JPH0567408B2 - - Google Patents
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- JPH0567408B2 JPH0567408B2 JP59193805A JP19380584A JPH0567408B2 JP H0567408 B2 JPH0567408 B2 JP H0567408B2 JP 59193805 A JP59193805 A JP 59193805A JP 19380584 A JP19380584 A JP 19380584A JP H0567408 B2 JPH0567408 B2 JP H0567408B2
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Classifications
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- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B7/00—Mixing; Kneading
- B29B7/30—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices
- B29B7/34—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices
- B29B7/38—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary
- B29B7/40—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary with single shaft
- B29B7/402—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary with single shaft using a rotor-stator system with intermeshing elements, e.g. teeth
-
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- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F27/00—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders
- B01F27/27—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices
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- B01F27/2721—Mixers with stator-rotor systems, e.g. with intermeshing teeth or cylinders or having orifices with means for moving the materials to be mixed axially between the surfaces of the rotor and the stator, e.g. the stator rotor system formed by conical or cylindrical surfaces provided with intermeshing elements
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C48/00—Extrusion moulding, i.e. expressing the moulding material through a die or nozzle which imparts the desired form; Apparatus therefor
- B29C48/25—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C48/36—Means for plasticising or homogenising the moulding material or forcing it through the nozzle or die
- B29C48/50—Details of extruders
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- B29C48/763—Vent constructions, e.g. venting means avoiding melt escape
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- B29C48/76—Venting, drying means; Degassing means
- B29C48/765—Venting, drying means; Degassing means in the extruder apparatus
- B29C48/766—Venting, drying means; Degassing means in the extruder apparatus in screw extruders
- B29C48/767—Venting, drying means; Degassing means in the extruder apparatus in screw extruders through a degassing opening of a barrel
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、処理装置、より詳細には、かなり異
なる圧力レベルにあるプロセツサのの領域間に改
良型シールを設けたロータリ・プロセツサに関す
るものである。
なる圧力レベルにあるプロセツサのの領域間に改
良型シールを設けたロータリ・プロセツサに関す
るものである。
従来の技術
ロータリ・プロセツサは、当該分野では知られ
ている。ロータリ・プロセツサについての詳細
は、米国特許第4142805号、第4194841号、第
4207004号、第4213709号、第4227816号、第
4255059号、第4289319号、第4300842号、第
4329065号、第4389119号、第4402616号、第
4411532号、第4413913号、および第4421412号に
記載されている。
ている。ロータリ・プロセツサについての詳細
は、米国特許第4142805号、第4194841号、第
4207004号、第4213709号、第4227816号、第
4255059号、第4289319号、第4300842号、第
4329065号、第4389119号、第4402616号、第
4411532号、第4413913号、および第4421412号に
記載されている。
上記特許に開示されたロータリ・プロセツサの
基本的な個々の処理用通路の必須要素は、少なく
とも一つの処理用溝が設けられた回転要素と、前
記溝とともに囲われた処理用通路を形成するよう
に向い合つて配置された同心の閉表面を提供する
静止要素より成る。静止要素は通路へ原材料を供
給するための入口と、通路から原材料を排出する
ための出口を有する。原材料を阻止し、集積する
端壁面を提供する部材が出口の近くに配置され、
静止要素に結合されている。前記端壁面は、通路
へ供給された原材料の移動を阻止し、回転する溝
壁と協同して、阻止した原材料と回転する溝壁と
の間に相対運動を生じさせるようになつている。
この協同作用により、移動する壁に接触した原材
料は、前方に端壁面へ引きずられ、そこで集積さ
れ、(または)制御された処理を受け(または)、
排出される。
基本的な個々の処理用通路の必須要素は、少なく
とも一つの処理用溝が設けられた回転要素と、前
記溝とともに囲われた処理用通路を形成するよう
に向い合つて配置された同心の閉表面を提供する
静止要素より成る。静止要素は通路へ原材料を供
給するための入口と、通路から原材料を排出する
ための出口を有する。原材料を阻止し、集積する
端壁面を提供する部材が出口の近くに配置され、
静止要素に結合されている。前記端壁面は、通路
へ供給された原材料の移動を阻止し、回転する溝
壁と協同して、阻止した原材料と回転する溝壁と
の間に相対運動を生じさせるようになつている。
この協同作用により、移動する壁に接触した原材
料は、前方に端壁面へ引きずられ、そこで集積さ
れ、(または)制御された処理を受け(または)、
排出される。
上述の特許に開示されているように、処理用通
路は高い揮発分処理能力を有する。通路は、処理
される原材料へ成分を添加したり、そこから成分
を除去することのほか、特に、溶解、混合、加
圧、吸上げ、脱蔵、均質化、などの処理操作を実
施するのに適応することができる。
路は高い揮発分処理能力を有する。通路は、処理
される原材料へ成分を添加したり、そこから成分
を除去することのほか、特に、溶解、混合、加
圧、吸上げ、脱蔵、均質化、などの処理操作を実
施するのに適応することができる。
米国特許第4227816号、第4213709号、第
4389119号、第4402616号、および第4411532号は、
各々が一つまたはそれ以上の処理用通路をもつ複
数の処理用段を備えた多段ロータリ・プロセツサ
に関するものである。原材料移動通路すなわち溝
は、静止要素の閉表面内に形成され、原材料を一
の段の通路(または複数の通路)から他の段の通
路(または複数の通路)へ移動させるように構成
されている。
4389119号、第4402616号、および第4411532号は、
各々が一つまたはそれ以上の処理用通路をもつ複
数の処理用段を備えた多段ロータリ・プロセツサ
に関するものである。原材料移動通路すなわち溝
は、静止要素の閉表面内に形成され、原材料を一
の段の通路(または複数の通路)から他の段の通
路(または複数の通路)へ移動させるように構成
されている。
米国特許第4329065号および第4413913号は、そ
れぞれ、原材料から揮発分を除去する脱蔵装置と
方法に関するものである。そこに開示された装置
と方法によれば、原材料は処理用通路へ供給さ
れ、入口の近くで、原材料が薄い膜として回転す
る溝壁の両側面に拡布され、スプレツダの下流に
空所が生じる。この空所を通つて運ばれる薄膜の
表面から揮発性物質を吸引することができるよう
に、空所に真空源が接続されている。また、通路
の円周まわりの所定の位置で、前記薄膜を再拡布
して一つ以上の空所を生じさせ、再拡布された薄
膜の新しい表面を真空にさらすことができる。薄
膜は通路を通つて前方に原材料集積端壁面に向け
て運ばれ、そこで、壁から薄膜がはがされ、排出
のため集積される。
れぞれ、原材料から揮発分を除去する脱蔵装置と
方法に関するものである。そこに開示された装置
と方法によれば、原材料は処理用通路へ供給さ
れ、入口の近くで、原材料が薄い膜として回転す
る溝壁の両側面に拡布され、スプレツダの下流に
空所が生じる。この空所を通つて運ばれる薄膜の
表面から揮発性物質を吸引することができるよう
に、空所に真空源が接続されている。また、通路
の円周まわりの所定の位置で、前記薄膜を再拡布
して一つ以上の空所を生じさせ、再拡布された薄
膜の新しい表面を真空にさらすことができる。薄
膜は通路を通つて前方に原材料集積端壁面に向け
て運ばれ、そこで、壁から薄膜がはがされ、排出
のため集積される。
米国特許第4207004号、第4289319号、および第
4300842号は、狭い問隔をあけて配置された相対
的に運動するる同心環状表面、特に、ロータリ・
プロセツサの同心環状表面の間に粘性材料が洩れ
るのを規制する新規なシールに関するものある。
米国特許第4207004号は協同して洩れた粘性液の
流れを妨げるように作用する、一方の表面に設け
た環状吸上げ溝と他方の表面に設けた環状液体保
持溝を開示している。米国特許第4289319号は、
二つの表面間をシールするように挿置された、薄
い硬質弾性材料より成る入子式切頭円錐部材を含
むシールを開示している。米国特許第4300842号
は、二つの表面間の洩れ液の流れを妨げる、一方
の表面に設けた複数のらせん溝を開示している。
4300842号は、狭い問隔をあけて配置された相対
的に運動するる同心環状表面、特に、ロータリ・
プロセツサの同心環状表面の間に粘性材料が洩れ
るのを規制する新規なシールに関するものある。
米国特許第4207004号は協同して洩れた粘性液の
流れを妨げるように作用する、一方の表面に設け
た環状吸上げ溝と他方の表面に設けた環状液体保
持溝を開示している。米国特許第4289319号は、
二つの表面間をシールするように挿置された、薄
い硬質弾性材料より成る入子式切頭円錐部材を含
むシールを開示している。米国特許第4300842号
は、二つの表面間の洩れ液の流れを妨げる、一方
の表面に設けた複数のらせん溝を開示している。
発明が解決しようとする問題点
しかし、上記諸特許はどれも、通路の一つに真
空を引き込むことによるなど、かなり異なる圧力
レベルに維持されるロータリ・プロセツサの通路
間の非粘性、たとえば気体材料の洩れ(圧力洩
れ)を防止する有効なシールを設ける問題にはと
りかかつていない。
空を引き込むことによるなど、かなり異なる圧力
レベルに維持されるロータリ・プロセツサの通路
間の非粘性、たとえば気体材料の洩れ(圧力洩
れ)を防止する有効なシールを設ける問題にはと
りかかつていない。
本発明は、かなり異なる圧力レベルに維持され
る処理用通路間のシールに関し特有の利点が得ら
れる新規な形状をもつ改良型ロータリ・プロセツ
サを目指している。
る処理用通路間のシールに関し特有の利点が得ら
れる新規な形状をもつ改良型ロータリ・プロセツ
サを目指している。
問題点を解決するための手段
本発明のロータリ・プロセツサは、少なくとも
二つの環状溝が設けられた回転要素と、狭いすき
まだけローター表面から離して配置され、前記溝
と協同して少なくとも第1および第2の囲われた
処理用通路を形成するように構成された同心の閉
表面を提供する静止要素より成る。第1の処理用
通路は、静止要素に設けられ通路内で処理される
粘性原材料を受け入れるための入口を有する。第
2の処理用通路は、静止要素に設けられ処理され
た原材料を通路から排出するための出口を有す
る。各通路は、静止要素に設けられ、通路に対し
端壁面を提供する阻止部材を有する。阻止部材
は、通路へ供給された原材料を回転する溝の壁で
前方に端壁面まで運び、ここで前方に運ばれた原
材料の移動を阻止し、阻止した原料を集積して通
路から排出することができるように配置、構成さ
れている。第1の通路内で阻止され集積された原
材料を第2の通路へ転送することができるよう
に、第1の通路と第2の通路を相互に連絡するた
め、原材料転送溝が静止要素の閉表面内に形成さ
れ、第1の通路の端壁面の近くに配置されてい
る。また、プロセツサは、第1の通路と第2の通
路の間にかなりの圧力差が生じる条件のもとで運
転される。たとえば、ある部分的に満された通路
に作用上通じるように真空源を配置、構成するこ
とができる。代りに、部分的に満された通路は比
較的低い圧力の発生を伴うことがある一方、隣り
の通路はプロセツサから処理された原材料を排出
するためなど、極めて高い圧力を発生するよう設
計されてもよい。
二つの環状溝が設けられた回転要素と、狭いすき
まだけローター表面から離して配置され、前記溝
と協同して少なくとも第1および第2の囲われた
処理用通路を形成するように構成された同心の閉
表面を提供する静止要素より成る。第1の処理用
通路は、静止要素に設けられ通路内で処理される
粘性原材料を受け入れるための入口を有する。第
2の処理用通路は、静止要素に設けられ処理され
た原材料を通路から排出するための出口を有す
る。各通路は、静止要素に設けられ、通路に対し
端壁面を提供する阻止部材を有する。阻止部材
は、通路へ供給された原材料を回転する溝の壁で
前方に端壁面まで運び、ここで前方に運ばれた原
材料の移動を阻止し、阻止した原料を集積して通
路から排出することができるように配置、構成さ
れている。第1の通路内で阻止され集積された原
材料を第2の通路へ転送することができるよう
に、第1の通路と第2の通路を相互に連絡するた
め、原材料転送溝が静止要素の閉表面内に形成さ
れ、第1の通路の端壁面の近くに配置されてい
る。また、プロセツサは、第1の通路と第2の通
路の間にかなりの圧力差が生じる条件のもとで運
転される。たとえば、ある部分的に満された通路
に作用上通じるように真空源を配置、構成するこ
とができる。代りに、部分的に満された通路は比
較的低い圧力の発生を伴うことがある一方、隣り
の通路はプロセツサから処理された原材料を排出
するためなど、極めて高い圧力を発生するよう設
計されてもよい。
本発明のロータリ・プロセツサは、異なる圧力
レベルにあるプロセツサの通路間で圧力または原
材料の洩れを規制する新規なシール手段を提供す
る。溝の間のローター表面の部分に設けられロー
ターの全円周まわりに延びている環状シール溝
が、転送溝の下を通過するように配置されている
ので、環状シール溝は、転送溝からの粘性原材料
の一部で満される。転送溝をほゞ完全に満し、転
送溝内の粘性原材料内に圧力を発生させ、シール
溝が転送溝からの加圧された原材料でほゞ完全に
満されるようにする手段が転送溝に通じるように
配置されている。加えて、シール溝を加圧された
原材料で完全に満された状態に維持する手段が設
けられており、この原材料がシール溝全周囲にわ
たつて閉表面に接触するので、プロセツサの通路
間の圧力および(または)原材料の洩れを規制す
る活性(Live)Oリング・シールが形成される。
レベルにあるプロセツサの通路間で圧力または原
材料の洩れを規制する新規なシール手段を提供す
る。溝の間のローター表面の部分に設けられロー
ターの全円周まわりに延びている環状シール溝
が、転送溝の下を通過するように配置されている
ので、環状シール溝は、転送溝からの粘性原材料
の一部で満される。転送溝をほゞ完全に満し、転
送溝内の粘性原材料内に圧力を発生させ、シール
溝が転送溝からの加圧された原材料でほゞ完全に
満されるようにする手段が転送溝に通じるように
配置されている。加えて、シール溝を加圧された
原材料で完全に満された状態に維持する手段が設
けられており、この原材料がシール溝全周囲にわ
たつて閉表面に接触するので、プロセツサの通路
間の圧力および(または)原材料の洩れを規制す
る活性(Live)Oリング・シールが形成される。
本発明の新規なロータリ・プロセツサについて
の詳細およびそのプロセツサから引きだされる利
点については、添付図面に記載された好ましい実
施例の詳細な説明からより完全に理解されよう。
の詳細およびそのプロセツサから引きだされる利
点については、添付図面に記載された好ましい実
施例の詳細な説明からより完全に理解されよう。
実施例
最初に第1図を参照すると、本発明の新規なプ
ロセツサは、ハウジンング16より成る静止要素
と、その中で回転するローター12より成る回転
要素を有する。ローター12には、ローター表面
20から内向きに延びる少なくとも二つの環状溝
21,23が設けられている。ローター12を回
転させる手段は、押出機または粘性または可塑化
された原材料を処理するための同様な装置を回転
させるために一般的に使われる適当な形式のもの
であり、また当該分野では周知であるから、Mで
表示する。静止要素のハウジング16は、溝2
1,23と協同してプロセツサの第1および第2
処理用通路22,24を形成するように配置され
た同心の閉表面18を提供する。部分的に満され
た通路24内を真空に維持するための真空手段が
V(第1図および第2図)で示されており、した
がつて、通路22と24の間にかなりの圧力差が
生じる。適当な真空手段としては、前記米国特許
第4329065号および第4413913号に記載されている
ようなロータリ・プロセツサ内およびスクリユー
押出機の脱蔵部などの脱蔵装置内を真空に維持す
るために一般的に使われるものがある。代わり
に、通路間にかなりの圧力差を維持するために他
の手段(図示せず)を設けることができる。
ロセツサは、ハウジンング16より成る静止要素
と、その中で回転するローター12より成る回転
要素を有する。ローター12には、ローター表面
20から内向きに延びる少なくとも二つの環状溝
21,23が設けられている。ローター12を回
転させる手段は、押出機または粘性または可塑化
された原材料を処理するための同様な装置を回転
させるために一般的に使われる適当な形式のもの
であり、また当該分野では周知であるから、Mで
表示する。静止要素のハウジング16は、溝2
1,23と協同してプロセツサの第1および第2
処理用通路22,24を形成するように配置され
た同心の閉表面18を提供する。部分的に満され
た通路24内を真空に維持するための真空手段が
V(第1図および第2図)で示されており、した
がつて、通路22と24の間にかなりの圧力差が
生じる。適当な真空手段としては、前記米国特許
第4329065号および第4413913号に記載されている
ようなロータリ・プロセツサ内およびスクリユー
押出機の脱蔵部などの脱蔵装置内を真空に維持す
るために一般的に使われるものがある。代わり
に、通路間にかなりの圧力差を維持するために他
の手段(図示せず)を設けることができる。
第3図に示すように、原材料転送溝50(閉表
面18内に形成されている)は、通路22と24
を相互に連絡する。通路22(第3図)は、入口
48と出口50a(共に、閉表面18内に形成さ
れている)、および阻止部材41(ハウジング1
6に組み合わされている)によつて提供され通路
22内で処理された原材料を阻止し、集積し、出
口50aを通して通路から排出するように配置さ
れた端壁面42を有する。通路24(第2図およ
び第3図)は、入口50bと出口52(共に閉表
面18内に形成されている)、および阻止部材4
3(同様に、ハウジング16に組み合わされてい
る)によつて提供され通路24内で処理された原
材料を阻止し、集積して出口52を通して通路か
ら排出するように配置された端壁面44を有す
る。転送溝50(第3図)は、通路22の出口5
0aと、通路24の入口50bを提供し、通路2
2から排出された原材料を通路24へ転送するよ
うに配置されている。
面18内に形成されている)は、通路22と24
を相互に連絡する。通路22(第3図)は、入口
48と出口50a(共に、閉表面18内に形成さ
れている)、および阻止部材41(ハウジング1
6に組み合わされている)によつて提供され通路
22内で処理された原材料を阻止し、集積し、出
口50aを通して通路から排出するように配置さ
れた端壁面42を有する。通路24(第2図およ
び第3図)は、入口50bと出口52(共に閉表
面18内に形成されている)、および阻止部材4
3(同様に、ハウジング16に組み合わされてい
る)によつて提供され通路24内で処理された原
材料を阻止し、集積して出口52を通して通路か
ら排出するように配置された端壁面44を有す
る。転送溝50(第3図)は、通路22の出口5
0aと、通路24の入口50bを提供し、通路2
2から排出された原材料を通路24へ転送するよ
うに配置されている。
操作において、プロセツサの外部から、または
プロセツサの上流側通路または複数の通路からの
粘性原材料は、第3図に示すように、入口48を
通つて通路22に入る、図中、大きな矢印はプロ
セツサを通過する原材料の動きを示す。原材料
は、溝21(第1図)の回転によつて運ばれ、す
なわち引きずられて通路22を通り、第1の通路
22内で処理され、端壁面42(第3図)の所で
原材料の再循環プールとして集積され、通路から
排出される。第1の通路内の処理は、溶解、運
搬、均質化、加圧、脱蔵等、またはこれらの組合
せより成るかも知れない。図示の第1の通路、す
なわち装置22は代表的な通路であり、要求され
た処理機能を実施するため改修することができ
る。集積された粘性原材料は、出口50aを通し
て通路から排出され、転送溝50を通して第2の
通路24へ転送される。入口50bを通つて第2
の通路24に入つた原材料は、溝23(第1図お
よび第2図)の回転によつて運ばれ、すなわち引
きずられて通路24を通る。通路24(第2図お
よび第3図)内で処理された原材料は、端壁面4
4の所で原材料の再循環プールとして集積され、
プロセツサから排出するため、またはプロセツサ
の下流側通路もしくは複数の通路へ転送するた
め、出口52を通して通路から排出される。
プロセツサの上流側通路または複数の通路からの
粘性原材料は、第3図に示すように、入口48を
通つて通路22に入る、図中、大きな矢印はプロ
セツサを通過する原材料の動きを示す。原材料
は、溝21(第1図)の回転によつて運ばれ、す
なわち引きずられて通路22を通り、第1の通路
22内で処理され、端壁面42(第3図)の所で
原材料の再循環プールとして集積され、通路から
排出される。第1の通路内の処理は、溶解、運
搬、均質化、加圧、脱蔵等、またはこれらの組合
せより成るかも知れない。図示の第1の通路、す
なわち装置22は代表的な通路であり、要求され
た処理機能を実施するため改修することができ
る。集積された粘性原材料は、出口50aを通し
て通路から排出され、転送溝50を通して第2の
通路24へ転送される。入口50bを通つて第2
の通路24に入つた原材料は、溝23(第1図お
よび第2図)の回転によつて運ばれ、すなわち引
きずられて通路24を通る。通路24(第2図お
よび第3図)内で処理された原材料は、端壁面4
4の所で原材料の再循環プールとして集積され、
プロセツサから排出するため、またはプロセツサ
の下流側通路もしくは複数の通路へ転送するた
め、出口52を通して通路から排出される。
第1図〜第3図に示すように、通路24は真空
手段Vに通じるように配置されているから、通路
22に対して低圧通路である。通路22と24間
に存在するこの圧力差により、通路間の圧力およ
び(または)原材料の洩れという重要な問題が生
じる。本発明は、この洩れ問題を防止する新規な
シール手段を提供するものである。第1図に戻つ
て、本発明のシール手段は、溝21と23の間の
ローター12の表面20に形成され、ローター表
面20と閉表面18の間のすきま19に対し開い
ているシール溝36より成る。シール溝36の形
は、多様にすることができ、長方形、円形、半円
形、または三角形にしてもよい。
手段Vに通じるように配置されているから、通路
22に対して低圧通路である。通路22と24間
に存在するこの圧力差により、通路間の圧力およ
び(または)原材料の洩れという重要な問題が生
じる。本発明は、この洩れ問題を防止する新規な
シール手段を提供するものである。第1図に戻つ
て、本発明のシール手段は、溝21と23の間の
ローター12の表面20に形成され、ローター表
面20と閉表面18の間のすきま19に対し開い
ているシール溝36より成る。シール溝36の形
は、多様にすることができ、長方形、円形、半円
形、または三角形にしてもよい。
第3図及び第4図に示すように、シール溝36
は、その長さの一部の上の転送溝50に対し開い
ている。ローター12が回転すると、シール溝は
転送溝50の下を通過し、ここで転送溝からの原
材料の一部でほゞ完全に満される。本発明の実施
において、重要なことは、転送溝50を通る圧力
および(または)原材料の洩れが防止される、ま
たは少なくとも最小限になるように、転送溝50
がほとんど満された状態に維持されることであ
る。同等に重要なことは、転送溝50の下を通過
するシール溝36のどの部分も粘性原材料で満さ
れる、または粘性原材料でほゞ満された状態に維
持されるように、転送溝に満ちている原材料は十
分な圧力を受けていることである。したがつて、
操作中、転送溝50をほゞ満された状態に維持
し、かつシール溝36を転送溝50内の原材料の
一部で満す十分な圧力を供給する手段が設けられ
ている。
は、その長さの一部の上の転送溝50に対し開い
ている。ローター12が回転すると、シール溝は
転送溝50の下を通過し、ここで転送溝からの原
材料の一部でほゞ完全に満される。本発明の実施
において、重要なことは、転送溝50を通る圧力
および(または)原材料の洩れが防止される、ま
たは少なくとも最小限になるように、転送溝50
がほとんど満された状態に維持されることであ
る。同等に重要なことは、転送溝50の下を通過
するシール溝36のどの部分も粘性原材料で満さ
れる、または粘性原材料でほゞ満された状態に維
持されるように、転送溝に満ちている原材料は十
分な圧力を受けていることである。したがつて、
操作中、転送溝50をほゞ満された状態に維持
し、かつシール溝36を転送溝50内の原材料の
一部で満す十分な圧力を供給する手段が設けられ
ている。
以上の機能を遂行する手段が、第2図および第
3図に、制御ゲード84として示されている。図
示のように、制御ゲート84は、ハウジング16
の開口16a(第2図)を通過して半径方向に入
口50bの中に延びている。制御ゲート84は、
入口50bを所定の程度に狭めるため、調整ねじ
84a(第2図)によるなど、プロセツサの外部
から調整できるように構成してもよい。したがつ
て、制御ゲート84は、操作中、転送溝50を
ほゞ完全に満された状態に維持するため転送溝5
0内の圧力を選択して調整する能力を提供する。
したがつて、制御ゲート84の配置は、この能力
が得られる限り変えることができる。たとえば、
制御ゲート84は、入口50bとシール溝36の
間で、転送溝内に延びるよう位置決めしてもよい
し、入口50bの下流であつてその近くまで溝2
3内に延びるよう位置決めしてもよい。
3図に、制御ゲード84として示されている。図
示のように、制御ゲート84は、ハウジング16
の開口16a(第2図)を通過して半径方向に入
口50bの中に延びている。制御ゲート84は、
入口50bを所定の程度に狭めるため、調整ねじ
84a(第2図)によるなど、プロセツサの外部
から調整できるように構成してもよい。したがつ
て、制御ゲート84は、操作中、転送溝50を
ほゞ完全に満された状態に維持するため転送溝5
0内の圧力を選択して調整する能力を提供する。
したがつて、制御ゲート84の配置は、この能力
が得られる限り変えることができる。たとえば、
制御ゲート84は、入口50bとシール溝36の
間で、転送溝内に延びるよう位置決めしてもよい
し、入口50bの下流であつてその近くまで溝2
3内に延びるよう位置決めしてもよい。
制御ゲート84は、第2図および第3図に示す
ように、入口50bを狭くして入口50bの上流
側の原材料を加圧し、転送溝50を完全に満し
て、転送溝50を通る真空洩れを規制するよう
に、調整することができる。この加圧は第3図に
小さい矢印Paで示す。この結果、制御ゲート8
4は、端壁面42に集積した原材料のプールの大
きさおよびプール内の圧力を規制するため使うこ
ともできる。端壁面42に集積した原材料は、前
に引用した米国特許第4142805号および第4194841
号に記載されているように、通路22内の粘性原
材料に働く回転溝21の引きずり作用によつてさ
らに加圧される。加えて、転送溝の圧力は、さら
に原材料をシール溝36に押し込めるので、シー
ル溝36が転送溝の下を通過するときシール溝3
6内の原材料が加圧される。したがつて、制御ゲ
ート84は、シール溝36を確実に完全に満し、
かつ転送溝50からシール溝36に入る粘性原材
料内の圧力を制御するように調整することができ
る。シール溝36が転送溝を通過するときシール
溝36に対するこの圧力のの伝達は、第3図及び
第4図に矢印Pcで示す。シール溝36内の粘性
原材料の加圧により、第4図に示すように、原材
料は半径方向外向きに押されて閉表面に接触し、
表面18と20の間に活性(Live)Oリング・
シール39を形成し、シール溝36の加圧された
部分において通路間のすきま19を通る圧力の洩
れを防止する。多くの場合、転送溝50内の加圧
された原材料による溝36内の原材料の加圧で生
じた活性Oリング・シール39によつて、通路2
2と24間のすきま19に有効な密封が得られる
が、ある原材料を使つた、ある処理条件のもとで
は、原材料が形成する活性Oリング・シール39
は、シール溝36から通路22および(または)
24へ原材料が洩れるため、シール溝36によつ
て転送溝50から原材料が運び去られると圧力が
漸減する可能性がある。従つて、第4図の矢印
P′cで示す圧力は矢印Pcで示す圧力より低くなつ
て矢印方向に徐々に減少するかも知れない。転送
溝50から原材料がさらに運ばれると、原材料内
の圧力は、最後には、活性Oリング・シールが破
れる可能性があるレベルまで減少し、その点で通
路22と24間に洩れが生じる。
ように、入口50bを狭くして入口50bの上流
側の原材料を加圧し、転送溝50を完全に満し
て、転送溝50を通る真空洩れを規制するよう
に、調整することができる。この加圧は第3図に
小さい矢印Paで示す。この結果、制御ゲート8
4は、端壁面42に集積した原材料のプールの大
きさおよびプール内の圧力を規制するため使うこ
ともできる。端壁面42に集積した原材料は、前
に引用した米国特許第4142805号および第4194841
号に記載されているように、通路22内の粘性原
材料に働く回転溝21の引きずり作用によつてさ
らに加圧される。加えて、転送溝の圧力は、さら
に原材料をシール溝36に押し込めるので、シー
ル溝36が転送溝の下を通過するときシール溝3
6内の原材料が加圧される。したがつて、制御ゲ
ート84は、シール溝36を確実に完全に満し、
かつ転送溝50からシール溝36に入る粘性原材
料内の圧力を制御するように調整することができ
る。シール溝36が転送溝を通過するときシール
溝36に対するこの圧力のの伝達は、第3図及び
第4図に矢印Pcで示す。シール溝36内の粘性
原材料の加圧により、第4図に示すように、原材
料は半径方向外向きに押されて閉表面に接触し、
表面18と20の間に活性(Live)Oリング・
シール39を形成し、シール溝36の加圧された
部分において通路間のすきま19を通る圧力の洩
れを防止する。多くの場合、転送溝50内の加圧
された原材料による溝36内の原材料の加圧で生
じた活性Oリング・シール39によつて、通路2
2と24間のすきま19に有効な密封が得られる
が、ある原材料を使つた、ある処理条件のもとで
は、原材料が形成する活性Oリング・シール39
は、シール溝36から通路22および(または)
24へ原材料が洩れるため、シール溝36によつ
て転送溝50から原材料が運び去られると圧力が
漸減する可能性がある。従つて、第4図の矢印
P′cで示す圧力は矢印Pcで示す圧力より低くなつ
て矢印方向に徐々に減少するかも知れない。転送
溝50から原材料がさらに運ばれると、原材料内
の圧力は、最後には、活性Oリング・シールが破
れる可能性があるレベルまで減少し、その点で通
路22と24間に洩れが生じる。
本発明の好ましい実施例によれば、通路22と
24間のローター表面20の全周まわわりに有効
な活性Oリング・シールを確実に維持するための
手段を設けることができる。第3図および第4図
に、シール溝36内に運ばれた粘性原材料をさら
に加圧するように配置された部材37として、そ
の手段を示す。図示のように、部材37は、ハウ
ジング16に組み込まれてシール溝36に延びて
シール溝に原材料を留める阻止面38を与え、阻
止面38の上流のシール溝の原材料に背圧を生じ
させる。加圧部材37は、第3図及び第4図に示
すように転送溝50の(図示方向に見て)よりも
上流の近くに配置されるのが好ましく、これによ
り加圧原材料は阻止面38で収集され転送溝50
に排出される。
24間のローター表面20の全周まわわりに有効
な活性Oリング・シールを確実に維持するための
手段を設けることができる。第3図および第4図
に、シール溝36内に運ばれた粘性原材料をさら
に加圧するように配置された部材37として、そ
の手段を示す。図示のように、部材37は、ハウ
ジング16に組み込まれてシール溝36に延びて
シール溝に原材料を留める阻止面38を与え、阻
止面38の上流のシール溝の原材料に背圧を生じ
させる。加圧部材37は、第3図及び第4図に示
すように転送溝50の(図示方向に見て)よりも
上流の近くに配置されるのが好ましく、これによ
り加圧原材料は阻止面38で収集され転送溝50
に排出される。
シール溝36によつて支持された原材料は、加
圧部材37によつて与えられる阻止面38によつ
て阻止され収集される。原材料が徐々に阻止面3
8に向けて溝36によつて引出されるにつれてシ
ール溝36の原材料の圧力が大きくなる。溝36
を通る上流側の大きな圧力の伝達は矢印Pd及び
P′d(第3図及び第4図)で示されている。阻止
面38から回転方向とは反対の方向に伝えられる
圧力(PdおよびP′d)と回転方向に転送溝(及び
制御ゲート84(第2及び第3図)によつて制御
されている)から伝えられる圧力(Pc及びP′c)
とは相互に強化し合うので、連続する“活性Oリ
ング”39(第5図)がシール溝36の全周に渡
つて維持され、通路22と24との間でローター
表面20の全周に渡つてその漏れを制御するシー
ルが与えられる。阻止面38はシール溝36での
原材料の通過を完全に阻止するよう配置されるの
が好ましいが、しかしながら、これとは別に、所
望ならばある程度の原材料が加圧部材37を通過
するようになつていてもよい。阻止面38で留め
られ収集された原材料はシール溝から転送溝50
へ放出され、シール溝36での原材料の滞留時間
と劣化とを制御する。
圧部材37によつて与えられる阻止面38によつ
て阻止され収集される。原材料が徐々に阻止面3
8に向けて溝36によつて引出されるにつれてシ
ール溝36の原材料の圧力が大きくなる。溝36
を通る上流側の大きな圧力の伝達は矢印Pd及び
P′d(第3図及び第4図)で示されている。阻止
面38から回転方向とは反対の方向に伝えられる
圧力(PdおよびP′d)と回転方向に転送溝(及び
制御ゲート84(第2及び第3図)によつて制御
されている)から伝えられる圧力(Pc及びP′c)
とは相互に強化し合うので、連続する“活性Oリ
ング”39(第5図)がシール溝36の全周に渡
つて維持され、通路22と24との間でローター
表面20の全周に渡つてその漏れを制御するシー
ルが与えられる。阻止面38はシール溝36での
原材料の通過を完全に阻止するよう配置されるの
が好ましいが、しかしながら、これとは別に、所
望ならばある程度の原材料が加圧部材37を通過
するようになつていてもよい。阻止面38で留め
られ収集された原材料はシール溝から転送溝50
へ放出され、シール溝36での原材料の滞留時間
と劣化とを制御する。
第1図〜第5図に示したプロセツサでは、第2
の通路24内の圧力は第1の通路22内のそれよ
りかなり低いが、前述の新規なシール手段は、第
1の通路内の圧力が第2の通路内の圧力よりかな
り低い場合でも、かなり高い場合でも、同様に、
第1および第2通路間に有効なシールを提供す
る。
の通路24内の圧力は第1の通路22内のそれよ
りかなり低いが、前述の新規なシール手段は、第
1の通路内の圧力が第2の通路内の圧力よりかな
り低い場合でも、かなり高い場合でも、同様に、
第1および第2通路間に有効なシールを提供す
る。
加圧部材37と阻止面38(第3及び第4図)
とは、通路22と24間のローター表面の全円周
まわりに有効なシールを維持する特に好ましい手
段を提供するが、シールを維持する他の手段も可
能である。たとえば、第6図は、通路22と24
間に有効なシールを維持するため、らせん溝40
がローター表面20の全円周まわりのシール溝3
6内に付加圧力を発生させるようになつている本
発明によるシールを示す。加圧部材37と阻止面
38は、前述のらせん溝40の代替として、また
はそれと協同してシールを強化するために使うこ
とができる。
とは、通路22と24間のローター表面の全円周
まわりに有効なシールを維持する特に好ましい手
段を提供するが、シールを維持する他の手段も可
能である。たとえば、第6図は、通路22と24
間に有効なシールを維持するため、らせん溝40
がローター表面20の全円周まわりのシール溝3
6内に付加圧力を発生させるようになつている本
発明によるシールを示す。加圧部材37と阻止面
38は、前述のらせん溝40の代替として、また
はそれと協同してシールを強化するために使うこ
とができる。
第7図〜第12図は、本発明の特に好ましい実
施例を示す。第7図〜第12図は、脱蔵段の外側
の二つの通路の間に配置された三つの通路より成
る脱蔵段を有するロータリ・プロセツサを示す。
第7図のように、ローター12には、さまざまな
処理機能を行なうように設計された通路を形成す
る複数の溝が設けられている。溝21で形成され
た処理用通路22は、プロセツサへ供給された粘
性原材料を受け入れるように設計された供給通路
である。溝23,25,27でそれぞれ形成され
た脱蔵通路は、脱蔵段を構成する。通路30(溝
29)は混合段を構成する。
施例を示す。第7図〜第12図は、脱蔵段の外側
の二つの通路の間に配置された三つの通路より成
る脱蔵段を有するロータリ・プロセツサを示す。
第7図のように、ローター12には、さまざまな
処理機能を行なうように設計された通路を形成す
る複数の溝が設けられている。溝21で形成され
た処理用通路22は、プロセツサへ供給された粘
性原材料を受け入れるように設計された供給通路
である。溝23,25,27でそれぞれ形成され
た脱蔵通路は、脱蔵段を構成する。通路30(溝
29)は混合段を構成する。
第8図に図解で示すように、各通路は、一つの
通路内で処理された原材料を次の処理のため他の
通路へ転送することができるように配置された原
材料転送溝50,52,54,56により、直列
は相互に連絡されている。転送溝と、それによつ
て提供される入口及び出口と、阻止部材とは、米
国特許第4227816号に記載されているように、ハ
ウジング16に組み合わされた1個またはそれ以
上の取外し可能な転送プレートに設けることがで
きる。
通路内で処理された原材料を次の処理のため他の
通路へ転送することができるように配置された原
材料転送溝50,52,54,56により、直列
は相互に連絡されている。転送溝と、それによつ
て提供される入口及び出口と、阻止部材とは、米
国特許第4227816号に記載されているように、ハ
ウジング16に組み合わされた1個またはそれ以
上の取外し可能な転送プレートに設けることがで
きる。
第7図に示したプロセツサでは、脱蔵段は、ハ
ウジングを貫通する開口17を通して真空マニホ
ルド76に通じている。開口17は、隣り合う脱
蔵通路24,26,28の上に延びている。通路
の円周まわりの真空マニホルド76の位置は、第
8図〜第11図に最もわかり易く示されている。
真空マニホルド76は、脱蔵段の通路を真空排気
するため開口75を通して真空源(図示せず)に
も通じている。また、真空マニホルド76は開口
77を通して真空測定手段(図示せず)にも通じ
ている。代りに、脱蔵段を真空排気する他の適当
な手段を使うことができる。
ウジングを貫通する開口17を通して真空マニホ
ルド76に通じている。開口17は、隣り合う脱
蔵通路24,26,28の上に延びている。通路
の円周まわりの真空マニホルド76の位置は、第
8図〜第11図に最もわかり易く示されている。
真空マニホルド76は、脱蔵段の通路を真空排気
するため開口75を通して真空源(図示せず)に
も通じている。また、真空マニホルド76は開口
77を通して真空測定手段(図示せず)にも通じ
ている。代りに、脱蔵段を真空排気する他の適当
な手段を使うことができる。
脱蔵段は、前に引用した米国特許第4329065号
および第4413913号に記載されているものなど、
他の形式のものを使うことができる。
および第4413913号に記載されているものなど、
他の形式のものを使うことができる。
真空管路の詰りを防止するために、脱蔵段の周
辺に、ハウジング16に結合された周辺リブ80
(第7図および第9図)が配置されている。
辺に、ハウジング16に結合された周辺リブ80
(第7図および第9図)が配置されている。
原材料内での揮発分の気化は、原材料の温度を
下げる働きをするから、少なくとも脱蔵段の側
壁、なるべく、プロセツサのすべての溝とハウジ
ングを加熱する温度制御手段82(第7図)を設
けることにより、プロセツサの脱蔵効率を高める
ことができる。第7図に例示した温度制御手段8
2は、既知の方法で熱伝達流体を通して循環させ
ることができる一連の室であるが、処理操作中原
材料の温度を制御することができる適当な手段を
使用してもよい。
下げる働きをするから、少なくとも脱蔵段の側
壁、なるべく、プロセツサのすべての溝とハウジ
ングを加熱する温度制御手段82(第7図)を設
けることにより、プロセツサの脱蔵効率を高める
ことができる。第7図に例示した温度制御手段8
2は、既知の方法で熱伝達流体を通して循環させ
ることができる一連の室であるが、処理操作中原
材料の温度を制御することができる適当な手段を
使用してもよい。
第7図および第8図は、供給段の通路22を示
す。通路22は、入口48、出口50a、および
通路22に対し端壁面を提供する阻止部材41を
有する。端壁面42は、通路まわりに円周距離の
大部分、入口48から離して配置され、出口50
aの近くに設けられていることが好ましい。操作
中、脱蔵される粘性原材料は、重力または強制供
給により入口48からプロセツサへ供給され、溝
21の中に入る。原材料は、溝21によつて端壁
面42に向けて引きずられる。原材料の大部分は
端壁面によつて保持される結果、拘束された大部
分の原材料と溝の原材料に隣接する回転壁との間
に相対運動が生じる。この相対運動により、前に
引用した米国特許第4194841号に記載されている
ように、原材料が端壁面42に近ずくにつれて、
原材料内の温度と圧力が上昇する。端壁面42
で、原材料は出口50aから排出するため集積さ
れ、転送溝50(第8図)により脱蔵段へ転送さ
れる。転送溝50は、第8図に示すように、通路
22の出口50aと、部分的に満された低圧通路
24、すなわち最初の脱蔵段の最初の通路の入口
50bとを提供する。
す。通路22は、入口48、出口50a、および
通路22に対し端壁面を提供する阻止部材41を
有する。端壁面42は、通路まわりに円周距離の
大部分、入口48から離して配置され、出口50
aの近くに設けられていることが好ましい。操作
中、脱蔵される粘性原材料は、重力または強制供
給により入口48からプロセツサへ供給され、溝
21の中に入る。原材料は、溝21によつて端壁
面42に向けて引きずられる。原材料の大部分は
端壁面によつて保持される結果、拘束された大部
分の原材料と溝の原材料に隣接する回転壁との間
に相対運動が生じる。この相対運動により、前に
引用した米国特許第4194841号に記載されている
ように、原材料が端壁面42に近ずくにつれて、
原材料内の温度と圧力が上昇する。端壁面42
で、原材料は出口50aから排出するため集積さ
れ、転送溝50(第8図)により脱蔵段へ転送さ
れる。転送溝50は、第8図に示すように、通路
22の出口50aと、部分的に満された低圧通路
24、すなわち最初の脱蔵段の最初の通路の入口
50bとを提供する。
通路22内、特に端壁面42の領域内の圧力
は、通路24内のそれよりかなり高い。前述のよ
うに、脱蔵段の上流の図示通路22は、プロセツ
サへ供給された原材料を受け入れるように構成さ
れている。代りに、通路22と24の間にかなり
の圧力差が存在するという条件で、通路22を他
の機能、たとえば上流部からの原材料の受入れ、
溶解すなわち可塑化、混合すなわち均質化、輸
送、加圧、または原材料の脱蔵を行なうように構
成することができる。したがつて、通路22は、
通路24よりかなり高い圧力であつてもよいし、
かなり低い圧力であつてもよい。
は、通路24内のそれよりかなり高い。前述のよ
うに、脱蔵段の上流の図示通路22は、プロセツ
サへ供給された原材料を受け入れるように構成さ
れている。代りに、通路22と24の間にかなり
の圧力差が存在するという条件で、通路22を他
の機能、たとえば上流部からの原材料の受入れ、
溶解すなわち可塑化、混合すなわち均質化、輸
送、加圧、または原材料の脱蔵を行なうように構
成することができる。したがつて、通路22は、
通路24よりかなり高い圧力であつてもよいし、
かなり低い圧力であつてもよい。
第7図〜第11図は、部分的に満された三つの
脱蔵通路、すなわち、第1の脱蔵通路24、中間
の脱蔵通路26、および最後の脱蔵通路28より
成る脱蔵段を示す。脱蔵段の各通路は、真空マニ
ホルド76と開口17を通じ、真空源により脱蔵
段全体に真空が維持されるから、低圧通路であ
る。各脱蔵通路は、原材料を集めて通路から排出
する端壁面44通路に対し提供する阻止部材43
を有する。脱蔵段の円周まわりの各阻止部材43
の間隔は、転送溝50,52,54,56の最適
な設計特性が得られるように選ばれる。阻止部材
43の好ましい配列および転送溝、入口、出口に
対するそれらの関係位置を第8図に図解で示す。
脱蔵通路、すなわち、第1の脱蔵通路24、中間
の脱蔵通路26、および最後の脱蔵通路28より
成る脱蔵段を示す。脱蔵段の各通路は、真空マニ
ホルド76と開口17を通じ、真空源により脱蔵
段全体に真空が維持されるから、低圧通路であ
る。各脱蔵通路は、原材料を集めて通路から排出
する端壁面44通路に対し提供する阻止部材43
を有する。脱蔵段の円周まわりの各阻止部材43
の間隔は、転送溝50,52,54,56の最適
な設計特性が得られるように選ばれる。阻止部材
43の好ましい配列および転送溝、入口、出口に
対するそれらの関係位置を第8図に図解で示す。
真空管路の詰りをできるだけ少なくするため、
原材料を脱蔵段の底面へ転向させる周辺流れ転向
器86(第7図、第9図、第10図、および第1
1図)が各脱蔵通路に設けられている。図示した
流れ転向器86は、流れ転向器ユニツト85(第
7図)の一部であるが、各脱蔵通路に独立した流
れ転向器を使用することができる。
原材料を脱蔵段の底面へ転向させる周辺流れ転向
器86(第7図、第9図、第10図、および第1
1図)が各脱蔵通路に設けられている。図示した
流れ転向器86は、流れ転向器ユニツト85(第
7図)の一部であるが、各脱蔵通路に独立した流
れ転向器を使用することができる。
転送溝52,54は、第8図に示すように、最
初の脱蔵段の通路を相互に連絡するとともに、そ
れぞれ出口52aと入口52bおよび出口54a
と入口54bを提供する。転送溝56は、同様に
第8図に示すように、最初の脱蔵段からの出口5
6aと混合通路30への入口56bを提供する。
初の脱蔵段の通路を相互に連絡するとともに、そ
れぞれ出口52aと入口52bおよび出口54a
と入口54bを提供する。転送溝56は、同様に
第8図に示すように、最初の脱蔵段からの出口5
6aと混合通路30への入口56bを提供する。
操作中、粘性原材料は、入口50bから脱蔵段
の部分的に満された最初の脱蔵通路24(第8図
および第9図)に入り、流れ転向器86によつて
溝23の底部へ向けて転向される。原材料が流れ
転向器86の下流縁を通過するとき(あるいは、
代りに、原材料が入口50bから最初の脱蔵通路
24に入るとき)、原材料は真空マニホルド76
を通して真空源(図示せず)に引かれた真空にさ
らされて、原材料から揮発分が脱離されるので、
原材料の全体積にに泡が形成される。発泡した原
材料は通路を通つて端壁面44に向けて運ばれ、
ここで急速に循環する原材料のプールとして集め
られる。このプール内では、せん断が起つて泡が
破裂し、通路24に開放された揮発分は開口17
および真空マニホルド76を通して除去される。
発泡した原材料は出口52aを通して通路24か
ら排出され、転送溝52を通して中間の脱蔵通路
26(第8図および第10図)へ転送される。揮
発分が気化するとき原材料から失われた熱の一部
は、前述のように、発泡した材料がプロセツサの
加熱された表面に接触するとき戻される。また、
軸動力は熱エネルギーに変換されるので、せん断
領域内での粘性による損失の結果原材料がさらに
加熱される。したがつて、原材料の温度はほとん
ど変らない。
の部分的に満された最初の脱蔵通路24(第8図
および第9図)に入り、流れ転向器86によつて
溝23の底部へ向けて転向される。原材料が流れ
転向器86の下流縁を通過するとき(あるいは、
代りに、原材料が入口50bから最初の脱蔵通路
24に入るとき)、原材料は真空マニホルド76
を通して真空源(図示せず)に引かれた真空にさ
らされて、原材料から揮発分が脱離されるので、
原材料の全体積にに泡が形成される。発泡した原
材料は通路を通つて端壁面44に向けて運ばれ、
ここで急速に循環する原材料のプールとして集め
られる。このプール内では、せん断が起つて泡が
破裂し、通路24に開放された揮発分は開口17
および真空マニホルド76を通して除去される。
発泡した原材料は出口52aを通して通路24か
ら排出され、転送溝52を通して中間の脱蔵通路
26(第8図および第10図)へ転送される。揮
発分が気化するとき原材料から失われた熱の一部
は、前述のように、発泡した材料がプロセツサの
加熱された表面に接触するとき戻される。また、
軸動力は熱エネルギーに変換されるので、せん断
領域内での粘性による損失の結果原材料がさらに
加熱される。したがつて、原材料の温度はほとん
ど変らない。
転送溝52から、原材料は入口52b(第8図
および第10図)を通つて中間の脱蔵通路26に
入り、流れ転向器86の下を通過し、真空にさら
され、せん断を受けるため端壁面44に向つて運
ばれ、出口54aを通つて排出される。原材料
は、転送溝54(第8図)を通過して、入口54
bを通つて部分的に満された最後の脱蔵通路28
(第8図および第11図)に入り、流れ転向器8
6の下を通過する。発泡した原材料は、最後の脱
蔵通路28を通つて端壁面44に向けて運ばれ
る。
および第10図)を通つて中間の脱蔵通路26に
入り、流れ転向器86の下を通過し、真空にさら
され、せん断を受けるため端壁面44に向つて運
ばれ、出口54aを通つて排出される。原材料
は、転送溝54(第8図)を通過して、入口54
bを通つて部分的に満された最後の脱蔵通路28
(第8図および第11図)に入り、流れ転向器8
6の下を通過する。発泡した原材料は、最後の脱
蔵通路28を通つて端壁面44に向けて運ばれ
る。
原材料が脱蔵通路を通して運ばれ、通路間を転
送されるとき、原材料は連続的に真空を受け、事
実上圧力上昇は受けない。したがつて、揮発性物
質の泡は、原材料が最後の脱蔵通路28(第8図
および第11図)の端壁面44に接近するまで、
前述のように、原材料に中で核生成し、成長し、
破裂し続ける。脱蔵段の中で開放された揮発物質
は、真空マニホルド76を通して吸引される。通
路28の端壁面44で集められた原材料は、通路
28の出口56aと通路30の入口56bを提供
する転送溝56(第8図)を通つて、脱蔵段から
混合通路30(第8図および第12図)へ排出さ
れる。上記の脱蔵段は、二つの転送溝で連絡され
た三つの脱蔵通路を有するが、処理条件および処
理する原材料に応じて、さらに多くの通路を設け
ることができる。
送されるとき、原材料は連続的に真空を受け、事
実上圧力上昇は受けない。したがつて、揮発性物
質の泡は、原材料が最後の脱蔵通路28(第8図
および第11図)の端壁面44に接近するまで、
前述のように、原材料に中で核生成し、成長し、
破裂し続ける。脱蔵段の中で開放された揮発物質
は、真空マニホルド76を通して吸引される。通
路28の端壁面44で集められた原材料は、通路
28の出口56aと通路30の入口56bを提供
する転送溝56(第8図)を通つて、脱蔵段から
混合通路30(第8図および第12図)へ排出さ
れる。上記の脱蔵段は、二つの転送溝で連絡され
た三つの脱蔵通路を有するが、処理条件および処
理する原材料に応じて、さらに多くの通路を設け
ることができる。
第8図および第12図に示した混合段の通路3
0は、通路に対し端壁面46を提供する阻止部材
45を有する。端壁面は、通路のまわりに円周距
離の大部分、入口56bから離して配置し、出口
58の近くに設けることが好ましい。操作中、脱
蔵されて通路30に入つた原材料は、回転する溝
29の壁によつて端壁面46に向けて引きずられ
る。原材料の大部分は端壁面46によつて保持さ
れるので、供給段の通路22について説明したと
同じ仕方で通路を通つて移動するにつれて原材料
の温度と圧力が増大する。原材料は端壁面に向つ
て前方に引きずられ続けるので、端壁面に集めら
れた原材料内に強い循環運動が生じる結果、原材
料は激しい混合作用を受ける。端壁面4に集めら
れた原材料は、通路30から、プロセツサのさら
に下流の通路か、それとも出口58を通つてプロ
セツサの外部へ排出される(第8図および第12
図)。
0は、通路に対し端壁面46を提供する阻止部材
45を有する。端壁面は、通路のまわりに円周距
離の大部分、入口56bから離して配置し、出口
58の近くに設けることが好ましい。操作中、脱
蔵されて通路30に入つた原材料は、回転する溝
29の壁によつて端壁面46に向けて引きずられ
る。原材料の大部分は端壁面46によつて保持さ
れるので、供給段の通路22について説明したと
同じ仕方で通路を通つて移動するにつれて原材料
の温度と圧力が増大する。原材料は端壁面に向つ
て前方に引きずられ続けるので、端壁面に集めら
れた原材料内に強い循環運動が生じる結果、原材
料は激しい混合作用を受ける。端壁面4に集めら
れた原材料は、通路30から、プロセツサのさら
に下流の通路か、それとも出口58を通つてプロ
セツサの外部へ排出される(第8図および第12
図)。
通路30内、特に端壁面46の領域内の圧力
は、通路28、すなわち部分的に満された低圧の
脱蔵通路内の圧力よりかなり高い。脱蔵段の下流
の図示通路30は、脱蔵した原材料を混合して均
質な生成物を得るように設計されている。代り
に、通路28と30の間にかなり圧力差が存在す
るという条件で、通路30を他の機能、たとえば
粘性原材料の輸送または加圧、添加剤の授受を行
なうように設計してもよいし、あるいは別の脱蔵
段の一つの通路あつてもよい。したがつて、通路
30は、通路28よりかなり高い圧力でもよい
し、かなり低い圧力であつてもよい。
は、通路28、すなわち部分的に満された低圧の
脱蔵通路内の圧力よりかなり高い。脱蔵段の下流
の図示通路30は、脱蔵した原材料を混合して均
質な生成物を得るように設計されている。代り
に、通路28と30の間にかなり圧力差が存在す
るという条件で、通路30を他の機能、たとえば
粘性原材料の輸送または加圧、添加剤の授受を行
なうように設計してもよいし、あるいは別の脱蔵
段の一つの通路あつてもよい。したがつて、通路
30は、通路28よりかなり高い圧力でもよい
し、かなり低い圧力であつてもよい。
前に説明したように、脱蔵段の通路24は真空
マニホルド76と開口17を通して真空源に通じ
ているから、通路24は通路22に対し低圧通路
である。同様に、脱蔵段の通路28は、混合通路
30に対し低圧通路である。通路24と22の間
および通路28と30の間に存在するこの圧力差
は、通路間の圧力および(または)原材料の洩れ
という重大な問題を引き起す。第7図〜第9図お
よび第12図は、この洩れの問題を有効に制御す
る、本発明の新規なシール手段を示す。最初に、
通路24と22に関して新規なシール手段を説明
する。第7図および第8図に示すように、溝23
と21間のローター12の表面20に形成された
環状シール溝36は、ローター表面20と閉表面
間のすきま19に対し開いている。第1図、第3
図、および第4図について前に説明したように、
シール溝36の形状はさまざまにできるがここで
は長方形で示してある。第8図に略図で示すよう
に、シール溝36はその長さの一部にわたつて転
送溝50に対し開いている。ローター12が回転
すると、シール溝36は転送溝50の下を通過
し、ここで、転送溝50内の原材料の一部でほぼ
完全に満される。
マニホルド76と開口17を通して真空源に通じ
ているから、通路24は通路22に対し低圧通路
である。同様に、脱蔵段の通路28は、混合通路
30に対し低圧通路である。通路24と22の間
および通路28と30の間に存在するこの圧力差
は、通路間の圧力および(または)原材料の洩れ
という重大な問題を引き起す。第7図〜第9図お
よび第12図は、この洩れの問題を有効に制御す
る、本発明の新規なシール手段を示す。最初に、
通路24と22に関して新規なシール手段を説明
する。第7図および第8図に示すように、溝23
と21間のローター12の表面20に形成された
環状シール溝36は、ローター表面20と閉表面
間のすきま19に対し開いている。第1図、第3
図、および第4図について前に説明したように、
シール溝36の形状はさまざまにできるがここで
は長方形で示してある。第8図に略図で示すよう
に、シール溝36はその長さの一部にわたつて転
送溝50に対し開いている。ローター12が回転
すると、シール溝36は転送溝50の下を通過
し、ここで、転送溝50内の原材料の一部でほぼ
完全に満される。
前に説明したように、重要なことは、転送溝5
0を通る圧力の洩れを規制するため操作中転送溝
50は粘性原材料がほぼ完全に満ちている状態に
維持されることである。同等に重要なことは、前
述のように、転送溝50の下を通過するシール溝
36のどの部分も転送溝50から加圧された原材
料でほぼ満された状態に維持されるように、転送
溝50内の原材料が十分な圧力のもとにあること
である。したがつて、操作中、転送溝50をほぼ
完全に満された状態に維持し、かつ転送溝50内
の加圧された原材料の一部でシール溝36を満す
十分な圧力を提供するための手段が設けられてい
る。
0を通る圧力の洩れを規制するため操作中転送溝
50は粘性原材料がほぼ完全に満ちている状態に
維持されることである。同等に重要なことは、前
述のように、転送溝50の下を通過するシール溝
36のどの部分も転送溝50から加圧された原材
料でほぼ満された状態に維持されるように、転送
溝50内の原材料が十分な圧力のもとにあること
である。したがつて、操作中、転送溝50をほぼ
完全に満された状態に維持し、かつ転送溝50内
の加圧された原材料の一部でシール溝36を満す
十分な圧力を提供するための手段が設けられてい
る。
これらの機能を遂行する手段を、制御ゲート8
4として、第8図および第9図に示す。第2図お
よび第3図について詳細に説明した制御ゲート8
4は、転送溝50内の圧力を選択して調整し、操
作中転送溝50をほぼ完全に満された状態に維持
する能力を与える。この転送溝50内の原材料の
加圧によつて、多くの原材料がシール溝36に押
し込められ、シール溝36が転送溝36の下を通
過するときシール溝3内の原材料を加圧する。故
に、制御ゲート84は、シール溝36を確実に完
全に満し、転送溝50からシール溝36に入る原
材料内の圧力を制御するように配置することがで
きる。シール溝36内の原材料の加圧によつて、
第1図〜第5図について前述したように、原材料
は半径方向外向きに押されて表面18に接触し、
表面18と20の間に活性Oリング・シール39
を形成し、シール溝36の加圧された部分におい
て、通路22と24の間で、すきま19を通る圧
力および(または)原材料の洩れが防止される。
4として、第8図および第9図に示す。第2図お
よび第3図について詳細に説明した制御ゲート8
4は、転送溝50内の圧力を選択して調整し、操
作中転送溝50をほぼ完全に満された状態に維持
する能力を与える。この転送溝50内の原材料の
加圧によつて、多くの原材料がシール溝36に押
し込められ、シール溝36が転送溝36の下を通
過するときシール溝3内の原材料を加圧する。故
に、制御ゲート84は、シール溝36を確実に完
全に満し、転送溝50からシール溝36に入る原
材料内の圧力を制御するように配置することがで
きる。シール溝36内の原材料の加圧によつて、
第1図〜第5図について前述したように、原材料
は半径方向外向きに押されて表面18に接触し、
表面18と20の間に活性Oリング・シール39
を形成し、シール溝36の加圧された部分におい
て、通路22と24の間で、すきま19を通る圧
力および(または)原材料の洩れが防止される。
しかし、前述のように、シール39を形成して
いる原材料は、シール溝36によつて転送溝50
から運び去られる原材料内の圧力が漸減する可能
性がある。転送溝50からさらに原材料が運び去
られると、最後には、原材料内の圧力は、活性O
リング・シールが切れて通路22と24の間のあ
る点で洩れを許すレベルにまで低下しよう。
いる原材料は、シール溝36によつて転送溝50
から運び去られる原材料内の圧力が漸減する可能
性がある。転送溝50からさらに原材料が運び去
られると、最後には、原材料内の圧力は、活性O
リング・シールが切れて通路22と24の間のあ
る点で洩れを許すレベルにまで低下しよう。
このため、通路22と24間のローター表面2
0の全円周まわりに有効な活性Oリング・シール
を確実に維持するための手段が設けられる。その
手段を、第8図に、シール溝36内に運ばれた原
材料を加圧するように配列された部材37とで示
す。部材37は、第3図および第4図について前
に詳述したように、シール溝36によつて支持さ
れた原材料を阻止し収集する阻止面を与えてい
る。溝36の回転によつて阻止面38へ運ばれる
原材料が多くなると、シール溝36の原材料の圧
力が大きくなる。この圧力が積み重ねられると、
シール溝36を通して上流へ伝えられ、転送溝5
0から回転方向に伝達された圧力を強化し、これ
により、シール溝36の全円周まわりに連続する
活性Oリング・シール39が維持され、通路22
と24の間のローター表面20の全円周まわりの
圧力および(または)原材料の洩れを規制する有
効なシールが得られる。
0の全円周まわりに有効な活性Oリング・シール
を確実に維持するための手段が設けられる。その
手段を、第8図に、シール溝36内に運ばれた原
材料を加圧するように配列された部材37とで示
す。部材37は、第3図および第4図について前
に詳述したように、シール溝36によつて支持さ
れた原材料を阻止し収集する阻止面を与えてい
る。溝36の回転によつて阻止面38へ運ばれる
原材料が多くなると、シール溝36の原材料の圧
力が大きくなる。この圧力が積み重ねられると、
シール溝36を通して上流へ伝えられ、転送溝5
0から回転方向に伝達された圧力を強化し、これ
により、シール溝36の全円周まわりに連続する
活性Oリング・シール39が維持され、通路22
と24の間のローター表面20の全円周まわりの
圧力および(または)原材料の洩れを規制する有
効なシールが得られる。
上述の新規なシール手段は、通路28と30の
間に有効なシールを提供するために配置すること
もできる。第7図および第8図に示すように、溝
27と29の間のローター12の表面20に形成
された別の環状シール溝36は、溝23と21の
間のシール溝溝36および転送溝50について前
述したのと同じ仕方ですきま19および転送溝5
6に対し開いている。第8図および第12図に示
すように、操作中、転送溝56をほぼ完全に満さ
れた状態に維持し、転送溝56およびシール溝3
6内の原材料を加圧して通路28と30の間に活
性Oリング・シール39を形成するため転送溝5
6内の圧力を制御する能力を与えるため通路30
内には、制御ゲート84が配置されている。通路
28と30の間のシール溝36の両側に延びるよ
うに、阻止面38を与える加圧部材37が付加さ
れている。阻止面38はシール溝36の原材料の
圧力を増大させ、転送溝56から回転方向に伝え
られた圧力を強化し、シール溝36の全円周まわ
りに連続するシール39が維持される。この結
果、通路28と30の間のローター表面20の全
円周まわりの圧力または真空の洩れを規制する有
効なシールが得られる。
間に有効なシールを提供するために配置すること
もできる。第7図および第8図に示すように、溝
27と29の間のローター12の表面20に形成
された別の環状シール溝36は、溝23と21の
間のシール溝溝36および転送溝50について前
述したのと同じ仕方ですきま19および転送溝5
6に対し開いている。第8図および第12図に示
すように、操作中、転送溝56をほぼ完全に満さ
れた状態に維持し、転送溝56およびシール溝3
6内の原材料を加圧して通路28と30の間に活
性Oリング・シール39を形成するため転送溝5
6内の圧力を制御する能力を与えるため通路30
内には、制御ゲート84が配置されている。通路
28と30の間のシール溝36の両側に延びるよ
うに、阻止面38を与える加圧部材37が付加さ
れている。阻止面38はシール溝36の原材料の
圧力を増大させ、転送溝56から回転方向に伝え
られた圧力を強化し、シール溝36の全円周まわ
りに連続するシール39が維持される。この結
果、通路28と30の間のローター表面20の全
円周まわりの圧力または真空の洩れを規制する有
効なシールが得られる。
加圧部材37と阻止面38(第8図)とは、通
路22と24の間および通路28と30の間のロ
ーター表面の全円周まわりに有効な活性Oリン
グ・シールを維持し、したがつて、脱蔵段の周辺
における圧力および(または)原材料の洩れを規
制する特に好ましい手段を提供するものである。
路22と24の間および通路28と30の間のロ
ーター表面の全円周まわりに有効な活性Oリン
グ・シールを維持し、したがつて、脱蔵段の周辺
における圧力および(または)原材料の洩れを規
制する特に好ましい手段を提供するものである。
本発明の新規なシール手段は、前記米国特許第
4329065号および第4413913号に記載されているも
のなど、他の形式のロータリ・プロセツサの脱蔵
段の周辺における圧力および(または)原材料の
洩れを規制する場合に特に有効である。
4329065号および第4413913号に記載されているも
のなど、他の形式のロータリ・プロセツサの脱蔵
段の周辺における圧力および(または)原材料の
洩れを規制する場合に特に有効である。
第1図は、新規なシール手段を含む本発明のロ
ータリ・プロセツサの略断面図、第2図は、第1
図の線−に沿つたロータリ・プロセツサの処
理用通路の略断面図、第3図は、第1図のロータ
リ・プロセツサの通路の転送溝による相互連絡を
示す略図(図中、大きな矢印は一の通路から他の
通路へ粘性原材料が流れる方向を示し、小さい矢
印は新規なシール手段による原材料の加圧を示
す)、第4図は、第1図の−線に沿つたロー
タリ・プロセツサの略断面図、第5図は、シール
溝中での原材料の加圧効果を示す、第1図のロー
タリ・プロセツサの部分断面図、第6図は、新規
はシール手段の代替実施例を含む本発明のロータ
リ・プロセツサの通路の相互連絡を示す略図(図
中、大きな矢印は一の通路から他の通路へ粘性原
材料が流れる方向を示し、小さい矢印は新規なシ
ール手段による原材料の加圧を示す)、第7図は、
脱蔵段と新規なシール手段を含む本発明のロータ
リ・プロセツサの略断面図、第8図は、第7図の
ロータリ・プロセツサの通路の転送溝による相互
連絡と新規なシール手段を示す略図(図中、大き
な矢印は、一の通路から他の通路へ粘性原材料が
流れる方向を示す)、第9図は、第7図の線−
に沿つた第7図の脱蔵段の最初の脱蔵通路の略
断面図、第10図は、第7図の線−に沿つた
第7図の脱蔵段の中間の脱蔵通路の略断面図、第
11図は、第7図の線XI−XIに沿つた第7図の脱
蔵段の最後の脱蔵通路の略断面図、第12図は、
第7図の線XII−XIIに沿つた第7図のロータリ・プ
ロセツサの混合通路の略断面図である。 12……ローター、16……ハウジング、17
……開口、18……閉表面、20……ローター表
面、21,23,25,27,29……溝、22
……受入れ通路、24,26,28……脱蔵通
路、30……混合通路、36……シール溝、37
……加圧部材、38……阻止面、39……活性O
リング・シール、40……らせん溝、41……阻
止部材、42……端壁面、43……阻止部材、4
4……端壁面、45……阻止部材、46……端壁
面、48……入口、50……転送溝、50a……
出口、50b……入口、52……転送溝、52a
……出口、52b……入口、54……転送溝、5
2a……出口、54b……転送溝、56a……出
口、56b……入口、58……出口、75……真
空ポート、76……真空マニホルド、77……開
口、80……周辺リブ、82……温度制御手段、
84……制御ゲート、84a……調整ねじ、86
……制御ゲート、M……ローター回転手段、V…
…真空手段。
ータリ・プロセツサの略断面図、第2図は、第1
図の線−に沿つたロータリ・プロセツサの処
理用通路の略断面図、第3図は、第1図のロータ
リ・プロセツサの通路の転送溝による相互連絡を
示す略図(図中、大きな矢印は一の通路から他の
通路へ粘性原材料が流れる方向を示し、小さい矢
印は新規なシール手段による原材料の加圧を示
す)、第4図は、第1図の−線に沿つたロー
タリ・プロセツサの略断面図、第5図は、シール
溝中での原材料の加圧効果を示す、第1図のロー
タリ・プロセツサの部分断面図、第6図は、新規
はシール手段の代替実施例を含む本発明のロータ
リ・プロセツサの通路の相互連絡を示す略図(図
中、大きな矢印は一の通路から他の通路へ粘性原
材料が流れる方向を示し、小さい矢印は新規なシ
ール手段による原材料の加圧を示す)、第7図は、
脱蔵段と新規なシール手段を含む本発明のロータ
リ・プロセツサの略断面図、第8図は、第7図の
ロータリ・プロセツサの通路の転送溝による相互
連絡と新規なシール手段を示す略図(図中、大き
な矢印は、一の通路から他の通路へ粘性原材料が
流れる方向を示す)、第9図は、第7図の線−
に沿つた第7図の脱蔵段の最初の脱蔵通路の略
断面図、第10図は、第7図の線−に沿つた
第7図の脱蔵段の中間の脱蔵通路の略断面図、第
11図は、第7図の線XI−XIに沿つた第7図の脱
蔵段の最後の脱蔵通路の略断面図、第12図は、
第7図の線XII−XIIに沿つた第7図のロータリ・プ
ロセツサの混合通路の略断面図である。 12……ローター、16……ハウジング、17
……開口、18……閉表面、20……ローター表
面、21,23,25,27,29……溝、22
……受入れ通路、24,26,28……脱蔵通
路、30……混合通路、36……シール溝、37
……加圧部材、38……阻止面、39……活性O
リング・シール、40……らせん溝、41……阻
止部材、42……端壁面、43……阻止部材、4
4……端壁面、45……阻止部材、46……端壁
面、48……入口、50……転送溝、50a……
出口、50b……入口、52……転送溝、52a
……出口、52b……入口、54……転送溝、5
2a……出口、54b……転送溝、56a……出
口、56b……入口、58……出口、75……真
空ポート、76……真空マニホルド、77……開
口、80……周辺リブ、82……温度制御手段、
84……制御ゲート、84a……調整ねじ、86
……制御ゲート、M……ローター回転手段、V…
…真空手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 表面から半径方向内向きに延びている少なく
とも第1および第2の環状の処理用溝が設けられ
たローターより成る回転要素と、ローター表面か
らすきまをあけて配置され前記第1および第2の
環状の処理用通路を閉じるように構成された同心
の閉じ表面を提供する静止要素とから成り、前記
静止要素は、前記第1処理用通路へ粘性原材料を
導入するための入口と、通路内で処理された前記
原材料を集めて通路から排出する端壁を各通路に
提供する阻止部材と、前記第2処理用通路の端壁
の近くに配置され粘性原材料を該第2処理用通路
から排出するための出口と、第1および第2処理
用通路を直列に連結し第1処理用通路の端壁の近
くから第2処理用通路へ延び第1処理用通路から
粘性原材料を排出し排出したその原材料を第2処
理用通路へ転送する原材料転送溝とを備え、操作
中、第1および第2処理用通路間に圧力差が形成
される、粘性原材料を処理するロータリ・プロセ
ツサにおいて、 前記第1および第2処理用通路間の圧力および
原材料の洩れを規制するシール手段を備えてお
り、該シール手段が、 第1および第2処理用通路の間のローター表面
部分に設けられ、該ローター表面部分の全周にわ
たつて延び、ローターが回転するとき前記転送溝
の下を通過するように配置された環状シール溝
と、 前記転送溝を粘性原材料でほゞ完全に満された
状態に維持し、そして転送溝内の原材料を十分な
圧力のもとに維持することにより、転送溝の下を
通過する前記シール溝の部分を転送溝からの加圧
された粘性原材料で満す手段と、 前記シール溝の全周にわたつて、該シール溝を
加圧された原材料でほゞ完全に満された状態に維
持するとともに、該シール溝の全周に渡つて前記
閉じ表面と接触するように半径方向外側に原材料
を押し付け、前記第1処理用通路と前記第2処理
用通路との間のローター表面の全周に活性Oリン
グを維持する手段とから成ることを特徴とするロ
ータリ・プロセツサ。 2 転送溝を原材料でほゞ完全に満された状態に
維持し、かつ転送溝内の原材料を十分な圧力のも
とに維持する前記手段は、静止要素に組み込ま
れ、シール溝の軸方向下流に配置され、第2の処
理用通路へ原材料を転送するために利用可能な断
面積を狭くする制御ゲートより成つていることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のロータ
リ・プロセツサ 3 シール溝を全周に渡つて加圧された原材料で
ほぼ完全に満たされた状態に維持する前記手段は
前記阻止部材に組み込まれた加圧部材を含み、こ
の加圧部材は転送溝の上流の周面近くの位置でシ
ール溝に延びているとともに、シール溝によつて
支持された原材料の流れの少なくとも一部を阻止
する、シール溝に対する阻止面を与えるように配
置され、シール溝によつて支持された原材料を加
圧することを特徴とする特許請求の範囲第1項ま
たは第2項記載のロータリ・プロセツサ。 4 少なくとも一つの通路に作用上通じている真
空手段を備えていることを特徴とする特許請求の
範囲第1項または第2項記載のロータリ・プロセ
ツサ。 5 前記処理用通路は、 (イ) 操作中原材料から揮発性物質を脱離し脱蔵段
の通路内に開放し、真空手段によりプロセツサ
から除去することができるように真空手段に作
用上通じるように配置された一つまたはそれ以
上の処理用通路を有していて、ロータリ・プロ
セツサ内で処理される粘性原材料を脱蔵するた
めの脱蔵段、 (ロ) 少なくとも一つの処理用通路より成り、前記
脱蔵段の上流にあつてそれに隣接している第1
の付加処理用段、および (ハ) 少なくとも一つの処理用通路より成り前記脱
蔵段の下流にあつてそれに隣接している第2の
付加処理用段、 を含む複数の処理用段を提供し、そして前記脱蔵
段の真空排気が前記脱蔵段と前記第1の付加処理
用段との間、および前記脱蔵段と前記第2の付加
処理用段との間に圧力差を生じさせるようになつ
ており、前記脱蔵段と前記第1の付加処理用段と
の間および前記脱蔵段と前記第2の付加処理用段
との間の圧力および原材料の洩れを規制するシー
ル手段は、 前記脱蔵段と前記第1の付加処理用段との間お
よび前記脱蔵段と前記第2の付加処理用段との間
のローター表面の部分に設けられ、そのローター
表面の全円周にわたつて延び、ローターが回転す
ると段を相互に連絡している転送溝の下を通過す
るように配置された環状シール溝と、 静止要素に組み込まれ、各シール溝の軸方向下
流に配置され、段を相互に連絡している転送溝内
の各制御ゲートの上流の原材料が加圧され、転送
溝からの加圧された粘性原材料で段を相互に連絡
している転送溝およびシール溝を完全に満すよう
に、段の間で原材料を転送するために利用可能な
断面積を挟めるための制御ゲートと、 前記静止要素に組み込まれ、転送溝の上流部分
の周面に隣接する位置で各シール溝に延びてお
り、各シール溝によつて支持された原材料の流れ
の少なくとも一部を阻止するとともに各シール溝
を加圧粘性原材料でほぼ完全に満たした状態に維
持し、各シール溝の全周に渡つて閉表面と接触す
るように半径方向外側に原材料を押しつけて、前
記複数の段の間のローター表面の全周に活性Oリ
ングを維持する加圧部材と、 から成ることを特徴とする特許請求の範囲第1項
に記載のロータリ・プロセツサ。 6 前記第1の付加処理用段は原材料供給手段で
あり、前記第2の付加処理用段は混合段であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第5項記載のロー
タリ・プロセツサ。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US532165 | 1983-09-14 | ||
US06/532,165 US4480923A (en) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | Rotary processors and seals |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6090718A JPS6090718A (ja) | 1985-05-21 |
JPH0567408B2 true JPH0567408B2 (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=24120621
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59193805A Granted JPS6090718A (ja) | 1983-09-14 | 1984-09-14 | ロータリ・プロセツサ |
Country Status (9)
Country | Link |
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US (1) | US4480923A (ja) |
JP (1) | JPS6090718A (ja) |
CA (1) | CA1237425A (ja) |
DE (1) | DE3433833C2 (ja) |
FR (1) | FR2551678A1 (ja) |
GB (1) | GB2147220B (ja) |
IT (1) | IT1206720B (ja) |
NL (1) | NL8402841A (ja) |
SE (1) | SE8404593L (ja) |
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-
1983
- 1983-09-14 US US06/532,165 patent/US4480923A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-09-10 CA CA000462780A patent/CA1237425A/en not_active Expired
- 1984-09-11 GB GB08422892A patent/GB2147220B/en not_active Expired
- 1984-09-13 SE SE8404593A patent/SE8404593L/xx not_active Application Discontinuation
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- 1984-09-14 IT IT8422663A patent/IT1206720B/it active
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