JPH0572379B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0572379B2 JPH0572379B2 JP14367285A JP14367285A JPH0572379B2 JP H0572379 B2 JPH0572379 B2 JP H0572379B2 JP 14367285 A JP14367285 A JP 14367285A JP 14367285 A JP14367285 A JP 14367285A JP H0572379 B2 JPH0572379 B2 JP H0572379B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- lower alkyl
- alkyl group
- reaction
- derivative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- LLPOBYGXVLYIJR-UHFFFAOYSA-N 5-methylidene-1,4,2,3-dioxadithiolane Chemical class C=C1OSSO1 LLPOBYGXVLYIJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 9
- -1 chloroformylacetic acid ester Chemical class 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Chemical compound CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 2
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N monomethylhydrazine Chemical compound CNN HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMPYACPDZICQFD-UHFFFAOYSA-N 3-sulfanylidene-1,2-dihydropyrazole-4-carboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(S)NN=C1 GMPYACPDZICQFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M acetoacetate Chemical compound CC(=O)CC([O-])=O WDJHALXBUFZDSR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003905 agrochemical Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- YNNGZCVDIREDDK-UHFFFAOYSA-N aminocarbamodithioic acid Chemical class NNC(S)=S YNNGZCVDIREDDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N bromoethane Chemical compound CCBr RDHPKYGYEGBMSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- LTMHNWPUDSTBKD-UHFFFAOYSA-N diethyl 2-(ethoxymethylidene)propanedioate Chemical compound CCOC=C(C(=O)OCC)C(=O)OCC LTMHNWPUDSTBKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- GCFHZZWXZLABBL-UHFFFAOYSA-N ethanol;hexane Chemical compound CCO.CCCCCC GCFHZZWXZLABBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- SYFFHRPDTQNMQB-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-oxopropanoate Chemical compound CCOC(=O)CC=O SYFFHRPDTQNMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は1−アルキル−4−カルボキシ−5−
アルキルチオピラゾール誘導体および1−アルキ
ル−4−カルボキシ−5−ベンゾルチオビラゾー
ル誘導体の製法およびその中間体に関する。1−
アルキル−4−カルボキシ−5−アルキルチオピ
ラゾール誘導体および1−アルキル−4−カルボ
キシ−5−ベンジルチオピラゾール誘導体は医
薬、農薬等の中間体として有用である。例えば特
開昭59−122488号公報、ヨーロツパ特許公開
87780号公報等に記載の除草剤の中間体として有
用である。 従来の技術 3−水素(またはアルキル)−4−カルボキシ
−5−置換チオピラゾール誘導体を得るには従来
以下のような方法が知られている。 (1) エトキシメチレンマロン酸ジエチルとメチル
ヒドラジンを反応させることにより、1−アル
キル−5−ヒドロキシピラゾール−4−カルボ
ン酸エステル誘導体を得る。次いでオキシ塩化
燐と加熱反応させることによりハロゲン化し、
これに水硫化ソーダを作用させ1−アルキル−
5−メルカプトピラゾール−4−カルボン酸エ
ステル誘導体を得る。
アルキルチオピラゾール誘導体および1−アルキ
ル−4−カルボキシ−5−ベンゾルチオビラゾー
ル誘導体の製法およびその中間体に関する。1−
アルキル−4−カルボキシ−5−アルキルチオピ
ラゾール誘導体および1−アルキル−4−カルボ
キシ−5−ベンジルチオピラゾール誘導体は医
薬、農薬等の中間体として有用である。例えば特
開昭59−122488号公報、ヨーロツパ特許公開
87780号公報等に記載の除草剤の中間体として有
用である。 従来の技術 3−水素(またはアルキル)−4−カルボキシ
−5−置換チオピラゾール誘導体を得るには従来
以下のような方法が知られている。 (1) エトキシメチレンマロン酸ジエチルとメチル
ヒドラジンを反応させることにより、1−アル
キル−5−ヒドロキシピラゾール−4−カルボ
ン酸エステル誘導体を得る。次いでオキシ塩化
燐と加熱反応させることによりハロゲン化し、
これに水硫化ソーダを作用させ1−アルキル−
5−メルカプトピラゾール−4−カルボン酸エ
ステル誘導体を得る。
【化】
【化】
【化】
(特開昭59−122488号公報参照)
(2) クロルホルミル酢酸エステルとジチオカルバ
ジン酸誘導体との反応により5(3)−ベンジル
チオピラゾール−4−カルボン酸エステル誘導
体を合成する。
ジン酸誘導体との反応により5(3)−ベンジル
チオピラゾール−4−カルボン酸エステル誘導
体を合成する。
【化】
〔ケミカルアブストラクツ(Chemical
Abstrwcts)50巻12030C(1956年)参照〕 (3) アセト酢酸エステルより誘導される下記のケ
テンジチオアセタールとヒドラジンより3(5)
−アルキル−5(3)−アルキルチオピラゾール
−4−カルボン酸エステル誘導体を合成する。
Abstrwcts)50巻12030C(1956年)参照〕 (3) アセト酢酸エステルより誘導される下記のケ
テンジチオアセタールとヒドラジンより3(5)
−アルキル−5(3)−アルキルチオピラゾール
−4−カルボン酸エステル誘導体を合成する。
【化】
〔ヘテロサイクルズ(Heterocycles)6巻
1865頁(1977年)参照〕 発明が解決しようとする問題点 前記方法(1)を用いる場合の問題点として以下の
ような点があげられる。 1 原料の
1865頁(1977年)参照〕 発明が解決しようとする問題点 前記方法(1)を用いる場合の問題点として以下の
ような点があげられる。 1 原料の
【式】の合成時異性
体の
【式】が必ず生成す
る。収率の低下及び目的物の単離(異性体は性
質が類似しているので目的物の単離は非常に困
難)の両面から問題となる。 2 5位のヒドロキシ基を塩素化する工程におい
て 原料に4位にカルボン酸エステルをもつピ
ラゾールを用いた場合、エステルの加水分解
に由来する4−カルボン酸ピラゾールが副生
する。4位−カルボン酸エステルを目的物と
する場合にはさらにエステル化工程を必要と
する。 反応試剤として多量のオキシ塩化燐を使用
するため、反応終了後過剰のオキシ塩化燐を
除去処理する必要がある。経済的に不利なだ
けでなく、廃液中の燐分処理が必要となり必
ずしも工業的には有利とはいえない。 長時間、高温の反応条件を必要とする。エ
ネルギーコストの面から工業的に不利であ
る。 収率が低い。 前記方法(2)を用いる場合の問題点として以下の
ような点があげられる。 本発明化合物に誘導する為に更にアルキル化の
必要があるが2種の異性体混合物を与え、目的物
のみ選択的に合成することが難しい。(参考例3
参照)
質が類似しているので目的物の単離は非常に困
難)の両面から問題となる。 2 5位のヒドロキシ基を塩素化する工程におい
て 原料に4位にカルボン酸エステルをもつピ
ラゾールを用いた場合、エステルの加水分解
に由来する4−カルボン酸ピラゾールが副生
する。4位−カルボン酸エステルを目的物と
する場合にはさらにエステル化工程を必要と
する。 反応試剤として多量のオキシ塩化燐を使用
するため、反応終了後過剰のオキシ塩化燐を
除去処理する必要がある。経済的に不利なだ
けでなく、廃液中の燐分処理が必要となり必
ずしも工業的には有利とはいえない。 長時間、高温の反応条件を必要とする。エ
ネルギーコストの面から工業的に不利であ
る。 収率が低い。 前記方法(2)を用いる場合の問題点として以下の
ような点があげられる。 本発明化合物に誘導する為に更にアルキル化の
必要があるが2種の異性体混合物を与え、目的物
のみ選択的に合成することが難しい。(参考例3
参照)
【化】
収率の低下及び目的物の単離(異性体は性質が
類似しているので、目的物の単離は非常に困難)
の両面から目的物を得る為のよい方法とは言えな
い。 前記方法(3)を用いる場合の問題として以下のよ
うな点があげられる。 この方法ではピラゾール環炭素上(3位)にメ
チル基の導入された生成物を与える為、我々の目
的とする化合物は得られない。 また、この報告ではNH2NH2の代りにA−
NHNH2を用いた例は無いので以下の生成物の生
成割合も不明である。
類似しているので、目的物の単離は非常に困難)
の両面から目的物を得る為のよい方法とは言えな
い。 前記方法(3)を用いる場合の問題として以下のよ
うな点があげられる。 この方法ではピラゾール環炭素上(3位)にメ
チル基の導入された生成物を与える為、我々の目
的とする化合物は得られない。 また、この報告ではNH2NH2の代りにA−
NHNH2を用いた例は無いので以下の生成物の生
成割合も不明である。
【化】
〔式中Aは前記と同じ意味を示す。〕
以上から、上記の従来法によらない化合物
()の新規な製法が望まれている。 問題点を解決するための手段及び発明の態様 本発明者らは、一般式():
()の新規な製法が望まれている。 問題点を解決するための手段及び発明の態様 本発明者らは、一般式():
【化】
〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
R2は低級アルキル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるケテンジチオアセタール誘導体と 次式(): A−NHNH2 () 〔式中Aは低級アルキル基を示す。〕 で表されるヒドラジン誘導体とを不活性溶媒中で
反応させることにより 一般式():
R2は低級アルキル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるケテンジチオアセタール誘導体と 次式(): A−NHNH2 () 〔式中Aは低級アルキル基を示す。〕 で表されるヒドラジン誘導体とを不活性溶媒中で
反応させることにより 一般式():
【化】
〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原子
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体が得られることを見
出した。 ここで原料として用いられるケテンジチオアセ
タール誘導体()は新規化合物であり、本化合
物の合成が可能になることによつて本発明化合物
()が容易に得られるようになつた。 なおケテンジチオアセタール誘導体()は以
下の反応式により合成することができる。(参考
例1,2参照)
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体が得られることを見
出した。 ここで原料として用いられるケテンジチオアセ
タール誘導体()は新規化合物であり、本化合
物の合成が可能になることによつて本発明化合物
()が容易に得られるようになつた。 なおケテンジチオアセタール誘導体()は以
下の反応式により合成することができる。(参考
例1,2参照)
【化】
〔式中R1,R2は前記と同じ意味を示す。Mは
アルカリ金属原子を示す。Xはハロゲン原子を示
す。〕 一般式()および()を反応させるには、
反応溶媒としては不活性溶媒が望ましく、例えば
エーテル、テトラヒドロフラン等のエートル誘導
体、ベンゼン、トルエン等の芳香族誘導体、メタ
ノール、エタノール等のアルコール誘導体、四塩
化炭素、ジクロルエタン等のハロゲン化アルキル
誘導体が用いられる。反応は通常−30〜80℃程度
の温度で行われるが、室温でも進行する。反応後
溶媒を留去することにより純度のよい粗物のピラ
ゾール誘導体()を得る。蒸留、再結晶物等に
より精製してもよいし、そのまま次の誘導体合成
に用いることもできる。 本反応において、本発明化合物()の異性体
として
アルカリ金属原子を示す。Xはハロゲン原子を示
す。〕 一般式()および()を反応させるには、
反応溶媒としては不活性溶媒が望ましく、例えば
エーテル、テトラヒドロフラン等のエートル誘導
体、ベンゼン、トルエン等の芳香族誘導体、メタ
ノール、エタノール等のアルコール誘導体、四塩
化炭素、ジクロルエタン等のハロゲン化アルキル
誘導体が用いられる。反応は通常−30〜80℃程度
の温度で行われるが、室温でも進行する。反応後
溶媒を留去することにより純度のよい粗物のピラ
ゾール誘導体()を得る。蒸留、再結晶物等に
より精製してもよいし、そのまま次の誘導体合成
に用いることもできる。 本反応において、本発明化合物()の異性体
として
【式】の生成する可能性
も考えられるが、実際には全くといつてよいほど
生成せず、選択性の高い反応であることも判明し
た。 発明の効果 (1) 新規ケテンジチオアセタール誘導体()を
用いることにより収率よく化合物()が得ら
れる。 (2) 異性体の副生が少ない。 (3) 工程が短く、工業的に容易なプロセスであ
る。 実施例 1 5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4
−カルボン酸エチルの合成 3,3−ビス(ベンジルチオ)−2−ホルミル
アクリル酸エチル2.0gをエタノール15mlに加え、
メチルヒドラジン(98%)0.27gを10〜20℃の温
度で滴下した。室温で一夜攪拌後溶媒を減圧留去
した。残差をシリカゲルクロマトで精製すること
により目的物1.36gを得た。収率91.3%、融点54
〜55℃ 実施例 2 5−エチルチオ−1−メチルピラゾール−4−
カルボン酸エチルの合成 実施例1において、3,3−ビス(ベンジルチ
オ)−2−ホルミルアクリル酸エチル2.0gの代り
に、3.3−ビス(エチルチオ)−2−ホルミルアク
リル酸エチル1.33gを用いること以外は、実施例
1に準じて行つて目的物1.02gを得た。収率88.8
%、沸点83℃/0.07mmHg 参考例 1 3,3−ビス(ベンジルチオ)−2−ホルミル
アクリル酸エチルの合成 乾燥ベンゼン15ml中にホルミル酢酸エチルのナ
トリウム塩2.5g、水酸化ナトリウム0.73gを加
え、攪拌下2硫化炭素1.38gを5〜10℃の温度で
滴下した。次にジメチルスルホキシド5mlを加
え、室温で一夜攪拌した。塩化ベンジル5.8gを
室温で滴下後50〜60℃の温度で30分加熱した。反
応後、水30mlを加えて洗浄後、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残差
をn−ヘキサン−エタノールで再結晶することに
より目的物2.8gを得た。収率41.2%、融点85〜
86℃ 参考例 2 3,3−ビス(エチルチオ)−2−ホルミルア
クリル酸エチルの合成 参考例1において、塩化ベンジル5.8gの代り
に臭化エチル5.0gを用いること以外は参考例1
に準じて行つて目的物1.53gを得た。 収率34%、油状物質 参考例 3
生成せず、選択性の高い反応であることも判明し
た。 発明の効果 (1) 新規ケテンジチオアセタール誘導体()を
用いることにより収率よく化合物()が得ら
れる。 (2) 異性体の副生が少ない。 (3) 工程が短く、工業的に容易なプロセスであ
る。 実施例 1 5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4
−カルボン酸エチルの合成 3,3−ビス(ベンジルチオ)−2−ホルミル
アクリル酸エチル2.0gをエタノール15mlに加え、
メチルヒドラジン(98%)0.27gを10〜20℃の温
度で滴下した。室温で一夜攪拌後溶媒を減圧留去
した。残差をシリカゲルクロマトで精製すること
により目的物1.36gを得た。収率91.3%、融点54
〜55℃ 実施例 2 5−エチルチオ−1−メチルピラゾール−4−
カルボン酸エチルの合成 実施例1において、3,3−ビス(ベンジルチ
オ)−2−ホルミルアクリル酸エチル2.0gの代り
に、3.3−ビス(エチルチオ)−2−ホルミルアク
リル酸エチル1.33gを用いること以外は、実施例
1に準じて行つて目的物1.02gを得た。収率88.8
%、沸点83℃/0.07mmHg 参考例 1 3,3−ビス(ベンジルチオ)−2−ホルミル
アクリル酸エチルの合成 乾燥ベンゼン15ml中にホルミル酢酸エチルのナ
トリウム塩2.5g、水酸化ナトリウム0.73gを加
え、攪拌下2硫化炭素1.38gを5〜10℃の温度で
滴下した。次にジメチルスルホキシド5mlを加
え、室温で一夜攪拌した。塩化ベンジル5.8gを
室温で滴下後50〜60℃の温度で30分加熱した。反
応後、水30mlを加えて洗浄後、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残差
をn−ヘキサン−エタノールで再結晶することに
より目的物2.8gを得た。収率41.2%、融点85〜
86℃ 参考例 2 3,3−ビス(エチルチオ)−2−ホルミルア
クリル酸エチルの合成 参考例1において、塩化ベンジル5.8gの代り
に臭化エチル5.0gを用いること以外は参考例1
に準じて行つて目的物1.53gを得た。 収率34%、油状物質 参考例 3
【式】のアルキル化
の反応について下記の第1表に記載の各反応条件
(実験No.1〜No.6)に基づいて目的物(B)および副
生物(C)を得た。
(実験No.1〜No.6)に基づいて目的物(B)および副
生物(C)を得た。
【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式(): 【式】 〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
R2は低級アルキル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるケテンジチオアセタール誘導体と 一般式(): A−NHNH2 () 〔式中Aは低級アルキル基を示す。〕 で表されるヒドラジン誘導体とを不活性溶媒中で
反応させることを特徴とする 一般式(): 【式】 〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原子
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体の製法 2 一般式(): 【式】 〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
R2は低級アルキル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるケテンジチオアセタール誘導体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14367285A JPS624273A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | ピラゾール誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14367285A JPS624273A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | ピラゾール誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS624273A JPS624273A (ja) | 1987-01-10 |
| JPH0572379B2 true JPH0572379B2 (ja) | 1993-10-12 |
Family
ID=15344252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14367285A Granted JPS624273A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | ピラゾール誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS624273A (ja) |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP14367285A patent/JPS624273A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS624273A (ja) | 1987-01-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69526443T2 (de) | 2-silyloxy-tetrahydrothienopyridin, sein salz und verfahren zu seiner herstellung | |
| JPH0572379B2 (ja) | ||
| US5663365A (en) | Process for the preparation of pyrazolones | |
| JP3880883B2 (ja) | ピリジン誘導体、その製造方法、及び除草剤中間体としての用途 | |
| JPH01168675A (ja) | 1,3−ジアルキルピラゾール−5−カルボン酸エステル類の製造法 | |
| KR100589966B1 (ko) | 베타-케토에스테르 화합물의 제조방법 | |
| DE69711397T2 (de) | Herstellung von einem hydrazon-beta-ketoester durch reaktion mit einem diazoester | |
| JP4663105B2 (ja) | 2−スルホニル−4−オキシピリジン誘導体の製造方法 | |
| EP0168732B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Aroylessigestern | |
| JP2580477B2 (ja) | 5−ピラゾールメルカプタン誘導体の製造方法及びその中間体 | |
| JPH06199805A (ja) | 3−(置換フェニル)ピラゾール誘導体の製造方法 | |
| JP2986003B2 (ja) | 2−アルキル−3−スチリルオキシランカルボン酸エステル及びその製法 | |
| KR810000815B1 (ko) | 4-벤조일피라졸 유도체 및 그의 알루미늄염의 제조법 | |
| JP2582809B2 (ja) | 新規ピロリジン誘導体およびその製法 | |
| JP3855686B2 (ja) | 3,3−ジアルコキシ−2−ヒドロキシイミノ誘導体及びその製造法 | |
| HU193454B (en) | Process for producing 3-phenyl-butyraldehyde derivatives | |
| JPH0759558B2 (ja) | 1,3−ジアルキルピラゾール−4−アルデヒド類の製造法 | |
| KR100843125B1 (ko) | 베타-케토에스테르 화합물의 제조방법 | |
| JPH0348909B2 (ja) | ||
| JPH10507756A (ja) | ハロニコチン酸エステルの製法 | |
| JPH0128013B2 (ja) | ||
| US4451658A (en) | Process for producing substituted pyrroles | |
| KR100322237B1 (ko) | α-케토카르복시산 유도체의 제조방법 | |
| JPH07133271A (ja) | ベンズアルデヒド誘導体及びそれを中間体とするクロマンカルボン酸誘導体の製法 | |
| JPH03127780A (ja) | アニリノピリミジン誘導体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |