JPH0552316B2

JPH0552316B2 -

Info

Publication number: JPH0552316B2
Application number: JP17082484A
Authority: JP
Inventors: Yoshitsuru Yoshioka; Mamoru Tanaka
Original assignee: Shionogi and Co Ltd
Current assignee: Shionogi and Co Ltd
Priority date: 1984-08-15
Filing date: 1984-08-15
Publication date: 1993-08-05
Also published as: JPS6150986A

Description

【発明の詳細な説明】

この発明はスルホキシド化方法、とくにペニシ
リン類またはセフアロスポリン類に燐酸化合物の
存在下に過酸化水素を作用させることを特徴とす
るペニシリン類またはセフアロスポリン類のスル
ホキシド化方法に関する。近年、セフアロスポリン核をペニシリンスルホ
キシドから製造する方法は工業的規模で実用され
ているが、ここで使用されるペニシリンスルホキ
シドをペニシリンから製造することが重要な工程
である。従来、過酸など危険な試薬を用いる方
法、過酸化水素を酸化剤として、タングステン化
合物など稀元素触媒を用いる方法（特開昭48−
34192号）または反応速度の小さい低級アルカン
酸触媒による方法（Synthesis、1978年、361頁；
Heterocycles、第22巻、531頁（1984年））など
が公知であるが、いずれも工業的利用には欠点が
ある。本発明者はかかる欠点のない方法を探求
し、過酸化水素によるスルホキシド化が燐酸化合
物により促進、円滑化されることを発見し、この
発明を完成した。この発明に用いるペニシリン類は、ペニシリン
Ｇ、ペニシリンＶなどの天然ペニシリン、６（α
またはβ）−アミドペニシラン酸である合成ペニ
シリン、これら天然または合成ペニシリンの各種
塩類、エステル類などである。セフアロスポリン
類は７（αまたはβ）−アミドセフアロスポラン
酸、その３位における各種誘導体およびそれらの
塩類、エステル類などである。前記ペニシリン類、セフアロスポリン類のアミ
ド基を構成するアシル基は、脂肪族や芳香族のア
シル基であり、異原子や不飽和結合を有しうる。
例えば、アルカノイル、置換アルカノイル、アル
ケノイル、ベンゾイル、置換ベンゾイル、アラル
カノイル、置換アラルカノイル、アルコキシカル
ボニル、アラルコキシカルボニルなどを例示でき
る。セフアロスポリン類の３位における各種誘導体
として、アルキル、アルケニル、アルキニル、ヒ
ドロキシ、アルコキシ、アシルオキシ、アルキル
チオ、アルシチオ、アリールチオ、ハロゲンなど
を例示できる。これらの基は各種置換分を有して
いてもよく、また、アリール部分は窒素、酸素、
硫黄などの異原子を含む異項環であつてもよい。
とくに公知の低級アルキル、アルケニル、アルコ
キシ、ハロゲン、アルコキシメチル、アルカノイ
ルオキシメチル、異項環チオメチル、ピリジニウ
ムメチル、置換ピリジニウムメチルなどが重要で
ある。エステル類としては、ペニシリン、セフアロス
ポリンの化学の分野で、分子中の他の部分に不都
合な変化を起こさずに脱着可能なものとして知ら
れているエステル、例えばアラルキルエステル
（ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル、
メトキシベンジル、エトキシベンジル、ニトロベ
ンジル、アミノベンジル、ジフエニルメチル、フ
タリジル、フエナシルなどのエステル）、アルキ
ルエステル（トリクロロエチル、第三級ブチル、
アリルなどのエステル）、アリールエステル（ペ
ンタクロロフエニル、インダニルなどのエステ
ル）、Ｎ−ヒドロキシアミノ化合物のエステル
（アセトンオキシム、アセトンフエノンオキシム、
アセトアルドキシム、Ｎ−ヒドロキシこはく酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドなどとのエス
テル）、その他を例示できる。ここに、置換分として炭素基（アルキル、アル
ケニル、アルキリデン、アルキニル、アラルキ
ル、アリール、カルボキシ、保護カルボキシ、カ
ルバモイル、アルカノイル、アルケノイル、アラ
ルカノイル、アロイル、アミノアルキル、シアノ
など）、窒素基（アミノ、ヒドラジニル、アジド、
ジアゾ、アルキルアミノ、アリールアミノ、アシ
ル化アミノ、アルキリデンアミノ、イミノ、アル
コキシイミノ、ニトロソ、ニトロなど）、酸素基
（ヒドロキシ、アルコキシ、アラルコシキ、アリ
ールオキシ、アシルオキシ、オキソなど）、硫黄
基（メルカプト、アルキルチオ、アリールチオ、
アシルチオ、チオキソ、スルフイニル、スルホ、
保護スルホなど）、隣基（ホスホなど）、ハロゲン
原子（ふつ素、塩素、臭素、ヨード）、その他の
置換基を例示できる。燐酸化合物としては、オルト燐酸、メタ燐酸、
ピロ燐酸、ポリ燐酸、五酸化隣など、およびそれ
らのアルカリ金属塩などを例示できる。過酸化水素としては、工業的に入手し易い30％
ないし60％の過酸化水素も利用できるが、これに
限定されるものではない。この発明の反応は、不活性溶媒（芳香族炭化水
素、ハロゲン化炭化水素、エステルなどに属する
工業用溶媒、水など）中でも実施できる。また、
反応促進剤としてアルカン酸（ギ酸、酢酸、プロ
ピオン酸、酪酸、ヘキサン酸など）、芳香族カル
ボン酸（安息香酸、置換安息香酸など）などのカ
ルボン酸および無水物、脂肪族または芳香族のス
ルホン酸、相移動試薬（テトラアルキルアンモニ
ウムハライドなど）、界面活性などを共存させて
効率化を図ることもできる。この反応は通常−30〜80℃、好ましくは０〜50
℃で、５分〜30時間、好ましくは20分〜10時間で
完了するように設計すると、収率向上、副反応抑
制などの点で有利である。例えば、原料であるペ
ニシリン類、セフアロスポリン類を不活性溶媒
（ジクロロメタン、クロロホルムなど５〜20重量
部）と反応促進剤（ギ酸、酢酸など０〜10当量）、
燐酸化合物（燐酸、ポリ燐酸、メタ燐酸、五塩化
隣など0.1〜５当量）と混合し、過酸化水素水
（20〜65％；１〜1.5当量）を加えて10分〜２時
間、０〜30℃でかきまぜる。収率は通常、70〜98
％の範囲で、スルホン、ラクタム開裂物質などの
副生成物は極めて少ない。目的とする生成物は反応液から未反応原料、副
生成物、溶媒などを抽出、蒸発、洗浄、濃縮、沈
殿、濾過、乾燥などの常法により除去したのち、
吸着、溶離、蒸留、沈殿、析出、クロマトグラフ
イー、結晶化など、常用の後処理法を組み合わせ
て処理すれば単離することができる。主生成物のスルホキシド結合の立体配位はアミ
ド側鎖と同方向であることが多い。この発明の生成物は有用な抗菌剤などの合成原
料として有用である。以下に実施例を示してこの発明の態様を説明す
る。実施例中、量を表わす部は原料β−ラクタム１
重量部に対する重量を、当量は原料β−ラクタム
１モルに対するモル数を示す。使用した略号は以下の通り。 Me＝メチル。 Ph＝フエニル。 TCE＝トリクロロエチル。実施例ペニシリンまたはセフアロスポリンをジクロロ
メタまたはトルエンにとかし、これに反応促進
剤、燐酸化合物および過酸化水素水を加える。こ
れを所定温度で所定時間かきまぜる。反応液を
水、５％炭酸水素ナトリウム水、水で洗い、有機
層を分取する。これを乾燥し、減圧濃縮する。残
渣をメタノールまたはイソプロパノールから結晶
化させれば、目的物であるスルホキシドをうる。生成物の物理定数は第一表に示した。第二表に
ペニシリン類の反応条件を、第三表にデアセトキ
シセフアロスポリン類の反応条件を表示した。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】

１ペニシリン類またはセフアロスポリン類に燐
酸化合物の存在下に過酸化水素を作用させること
を特徴とするペニシリン類またはセフアロスポリ
ン類のスルホキシド化方法。