JPH0572379B2 - - Google Patents

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JPH0572379B2
JPH0572379B2 JP14367285A JP14367285A JPH0572379B2 JP H0572379 B2 JPH0572379 B2 JP H0572379B2 JP 14367285 A JP14367285 A JP 14367285A JP 14367285 A JP14367285 A JP 14367285A JP H0572379 B2 JPH0572379 B2 JP H0572379B2
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JP
Japan
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Eiichi Ooya
Toshiaki Sato
Katsuyuki Morimoto
Susumu Yamamoto
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Nissan Chemical Corp
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Nissan Chemical Corp
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は1−アルキル−4−カルボキシ−5−
アルキルチオピラゾール誘導体および1−アルキ
ル−4−カルボキシ−5−ベンゾルチオビラゾー
ル誘導体の製法およびその中間体に関する。1−
アルキル−4−カルボキシ−5−アルキルチオピ
ラゾール誘導体および1−アルキル−4−カルボ
キシ−5−ベンジルチオピラゾール誘導体は医
薬、農薬等の中間体として有用である。例えば特
開昭59−122488号公報、ヨーロツパ特許公開
87780号公報等に記載の除草剤の中間体として有
用である。 従来の技術 3−水素(またはアルキル)−4−カルボキシ
−5−置換チオピラゾール誘導体を得るには従来
以下のような方法が知られている。 (1) エトキシメチレンマロン酸ジエチルとメチル
ヒドラジンを反応させることにより、1−アル
キル−5−ヒドロキシピラゾール−4−カルボ
ン酸エステル誘導体を得る。次いでオキシ塩化
燐と加熱反応させることによりハロゲン化し、
これに水硫化ソーダを作用させ1−アルキル−
5−メルカプトピラゾール−4−カルボン酸エ
ステル誘導体を得る。
【化】
【化】
【化】 (特開昭59−122488号公報参照) (2) クロルホルミル酢酸エステルとジチオカルバ
ジン酸誘導体との反応により5(3)−ベンジル
チオピラゾール−4−カルボン酸エステル誘導
体を合成する。
【化】 〔ケミカルアブストラクツ(Chemical
Abstrwcts)50巻12030C(1956年)参照〕 (3) アセト酢酸エステルより誘導される下記のケ
テンジチオアセタールとヒドラジンより3(5)
−アルキル−5(3)−アルキルチオピラゾール
−4−カルボン酸エステル誘導体を合成する。
【化】 〔ヘテロサイクルズ(Heterocycles)6巻
1865頁(1977年)参照〕 発明が解決しようとする問題点 前記方法(1)を用いる場合の問題点として以下の
ような点があげられる。 1 原料の
【式】の合成時異性 体の
【式】が必ず生成す る。収率の低下及び目的物の単離(異性体は性
質が類似しているので目的物の単離は非常に困
難)の両面から問題となる。 2 5位のヒドロキシ基を塩素化する工程におい
て 原料に4位にカルボン酸エステルをもつピ
ラゾールを用いた場合、エステルの加水分解
に由来する4−カルボン酸ピラゾールが副生
する。4位−カルボン酸エステルを目的物と
する場合にはさらにエステル化工程を必要と
する。 反応試剤として多量のオキシ塩化燐を使用
するため、反応終了後過剰のオキシ塩化燐を
除去処理する必要がある。経済的に不利なだ
けでなく、廃液中の燐分処理が必要となり必
ずしも工業的には有利とはいえない。 長時間、高温の反応条件を必要とする。エ
ネルギーコストの面から工業的に不利であ
る。 収率が低い。 前記方法(2)を用いる場合の問題点として以下の
ような点があげられる。 本発明化合物に誘導する為に更にアルキル化の
必要があるが2種の異性体混合物を与え、目的物
のみ選択的に合成することが難しい。(参考例3
参照)
【化】 収率の低下及び目的物の単離(異性体は性質が
類似しているので、目的物の単離は非常に困難)
の両面から目的物を得る為のよい方法とは言えな
い。 前記方法(3)を用いる場合の問題として以下のよ
うな点があげられる。 この方法ではピラゾール環炭素上(3位)にメ
チル基の導入された生成物を与える為、我々の目
的とする化合物は得られない。 また、この報告ではNH2NH2の代りにA−
NHNH2を用いた例は無いので以下の生成物の生
成割合も不明である。
【化】 〔式中Aは前記と同じ意味を示す。〕 以上から、上記の従来法によらない化合物
()の新規な製法が望まれている。 問題点を解決するための手段及び発明の態様 本発明者らは、一般式():
【化】 〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
R2は低級アルキル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるケテンジチオアセタール誘導体と 次式(): A−NHNH2 () 〔式中Aは低級アルキル基を示す。〕 で表されるヒドラジン誘導体とを不活性溶媒中で
反応させることにより 一般式():
【化】 〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原子
または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
またはベンジル基を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体が得られることを見
出した。 ここで原料として用いられるケテンジチオアセ
タール誘導体()は新規化合物であり、本化合
物の合成が可能になることによつて本発明化合物
()が容易に得られるようになつた。 なおケテンジチオアセタール誘導体()は以
下の反応式により合成することができる。(参考
例1,2参照)
【化】 〔式中R1,R2は前記と同じ意味を示す。Mは
アルカリ金属原子を示す。Xはハロゲン原子を示
す。〕 一般式()および()を反応させるには、
反応溶媒としては不活性溶媒が望ましく、例えば
エーテル、テトラヒドロフラン等のエートル誘導
体、ベンゼン、トルエン等の芳香族誘導体、メタ
ノール、エタノール等のアルコール誘導体、四塩
化炭素、ジクロルエタン等のハロゲン化アルキル
誘導体が用いられる。反応は通常−30〜80℃程度
の温度で行われるが、室温でも進行する。反応後
溶媒を留去することにより純度のよい粗物のピラ
ゾール誘導体()を得る。蒸留、再結晶物等に
より精製してもよいし、そのまま次の誘導体合成
に用いることもできる。 本反応において、本発明化合物()の異性体
として
【式】の生成する可能性 も考えられるが、実際には全くといつてよいほど
生成せず、選択性の高い反応であることも判明し
た。 発明の効果 (1) 新規ケテンジチオアセタール誘導体()を
用いることにより収率よく化合物()が得ら
れる。 (2) 異性体の副生が少ない。 (3) 工程が短く、工業的に容易なプロセスであ
る。 実施例 1 5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4
−カルボン酸エチルの合成 3,3−ビス(ベンジルチオ)−2−ホルミル
アクリル酸エチル2.0gをエタノール15mlに加え、
メチルヒドラジン(98%)0.27gを10〜20℃の温
度で滴下した。室温で一夜攪拌後溶媒を減圧留去
した。残差をシリカゲルクロマトで精製すること
により目的物1.36gを得た。収率91.3%、融点54
〜55℃ 実施例 2 5−エチルチオ−1−メチルピラゾール−4−
カルボン酸エチルの合成 実施例1において、3,3−ビス(ベンジルチ
オ)−2−ホルミルアクリル酸エチル2.0gの代り
に、3.3−ビス(エチルチオ)−2−ホルミルアク
リル酸エチル1.33gを用いること以外は、実施例
1に準じて行つて目的物1.02gを得た。収率88.8
%、沸点83℃/0.07mmHg 参考例 1 3,3−ビス(ベンジルチオ)−2−ホルミル
アクリル酸エチルの合成 乾燥ベンゼン15ml中にホルミル酢酸エチルのナ
トリウム塩2.5g、水酸化ナトリウム0.73gを加
え、攪拌下2硫化炭素1.38gを5〜10℃の温度で
滴下した。次にジメチルスルホキシド5mlを加
え、室温で一夜攪拌した。塩化ベンジル5.8gを
室温で滴下後50〜60℃の温度で30分加熱した。反
応後、水30mlを加えて洗浄後、有機層を無水硫酸
ナトリウムで乾燥して溶媒を減圧留去した。残差
をn−ヘキサン−エタノールで再結晶することに
より目的物2.8gを得た。収率41.2%、融点85〜
86℃ 参考例 2 3,3−ビス(エチルチオ)−2−ホルミルア
クリル酸エチルの合成 参考例1において、塩化ベンジル5.8gの代り
に臭化エチル5.0gを用いること以外は参考例1
に準じて行つて目的物1.53gを得た。 収率34%、油状物質 参考例 3
【式】のアルキル化 の反応について下記の第1表に記載の各反応条件
(実験No.1〜No.6)に基づいて目的物(B)および副
生物(C)を得た。
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式(): 【式】 〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
    R2は低級アルキル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるケテンジチオアセタール誘導体と 一般式(): A−NHNH2 () 〔式中Aは低級アルキル基を示す。〕 で表されるヒドラジン誘導体とを不活性溶媒中で
    反応させることを特徴とする 一般式(): 【式】 〔式中Aは低級アルキル基を、R1は水素原子
    または低級アルキル基を、R2は低級アルキル基
    またはベンジル基を示す。〕 で表されるピラゾール誘導体の製法 2 一般式(): 【式】 〔式中R1は水素原子または低級アルキル基を、
    R2は低級アルキル基またはベンジル基を示す。〕 で表されるケテンジチオアセタール誘導体。
JP14367285A 1985-06-28 1985-06-28 ピラゾール誘導体の製法 Granted JPS624273A (ja)

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JP14367285A JPS624273A (ja) 1985-06-28 1985-06-28 ピラゾール誘導体の製法

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JPS624273A JPS624273A (ja) 1987-01-10
JPH0572379B2 true JPH0572379B2 (ja) 1993-10-12

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