JPH0573982U - はんだ付け装置の外気侵入防止装置 - Google Patents
はんだ付け装置の外気侵入防止装置Info
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- JPH0573982U JPH0573982U JP3819391U JP3819391U JPH0573982U JP H0573982 U JPH0573982 U JP H0573982U JP 3819391 U JP3819391 U JP 3819391U JP 3819391 U JP3819391 U JP 3819391U JP H0573982 U JPH0573982 U JP H0573982U
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- Japan
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- soldering
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- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
- Molten Solder (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 はんだ付け装置の出入口に不活性ガスを吹き
出させてガスカーテンを作るとともにそれを出入口間で
循環させて,はんだ付け装置本体内へ外気が侵入するの
を防止する。 【構成】 はんだ付け装置1のプリント基板の出入口
8,9に不活性ガスの吹き出し口12と吸入口13を設
置し,入口の吹き出し口と出口の吸入口,出口の吹き出
し口と入口の吸入口とをパイプ14で接続して不活性ガ
スを出入口間で循環させることにより不活性ガスの消費
量を少なくして出入口にガスカーテンを作る。
出させてガスカーテンを作るとともにそれを出入口間で
循環させて,はんだ付け装置本体内へ外気が侵入するの
を防止する。 【構成】 はんだ付け装置1のプリント基板の出入口
8,9に不活性ガスの吹き出し口12と吸入口13を設
置し,入口の吹き出し口と出口の吸入口,出口の吹き出
し口と入口の吸入口とをパイプ14で接続して不活性ガ
スを出入口間で循環させることにより不活性ガスの消費
量を少なくして出入口にガスカーテンを作る。
Description
【0001】
本考案は,不活性雰囲気中でプリント基板のはんだ付けを行う装置において, 本体内部に外気が侵入するのを防ぐ装置に関する。
【0002】
プリント基板をはんだ付けする装置としては,プリント基板を溶融はんだに浸 漬してはんだ付けを行う ディップ式はんだ付け装置と,クリームはんだが塗付 されたプリント基板を加熱するリフロー式はんだ付け装置とがある。これらのは んだ付け装置では,内部を不活性雰囲気にしてはんだ付けを行うと,はんだ付け 不良が少なくなる。たとえば,ディップ式を不活性雰囲気にするとブリッジやツ ララが少なくなり,又リフロー式を不活性雰囲気にするとはんだボールの発生が 少なくなることが分かっている。特に,近時のようにはんだ付け後のフラックス 残渣を洗浄しなくても済む低残渣フラックスを用いたはんだ付けでは,不活性雰 囲気の効果が著しく現れる。
【0003】 一般に,はんだ付け装置の前後には,他の装置,たとえば部品搭載装置やはん だ付け状態を検査する検査装置が置かれ,プリント基板がこれらの装置で連続し て処理される所謂「インライン」となっている。従って,はんだ付け装置では, プリント基板の出入口をプリント基板が進入・退出しやすいようになっており, 本体内に不活性ガスを供給しても出入口から外気が侵入し,内部の酸素濃度を下 げることが困難であった。
【0004】 従来のはんだ付け装置における出入口の外気侵入防止装置としては,出入口に 開閉自在なシャッターを設置したシャッター式(特開昭61-273256号,同62-1013 72号,同62-227572号)と,出入口で不活性ガスを吹き出させるガスカーテン式 (実開昭63-189469号,実開平3-31087号,同36361号)がある。
【0005】
シャッター式は,シャッターで本体と外気とを完全に遮断してしまうため内部 の酸素濃度を低下させることについては優れているが,シャターの開閉時にプリ ント基板をシャッターの近くで止めておかなければならず,そのために待時間が 必要となり,生産性が悪いものであった。さらに,このシャッター式は機械的な 構造を有するものであることから,シャッターの開閉が多くなるとシャッターの 駆動部分が故障しやすいという欠点もあった。 従来のガスカーテン式は,連続作業が可能であり,空気の侵入防止効果がある ものの不活性ガス供給源から直接不活性ガスを吹き出させるものであったため, 不活性ガスの消費量が非常に多いという問題があった。 本考案は,生産性を良好にし,しかも不活性ガスの消費量を少なくする外気侵 入防止装置を提供することにある。
【0006】
本考案者は,はんだ付け装置内の不活性ガスをガスカーテンに利用すれば不活 性ガスの消費量が少なくて済むことに着目して本考案を完成させた。
【0007】 本考案は,はんだ付け装置の本体内に外気が侵入するのを防止する外気侵入防 止装置であって,本体の出入口に不活性ガスの吹き出し口と吸入口を設置すると ともに,入口の吹き出し口と出口の吸入口,及び出口の吹き出し口と入口の吸入 口とをパイプで接続し,該パイプに気体流動装置を設置したことを特徴とするは んだ付け装置の外気侵入防止装置である。
【0008】
以下図面に基づいて本考案を説明する。図1は本考案をディップ式はんだ付け 装置に設置したものである。 ディップ式はんだ付け装置は,本体1が密閉した箱型となっており,その中に フラクサー2,プリヒータ3,はんだ槽4,冷却機5等のはんだ付け処理装置が 設置されている。これらのはんだ付け処理装置の上方にはプリント基板Pを走行 させる搬送装置6が置かれている。本体1の両側壁7,7にはプリント基板が進 入する入口8と,はんだ付け後のプリント基板が退出する出口9が穿設されてい て,入口8の外部には前工程からプリント基板を搬送装置6に乗り移させるイン レットフィーダー10が置かれており,出口9の外部にははんだ付け後のプリン ト基板を受け取るアウトレットフィーダー11が置かれている。入口8の周囲に は不活性ガスを吹き出す吹き出し口12と不活性ガスを吸い込む吸入口13が設 置されており,出口9の周囲にも入口同様,吹き出し口12と吸入口13が設置 されている。入口8の吹き出し口12と出口9の吸入口13,及び出口9の吹き 出し口12と入り口8の吸入口13とはパイプ14,14で接続されており,パ イプの途中には気体流動装置15,15が設置されている。又,搬送装置6の上 方には本体内に不活性ガスを流出させるノズル16が架設されている。
【0009】 次に,本考案の不活性雰囲気を保つ状態について説明する。 ノズル16から不活性ガスを本体内に流出させるとともに,気体流動装置15 を稼働させると,パイプ14内の気体は入口8の吹き出し口12から吹き出され て入口8の吸入口13に入り,それがパイプを通って出口9の吹き出し口12か ら吹き出され,出口9の吸入口13に入る。このようにして出入口間で気体は循 環するようになる。気体流動装置の駆動当初,本体内部の酸素濃度は高く,又パ イプ14内も空気が存在しているため吹き出し口12からは空気が吹き出され, 出入口は空気のカーテンができる。そしてしばらくすると,本体内は不活性ガス で充満して酸素濃度が下がるようになる。ところで,出入口の吸入口で気体が吸 い込まれる時,周囲の気体も吸い込まれるため,本体内に充満した不活性ガスも 吸い込まれるようになり,パイプ14内は不活性ガスが循環して出入口の吹き出 し口と吸入口間では不活性ガスのカーテンができる。従って,外部の空気はこの カーテンに阻まれて内部には侵入しなくなる。
【0010】 図2,3のように吹き出し口と吸入口を上下で対向させてもカーテン効果は十 分にあるが図3のように吹き出し口を出入口の三方に置くと,プリント基板通過 時に,横方からも不活性ガスが吹き出されるためプリント基板に当たって起こる 乱流が少なくなり,カーテン効果はさらに向上する。
【0011】 なお,実施例では,本考案をディップ式はんだ付け装置に設置したもので示し たが,リフロー式はんだ付け装置に設置できることはいうまでもない。
【0012】
本考案の外気侵入防止装置は,不活性ガスの消費量が少ないにもかかわらず外 部からの空気の侵入を阻止することができるため,はんだ付け性に劣る低残渣フ ラックスを用いてプリント基板のはんだ付けを行っても,はんだ付け不良のない はんだ付け部が得られるものである。
【図1】本考案を設置したディップ式はんだ付け装置の
正面断面図である。
正面断面図である。
【図2】はんだ付け装置の入口の上方に不活性ガスの吹
き出し口を設置し,下部に吸入口を設置した状態の拡大
図である。
き出し口を設置し,下部に吸入口を設置した状態の拡大
図である。
【図3】図2のA−A線断面図である。
【図4】はんだ付け装置の入口の三方に不活性ガスの吹
き出し口を設置し,下部に吸入口を設置した状態の拡大
図である。
き出し口を設置し,下部に吸入口を設置した状態の拡大
図である。
1 はんだ付け装置の本体 8 入口 9 出口 12 不活性ガスの吹き出し口 13 不活性ガスの吸入口 14 パイプ 15 気体流動装置
Claims (3)
- 【請求項1】 はんだ付け装置の本体内に外気が侵入す
るのを防止する外気侵入防止装置であって,本体の出入
口に不活性ガスの吹き出し口と吸入口を設置するととも
に,入口の吹き出し口と出口の吸入口,及び出口の吹き
出し口と入口の吸入口とをパイプで接続し,該パイプに
気体流動装置を設置したことを特徴とするはんだ付け装
置の外気侵入防止装置。 - 【請求項2】 前記はんだ付け装置は,ディップ式はん
だ付け装置であることを特徴とする請求項1記載のはん
だ付け装置の外気侵入防止装置。 - 【請求項3】 前記はんだ付け装置は,リフロー式はん
だ付け装置であることを特徴とする請求項1記載のはん
だ付け装置の外気侵入防止装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3819391U JP2519400Y2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | はんだ付け装置の外気侵入防止装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3819391U JP2519400Y2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | はんだ付け装置の外気侵入防止装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0573982U true JPH0573982U (ja) | 1993-10-08 |
JP2519400Y2 JP2519400Y2 (ja) | 1996-12-04 |
Family
ID=12518528
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3819391U Expired - Lifetime JP2519400Y2 (ja) | 1991-04-26 | 1991-04-26 | はんだ付け装置の外気侵入防止装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2519400Y2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013128862A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Lintec Corp | 光照射装置 |
JP2017505543A (ja) * | 2014-01-23 | 2017-02-16 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | ウェーブはんだ機用のフラックス管理システム及び汚染物質を除去する方法 |
-
1991
- 1991-04-26 JP JP3819391U patent/JP2519400Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013128862A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Lintec Corp | 光照射装置 |
JP2017505543A (ja) * | 2014-01-23 | 2017-02-16 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | ウェーブはんだ機用のフラックス管理システム及び汚染物質を除去する方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2519400Y2 (ja) | 1996-12-04 |
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