JPH0551558U - 研磨機 - Google Patents

研磨機

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JPH0551558U
JPH0551558U JP5390191U JP5390191U JPH0551558U JP H0551558 U JPH0551558 U JP H0551558U JP 5390191 U JP5390191 U JP 5390191U JP 5390191 U JP5390191 U JP 5390191U JP H0551558 U JPH0551558 U JP H0551558U
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JP
Japan
Prior art keywords
polishing
plate
pad
polishing machine
polishing pad
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Pending
Application number
JP5390191U
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English (en)
Inventor
浩史 小林
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
Original Assignee
Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Sheet Glass Co Ltd filed Critical Nippon Sheet Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】サイズが大きいガラス板であっても、研磨取り
しろをガラス板全体にわたって均一にすることができる
研磨機を提供すること。 【構成】自転、または自転と公転する少なくとも一つの
ワーク皿と、ワーク皿に対向してワーク皿に圧着し得る
ように配置された研磨皿と、研磨皿のワーク皿側表面に
着脱可能に装着された連続した細孔を有する研磨パッド
と、研磨パッドに外部より研磨液を供給する手段とを有
する研磨機であって、研磨皿には研磨パッドが装着され
ている面とは反対の面から研磨パッドの装着面までに至
る複数個の孔が設けられ、その孔から研磨液を供給する
ようにした研磨機。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、効率よく研磨液を供給するように改善された研磨機、とりわけオス カー式研磨機に好適に用いられる研磨機に関する。
【0002】
【従来の技術】
オスカー式研磨機は図2に示すように試料2の表面を研磨するとき、側方6か らホースなどの用いてパッド皿4とワーク皿1の間に研磨液を供給するか、また は研磨皿およびパッドの中心に孔をくり抜き、その孔から研磨液を供給するもの がしられている。
【0003】
【考案が解決しようとする課題】
パッドの中心から研磨液を供給する従来技術の研磨機では、研磨液を研磨すべ き試料の表面全体に均一にいきわたらせることが困難で試料を均一に研磨するこ とで困難であった。とりわけ試料のサイズが大きく、研磨すべき表面積が大きい 場合は、均一に研磨することが極めて困難であった。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本考案は、上記問題点を解決するためになされたものであって、自転、または 自転と公転する少なくとも一つのワーク皿と、前記ワーク皿に対向して前記ワー ク皿に圧着し得るように配置された研磨皿と、前記研磨皿の前記ワーク皿側表面 に着脱可能に装着された連続した細孔を有する研磨パッドと、前記研磨パッドに 外部より研磨液を供給する手段とを有する研磨機であって、前記研磨皿には前記 研磨パッドが装着されている面とは反対の面から前記研磨パッドの装着面までに 至る複数個の孔が設けられ、前記孔から前記研磨液を供給するようにした研磨機 である。
【0005】 本考案の研磨機の研磨皿に装着される研磨パッドは、研磨液がその中に浸透し 得る連続多孔性である必要があり、発砲ポリウレタン製のパッドが好適に用いら れる。表面を研磨すべき試料は、ワーク皿上に載置され、その材質は特に限定さ れるものではなく、表面の平滑性が要求されるガラス板、とりわけ液晶表示装置 に用いられる表面の平坦性が要求されるガラス板は効率よく研磨することができ る。研磨液に含まれる研磨砥粒としては、微細な孔が多く設けられたいわゆる発 泡タイプの研磨パッドに用いられるものであれば特に限定されない。酸化セリウ ムや酸化ジルコニウムを主成分とするスラリー状の研磨液を用いることができる 。
【0006】
【作用】
研磨液は、研磨パッドへ多くの供給口より供給されるので、研磨パッドの全体 に均一にしみわたり、研磨すべき試料表面の各部に過不足なく供給される。これ により試料表面は均一に研磨される。
【0007】
【実施例】
以下に本考案を実施例に基づいて説明する。図1(a)は本考案の研磨機の一 実施例の要部断面図で、図1(b)は本考案の研磨機の要部平面図である。図2 は従来の技術の研磨機の要部断面図である。図1において、研磨皿4には複数個 の孔5A、5B、5Cが研磨皿の上面から下面へ貫通して設けられている。そし て研磨パッド3が研磨皿4に張り付けられている。ワーク皿1の上に表面を研磨 すべきガラス板2を載置しガラス板2の表面に研磨パッドを押しあて、ワーク皿 を回転させる。このとき、孔5A、5B、5Cより研磨液を研磨パッド内供給す る。
【0008】 図1に示す3個の孔が設けられ、そこから研磨液を供給する本考案にかかる研 磨機で、研磨パッドとして発砲ウレタンパッドを用い、研磨液として酸化セリウ ム研磨剤を15重量%含むスラリー上の水を用い、縦300mm横300mm厚 さ1.1mmのソーダライム組成のフロートガラス板を10分間研磨した。一方 、図1に示す研磨皿の軸部分にのみ研磨液を供給する孔が設けられた従来の技術 の研磨機を用いて同様に研磨テストをおこなった。研磨取りしろガラスの位置に よりバラツキを比較したところ、図1の研磨機では、ガラス中央部、周辺部とも よく80%以上の取りしろが得られたが、図2の研磨機では、ガラスの周辺部の 取りしろは中央部の約50〜70%しかなく、研磨取りしろの均一性は劣ってい た。
【考案の効果】
本考案の研磨機により、サイズが大きい試料の表面全体を均一に研磨すること ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)は本考案の研磨機の一実施例の要部
断面図、図1(b)は本考案の研磨機の一実施例の要部
平面図である。
【図2】従来技術の研磨機の要部断面図である。
【符号の説明】
1・・・ワーク皿、2・・・研磨すべき試料、3・・・
研磨パッド、4・・・研磨皿、5A、5B、5C・・・

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】自転、または自転と公転する少なくとも一
    つのワーク皿と、前記ワーク皿に対向して前記ワーク皿
    に圧着し得るように配置された研磨皿と、前記研磨皿の
    前記ワーク皿側表面に着脱可能に装着された連続した細
    孔を有する研磨パッドと、前記研磨パッドに外部より研
    磨液を供給する手段とを有する研磨機であって、前記研
    磨皿には前記研磨パッドが装着されている面とは反対の
    面から前記研磨パッドの装着面までに至る複数個の孔が
    設けられ、前記孔から前記研磨液を供給するようにした
    研磨機。
JP5390191U 1991-07-11 1991-07-11 研磨機 Pending JPH0551558U (ja)

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