JPH0560582A - Manufacture of three-dimensional image display panel - Google Patents

Manufacture of three-dimensional image display panel

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Publication number
JPH0560582A
JPH0560582A JP22145791A JP22145791A JPH0560582A JP H0560582 A JPH0560582 A JP H0560582A JP 22145791 A JP22145791 A JP 22145791A JP 22145791 A JP22145791 A JP 22145791A JP H0560582 A JPH0560582 A JP H0560582A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
weight
resin film
photocurable resin
display panel
photopolymerizable
Prior art date
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Pending
Application number
JP22145791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiharu Otsuka
敏治 大塚
Fujiaki Yamakawa
藤明 山河
Kenji Tokuoka
謙二 徳岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sekisui Chemical Co Ltd filed Critical Sekisui Chemical Co Ltd
Priority to JP22145791A priority Critical patent/JPH0560582A/en
Publication of JPH0560582A publication Critical patent/JPH0560582A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide three-dimensional images excellent in closeness to a base, flexibility and durability by stacking optical-setting resin films on the base, and exposing the films to light through a mask so as to harden the same, and removing the unhardened part to form a desired image pattern. CONSTITUTION:A setting resin film 1 is composed of a photopolymerizing resin composition composed of an unsaturated compound capable of photopolymerizing with a linear copolymer and a photopolymerization initiator which is sensitized by active light rays, and more than two layers of films 1 are stacked on a base 2 in a thickness of 0.15 to 2.5mm and are exposed to light through a mask 5 and hardened to form an image pattern thereon. The linear copolymer has a alpha, beta-unsaturated ethylene monomer containing a carboxyl group and another alpha, beta-unsaturated ethylene monomer as its components. Since three-dimensional images are formed in this way, images obtained are excellent in closeness to the base and has flexibility and excellent durability and is therefore not peeld when curved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基体上の所定位置に任
意の画像パタ−ンが形成された立体画像表示盤の製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a stereoscopic image display panel in which an arbitrary image pattern is formed at a predetermined position on a substrate.

【0002】このような表示盤は、例えば、車両用メー
タやディスプレイパネル等に使用することができる。
Such a display panel can be used for, for example, a vehicle meter or a display panel.

【0003】[0003]

【従来の技術】従来より、表示盤の文字および数字など
の画像は、基体上に印刷によって形成されることが多
く、平面的な画像が一般的である。
2. Description of the Related Art Conventionally, images such as letters and numbers on a display board are often formed on a substrate by printing, and are generally flat images.

【0004】ところが、近年、高級化指向が高まるにつ
れて、これらの文字および数字などの画像に高級感を付
与するため、画像を平面的なものから立体化しようとす
る検討が行われている。
However, in recent years, as the trend toward higher grades has increased, studies are being made to make the images three-dimensional from flat ones in order to impart a sense of quality to images such as these letters and numbers.

【0005】表示盤に立体化された画像を得るための方
法として、厚肉印刷、ホットスタンピングによる凹凸の
転写などが考えられるが、いずれも画像の形成方法が複
雑で量産性に乏しい。
As a method for obtaining a three-dimensional image on the display board, thick-walled printing, transfer of irregularities by hot stamping, and the like are conceivable, but all of them are complicated in image forming method and poor in mass productivity.

【0006】また、表示盤に文字および数字などの立体
的な画像パターンを形成する別の方法として、アクリル
系ポリマー(分子量10万〜数10万)をバインダーと
し、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リオールアクリレートなどを光重合性樹脂とした光重合
性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂フィルム(厚さ10
〜100μm)を基体上に積層し、該樹脂フィルムにネ
ガマスクを通して露光、硬化させ、所定の形状の画像を
基体上の所定位置に形成する方法が、特開平2−122
220号公報に開示されている。
As another method for forming a three-dimensional image pattern such as letters and numbers on a display board, an acrylic polymer (molecular weight of 100,000 to several hundreds of thousands) is used as a binder, and urethane acrylate, epoxy acrylate, polyol acrylate are used. A photo-curable resin film (thickness 10
˜100 μm) on a substrate, and exposing and curing the resin film through a negative mask to form an image of a prescribed shape at a prescribed position on the substrate.
No. 220 is disclosed.

【0007】上記方法によって、光硬化性樹脂フィルム
を基体上に積層、硬化させて、立体的な画像を形成しよ
うとすれば、光硬化性樹脂フィルムを、例えば、500
μm程度の厚肉のものとする必要がある。
According to the above method, when a photocurable resin film is laminated on a substrate and cured to form a three-dimensional image, the photocurable resin film is, for example, 500.
It is necessary to have a thick wall of about μm.

【0008】しかしながら、上記光重合性樹脂組成物を
用いて、厚肉の光硬化性樹脂フィルムを形成しようとす
ると、光重合性樹脂組成物中に含まれる溶剤は蒸発が妨
げられて、完全な除去が難しくなったり、蒸発を早める
ために乾燥温度を高くすると、得られる光硬化性樹脂フ
ィルムの内部に、発泡が起こるなどの問題点が発生す
る。従って、上記厚肉光硬化性樹脂フィルムの硬化によ
って得られた画像は、基体との密着性が悪く、柔軟性や
耐久性が乏しいものとなり、屈曲によって剥離が生じ易
くなるという問題点を有する。
However, when an attempt is made to form a thick photocurable resin film using the above photopolymerizable resin composition, the solvent contained in the photopolymerizable resin composition is prevented from evaporating, and the solvent is completely removed. If the removal temperature becomes difficult or the drying temperature is raised to accelerate the evaporation, problems such as foaming occur inside the obtained photocurable resin film. Therefore, the image obtained by curing the above-mentioned thick photocurable resin film has a problem that the adhesiveness to the substrate is poor, the flexibility and durability are poor, and peeling easily occurs due to bending.

【0009】また、アクリル系ポリマー(分子量10万
〜数10万)をバインダーとし、ウレタンアクリレー
ト、エポキシアクリレート、ポリオールアクリレートな
どを光重合性樹脂とした光重合性樹脂組成物は、光に対
する感度が悪いために、該組成物からなる厚肉の光硬化
性樹脂フィルムを用いて、画像を形成しようとしても、
所定の形状のものが得られ難いという問題点もある。
A photopolymerizable resin composition having an acrylic polymer (molecular weight of 100,000 to several hundreds of thousands) as a binder and urethane acrylate, epoxy acrylate, polyol acrylate or the like as a photopolymerizable resin has poor sensitivity to light. Therefore, even if an attempt is made to form an image by using a thick photocurable resin film made of the composition,
There is also a problem that it is difficult to obtain a predetermined shape.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたものであり、その目的は、密着性、柔軟
性及び耐久性に優れた立体的画像を、基体上の所定位置
に任意の形状に設けることができる立体画像表示盤の製
造方法を提供することにある、
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above drawbacks, and an object thereof is to provide a three-dimensional image excellent in adhesion, flexibility and durability on a predetermined position on a substrate. It is to provide a method for manufacturing a stereoscopic image display panel that can be provided in any shape.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の立体画像表示盤
の製造方法は、基体上に光硬化性樹脂フィルムを積層
し、マスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去
して任意の画像パターンを形成する表示盤の製造方法で
あって、該光硬化性樹脂フィルムが、(イ)線状共重合
体、(ロ)光重合可能な不飽和化合物及び(ハ)活性光
線により増感する光重合開始剤からなる光重合性樹脂組
成物を成分とし、光硬化性樹脂フィルムを基体上に2層
以上積層して0.15〜2.5mmの厚さとし、露光、
硬化させ、画像パターンを形成することを特徴とし、そ
のことにより、上記目的が達成される。
The method for producing a stereoscopic image display panel of the present invention comprises the steps of laminating a photocurable resin film on a substrate, exposing it through a mask and curing it, and removing the uncured portion to remove any image. A method of manufacturing a display board for forming a pattern, wherein the photocurable resin film is sensitized by (a) a linear copolymer, (b) a photopolymerizable unsaturated compound and (c) an actinic ray. A photopolymerizable resin composition comprising a photopolymerization initiator as a component, and two or more photocurable resin films are laminated on a substrate to have a thickness of 0.15 to 2.5 mm, and exposed,
It is characterized by curing and forming an image pattern, by which the above objects are achieved.

【0012】本発明を以下に説明する。本発明で使用さ
れる線状共重合体(イ)は、カルボキシル基を含有する
α、β−不飽和エチレン系単量体と、前記以外のα、β
−不飽和エチレン系単量体を構成成分としている。
The present invention will be described below. The linear copolymer (a) used in the present invention is an α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group and α, β other than the above.
An unsaturated ethylenic monomer as a constituent.

【0013】上記カルボキシル基を含有するα、β−不
飽和エチレン系単量体としては、カルボキシル基を含有
し、α、β−不飽和エチレン系単量体と共重合しうる単
量体であればよく、例えば、(メタ)アクリル酸、クロ
トン酸、マレイン酸(無水物)、フマル酸、イタコン酸
等の不飽和カルボン酸類があげられる、また、前記以外
のα、β−不飽和エチレン系単量体としては、例えば、
スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、
p−メチルスチレン、α−メチルスチレン、p−エチル
スチレン、2,4−ジメチルスチレン、p−n−ヘキシ
ルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−メトキシ
スチレン、p−フェニルスチレン、3,4−ジメチルク
ロルスチレンなどのスチレン類;α−ビニルナフタレン
などのビニルナフタレン類;エチレン、プロピレン、ブ
チレンまたはC5〜C30及びそれ以上のα−オレフィン
類;塩化ビニル、臭化ビニル、弗化ビニルなどのハロゲ
ン化ビニル類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸
ビニルなどのビニルエステル類;(メタ)アクリル酸メ
チル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル
酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メ
タ)アクリル酸n−オクチル、(メタ)アクリル酸ラウ
リル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メ
タ)アクリル酸−2−クロルエチル、α−クロル(メ
タ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸フェニル、
(メタ)アクリル酸ジメチルアミノエチルなどの(メ
タ)アクリル酸エステル類;ビニルメチルエーテル、ビ
ニルエチルエーテルなどのビニルエーテル類;ビニルメ
チルケトン、ビニルエチルケトンなどのビニルケトン
類;N−ビニルピロール、N−ビニルインドールなどの
N−ビニル化合物;(メタ)アクリロニトリル、(メ
タ)アクリル酸アミド類があげられる。
The α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group may be a monomer containing a carboxyl group and copolymerizable with the α, β-unsaturated ethylenic monomer. Examples thereof include unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid (anhydride), fumaric acid, and itaconic acid, and α, β-unsaturated ethylene-based monocarboxylic acids other than the above. As the quantity, for example,
Styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene,
p-methylstyrene, α-methylstyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, pn-hexylstyrene, pn-octylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, 3,4- Styrenes such as dimethylchlorostyrene; Vinylnaphthalenes such as α-vinylnaphthalene; Ethylene, propylene, butylene or C 5 to C 30 and higher α-olefins; Vinyl chloride, vinyl bromide, vinyl fluoride, etc. Vinyl halides; vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, and other vinyl esters; methyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, N-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, (meth) acrylic 2-ethylhexyl, (meth) acrylic acid-2-chloroethyl, alpha-chloro (meth) acrylate, (meth) acrylate, phenyl
(Meth) acrylic acid esters such as dimethylaminoethyl (meth) acrylate; vinyl ethers such as vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether; vinyl ketones such as vinyl methyl ketone and vinyl ethyl ketone; N-vinylpyrrole, N-vinyl N-vinyl compounds such as indole; (meth) acrylonitrile and (meth) acrylic acid amides.

【0014】線状共重合体(イ)の構成成分中のカルボ
キシル基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体に
相当する部分の量は、少なくなるとアルカリ水溶液に不
溶になるため、アルカリ水溶液による現像ができなくな
り、逆に多くなると塗工溶媒または他の成分との相溶性
が低下し、解像性も低下するので、10〜40重量%に
限定されるのであり、好ましくは15〜35重量%であ
る。
When the amount of the portion corresponding to the α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group in the constituent components of the linear copolymer (a) becomes small, it becomes insoluble in an alkaline aqueous solution. When development cannot be performed with an alkaline aqueous solution, and when the amount becomes large, the compatibility with the coating solvent or other components decreases and the resolution also decreases. Therefore, the amount is limited to 10 to 40% by weight, preferably 15%. ~ 35% by weight.

【0015】そして、線状共重合体(イ)の構成成分中
のカルボキシル基を含有するα、β−不飽和エチレン系
単量体に相当する部分以外の量は、60〜90重量%で
ある。線状共重合体(イ)の重量平均分子量は、小さく
なると、いわゆるコールドフローを起こしやすくなり、
逆に、大きくなると、アルカリ水溶液に溶解し難くなっ
て現像し難くなり、解像性も低下するので、2万〜50
万に限定されるのであり、好ましくは5万〜30万であ
る。
The amount of the components other than the portion corresponding to the α, β-unsaturated ethylenic monomer containing a carboxyl group in the constituents of the linear copolymer (a) is 60 to 90% by weight. .. When the weight average molecular weight of the linear copolymer (a) becomes small, so-called cold flow easily occurs,
On the other hand, if it becomes large, it becomes difficult to dissolve in an alkaline aqueous solution and it becomes difficult to develop, and the resolution is lowered.
However, it is preferably 50,000 to 300,000.

【0016】本発明で使用される光重合可能な不飽和化
合物(ロ)は下記一般式(I)で表される化合物からな
る群より選ばれる少なくとも1種以上の化合物である。
The photopolymerizable unsaturated compound (b) used in the present invention is at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by the following general formula (I).

【0017】[0017]

【化2】 [Chemical 2]

【0018】式 (I)において、R1 及びR2 は水素基
又はメチル基、nは1〜15までの整数、R3 は炭素数
1〜10までの炭化水素基、mは1〜100までの整
数、Xは炭素数2〜20の2価の炭化水素基である。
In the formula (I), R 1 and R 2 are hydrogen groups or methyl groups, n is an integer of 1 to 15, R 3 is a hydrocarbon group of 1 to 10 carbon atoms, and m is 1 to 100. And X is a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms.

【0019】ここで、Xで示される2価の炭化水素基と
しては、直鎖、分枝鎖、脂環式または芳香族などの部分
から構成される炭化水素基、例えば、ヘキサメチレン
基、トリレン基、イソホロン基、テトラメチルキシリレ
ン基、ナフチレン基等があげられる。
Here, the divalent hydrocarbon group represented by X is a hydrocarbon group composed of linear, branched, alicyclic or aromatic moieties, for example, a hexamethylene group or tolylene. Group, isophorone group, tetramethylxylylene group, naphthylene group and the like.

【0020】上記不飽和化合物(ロ)の製法は、任意の
方法が採用されてよく、例えば、ジイソシアネートとジ
オールを、求める化合物の組成比に合う割合で混合して
反応させ、末端にイソシアネート基をもつウレタンオリ
ゴマーを形成した後、水酸基をもつ(メタ)アクリレー
トを添加して末端にあるイソシアネート基と反応させれ
ばよい。この際、必要ならば、酢酸エチル、メチルエチ
ルケトン、トルエンなどの有機溶剤に溶解して反応させ
てもよく、さらにジブチルスズジラウレートなどの触媒
を添加してもよい。
As the method for producing the unsaturated compound (b), any method may be adopted. For example, diisocyanate and diol are mixed and reacted at a ratio matching the composition ratio of the desired compound, and an isocyanate group is added to the terminal. After forming the urethane oligomer having the above, a (meth) acrylate having a hydroxyl group may be added and reacted with the isocyanate group at the terminal. At this time, if necessary, the reaction may be carried out by dissolving in an organic solvent such as ethyl acetate, methyl ethyl ketone, or toluene, and a catalyst such as dibutyltin dilaurate may be added.

【0021】光重合性樹脂組成物中の不飽和化合物
(ロ)の量は、少なくなると露光、現像後の光重合性樹
脂組成物層の柔軟性が低下し、逆に多くなるとコールド
フローが起こりやすくなると共に解像性が低下するの
で、前記線状共重合体(イ)100重量部に対して5〜
150重量部であり、好ましくは10〜100重量部で
ある。また、不飽和化合物(ロ)の重量平均分子量は、
小さくなると露光、現像後の光重合性樹脂組成物層の柔
軟性が低下し、大きくなると現像時間が長くなるので
1,000〜15,000が好ましく、より好ましくは
1,500〜10,000である。
When the amount of the unsaturated compound (b) in the photopolymerizable resin composition decreases, the flexibility of the photopolymerizable resin composition layer after exposure and development decreases, and when it increases, cold flow occurs. Since it becomes easy and the resolution decreases, it is 5 to 100 parts by weight of the linear copolymer (a).
It is 150 parts by weight, preferably 10 to 100 parts by weight. The weight average molecular weight of the unsaturated compound (b) is
When it becomes smaller, the flexibility of the photopolymerizable resin composition layer after exposure and development decreases, and when it becomes larger, the development time becomes longer, so 1,000 to 15,000 is preferable, and 1,500 to 10,000 is more preferable. is there.

【0022】本発明で使用される光重合開始剤(ハ)と
しては、紫外線、可視光線などの活性光線により上記不
飽和化合物(ロ)を活性化し、重合を開始させる性質を
有するものであればよい。
As the photopolymerization initiator (c) used in the present invention, any photopolymerization initiator (c) having a property of activating the unsaturated compound (b) by actinic rays such as ultraviolet rays and visible rays to initiate polymerization can be used. Good.

【0023】紫外線で活性化するものとしては、例え
ば、ソジウムメチルジチオカーバメイトサルファイド、
テトラメチルチウラムモノサルファイド、ジフェニルモ
ノサルファイド、ジベンゾチアゾイルモノサルファイド
およびジサルファイドなどのサルファイド類;チオキサ
ントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキ
サントン、2,4−ジエチルチオキサントンなどのチオ
キサントン誘導体;ヒドラゾン、アゾビスイソブチロニ
トリル、ベンゼンジアゾニウムなどの(ジ)アゾ化合
物;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイ
ンエチルエーテル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジルアントラキノ
ン、t−ブチルアントラキノン、2−メチルアントラキ
ノン、2−エチルアントラキノン、2−アミノアントラ
キノン、2−クロロアントラキノン、ベンジルジメチル
ケタール、メチルフェニルグリオキシレートなどの芳香
族カルボニル化合物;p−ジメチルアミノ安息香酸メチ
ル、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチル
アミノ安息香酸ブチル、p−ジエチルアミノ安息香酸イ
ソプロピルなどのジアルキルアミノ安息香酸エステル
類;ベンゾイルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオ
キサイド、ジクミルパーオキサイド、キュメンハイドロ
パーオキサイドなどの過酸化物;9−フェニルアクリジ
ン、9−p−メトキシフェニルアクリジン、9−アセチ
ルアミノアクリジン、ベンズアクリジンなどのアクリジ
ン誘導体;9,10−ジメチルベンズフェナジン、9−
メチルベンズフェナジン、10−メトキシベンズフェナ
ジンなどのフェナジン誘導体;6,4’,4”−トリメ
トキシ−2,3−ジフェニルキノキサリンなどのキノキ
サリン誘導体;2,4,5−トリフェニルイミダゾイル
二量体などがあげられる。
As those which are activated by ultraviolet rays, for example, sodium methyldithiocarbamate sulfide,
Sulfides such as tetramethylthiuram monosulfide, diphenylmonosulfide, dibenzothiazoylmonosulfide and disulfide; thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2,4-diethylthioxanthone; hydrazones, azobis (Di) azo compounds such as isobutyronitrile and benzenediazonium; benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzylanthraquinone, t-butylanthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone , 2-aminoanthraquinone, 2-chloroanthraquinone, benzyl dimethyl ketal, methyl group Aromatic carbonyl compounds such as nyl glyoxylate; Dialkylaminobenzoic acid esters such as methyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-dimethylaminobenzoate, butyl p-dimethylaminobenzoate and isopropyl p-diethylaminobenzoate; Peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide; 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine, benzacridine, etc. Acridine derivative; 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-
Methylbenzphenazine, phenazine derivatives such as 10-methoxybenzphenazine; quinoxaline derivatives such as 6,4 ′, 4 ″ -trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline; 2,4,5-triphenylimidazoyl dimer can give.

【0024】また、可視光線で活性化するものとして
は、例えば、2−ニトロフルオレン、2,4,6−トリ
フェニルビリリウム四弗化ホウ素塩、2,4,6−トリ
ス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、
3,3’−カルボニルビスクマリン、チオミヒラーケト
ンなどがあげられる。
As those which are activated by visible light, for example, 2-nitrofluorene, 2,4,6-triphenylpyrylyl boron tetrafluoride salt, 2,4,6-tris (trichloromethyl)- 1,3,5-triazine,
Examples include 3,3′-carbonylbiscoumarin and thiomichler ketone.

【0025】光重合性樹脂組成物中の光重合開始剤
(ハ)の量は、光硬化性樹脂フィルムの厚さや照射光量
を考慮して決定される。例えば、光硬化性樹脂フィルム
が厚い場合には、その上層部が受ける光の強さと下層部
が受ける光の強さが著しく異ならないように、光重合開
始剤の添加量を少なくする必要があり、また、工程上露
光時間を短縮する必要がある場合は、光重合開始剤の添
加量を多くする必要があるので、光重合開始剤(ハ)の
添加量は、前記線状共重合体(イ)100重量部に対し
て、0.1〜10重量部である。
The amount of the photopolymerization initiator (c) in the photopolymerizable resin composition is determined in consideration of the thickness of the photocurable resin film and the irradiation light amount. For example, when the photocurable resin film is thick, it is necessary to reduce the addition amount of the photopolymerization initiator so that the intensity of light received by the upper layer portion and the intensity of light received by the lower layer portion are not significantly different. Further, when it is necessary to shorten the exposure time in the process, it is necessary to increase the addition amount of the photopolymerization initiator. Therefore, the addition amount of the photopolymerization initiator (C) is the linear copolymer ( A) 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight.

【0026】本発明で使用される光重合性樹脂組成物の
構成は上述した通りであるが、必要に応じて、活性光線
により重合反応を開始して硬化しうる常温で液体の光重
合性単量体が添加されてもよい。
The composition of the photopolymerizable resin composition used in the present invention is as described above. However, if necessary, a photopolymerizable resin composition which is liquid at room temperature and can be cured by initiating a polymerization reaction by actinic rays. A mer may be added.

【0027】上記光重合性単量体としては、例えば、ト
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラ
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ノナプロピレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペン
タ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−(アクリロ
キシジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス
〔4−(メタクリロキシジエトキシ)フェニル〕プロパ
ン、3−フェノキシ−2−プロパノイルアクリレート、
1,6−ビス〔3−アクリロキシ−2−ヒドロキシプロ
ピル)ヘキシルエーテル、ウレタンポリエステルアクリ
レートオリゴマーなどがあげられる。
Examples of the photopolymerizable monomer include triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, Tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, nonapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) Acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (acryloxydiethoxy) Eniru] propane, 2,2-bis [4- (methacryloxydiethoxyphenyl Siji ethoxy) phenyl] propane, 3-phenoxy-2-propanoyl acrylate,
Examples thereof include 1,6-bis [3-acryloxy-2-hydroxypropyl) hexyl ether and urethane polyester acrylate oligomer.

【0028】上記光重合性単量体は、添加量が多くなる
と未露光部分の粘着性が強くなって良好なパタ−ンが得
られにくくなるので、前記線状共重合体(イ)100重
量部に対して、5〜150重量部添加されるのが好まし
く、より好ましくは10〜100重量部である。
When the amount of the above photopolymerizable monomer added is large, the tackiness of the unexposed portion becomes strong and it becomes difficult to obtain a good pattern. Therefore, 100 parts by weight of the linear copolymer (a) is used. It is preferably added in an amount of 5 to 150 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on parts.

【0029】また、本発明で使用される光重合性樹脂組
成物に、ジオクチルフタレート、トリエチレングリコー
ルジアセテート、p−トルエンスルホンアミド、N−エ
チルトルエンスルホンアミド等の可塑剤;ヒドロキノ
ン、p−メトキシフェノール等の熱重合禁止剤;安定
剤;紫外線吸収剤;酸化防止剤;メチルエチルケトン、
トルエン等の溶媒などが添加されてもよい。
In the photopolymerizable resin composition used in the present invention, a plasticizer such as dioctyl phthalate, triethylene glycol diacetate, p-toluene sulfonamide, N-ethyltoluene sulfonamide; hydroquinone, p-methoxy. Thermal polymerization inhibitors such as phenol; stabilizers; ultraviolet absorbers; antioxidants; methyl ethyl ketone,
A solvent such as toluene may be added.

【0030】本発明で使用される基体としては、特に限
定されるものではないが、一般には、アクリル系樹脂、
ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリエステル系樹脂等のプラ
スチック板状体;ガラス板;セラミック板;金属板等が
好適に用いられ、可撓性、透明性、耐熱性などの必要特
性を考慮して選択される。
The substrate used in the present invention is not particularly limited, but generally, an acrylic resin,
A plastic plate such as a polycarbonate resin or a polyester resin; a glass plate; a ceramic plate; a metal plate, etc. are preferably used, and in consideration of necessary characteristics such as flexibility, transparency and heat resistance. To be selected.

【0031】また、これらの基体上に予め任意の画像を
印刷しておいてもよい。本発明で使用される光硬化性樹
脂フィルムは、例えば、光重合性樹脂組成物を合成樹脂
フィルム上に、キャスティングすることにより得られる
が、光硬化性樹脂フィルムの厚さを厚くしようとする
と、光重合性樹脂組成物中に含まれる溶剤の蒸発が妨げ
られるので好ましくなく、通常、乾燥後の厚さが50〜
200μmの範囲となるのが好ましい。
Further, any image may be printed in advance on these substrates. The photocurable resin film used in the present invention is obtained, for example, by casting a photopolymerizable resin composition on a synthetic resin film, but when the thickness of the photocurable resin film is increased, It is not preferable because the evaporation of the solvent contained in the photopolymerizable resin composition is hindered, and the thickness after drying is usually 50 to
The range is preferably 200 μm.

【0032】従って、例えば、厚さ500μmの光硬化
性樹脂フィルムを得るためには、厚さ100μmの光硬
化性樹脂フィルムを、熱ラミネート法などによって基体
上に5層積層した積層体とする必要がある。
Therefore, for example, in order to obtain a photocurable resin film having a thickness of 500 μm, it is necessary to form a laminate in which five layers of the photocurable resin film having a thickness of 100 μm are laminated on the substrate by a thermal laminating method or the like. There is.

【0033】また、積層された光硬化性樹脂フィルムの
厚さは、薄くなると立体感のある画像が表現できす、厚
くなると微細な画像を表現するのが難しくなるので、厚
さは0.15〜2.5mmの範囲に限定され、好ましく
は0.3〜2mmの範囲である。
Further, when the thickness of the laminated photocurable resin film is thin, an image having a three-dimensional effect cannot be expressed, and when it is thick, it is difficult to express a fine image, so the thickness is 0.15. It is limited to the range of up to 2.5 mm, preferably 0.3 to 2 mm.

【0034】上記基体上に画像パタ−ンを形成する方法
としては、例えば、基体上に積層された光重合性樹脂フ
ィルム上に、所定の画像パタ−ンを得るためのネガマス
クを重ね合わせた後、ネガマスク上より光を照射し、光
硬化性樹脂フィルムの画像パタ−ン化される部分のみを
硬化させ、未硬化部分を現像により除去する方法があげ
られる。
As a method for forming an image pattern on the above-mentioned substrate, for example, a negative mask for obtaining a predetermined image pattern is superposed on a photopolymerizable resin film laminated on the substrate. A method of irradiating light from a negative mask to cure only a portion of the photocurable resin film that is to be image-patterned and removing an uncured portion by development is mentioned.

【0035】本発明の表示盤を構成する画像パタ−ン
は、光重合性樹脂組成物フィルムを、上述のようにして
露光、現像して得られるが、露光するための光源として
は、特に限定されるものではなく、従来公知のものが使
用でき、例えば、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ
等が好適に用いられる。また、現像する際に用いられる
現像液としては、特に限定されるものではないが、例え
ば、0.5〜5重量%の濃度の炭酸ナトリウム水溶液が
好適に用いられる。そして、現像装置は、特に制限はな
く、公知のものが使用可能である。
The image pattern constituting the display panel of the present invention is obtained by exposing and developing the photopolymerizable resin composition film as described above. The light source for exposing is not particularly limited. However, a well-known one can be used, and, for example, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is preferably used. The developing solution used for development is not particularly limited, but for example, an aqueous solution of sodium carbonate having a concentration of 0.5 to 5% by weight is preferably used. The developing device is not particularly limited, and a known device can be used.

【0036】[0036]

【実施例】以下に本発明を実施例に基づいて説明する。EXAMPLES The present invention will be described below based on examples.

【0037】(実施例1) 〔光重合可能な不飽和化合物の調製〕還流冷却器、滴下
漏斗、温度計およびメカニカルスタラーを備えた5リッ
トルの4つ口フラスコにヘキサメチレンジイソシアネー
ト504g(3mol)と、溶媒として乾燥メチルエチ
ルケトン(MEK)826gおよびジブチルスズジラウ
レート(触媒)1gを加えて攪拌しながらポリエチレン
グリコール916g(2mol、平均分子量:458)
を加えて5時間還流した。
(Example 1) [Preparation of unsaturated compound capable of photopolymerization] Hexamethylene diisocyanate 504 g (3 mol) was placed in a 5-liter four-necked flask equipped with a reflux condenser, a dropping funnel, a thermometer and a mechanical stirrer. And 826 g of dry methyl ethyl ketone (MEK) and 1 g of dibutyltin dilaurate (catalyst) as a solvent are added, and 916 g of polyethylene glycol (2 mol, average molecular weight: 458) while stirring.
Was added and the mixture was refluxed for 5 hours.

【0038】次いで、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト232g(2mol)を滴下し、さらに5時間還流し
て反応させた後、MEKを蒸発させて、光重合可能な不
飽和化合物を調製した。
Then, 232 g (2 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate was added dropwise, the mixture was refluxed for another 5 hours for reaction, and MEK was evaporated to prepare a photopolymerizable unsaturated compound.

【0039】 〔光重合性樹脂組成物の調製〕 線状共重合体 100重量部 (メタクリル酸メチル/メタクリル酸ブチル/メタクリル酸 =重量比50/25/25、重量平均分子量Mw =15万) 光重合可能な不飽和化合物 75重量部 光重合性単量体(成分:テトラエチレングリコール 75重量部 ジアクリレート) 光重合開始剤(成分:ベンジルジメチルケタール) 2.5重量部 (チバガイギー社製「イルガキュアー651」) 上記物質を、250重量部のMEKに溶解させ、光重合
性樹脂組成物の溶液を調製した。
[Preparation of Photopolymerizable Resin Composition] 100 parts by weight of linear copolymer (methyl methacrylate / butyl methacrylate / methacrylic acid = weight ratio 50/25/25, weight average molecular weight Mw = 150,000) Polymerizable unsaturated compound 75 parts by weight Photopolymerizable monomer (component: tetraethylene glycol 75 parts by weight diacrylate) Photopolymerization initiator (component: benzyl dimethyl ketal) 2.5 parts by weight (“Irgacure” manufactured by Ciba Geigy) 651 ") The above substance was dissolved in 250 parts by weight of MEK to prepare a solution of the photopolymerizable resin composition.

【0040】〔光硬化性樹脂フィルムの調製〕上記光重
合性樹脂組成物の溶液を、厚さ75μmのPETフィル
ム上に流延し、80℃で10分間乾燥した後、乾燥後の
厚さが100μmの光硬化性樹脂フィルムを作製した。
[Preparation of Photocurable Resin Film] A solution of the photopolymerizable resin composition was cast on a PET film having a thickness of 75 μm, dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then dried. A 100 μm photocurable resin film was produced.

【0041】〔立体画像表示盤の作製〕光硬化性樹脂フ
ィルム1のPETフィルム3を剥がして、厚さ500μ
mのポリカーボネートの基体2上に、熱ラミネート法に
よって積層する作業を4回繰り返して、4層の光硬化性
樹脂フィルム1を積層した後、最上層にPETフィルム
3を被着したままの光硬化性樹脂フィルム1を、PET
フィルム3が上側となるように積層して5層の光硬化性
樹脂フィルム1からなる積層体4(光硬化性樹脂フィル
ムの全厚さ500μm)を作製した。
[Production of Stereoscopic Image Display Panel] The PET film 3 of the photocurable resin film 1 was peeled off to give a thickness of 500 μm.
The work of laminating by a thermal laminating method on the polycarbonate substrate 2 of m is repeated 4 times to laminate the four layers of the photocurable resin film 1, and then the photocuring with the PET film 3 as the uppermost layer. Resin film 1 with PET
The film 3 was laminated so that the film 3 was on the upper side to prepare a laminate 4 (total thickness of the photocurable resin film of 500 μm) including the five layers of the photocurable resin film 1.

【0042】次いで、図1に示すように、文字と目盛り
に対応する部分のみ光が透過するフォトマスク5を積層
体4の光硬化性樹脂フィルム1上に重ね、3KW超高圧
水銀灯により1000mJ/cm2 の強さの紫外線6を
照射した。
Then, as shown in FIG. 1, a photomask 5 which allows light to pass through only the portions corresponding to the characters and the scale is placed on the photocurable resin film 1 of the laminate 4 and 1000 mJ / cm by a 3 KW ultra-high pressure mercury lamp. Ultraviolet rays 6 having an intensity of 2 were irradiated.

【0043】紫外線6の照射により、光硬化性樹脂フィ
ルム1の積層体4を露光、硬化させた後、上記積層体4
の露光面を、30℃、1%の炭酸ナトリウム水溶液で現
像して、図2に示すように、文字と目盛りに対応する部
分が凸状となり立体画像7を有する表示盤8を得た。
The laminate 4 of the photocurable resin film 1 is exposed and cured by irradiation with ultraviolet rays 6, and then the laminate 4 is formed.
The exposed surface of No. 1 was developed with a 1% sodium carbonate aqueous solution at 30 ° C., and as shown in FIG. 2, a display panel 8 having a three-dimensional image 7 was obtained in which portions corresponding to characters and scales became convex.

【0044】〔屈曲試験〕得られた表示盤7を、直径2
mmの丸棒に巻付けて剥離状態を観察したが、文字及び
目盛りに対応する立体画像6には剥離が見られず、良好
な密着性を示していた。
[Bending test] The obtained display board 7 was
When the peeled state was observed by winding it around a mm round bar, peeling was not seen in the three-dimensional image 6 corresponding to the characters and the scale, showing good adhesion.

【0045】(実施例2〜3、比較例1)表1に示す組
成で、実施例1と同様にして、光重合可能な不飽和化合
物を調製した後、線状共重合体に、表2に示す不飽和化
合物、光重合性単量体及び光重合開始剤を添加して、光
重合性樹脂組成物を得た。該光重合性樹脂組成物より、
実施例1と同様にして、光硬化性フィルムを作製した
後、露光、硬化させて立体画像を有する表示盤を作製し
た。
(Examples 2 to 3, Comparative Example 1) With the composition shown in Table 1, a photopolymerizable unsaturated compound was prepared in the same manner as in Example 1, and then a linear copolymer was prepared. An unsaturated compound, a photopolymerizable monomer and a photopolymerization initiator shown in 1 were added to obtain a photopolymerizable resin composition. From the photopolymerizable resin composition,
A photocurable film was prepared in the same manner as in Example 1, and then exposed and cured to prepare a display board having a stereoscopic image.

【0046】得られた表示盤について、実施例1と同様
にして屈曲試験を行い、その結果を表2に示した。
A bending test was conducted on the obtained display panel in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 2.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明の立体画像表示盤の製造方法によ
れば、特定の光重合性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂
フィルムを、基材上に2層以上積層して、露光、硬化さ
せることによって、立体画像を形成するので、得られた
画像は基体との密着性が優れ、さらに、柔軟性を有し、
耐久性に優れたものとなり、屈曲することによって剥離
することがない。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the method for producing a stereoscopic image display panel of the present invention, two or more layers of a photocurable resin film made of a specific photopolymerizable resin composition are laminated on a base material, and exposed and cured. As a result, a three-dimensional image is formed, so that the obtained image has excellent adhesion to the substrate and further has flexibility.
It has excellent durability and does not peel off due to bending.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の実施例で使用する光硬化性樹
脂フィルムへ露光する状況を示す模式断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a state of exposing a photocurable resin film used in an example of the present invention.

【図2】図2は、本発明の実施例で使用する光硬化性樹
脂フィルムに露光、硬化することにより形成された立体
画像を示す模式断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a stereoscopic image formed by exposing and curing a photocurable resin film used in Examples of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光硬化性樹脂フィルム 2 基体 3 PETフィルム 4 積層体 5 フォトマスク 6 紫外線 7 立体画像 8 表示盤 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photocurable resin film 2 Base material 3 PET film 4 Laminated body 5 Photomask 6 Ultraviolet light 7 Stereo image 8 Display board

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基体上に光硬化性樹脂フィルムを積層し、
マスクを通して露光、硬化させ、未硬化部分を除去して
所定の画像パターンを形成する表示盤の製造方法であっ
て、上記光硬化性樹脂フィルムが、 (イ)カルボキシル基を含有するα、β−不飽和エチレ
ン系単量体10〜40重量%と、前記以外のα、β−不
飽和エチレン系単量体60〜90重量%を構成成分とす
る重量平均分子量2万〜50万の線状共重合体100重
量部 (ロ)下記一般式(I)で表される化合物からなる群よ
り選ばれる少なくとも1種以上の光重合可能な不飽和化
合物5〜150重量部 【化1】 (式中、R1 及びR2 は水素基又はメチル基、nは1〜
15までの整数、R3 は炭素数1〜10までの炭化水素
基、mは1〜100までの整数、Xは炭素数2〜20の
2価の炭化水素基を示す。) (ハ)活性光線により増感する光重合開始剤0.1〜1
0重量部 からなる光重合性樹脂組成物を成分とし、この光硬化性
樹脂フィルムを基体上に2層以上積層して0.15〜
2.5mmの厚さとし、露光、硬化させ、画像パターン
を形成することを特徴とする立体画像表示盤の製造方
法。
1. A photocurable resin film is laminated on a substrate,
A method for manufacturing a display panel, which comprises exposing a film through a mask and curing it, and removing an uncured portion to form a predetermined image pattern, wherein the photocurable resin film comprises (a) a carboxyl group-containing α, β- A linear copolymer having a weight average molecular weight of 20,000 to 500,000, which comprises 10 to 40% by weight of an unsaturated ethylenic monomer and 60 to 90% by weight of an α, β-unsaturated ethylenic monomer other than the above-mentioned components. 100 parts by weight of polymer (b) 5-150 parts by weight of at least one photopolymerizable unsaturated compound selected from the group consisting of compounds represented by the following general formula (I): (In the formula, R 1 and R 2 are hydrogen groups or methyl groups, and n is 1 to
An integer of up to 15, R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, m is an integer of 1 to 100, and X is a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms. (C) Photopolymerization initiator sensitized by actinic rays 0.1 to 1
A photopolymerizable resin composition consisting of 0 parts by weight is used as a component, and two or more layers of this photocurable resin film are laminated on a substrate to give 0.15
A method for producing a three-dimensional image display panel, which has a thickness of 2.5 mm, is exposed and cured to form an image pattern.
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Cited By (1)

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GB2543755A (en) * 2015-10-22 2017-05-03 Schlumberger Holdings Method for producing solid particles

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2543755A (en) * 2015-10-22 2017-05-03 Schlumberger Holdings Method for producing solid particles
GB2543755B (en) * 2015-10-22 2020-04-29 Schlumberger Holdings Method for producing solid particles

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