JPH0560590A - 液位検知装置 - Google Patents
液位検知装置Info
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- JPH0560590A JPH0560590A JP3225993A JP22599391A JPH0560590A JP H0560590 A JPH0560590 A JP H0560590A JP 3225993 A JP3225993 A JP 3225993A JP 22599391 A JP22599391 A JP 22599391A JP H0560590 A JPH0560590 A JP H0560590A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は流体を用いて被測定液体の液位を検知
する液位検知装置に関し、被測定液体に汚染を発生させ
ることなく安定した液位検知を行うことを目的とする。 【構成】一定圧の流体を供給する流体供給装置２と、流
体の流量を測定する流量測定装置３と、管状部材に所定
の間隔で複数の孔４ａ〜４ｄが形成されると共に上記流
体供給装置２より流体が供給される構成とされており、
液位を測定される被測定液体６内に挿入されるセンサヘ
ッド４とにより構成する。上記孔４ａ〜４ｄは、被測定
液体６の液位変化に伴い開放または閉塞される。
する液位検知装置に関し、被測定液体に汚染を発生させ
ることなく安定した液位検知を行うことを目的とする。 【構成】一定圧の流体を供給する流体供給装置２と、流
体の流量を測定する流量測定装置３と、管状部材に所定
の間隔で複数の孔４ａ〜４ｄが形成されると共に上記流
体供給装置２より流体が供給される構成とされており、
液位を測定される被測定液体６内に挿入されるセンサヘ
ッド４とにより構成する。上記孔４ａ〜４ｄは、被測定
液体６の液位変化に伴い開放または閉塞される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液位検知装置に係り、特
に流体を用いて被測定液体の液位を検知する液位検知装
置に関する。
に流体を用いて被測定液体の液位を検知する液位検知装
置に関する。
【０００２】例えば、半導体製造工程においては、ウエ
ハの洗浄工程があり、洗浄液の液量管理が重要となる。
仮に、洗浄液が不足した状態でウエハの洗浄を行った場
合、ウエハの洗浄が十分に行えず、歩留りの低下等を引
き起こしてしまう。
ハの洗浄工程があり、洗浄液の液量管理が重要となる。
仮に、洗浄液が不足した状態でウエハの洗浄を行った場
合、ウエハの洗浄が十分に行えず、歩留りの低下等を引
き起こしてしまう。
【０００３】この液量管理を行う手段として、液位検知
装置を用いた方法が知られている。この管理方法は、タ
ンクに充填されている洗浄液の液位を液位検知装置によ
り検出し、この検出結果により洗浄液の不足を検出する
構成とされている。
装置を用いた方法が知られている。この管理方法は、タ
ンクに充填されている洗浄液の液位を液位検知装置によ
り検出し、この検出結果により洗浄液の不足を検出する
構成とされている。
【０００４】半導体製造に用いられる洗浄液は高純度で
あることが必要とされており、よって、洗浄液（被測定
液体）を汚染させることなくかつ正確に液位の検知を行
いうる液位検知装置が望まれている。
あることが必要とされており、よって、洗浄液（被測定
液体）を汚染させることなくかつ正確に液位の検知を行
いうる液位検知装置が望まれている。
【０００５】
【従来の技術】従来用いられている液位検知装置（液位
センサ）としては、フロートセンサ，超音波センサ，反
射型光学センサ，静電容量センサ等が知られている。
センサ）としては、フロートセンサ，超音波センサ，反
射型光学センサ，静電容量センサ等が知られている。
【０００６】フロートセンサは、フロートを被測定液体
上に浮かべ、液位の変化に伴い移動するフロートの位置
を検出することにより液位検知を行う構成のセンサであ
る。
上に浮かべ、液位の変化に伴い移動するフロートの位置
を検出することにより液位検知を行う構成のセンサであ
る。
【０００７】また、超音波センサ及び反射型光学センサ
は、被測定液体の液面上に超音波または光を照射し、そ
の反射音または反射光を検出することにより液位検知を
行う構成のセンサである。
は、被測定液体の液面上に超音波または光を照射し、そ
の反射音または反射光を検出することにより液位検知を
行う構成のセンサである。
【０００８】また、静電容量センサは、電極と被測定液
体間の静電容量が充填されている被測定液体量により変
化することを利用し、この静電容量変化を検知すること
により液位検知を行う構成のセンサである。
体間の静電容量が充填されている被測定液体量により変
化することを利用し、この静電容量変化を検知すること
により液位検知を行う構成のセンサである。
【０００９】従来、半導体製造装置に適用される液位検
知装置としては、比較的小型であり、かつ被測定液体に
汚染が発生する可能性の少ない静電容量センサが多様さ
れていた。
知装置としては、比較的小型であり、かつ被測定液体に
汚染が発生する可能性の少ない静電容量センサが多様さ
れていた。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上記の各セ
ンサの内フロートセンサは、被測定液体に樹脂等により
形成されたフロートを浮かべる必要があり、経時的にフ
ロートが汚れ、被測定液体に汚染が生じるおそれがあ
り、またフロートを被測定液体が充填されたタンク内に
配設しなければならないため、タンクが大型化してしま
うという問題点があった。
ンサの内フロートセンサは、被測定液体に樹脂等により
形成されたフロートを浮かべる必要があり、経時的にフ
ロートが汚れ、被測定液体に汚染が生じるおそれがあ
り、またフロートを被測定液体が充填されたタンク内に
配設しなければならないため、タンクが大型化してしま
うという問題点があった。
【００１１】また、超音波センサや反射型光学センサ
は、超音波の発振，受信装置や発光素子，受光素子等の
電子機器が必要となり、装置構成が複雑となり液位検知
装置のコストが高くなるという問題点があった。また、
液面に揺れが生じている場合には、液位測定を行うこと
が困難になるという問題点があった。
は、超音波の発振，受信装置や発光素子，受光素子等の
電子機器が必要となり、装置構成が複雑となり液位検知
装置のコストが高くなるという問題点があった。また、
液面に揺れが生じている場合には、液位測定を行うこと
が困難になるという問題点があった。
【００１２】更に、静電容量センサでは、上記した各セ
ンサに比べて小型で汚染の発生を抑制できるものの、温
度による影響を受け易く、また静電容量による測定であ
るため被測定液体の付着により誤動作し易いという問題
点があった。また静電容量センサでは、汚染発生防止の
面よりダイヤフラム等の金属部品が被測定液体と接触し
ないよう樹脂等により封止するする必要があり、静電容
量センサの製造工程が複雑になるという問題点があっ
た。
ンサに比べて小型で汚染の発生を抑制できるものの、温
度による影響を受け易く、また静電容量による測定であ
るため被測定液体の付着により誤動作し易いという問題
点があった。また静電容量センサでは、汚染発生防止の
面よりダイヤフラム等の金属部品が被測定液体と接触し
ないよう樹脂等により封止するする必要があり、静電容
量センサの製造工程が複雑になるという問題点があっ
た。
【００１３】本発明は上記の点に鑑みてなされたもので
あり、被測定液体に汚染を発生させることなく安定した
液位検知を行い得る液位検知装置を提供することを目的
とする。
あり、被測定液体に汚染を発生させることなく安定した
液位検知を行い得る液位検知装置を提供することを目的
とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、一定圧の流体を供給する流体供給装置
と、上記流体の流量を測定する流量測定装置と、管状部
材に所定の間隔で複数の孔が形成されると共に上記流体
供給装置より流体が供給される構成とされており、液位
を測定される被測定液体内に挿入されるセンサヘッドと
により液位検知装置を構成したことを特徴とするもので
ある。
に、本発明では、一定圧の流体を供給する流体供給装置
と、上記流体の流量を測定する流量測定装置と、管状部
材に所定の間隔で複数の孔が形成されると共に上記流体
供給装置より流体が供給される構成とされており、液位
を測定される被測定液体内に挿入されるセンサヘッドと
により液位検知装置を構成したことを特徴とするもので
ある。
【００１５】
【作用】液位検知装置を上記の構成とすることにより、
センサヘッドには流体供給装置から一定圧の流体が供給
される。センサヘッドは被測定液体内に挿入されている
ため、センサヘッドに形成されている複数の孔は、被測
定液体の液面の位置により上方にある孔は開放され、ま
た液面の位置により下方（液中）にあるものは被測定液
体により閉塞される。
センサヘッドには流体供給装置から一定圧の流体が供給
される。センサヘッドは被測定液体内に挿入されている
ため、センサヘッドに形成されている複数の孔は、被測
定液体の液面の位置により上方にある孔は開放され、ま
た液面の位置により下方（液中）にあるものは被測定液
体により閉塞される。
【００１６】センサヘッドに形成されている複数の孔が
全て閉塞されている場合は、全ての孔より流体は流出し
ないためセンサヘッドの流体抵抗は大きく、流体の流量
は低下する。一方、複数の孔に開放されているものがあ
ると、開放されている孔の数に対応してセンサヘッドの
流体抵抗は小さくなり、これに伴い流体の流量は多くな
る。従って、流体の流量を流量測定装置で測定すること
により、被測定液体の液位の位置を検出することができ
る。
全て閉塞されている場合は、全ての孔より流体は流出し
ないためセンサヘッドの流体抵抗は大きく、流体の流量
は低下する。一方、複数の孔に開放されているものがあ
ると、開放されている孔の数に対応してセンサヘッドの
流体抵抗は小さくなり、これに伴い流体の流量は多くな
る。従って、流体の流量を流量測定装置で測定すること
により、被測定液体の液位の位置を検出することができ
る。
【００１７】
【実施例】次に本発明の実施例について図面と共に説明
する。図１は本発明の一実施例である液位検知装置（液
位センサ）１の構成図である。液位センサ１は、大略す
ると、ガス供給装置２、流量測定装置３、及びセンサー
ヘッド４とにより構成されている。また、５は被測定液
体６（例えば、ウェハの洗浄剤）が充填された容器であ
り、液位センサ１は、この容器５内における被測定液体
６の液位を測定するものである。
する。図１は本発明の一実施例である液位検知装置（液
位センサ）１の構成図である。液位センサ１は、大略す
ると、ガス供給装置２、流量測定装置３、及びセンサー
ヘッド４とにより構成されている。また、５は被測定液
体６（例えば、ウェハの洗浄剤）が充填された容器であ
り、液位センサ１は、この容器５内における被測定液体
６の液位を測定するものである。
【００１８】ガス供給装置２は、例えば窒素ガス（Ｎ2
ガス）等の不活性ガスが充填されたボンベ７と、このボ
ンベ７より送り出されるＮ2 ガスの圧力を一定に保つ機
能を奏する圧力安定器９と、Ｎ2 ガスに含まれる塵埃等
を除去するフィルター１０とにより構成されている。
ガス）等の不活性ガスが充填されたボンベ７と、このボ
ンベ７より送り出されるＮ2 ガスの圧力を一定に保つ機
能を奏する圧力安定器９と、Ｎ2 ガスに含まれる塵埃等
を除去するフィルター１０とにより構成されている。
【００１９】ボンベ７に充填されたＮ2 ガスは、液位検
知の媒体となるものであり、被測定液体６が反応して汚
染されないよう不活性ガスが選定されている。ボンベ７
は圧力安定器９に略一定圧力でＮ2 ガスを供給するが、
若干の圧力変動が生じた場合でも圧力安定器９により流
量測定装置３に供給されるＮ2 ガスの圧力は一定に保た
れるよう構成されている。
知の媒体となるものであり、被測定液体６が反応して汚
染されないよう不活性ガスが選定されている。ボンベ７
は圧力安定器９に略一定圧力でＮ2 ガスを供給するが、
若干の圧力変動が生じた場合でも圧力安定器９により流
量測定装置３に供給されるＮ2 ガスの圧力は一定に保た
れるよう構成されている。
【００２０】尚、フィルター１０はＮ2 ガスに含まれる
塵埃等を除去することにより、被測定液体６に汚染が生
じるのを防止している。
塵埃等を除去することにより、被測定液体６に汚染が生
じるのを防止している。
【００２１】流量測定装置３は、後述するセンサーヘッ
ド４に流入するＮ2ガスの流量を測定する流量計１１
と、流量計１１から出力される流量信号（アナログ信
号）をデジタル変換するアナログ／デジタル変換器（Ａ
／Ｄコンバータ）１２と、Ａ／Ｄコンバータ１２でデジ
タル化された流量信号に基づき液位の演算を行うコンピ
ュータ１３とにより構成されている。
ド４に流入するＮ2ガスの流量を測定する流量計１１
と、流量計１１から出力される流量信号（アナログ信
号）をデジタル変換するアナログ／デジタル変換器（Ａ
／Ｄコンバータ）１２と、Ａ／Ｄコンバータ１２でデジ
タル化された流量信号に基づき液位の演算を行うコンピ
ュータ１３とにより構成されている。
【００２２】流量計１１は、例えば構造の比較的簡単
で、Ｎ2 ガスを汚染する可能性の少ない流量計が選定さ
れている。また、コンピュータ１３には図示しないディ
スプレイ装置が接続されおり、コンピュータ１３で演算
された液位をディスプレイ装置に表示する構成となって
いる。
で、Ｎ2 ガスを汚染する可能性の少ない流量計が選定さ
れている。また、コンピュータ１３には図示しないディ
スプレイ装置が接続されおり、コンピュータ１３で演算
された液位をディスプレイ装置に表示する構成となって
いる。
【００２３】センサーヘッド４は、例えばガラス管等の
管材であり、その先端部及び側部には所定の間隔で複数
（本実施例では４個）の孔４ａ〜４ｄが穿設されてい
る。このように、センサーヘッド４は単にガラス管に孔
４ａ〜４ｄを形成しただけの構成であるため容易に形成
することができ、かつ管材であるためその形状は小さ
く、開口部や断面積が小さい小型容器に対しても装着す
ることができる。また、このセンサーヘッド４は被測定
液体６内に挿入され直接被測定液体６と接触するもので
あるため、その材質としては被測定液体６を汚染するこ
との無い材質（例えば、本実施例のようにガラス材）が
選定されている。
管材であり、その先端部及び側部には所定の間隔で複数
（本実施例では４個）の孔４ａ〜４ｄが穿設されてい
る。このように、センサーヘッド４は単にガラス管に孔
４ａ〜４ｄを形成しただけの構成であるため容易に形成
することができ、かつ管材であるためその形状は小さ
く、開口部や断面積が小さい小型容器に対しても装着す
ることができる。また、このセンサーヘッド４は被測定
液体６内に挿入され直接被測定液体６と接触するもので
あるため、その材質としては被測定液体６を汚染するこ
との無い材質（例えば、本実施例のようにガラス材）が
選定されている。
【００２４】上記構成とされた液位センサ１の動作につ
いて以下説明する。
いて以下説明する。
【００２５】ガス供給装置３は、ボンベ７に充填されて
いるＮ2 ガスを流量測定装置３を介してセンサヘッド４
に向け供給する。この際、圧力安定器９により供給され
るＮ 2 ガスの圧力は一定になるよう構成されており、ま
たＮ2 ガスに塵埃が含まれているような場合でも、フィ
ルタ１０によりこの塵埃は除去されるため、センサヘッ
ド４に供給されるＮ2 ガスはクリーンな状態となってい
る。また、流量測定装置３はセンサヘッド４に流入する
Ｎ2 ガスの流量を測定する。
いるＮ2 ガスを流量測定装置３を介してセンサヘッド４
に向け供給する。この際、圧力安定器９により供給され
るＮ 2 ガスの圧力は一定になるよう構成されており、ま
たＮ2 ガスに塵埃が含まれているような場合でも、フィ
ルタ１０によりこの塵埃は除去されるため、センサヘッ
ド４に供給されるＮ2 ガスはクリーンな状態となってい
る。また、流量測定装置３はセンサヘッド４に流入する
Ｎ2 ガスの流量を測定する。
【００２６】この流量測定装置３で測定されるＮ2 ガス
の流量は、被測定液体６の液位変化に対応して変化す
る。この理由を図２を用いて以下説明する。
の流量は、被測定液体６の液位変化に対応して変化す
る。この理由を図２を用いて以下説明する。
【００２７】同図（Ａ）は、被測定液体６が容器５に満
たされた状態を示しており、この状態において被測定液
体６の液面６ａは、センサヘッド４の最上位置に形成さ
れている孔４ａよりも高い位置にある。従って、センサ
ヘッド４に形成されている孔４ａ〜４ｄは全て被測定液
体６により閉塞された状態となっている。
たされた状態を示しており、この状態において被測定液
体６の液面６ａは、センサヘッド４の最上位置に形成さ
れている孔４ａよりも高い位置にある。従って、センサ
ヘッド４に形成されている孔４ａ〜４ｄは全て被測定液
体６により閉塞された状態となっている。
【００２８】このように、全ての孔４ａ〜４ｄが閉塞さ
れた状態のセンサヘッド４は、流体抵抗が大きいため、
ガス供給装置２から一定圧のＮ2 ガスが供給されても、
センサヘッド４に流れ込むＮ2 ガスの流量は少なくな
る。
れた状態のセンサヘッド４は、流体抵抗が大きいため、
ガス供給装置２から一定圧のＮ2 ガスが供給されても、
センサヘッド４に流れ込むＮ2 ガスの流量は少なくな
る。
【００２９】これに対して、同図（Ｂ）に示すように被
測定液体６の充填量が減り、液面６ａが孔４ａと孔４ｂ
との間に位置するようになると、センサヘッド４の最上
位置に形成されている孔４ａは開放される。これによ
り、Ｎ2 ガスは孔４ａより外部に流出するため（流出す
るＮ2 ガスを矢印で示す）、センサヘッド４の流体抵抗
は孔４ａ〜４ｄが全閉している同図（Ａ）の状態よりも
低くなり、これに伴いセンサヘッド４を流れるＮ2 ガス
の流量は多くなる。
測定液体６の充填量が減り、液面６ａが孔４ａと孔４ｂ
との間に位置するようになると、センサヘッド４の最上
位置に形成されている孔４ａは開放される。これによ
り、Ｎ2 ガスは孔４ａより外部に流出するため（流出す
るＮ2 ガスを矢印で示す）、センサヘッド４の流体抵抗
は孔４ａ〜４ｄが全閉している同図（Ａ）の状態よりも
低くなり、これに伴いセンサヘッド４を流れるＮ2 ガス
の流量は多くなる。
【００３０】更に被測定液体６の液面６ａが低下し、同
図（Ｃ）に示す状態となると、孔４ａに加えて孔４ｂも
開放される。このため、センサヘッド４の流体抵抗は更
に低下し、これに伴いセンサヘッド４を流れるＮ2 ガス
の流量も更に増大する。
図（Ｃ）に示す状態となると、孔４ａに加えて孔４ｂも
開放される。このため、センサヘッド４の流体抵抗は更
に低下し、これに伴いセンサヘッド４を流れるＮ2 ガス
の流量も更に増大する。
【００３１】上記のように、液位センサ１では、被測定
液体６の液位の変化をセンサヘッド４を流れるＮ2 ガス
の流量変化として検知し、これを流量測定装置３により
測定することにより液位を検知する。コンピュータ１３
には、予め、Ｎ2 ガスの流量と、これに対応する液位の
値が２元マップとして記憶装置内に格納されており、よ
ってコンピュータ１３は流量計１１からＡ／Ｄコンバー
タ１２を介して供給される流量信号に基づき、上記マッ
プから流量に対応した液位を算出する。
液体６の液位の変化をセンサヘッド４を流れるＮ2 ガス
の流量変化として検知し、これを流量測定装置３により
測定することにより液位を検知する。コンピュータ１３
には、予め、Ｎ2 ガスの流量と、これに対応する液位の
値が２元マップとして記憶装置内に格納されており、よ
ってコンピュータ１３は流量計１１からＡ／Ｄコンバー
タ１２を介して供給される流量信号に基づき、上記マッ
プから流量に対応した液位を算出する。
【００３２】上記の液位センサ１によれば、被測定液体
６内にはガラス管等よりなるセンサヘッド４が挿入装着
されるだけで液位検出を行えるため、被測定液体６に汚
染が生じることはなく、また流量測定装３をセンサヘッ
ド４と分離できるため、流量測定装３に汚染防止のため
の構成を施す必要が無くなるため、液位センサ１の構造
の簡単化を図ることができる。
６内にはガラス管等よりなるセンサヘッド４が挿入装着
されるだけで液位検出を行えるため、被測定液体６に汚
染が生じることはなく、また流量測定装３をセンサヘッ
ド４と分離できるため、流量測定装３に汚染防止のため
の構成を施す必要が無くなるため、液位センサ１の構造
の簡単化を図ることができる。
【００３３】また、液位センサ１は、センサヘッド４に
形成された孔４ａ〜４ｄの形成位置で液位を検知する、
いわゆる多点測定タイプの液位センサであるが、従来の
多点測定タイプの液位センサは、測定点毎にセンサを配
置する構造であったため、多数のセンサを必要とし、そ
の構造が複雑であった。これに対して液位センサ１は、
測定点には孔４ａ〜４ｄを形成するだけで測定が可能で
あるため、センサ構造を簡単にすることができる。
形成された孔４ａ〜４ｄの形成位置で液位を検知する、
いわゆる多点測定タイプの液位センサであるが、従来の
多点測定タイプの液位センサは、測定点毎にセンサを配
置する構造であったため、多数のセンサを必要とし、そ
の構造が複雑であった。これに対して液位センサ１は、
測定点には孔４ａ〜４ｄを形成するだけで測定が可能で
あるため、センサ構造を簡単にすることができる。
【００３４】尚、上記した実施例ではセンサヘッド４に
４個の孔４ａ〜４ｄを形成した構成を示したが、形成さ
れる孔の数は、必要とされる液位検知の精度に対応させ
て適宜選定すればよい。
４個の孔４ａ〜４ｄを形成した構成を示したが、形成さ
れる孔の数は、必要とされる液位検知の精度に対応させ
て適宜選定すればよい。
【００３５】また、液位測定を行うために用いるガスは
Ｎ2 ガスに限定されるものではなく、同様にセンサヘッ
ド４の材質もガラスに限定されるものではない。これら
の材質の選定は、被測定液体６を検討し、この被測定液
体６に汚染を生じさせない材質を選定すればよい。
Ｎ2 ガスに限定されるものではなく、同様にセンサヘッ
ド４の材質もガラスに限定されるものではない。これら
の材質の選定は、被測定液体６を検討し、この被測定液
体６に汚染を生じさせない材質を選定すればよい。
【００３６】
【発明の効果】上述の如く本発明によれば、被測定液体
に汚染を発生させることなく安定した液位検知を行うこ
とができる等の特徴を有する。
に汚染を発生させることなく安定した液位検知を行うこ
とができる等の特徴を有する。
【図１】本発明の一実施例である液位センサの構成図で
ある。
ある。
【図２】図１に示す液位センサの液位測定の原理を説明
するための図である。
するための図である。
１ 液位センサ（液位検知装置） ２ ガス供給装置 ３ 流量測定装置 ４ センサヘッド ４ａ〜４ｂ 孔 ５ 容器 ６ 被測定液体 ７ ボンベ ９ 圧力安定器 １０ フィルタ １１ 流量計 １２ Ａ／Ｄコンバータ １３ コンピュータ
Claims (3)
- 【請求項１】 一定圧の流体を供給する流体供給装置
（２）と、 該流体の流量を測定する流量測定装置（３）と、 管状部材に所定の間隔で複数の孔（４ａ〜４ｄ）が形成
されると共に該流体供給装置（２）より該流体が供給さ
れる構成とされており、液位を測定される被測定液体
（６）内に挿入されるセンサヘッド（４）とにより構成
されることを特徴とする液位検知装置。 - 【請求項２】 該センサヘッド（４）は、該被測定液体
（６）の液位変化に伴い、上記所定間隔で形成されてい
る孔（４ａ〜４ｄ）が開放または閉塞されることを特徴
とする請求項１の液位検知装置。 - 【請求項３】 該流体は不活性ガスであることを特徴と
する請求項１の液位検知装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3225993A JPH0560590A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 液位検知装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3225993A JPH0560590A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 液位検知装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0560590A true JPH0560590A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16838114
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3225993A Withdrawn JPH0560590A (ja) | 1991-09-05 | 1991-09-05 | 液位検知装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0560590A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09145447A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Hideyo Katayama | 液面レベル測定装置および液面レベル測定方法 |
-
1991
- 1991-09-05 JP JP3225993A patent/JPH0560590A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09145447A (ja) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Hideyo Katayama | 液面レベル測定装置および液面レベル測定方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981203 |