JPH0567821A - 狭帯域レーザ用波長モニタ - Google Patents

狭帯域レーザ用波長モニタ

Info

Publication number
JPH0567821A
JPH0567821A JP22719491A JP22719491A JPH0567821A JP H0567821 A JPH0567821 A JP H0567821A JP 22719491 A JP22719491 A JP 22719491A JP 22719491 A JP22719491 A JP 22719491A JP H0567821 A JPH0567821 A JP H0567821A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wavelength
laser
narrow band
band laser
fringe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22719491A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Sugidachi
厚志 杉立
Hajime Nakatani
元 中谷
Hitoshi Wakata
仁志 若田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP22719491A priority Critical patent/JPH0567821A/ja
Priority to US07/795,793 priority patent/US5243614A/en
Priority to DE4139032A priority patent/DE4139032A1/de
Publication of JPH0567821A publication Critical patent/JPH0567821A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明は、例えば高い波長精度と波長安定
性を要求されるステッパ用エキシマレーザの狭帯域レー
ザの中心波長を高精度で安定して測定できる狭帯レーザ
用波長モニタを得ることを目的とする。 【構成】 エアーギャップ型のファブリペローエタロン
1は、線膨張率が5×10-7以下の材料で構成されたス
ペーサ2で所定ギャップ長に保たれている。このエアー
ギャップ型のファブリペローエタロン1は、不活性ガス
4が封入された気密容器5内に収納されている。エアー
ギャップ型のファブリペローエタロン1の入射側および
出力側には、散乱板11および色消しフーリエ変換凸レ
ンズ22が配設されている。リニアイメージセンサ10
は色消しフーリエ変換凸レンズ22の焦点距離に位置
し、入射光線6、7のフリンジ9を検出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば高い波長精度
と波長安定性を要求されるステッパ用エキシマレーザの
狭帯域レーザの中心波長を高精度で安定して測定できる
狭帯域レーザ用波長モニタに関するものである。
【0002】
【従来の技術】図10は例えば”Wavelength stabiliza
tion and control of pulsed or cw tunable dye laser
s: a simple scheme"(APPLIED OPTICS, Vol.26, No.17,
p.3659-3662, Sep., 1987)に記載された従来の波長安
定化用のモニタ光学系を示す構成図である。図におい
て、1はモニタ用のエアーギャップ型のファブリペロー
エタロン(以下、FPという)、4はN2ガス等の不活
性ガス、5はFP1を収納する気密容器、7は参照光源
に用いる単一モード周波数安定化HeNeレーザ(633n
m)の入射光線、9は焦点距離fの位置にできるフリンジ
(干渉により生じる縞模様)、10はリニアイメージセ
ンサ、11は入射手段としての散乱板、20はFP1の
スペーサ、21は多重反射膜、22は焦点距離fの波長
500nmおよび633nmに対する色消しフーリエ変換凸レンズ
(以下、色消しFTレンズという)、23は波長安定化
を図る波長500nm付近の色素レーザの入射光線である。
【0003】つぎに、上記従来の波長安定化用のモニタ
光学系の動作について説明する。レーザの入射光線7、
23に含まれる波長成分は散乱板11に入射し、散乱板
11により散乱され、それぞれが様々な角度成分を持っ
てFP1に入射する。そこで、FP1では、特定の角度
成分の波長成分のみを透過する。
【0004】その特定の角度に出射している各波長成分
は、色消しFTレンズ22により、各波長成分毎に焦点
距離fの位置に集光されて、フリンジ9を形成する。こ
こで、色消しFTレンズ22により波長500nm付近の色
素レーザの入射光線23と波長633nmのHeNeレーザ
の入射光線7とのフリンジ結像の焦点距離は誤差範囲内
でfとしてよい。
【0005】このように、上記従来の波長安定化用のモ
ニタ光学系では、上記原理にしたがって、安定化を図る
色素レーザの入射光線23と参照光源であるHeNeレ
ーザの入射光線7との2種のフリンジ9の相対的な位置
関係を安定に保つ、すなわちこの例では2種のフリンジ
9の直径の位置関係を安定に保つことにより、HeNe
レーザの波長を基準として色素レーザの入射光線23の
波長の安定化を図っている。
【0006】現在、ステッパ用エキシマレーザでは、ス
ペクトル許容範囲を数pm以内とすることが要求されて
いる。レーザ波長の広がりが、すでに2〜3pmあるこ
とから、この広がり分を差し引いてレーザの中心波長の
安定性としてはもう1桁下の値が必要となる。これにと
もない、波長モニタ系の観測精度、安定性もサブpmで
あることが必要となる。
【0007】上記従来の波長安定化用のモニタ光学系で
は、10pmのオーダーの精度確保を目指しているた
め、各構成要素の精度使用が全く異なるが、10pmオ
ーダーの精度確保でさえ±1℃の温度調節が必要とされ
ている。このサブpmオーダーの精度を確保する場合に
は、エタロンの温度歪による波長誤差を考慮すると百分
の数度の温度調節が必要となる。
【0008】そこで、上記従来の波長安定化用のモニタ
光学系のように、参照光を用いてFP1を介して参照光
と狭帯域レーザの波長とを直接比較する方法が採用され
ているが、HeNeレーザを参照光とし、波長248nmの
狭帯域KrF波長を較正しようとすると、FTレンズ2
2の色消し性能が不十分なために(紫外線領域では良い
レンズ材料が少なく、完全な色消しレンズができな
い)、両波長に対して焦点距離fが異なり、少なくとも
一方の像がぼけて正確なフリンジ9が投影できず、サブ
pm以下の高精度な計測、制御には十分対応できない。
【0009】その改善策として、波長248nmの狭帯域Kr
Fエキシマレーザ波長安定化装置では、参照光源として
254nmと波長の近い低圧Hgランプや248nmの鉄ランプを
用いているが、波長の広がりが数pm程度あり、やはり
サブpmの高精度な計測、制御には十分対応できていな
い。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】従来の波長安定化用の
モニタ光学系は以上のように、参照光を用いてFP1を
介して参照光と狭帯域レーザの波長とを直接比較してい
るので、色消しFTレンズ22の色消し性能が不十分な
ため、両波長に対して焦点距離が異なり、一方の像がぼ
やけて正確なフリンジ9が投影できず、サブpm以下の
高精度な計測、制御ができないという課題があった。
【0011】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、中心波長の安定性がサブpmの
狭帯域レーザ用波長モニタを得ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】この発明の第1の発明に
係る狭帯域レーザ用波長モニタは、線膨張率が5×10
-7以下の材料で構成されたスペーサを有するエアーギャ
ップ型のファブリペローエタロンを気密容器内に収納す
るものである。
【0013】また、この発明の第2の発明に係る狭帯域
レーザ用波長モニタは、線膨張率が5×10-7以下の材
料で構成されたスペーサを有し、狭帯域レーザと参照用
レーザとの2つの波長に対して高反射率を有する反射膜
が施されたエアーギャップ型のファブリペローエタロン
を気密容器内に収納し、狭帯域レーザと参照用レーザと
をエアーギャップ型のファブリペローエタロンに導入す
る入射手段と、エアーギャップ型のファブリペローエタ
ロンを通過した狭帯域レーザと参照用レーザとの少なく
ともそれぞれ1つのフリンジピークを同時に観測できる
範囲内に結像する結像する結像手段とを備えるものであ
る。
【0014】
【作用】この発明の第1の発明においては、線膨張率が
5×10-7以下の材料で構成されたスペーサが、温度変
化に対する許容範囲を広げるように働き、さらにエアー
ギャップ型のファブリペローエタロンを気密容器内に収
納して、屈折率変化をなくすことができるので、エアー
ギャップ型のファブリペローエタロンの観測結果が環境
状態に影響されることがなく、エアーギャップ型のファ
ブリペローエタロンを波長基準として用いることができ
る。
【0015】さらに、この発明の第2の発明において
は、結像手段により、エアーギャップ型のファブリペロ
ーエタロンを通過した狭帯域レーザと参照用レーザとの
フリンジ像のうちそれぞれ少なくとも1つのフリンジピ
ークを同時に観測できる範囲内に結像する結像できるの
で、サブpm以下の高精度、高安定な観測ができる。
【0016】
【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。 実施例1.図1はこの発明の実施例1を示す狭帯域レー
ザ用波長モニタの構成図であり、図において図10に示
した従来の波長安定化用のモニタ光学系と同一または相
当部分には同一符号を付し、その説明を省略する。図に
おいて、2はFP1の間隙を確保するスペーサであり、
このスペーサ2は線膨張係数がFP1を構成する均一で
かつ紫外光に対して高透過率を有するバルクの合成石英
の1/10以下の0.05×10-6程度の低線膨張率材
料、例えばゼロデュアM(SCHOTT社)を用い、合
成石英とオプティカルコンタクトしてある。このゼロデ
ュアMは、バルクの合成石英とのオプティカルコンタク
ト時の温度変化に対してヒステリシス特性を示さないこ
とから用いている。3は高反射率を持つ反射膜、6は波
長安定化を図る波長248nmの狭帯域KrFエキシマレー
ザの入射光線である。
【0017】つぎに、上記実施例1の動作について説明
する。狭帯域KrFエキシマレーザの入射光線6は散乱
板11に入射し、散乱板11により散乱された後、様々
な角度成分をもってFP1に入射する。この入射光線6
は、FP1を特定の角度成分のみが透過し、色消しFT
レンズ22により、焦点位置に集光され、円形のフリン
ジ9が形成される。このフリンジ9の位置変化をリニア
イメージセンサ10により検出し、この検出値をもとに
フリンジ9の位置が特定の位置となるように入射光線6
の波長をコントロールする。
【0018】この時、FP1の環境状態が変化しなけれ
ば、フリンジ9の位置がいつも同じ位置に現れるように
入射光線6の波長をコントロールすればよい。しかし、
FP1の環境状態は絶えず変化しているので、同じ位置
にフリンジ9が現れるように入射光線6の波長をコント
ロールした場合には、所定の波長と実際の入射光線6の
波長との間に、つぎの誤差Δλが生じてしまう。 Δλ/λ=Δn/n+Δd/d ここで、λは波長、nはその波長での屈折率、dはFP
1のギャップ長であり、簡単のためにFP1等の光学系
の変化はないものとする。
【0019】屈折率は密度に比例することから、FP1
が密封容器5に収納されているものとすれば、密度は変
化せず、Δn=0となる。一方、ギャップ長dはスペー
サ2の線膨張率をαとすると、Δd=αdΔTとなる。
ここで、ΔTはFP1の環境の温度変化である。このこ
とから、温度変化に対する波長誤差Δλはつぎの式で与
えられる。 Δλ=αλΔT
【0020】ここで、Δλとして0.5pmが許容でき
るとすると、狭帯域KrFエキシマレーザ(λ:248nm)
の場合、スペーサ2として合成石英(α:5×10-7
を用いると温度変化の許容範囲が4度、ゼロデュワ
(α:5×10-8)を用いると温度変化の許容範囲が4
0度となる。いずれも、実現可能な範囲ではあるが、波
長誤差の許容範囲がさらに狭くなった場合には、FP1
のスペーサ2は線膨張率の小さな材料を用いることが実
用的な面から望ましい。
【0021】上記の計算は完全密封として行ったが、現
実にはリークや容器壁面からの脱ガスの影響により多少
密度が変化する。この影響による波長誤差を見積る。容
器中の気体を理想気体とすれば、つぎの式が成立する。 Δn/n=(n−1)(ΔP/P−ΔT/T) ここで、Pは圧力、nは圧力Pでの屈折率である。n−
1は圧力に比例しており、窒素では3×10-4×Pat
mとなり、温度変化が無視できる程度に抑えられている
とすれば、波長誤差はΔλ=3×10-4λΔPとなる。
波長誤差Δλとして0.5pmが許容できるとすると、
許容できる圧力変化としては6.5×10-3atmとな
る。
【0022】このように、上記実施例1によれば、スペ
ーサ2を0.05×10-6以下の低線膨張率の材料で構
成し、FP1を機密容器5に封入しているので、FP1
の環境温度をある程度の範囲に保つことにより、FP1
は波長精度が要求された場合でも基準として機能するこ
とができる。この温度範囲は、例えば温度調節されたク
リーンルームで容易に実現でき、また条件の悪い部屋で
も、波長モニタを恒温ボックスに収納したり、断熱材で
覆ったり、あるいは波長モニタの温度を検出して一定温
度に温度コントロールすることにより、容易に実現でき
る。
【0023】実施例2.図2はこの発明の実施例2を示
す狭帯域レーザ用波長モニタの構成図であり、図におい
て8は結像手段としての1枚または複数枚の非球面反射
鏡である。この実施例2では、参照光源として安定性を
も考慮した実質的な波長の広がりが0.004pm程度
であるHeNeレーザを用いている。
【0024】上記実施例2では、入射光線6、7を散乱
板11に入射して、それぞれの波長成分に様々な角度成
分を持たせた後、FP1でそれぞれの波長成分の特定の
角度成分のみを透過させ、非球面反射鏡8により焦点距
離fの位置にそれぞれのフリンジ9を結像させ、リニア
イメージセンサ10によりフリンジ9の位置を観測して
いる。
【0025】この時、±0.2〜0.3pm以下の安定
性を得るためには、参照光源であるHeNeレーザの入
射光線7の波長は0.004pm程度であるが、フリン
ジ9上の入射光線7の波長の広がりは0.1pm以下で
あればよく、実際には、フリンジ9上の入射光線7の波
長の広がりはFP1の使用に応じた装置関数により決定
される。一方、信頼性の高い波長安定化のためには、リ
ニアイメージセンサ10は狭帯域KrFエキシマレーザ
の入射光線6とHeNeレーザの入射光線7とそれぞれ
のフリンジ9の直径をそれぞれ少なくとも1つずつ観測
できなければならず、FP1の仕様の制限とフリンジ9
像の拡大率の限界がでてくる。
【0026】したがって、上記実施例2では、長さ2
5.5mm(25μm×1024素子)のリニアイメー
ジセンサ10を用い、FP1のギャップ長と非球面反射
鏡8の焦点距離との組み合わせを適当に選択し、フリン
ジ9像の1素子当たりの波長を0.1pm程度に調整し
ており、参照光源であるHeNeレーザの入射光線7の
フリンジ9上での波長の広がり0.1pmと併せて、サ
ブpmの精度で狭帯域KrFエキシマレーザの波長変化
を測定することができる。
【0027】ここで、参照光源を用いて波長を較正する
場合、波長モニタに仕様するFP1の自由スペクトル領
域(以下、FSRという)には、以下に示すような理由
による制限がある。狭帯域KrFレーザの入射光線6の
波長が様々な要因で変動した際の変動範囲はフリンジ9
で観測できなければならず、その変動範囲を±βpmと
すると、FP1のFSRは248nmに対して少なくとも2
βpm必要となる。これは、FSRを越える変化があっ
た場合、その変化がβか、β−FSRかを判別しにくい
からである。
【0028】一方、このようなFSRを設定すると、波
長の長い参照光源、この場合HeNeレーザに対するF
SRは(633/248)2×2β〜13βpmとなる。この様
子を図3に示す。入射光線6、7のそれぞれのフリンジ
9の直径をそれぞれ少なくとも1つずつリニアイメージ
センサ10に投影することが必要であるので、HeNe
レーザによるフリンジ9の測定条件によりFSRを大き
くすることにも限界がある。さらに、図3より明らかで
あるが、参照光源として狭帯域KrFエキシマレーザよ
り波長の長いものを使用する場合、リニアイメージセン
サ10上でのフリンジ9を細くするために、狭帯域Kr
Fエキシマレーザと同等以下の波長幅のものを使用する
こと、フィネスが高くなるように高反射率の反射膜3を
もつFP1を使用することが必要となる。
【0029】また、フリンジ9像の1素子当たりの波長
を0.1pm程度の拡大率にするには、図3のように、
参照光源によるフリンジ9はリニアイメージセンサ10
いっぱいに投影するように、FP1の光軸に対する傾き
角とギャップ間屈折率(ガス密度)の初期調整を行うた
めの手段が必要となる。
【0030】参照光源と狭帯域レーザとの波長が異なる
場合、色収差により波長の読み取り誤差が発生する。そ
のため、上記実施例2では、反射光学系の非球面反射鏡
8を用いている。反射光学系の最大の特徴として、焦点
距離に波長依存性がないために、焦点距離fはその他の
付加機構なしに狭帯域レーザの焦点距離となる。
【0031】実施例3.上記実施例2では、結像手段と
して反射光学系である非球面反射鏡8を用いるものとし
ているが、図4に示される実施例4では、HeNeレー
ザと狭帯域KrFエキシマレーザとの波長に対してのみ
十分に収差がないように設計製作された拡大結像光学系
である色消しFTレンズ12(屈折光学系)を用し、フ
リンジ9をリニアイメージセンサ10上に結像しても、
同様の効果を奏する。
【0032】実施例4.上記実施例3では、結像手段と
して拡大結像光学系である色消しFTレンズ12を用い
るものとしているが、この実施例4では、波長による屈
折率依存性の高い媒質を結像光学系の途中に挿入し、そ
れに合わせて設計したFT単レンズを組み合わせるもの
とし、同様の効果を奏する。
【0033】実施例5.上記実施例3では、結像手段と
して拡大結像光学系である色消しFTレンズ12を用い
るものとしているが、図5に示される実施例5では、結
像手段としてのFT単レンズ13と狭帯域KrFエキシ
マレーザのみに対してARコート(ダイクロイック膜)
を施した平面スプリッタであるビームスプリッタ16と
を用いるものとしている。この実施例5では、FT単レ
ンズ13による狭帯域KrFエキシマレーザの入射光線
6とHeNeレーザの入射光線7とのそれぞれのフリン
ジ9、14の結像位置が異なるので、ビームスプリッタ
13によりHeNeレーザの入射光線7のみを直角方向
にスプリットして、別に用意したリニアイメージセンサ
15上にフリンジ14を結像させ、同様の効果を奏す
る。
【0034】実施例6.上記実施例5では、平面スプリ
ッタであるビームスプリッタ16を用いHeNeレーザ
の入射光線7のみを直角方向にスプリットするものとし
ているが、この実施例6では、ビームスプリッタ16と
してプリズムを用い、直角方向でない特定の角度方向に
スプリットするものとし、同様の効果を奏する。
【0035】実施例7.上記実施例5では、平面スプリ
ッタであるビームスプリッタ16を用いHeNeレーザ
の入射光線7のみを直角方向にスプリットするものとし
ているが、図6に示される実施例7では、ビームスプリ
ッタ16としてロンボイドプリズムを用い、ビームスプ
リッタ16を透過する狭帯域KrFエキシマレーザの入
射光線6と、スプリットされるHeNeレーザの入射光
線7との光軸の平行度が変わらないようにし、リニアイ
メージセンサ10、15を一体構造とし、フリンジ9、
14の拡大結像光学系の安定度を高めている。
【0036】ここで、上記実施例5〜7では、ビームス
プリッタ16にARコートをコーティングしてHeNe
レーザの入射光線7のみをスプリットしているが、コー
ティングを変えて透過光とスプリット光とを逆にしても
同様の効果を奏する。
【0037】実施例8.上記実施例7では、結像手段と
して拡大結像光学系であるFT単レンズ13を用い、ビ
ームスプリッタ16によりリニアイメージセンサ10、
15上にフリンジ9、14を結像するものとしている
が、図7に示される実施例8では、リニアイメージセン
サ10に駆動装置17を取り付け、FT単レンズ13に
よる狭帯域KrFエキシマレーザの入射光線6とHeN
eレーザの入射光線7とのそれぞれのフリンジ9、14
の異なる結像位置にリニアイメージセンサ10を移動さ
せるものとし、高精度の観測を実現している。
【0038】実施例9.図8に示される実施例9では、
FP1への入射手段(入射光学系)として多数の光ファ
イバを束ねたバンドルファイバ18を用いるものとし、
散乱板11を省略することができ、さらに入射側を2つ
に分離したファイバを用いると、入射光線6、7の光軸
を合わせる必要がなくなるという効果が得られる。
【0039】実施例10.図9に示される実施例10で
は、FP1への入射手段(入射光学系)として凸レンズ
19を用い、入射光線6、7を様々な角度成分をもつ光
線に変換してFP1に入射するものとし、散乱板11、
FT単レンズ13を省略することができ、入射光学系と
拡大結像光学系とを簡素にできる。また、凸レンズ19
の代わりに、凹レンズや球面鏡を用いても、同様の効果
を奏する。
【0040】ここで、上記各実施例の各構成にて、狭帯
域KrFエキシマレーザの入射光線6の波長の変動範囲
±βpmは、最小でも入射光線6の波長広がり程度は必
要で、その値として±2pmとすると、FP1のギャッ
プ長と結像手段としての拡大結像光学系の焦点距離fと
の組み合わせを適当に選択することにより、フリンジ像
をリニアイメージセンサの1素子当たりの波長は0.0
2pm程度にまで設定することができ、HeNeレーザ
の入射光線7の波長の広がり0.004pmと併せて、
±0.02pm程度まで測定することができる。
【0041】なお、上記各実施例では、気密容器5に不
活性ガス4としてのN2ガスを封入して説明している
が、一般に圧力センサは真空近傍にて使用するものなら
ば通常の圧力センサに比べて2桁程度高精度となるの
で、気密容器5を封じ切りでなく、真空にするとともに
圧力センサを組み込み、かつ排気系の配管をつないで、
高精度に気密状態を管理しても、同様に安定化できる。
【0042】また、上記各実施例では、不活性ガス4と
してN2ガスを用いて説明しているが、この発明はこれ
に限定されるものではなく、例えば圧力に対する屈折率
変化の小さいH2ガスでもよい。
【0043】さらに、上記各実施例では、狭帯域レーザ
としてKrFエキシマレーザ、参照光源としてHeNe
レーザを用いて説明しているが、狭帯域レーザとして
は、共振器内に波長選択素子を挿入して波長を変えるこ
とができるレーザならばよく、また参照光源としては、
単一モードAr、Kr、HeCdレーザや、あるいは十
分スペクトル広がりの小さな単一元素の水銀ランプ等で
もよい。
【0044】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように構成さ
れているので、以下に記載されるような効果を奏する。
【0045】この発明の第1の発明に係る狭帯域レーザ
用波長モニタによれば、線膨張率が5×10-7以下の材
料で構成されたスペーサを有するエアーギャップ型のフ
ァブリペローエタロンを気密容器内に収納しているの
で、エアーギャップ型のファブリペローエタロンの観測
結果が環境状態に影響されることがなく、エアーギャッ
プ型のファブリペローエタロンを波長基準として用いる
ことができる。
【0046】また、この発明の第2の発明に係る狭帯域
レーザ用波長モニタによれば、線膨張率が5×10-7
下の材料で構成されたスペーサを有し、狭帯域レーザと
参照用レーザとの2つの波長に対して高反射率の反射膜
が施されたエアーギャップ型のファブリペローエタロン
を気密容器内に収納し、狭帯域レーザと参照用レーザと
をエアーギャップ型のファブリペローエタロンに導入す
る入射手段と、エアーギャップ型のファブリペローエタ
ロンを通過した狭帯域レーザと参照用レーザとの少なく
ともそれぞれ1つのフリンジピークを同時に観測できる
範囲内に結像する結像手段とを備えているので、エアー
ギャップ型のファブリペローエタロンの観測結果が環境
状態に影響されることがなく、エアーギャップ型のファ
ブリペローエタロンを通過した狭帯域レーザと参照用レ
ーザとのフリンジ像のうちそれぞれ少なくとも1つのフ
リンジピークを同時に観測できる範囲内に結像できるの
で、狭帯域レーザの中心波長をサブpm以下の高精度、
高安定な観測ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1を示す狭帯域レーザ用波長
モニタの構成図である。
【図2】この発明の実施例2を示す狭帯域レーザ用波長
モニタの構成図である。
【図3】この発明の実施例2におけるエアーギャップ型
のファブリペローエタロンの自由スペクトルを説明する
ための図である。
【図4】この発明の実施例3を示す狭帯域レーザ用波長
モニタの構成図である。
【図5】この発明の実施例5を示す狭帯域レーザ用波長
モニタの要部構成図である。
【図6】この発明の実施例7を示す狭帯域レーザ用波長
モニタの要部構成図である。
【図7】この発明の実施例8を示す狭帯域レーザ用波長
モニタの要部構成図である。
【図8】この発明の実施例9を示す狭帯域レーザ用波長
モニタの要部構成図である。
【図9】この発明の実施例10を示す狭帯域レーザ用波
長モニタの構成図である。
【図10】従来の波長安定化用のモニタ光学系の概略構
成図である。
【符号の説明】
1 ファブリペローエタロン 2 スペーサ 3 反射膜 5 気密容器 6 狭帯域KrFエキシマレーザの入射光線 7 HeNeレーザの入射光線 8 非球面反射鏡(結像手段) 11 散乱板(入射手段) 12 色消しFTレンズ(結像手段) 13 FT単レンズ(結像手段) 18 バンドルファイバ(入射手段) 19 凸レンズ(入射手段) 22 色消しフーリエ変換凸レンズ(結像手段)
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年6月22日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】また、この発明の第2の発明に係る狭帯域
レーザ用波長モニタは、線膨張率が5×10-7以下の材
料で構成されたスペーサを有し、狭帯域レーザと参照用
光源との2つの波長に対して高反射率を有する反射膜が
施されたエアーギャップ型のファブリペローエタロンを
気密容器内に収納し、狭帯域レーザと参照用光源とをエ
アーギャップ型のファブリペローエタロンに導入する入
射手段と、エアーギャップ型のファブリペローエタロン
を通過した狭帯域レーザと参照用光源との少なくともそ
れぞれ1つのフリンジピークを同時に観測できる範囲内
に結像する結像する結像手段とを備えるものである。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】さらに、この発明の第2の発明において
は、結像手段により、エアーギャップ型のファブリペロ
ーエタロンを通過した狭帯域レーザと参照用光源とのフ
リンジ像のうちそれぞれ少なくとも1つのフリンジピー
クを同時に観測できる範囲内に結像することができるの
で、サブpm以下の高精度、高安定な観測ができる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】したがって、上記実施例2では、長さ2
5.mm(25μm×1024素子)のリニアイメー
ジセンサ10を用い、FP1のギャップ長と非球面反射
鏡8の焦点距離との組み合わせを適当に選択し、フリン
ジ9像の1素子当たりの波長を0.1pm程度に調整し
ており、参照光源であるHeNeレーザの入射光線7の
フリンジ9上での波長の広がり0.1pmと併せて、サ
ブpmの精度で狭帯域KrFエキシマレーザの波長変化
を測定することができる。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】ここで、参照光源を用いて波長を較正する
場合、波長モニタに使用するFP1の自由スペクトル領
域(以下、FSRという)には、以下に示すような理由
による制限がある。狭帯域KrFレーザの入射光線6の
波長が様々な要因で変動した際の変動範囲はフリンジ9
で観測できなければならず、その変動範囲を±βpmと
すると、FP1のFSRは248nmに対して少なくとも2
βpm必要となる。これは、FSRを越える変化があっ
た場合、その変化がβか、β−FSRかを判別しにくい
からである。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】実施例3.上記実施例2では、結像手段と
して反射光学系である非球面反射鏡8を用いるものとし
ているが、図4に示される実施例では、HeNeレー
ザと狭帯域KrFエキシマレーザとの波長に対してのみ
十分に収差がないように設計製作された拡大結像光学系
である色消しFTレンズ12(屈折光学系)を用し、フ
リンジ9をリニアイメージセンサ10上に結像しても、
同様の効果を奏する。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】また、この発明の第2の発明に係る狭帯域
レーザ用波長モニタによれば、線膨張率が5×10-7
下の材料で構成されたスペーサを有し、狭帯域レーザと
参照用光源との2つの波長に対して高反射率の反射膜が
施されたエアーギャップ型のファブリペローエタロンを
気密容器内に収納し、狭帯域レーザと参照用光源とをエ
アーギャップ型のファブリペローエタロンに導入する入
射手段と、エアーギャップ型のファブリペローエタロン
を通過した狭帯域レーザと参照用光源との少なくともそ
れぞれ1つのフリンジピークを同時に観測できる範囲内
に結像する結像する結像手段とを備えているので、エア
ーギャップ型のファブリペローエタロンの観測結果が環
境状態に影響されることがなく、エアーギャップ型のフ
ァブリペローエタロンを通過した狭帯域レーザと参照用
光源とのフリンジ像のうちそれぞれ少なくとも1つのフ
リンジピークを同時に観測できる範囲内に結像できるの
で、狭帯域レーザの中心波長をサブpm以下の高精度、
高安定な観測ができる。
【手続補正8】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 狭帯域レーザの中心波長をモニタする狭
    帯域レーザ用波長モニタにおいて、気密容器と、前記気
    密容器内に収納され、線膨張率が5×10-7以下の材料
    で構成されたスペーサを有するエアーギャップ型のファ
    ブリペローエタロンとを備えたことを特徴とする狭帯域
    レーザ用波長モニタ。
  2. 【請求項2】 狭帯域レーザの中心波長をモニタする狭
    帯域レーザ用波長モニタにおいて、参照用レーザと、気
    密容器と、前記気密容器内に収納され、線膨張率が5×
    10-7以下の材料で構成されたスペーサを有し、前記狭
    帯域レーザと前記参照用レーザとの2つの波長に対して
    高反射率を有する反射膜が施されたエアーギャップ型の
    ファブリペローエタロンと、前記狭帯域レーザと前記参
    照用レーザとを前記エアーギャップ型のファブリペロー
    エタロンに導入する入射手段と、前記エアーギャップ型
    のファブリペローエタロンを通過した前記狭帯域レーザ
    と前記参照用レーザとの少なくともそれぞれ1つのフリ
    ンジピークを同時に観測できる範囲内に結像する結像手
    段とを備えたことを特徴とする狭帯域レーザ用波長モニ
    タ。
JP22719491A 1990-11-28 1991-09-06 狭帯域レーザ用波長モニタ Pending JPH0567821A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22719491A JPH0567821A (ja) 1991-09-06 1991-09-06 狭帯域レーザ用波長モニタ
US07/795,793 US5243614A (en) 1990-11-28 1991-11-21 Wavelength stabilizer for narrow bandwidth laser
DE4139032A DE4139032A1 (de) 1990-11-28 1991-11-27 Wellenlaengenstabilisator fuer schmalbandlaser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22719491A JPH0567821A (ja) 1991-09-06 1991-09-06 狭帯域レーザ用波長モニタ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0567821A true JPH0567821A (ja) 1993-03-19

Family

ID=16856971

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22719491A Pending JPH0567821A (ja) 1990-11-28 1991-09-06 狭帯域レーザ用波長モニタ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0567821A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6168528B1 (en) 1997-06-27 2001-01-02 Nsk Ltd. Tripod type constant velocity joint
US6217454B1 (en) 1996-01-12 2001-04-17 Nsk Ltd. Tripod type constant velocity joint
EP1252691A1 (en) * 1999-12-27 2002-10-30 Cymer, Inc. Wavemeter for gas discharge laser
US7653095B2 (en) 2005-06-30 2010-01-26 Cymer, Inc. Active bandwidth control for a laser
USRE41457E1 (en) 1998-10-02 2010-07-27 Cymer, Inc. Wavemeter for gas discharge laser

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5229149B1 (ja) * 1970-03-02 1977-07-30
JPS63247703A (ja) * 1987-04-02 1988-10-14 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ装置用ミラ−
JPH02246179A (ja) * 1989-03-17 1990-10-01 Mitsubishi Electric Corp エキシマレーザ装置用エタロン
JPH02271689A (ja) * 1989-04-13 1990-11-06 Adomon Sci Kk エキシマレーザの周波数安定化装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5229149B1 (ja) * 1970-03-02 1977-07-30
JPS63247703A (ja) * 1987-04-02 1988-10-14 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ装置用ミラ−
JPH02246179A (ja) * 1989-03-17 1990-10-01 Mitsubishi Electric Corp エキシマレーザ装置用エタロン
JPH02271689A (ja) * 1989-04-13 1990-11-06 Adomon Sci Kk エキシマレーザの周波数安定化装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6217454B1 (en) 1996-01-12 2001-04-17 Nsk Ltd. Tripod type constant velocity joint
US6168528B1 (en) 1997-06-27 2001-01-02 Nsk Ltd. Tripod type constant velocity joint
USRE41457E1 (en) 1998-10-02 2010-07-27 Cymer, Inc. Wavemeter for gas discharge laser
EP1252691A1 (en) * 1999-12-27 2002-10-30 Cymer, Inc. Wavemeter for gas discharge laser
EP1252691A4 (en) * 1999-12-27 2007-04-25 Cymer Inc WAVE LENGTH METER FOR GAS DISCHARGE LASER
US7653095B2 (en) 2005-06-30 2010-01-26 Cymer, Inc. Active bandwidth control for a laser

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5243614A (en) Wavelength stabilizer for narrow bandwidth laser
US5387974A (en) Laser apparatus including Fabry-perot wavelength detector with temperature and wavelength compensation
US5761236A (en) Laser for generating narrow-band radiation
US6160831A (en) Wavelength calibration tool for narrow band excimer lasers
USRE38372E1 (en) Narrow band excimer laser and wavelength detecting apparatus
US5185643A (en) Arrangement for operating a laser diode
US6509970B1 (en) Wavelength monitoring apparatus for laser light for semiconductor exposure
US6621847B1 (en) Narrow-band excimer laser apparatus
JPH03238329A (ja) 波長検出装置
KR20200143482A (ko) 구성요소의 위치의 주파수 기반 결정을 위한 측정 조립체
EP1041689A1 (en) Excimer laser
JPH0567821A (ja) 狭帯域レーザ用波長モニタ
JP2006066933A (ja) レーザ装置及び波長検出方法
JP3219879B2 (ja) 波長検出装置
JP2003185502A (ja) レーザ装置及び波長検出方法
CN109565145A (zh) 激光装置
JP2537970B2 (ja) 波長可変レ―ザ装置
JP2002522782A (ja) 発光ビームの波長を測定するための装置
JP3072925B2 (ja) 透過波面測定用干渉計
JPH09260792A (ja) 外部共振器型波長可変ld光源
JP3019411B2 (ja) 狭帯域レーザ用波長安定化装置
JPS6329758A (ja) 露光装置用光源
US20200232789A1 (en) Devices and Methods for Calibrating a Measuring Apparatus Using Projected Patterns
KR940006783B1 (ko) 레이저장치
JPH01225186A (ja) 狭帯域化レーザ