. As a result, even if the start switch is turned on, the function remains in a stopped state.
なお、満杯になつたタンク部75は蛇腹81に
対し離脱自在で、新しいタンク部と交換可能とな
つている。 Note that the full tank section 75 can be detached from the bellows 81 and can be replaced with a new tank section.
このように構成されたオープナー装置におい
て、作業台39に半導体Wをセツトしスタートス
イツチをオンにする。これにより、タンク本体1
1内の硫酸は第1、第2電磁弁13,15の開で
ヒータタンク17内に送り込まれる。ヒータタン
ク17内の硫酸は熱源部21によつて約250℃前
後に加温される。硫酸が約250℃に達すると、第
6電磁弁38は閉となり空気圧がヒータタンク1
7に作用する。これによりヒータタンク17内の
熱硫酸が溶解槽41内に送り込まれる。 In the opener device configured as described above, the semiconductor W is set on the workbench 39 and the start switch is turned on. As a result, tank body 1
The sulfuric acid in the heater tank 17 is sent into the heater tank 17 when the first and second solenoid valves 13 and 15 are opened. The sulfuric acid in the heater tank 17 is heated to about 250° C. by the heat source section 21. When the sulfuric acid reaches approximately 250°C, the sixth solenoid valve 38 closes and the air pressure reaches the heater tank 1.
7. As a result, the hot sulfuric acid in the heater tank 17 is sent into the dissolution tank 41.
溶解槽41内の熱硫酸は熱源部41によつて約
290℃に高められる。そして約290℃に達したこと
を温度センサ47が検知するとポンプ43がオン
となり熱硫酸を半導体Wのパツケージに噴射す
る。以下、パツケージが溶解してチツプが露出す
るまで噴射が続けられる。チツプが露出すると硫
酸を介して流れる電流を電極センサ49が検知
し、検知後一定時間経過後にポンプ43を停止さ
せると共に第4、第7電磁弁29を作動制御す
る。これにより溶解槽41内に空気圧が作用し、
溶解槽41内での仕事を終えた排液は冷却トラツ
プ71に送り出される。そして、約100℃まで冷
却された後、タンク部75へ排出されるようにな
る。 The hot sulfuric acid in the melting tank 41 is heated by the heat source 41 to approximately
Raised to 290℃. When the temperature sensor 47 detects that the temperature has reached approximately 290°C, the pump 43 is turned on and hot sulfuric acid is injected into the semiconductor W package. Thereafter, injection continues until the package melts and the chip is exposed. When the chip is exposed, the electrode sensor 49 detects the current flowing through the sulfuric acid, and after a certain period of time has elapsed since the detection, the pump 43 is stopped and the fourth and seventh electromagnetic valves 29 are controlled. As a result, air pressure acts within the dissolution tank 41,
The waste liquid that has completed its work in the dissolution tank 41 is sent to a cooling trap 71. Then, after being cooled to about 100° C., it is discharged to the tank section 75.
次に、半導体Wを交換すべくフード61を開放
すると検知スイツチ69がオンとなり第3電磁弁
27のポートP1は開となる。これによりアスビ
レータ63によつて溶解槽41内の蒸気は吸引さ
れ排液貯留タンク部9へ逃がすようになる。この
結果、半導体Wの交換時に作業者が蒸気を吸うこ
とがなくなる。 Next, when the hood 61 is opened to replace the semiconductor W, the detection switch 69 is turned on and the port P1 of the third solenoid valve 27 is opened. As a result, the vapor in the dissolution tank 41 is sucked by the asvilator 63 and released to the drain liquid storage tank section 9. As a result, the worker does not inhale steam when replacing the semiconductor W.
[考案の効果]
以上、説明したようにこの考案のオープナー装
置によれば、フードの開によつて蒸気が吸引され
るため半導体の交換時に作業者が蒸気を吸うのを
防ぐことができるため作業者の健康管理面におい
て大変望しいものとなる。[Effects of the invention] As explained above, according to the opener device of this invention, when the hood is opened, steam is sucked in, so it is possible to prevent the worker from inhaling the steam when replacing semiconductors, making it easier to work. This is highly desirable in terms of human health management.
第1図はこの考案のオープナー装置の全体の概
要説明図、第2図は吸引装置の断面図、第3図は
作業台の一部断面図である。
主要な図面符号の説明、5……半導体開口部、
39……作業台、59……蒸気抜き管、61……
フード、65……吸引装置。
FIG. 1 is an overall schematic explanatory diagram of the opener device of this invention, FIG. 2 is a sectional view of the suction device, and FIG. 3 is a partial sectional view of the workbench. Explanation of main drawing symbols, 5...Semiconductor opening,
39...Workbench, 59...Steam release pipe, 61...
Hood, 65...suction device.
Claims (1)
る半導体開口部を備えたオープナー装置におい
て、前記作業台に、該半導体開口部で発生した蒸
気を外部へ誘導する蒸気抜き管を設け、該蒸気抜
き管に、前記フードの「開」でオンとなる吸引装
置を接続したことを特徴とする半導体のオープナ
ー装置。 In an opener device equipped with a semiconductor opening whose workbench is covered by a hood that can be opened and closed, the workbench is provided with a steam vent pipe that guides the steam generated in the semiconductor opening to the outside, A semiconductor opener device characterized in that a suction device that is turned on when the hood is opened is connected to the pipe.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7118486U JPH0416434Y2 (en) | 1986-05-14 | 1986-05-14 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7118486U JPH0416434Y2 (en) | 1986-05-14 | 1986-05-14 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62184741U JPS62184741U (en) | 1987-11-24 |
JPH0416434Y2 true JPH0416434Y2 (en) | 1992-04-13 |
Family
ID=30913507
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7118486U Expired JPH0416434Y2 (en) | 1986-05-14 | 1986-05-14 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0416434Y2 (en) |
-
1986
- 1986-05-14 JP JP7118486U patent/JPH0416434Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62184741U (en) | 1987-11-24 |
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