JPH0549826B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0549826B2
JPH0549826B2 JP8467303A JP6730384A JPH0549826B2 JP H0549826 B2 JPH0549826 B2 JP H0549826B2 JP 8467303 A JP8467303 A JP 8467303A JP 6730384 A JP6730384 A JP 6730384A JP H0549826 B2 JPH0549826 B2 JP H0549826B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stage
temperature
heat load
radiation shield
array
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP8467303A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS59218372A (en
Inventor
Jei Iikobashii Maikuru
Ei Orusen Donarudo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Azenta Inc
Original Assignee
Helix Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=23913381&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH0549826(B2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Helix Technology Corp filed Critical Helix Technology Corp
Publication of JPS59218372A publication Critical patent/JPS59218372A/en
Publication of JPH0549826B2 publication Critical patent/JPH0549826B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F04POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
    • F04BPOSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
    • F04B37/00Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
    • F04B37/06Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means
    • F04B37/08Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by thermal means by condensing or freezing, e.g. cryogenic pumps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は低温ポンプに関し、特に2段式の閉鎖
サイクル冷却器により冷却される低温ポンプに関
する。また、本発明は、低温ポンプにおけるクロ
スオーバハングアツプを阻止する方法にも関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to cryogenic pumps, and more particularly to cryogenic pumps cooled by a two-stage closed cycle cooler. The invention also relates to a method for preventing crossover hang-up in a cryogenic pump.

開放低温サイクル、あるいは閉鎖低温サイクル
により冷却されるかを問わず、現在利用しうる低
温ポンプは一般的に同じ設計概念に依つている。
通常4から25Kの範囲で作動する低温の第2段ア
レイが主要なポンピング面を構成する。この面は
通常70から130Kの温度範囲で作動し、低温アレ
イに対する放射遮蔽を提供する高温シリンダによ
つて囲まれている。前記放射遮蔽は一般的に、主
ポンピング面と、排気すべきチヤンバとの間に位
置した正面アレイの部分を除いて閉鎖されたハウ
ジングを含む。前記の高温で、第一段の正面アレ
イが、例えば水蒸気のような高沸点ガスをポンピ
ングする個所として作用する。
Whether cooled by an open cryogenic cycle or a closed cryogenic cycle, currently available cryogenic pumps generally rely on the same design concept.
A cryogenic second stage array, typically operating in the 4 to 25 K range, constitutes the primary pumping surface. This surface is surrounded by a hot cylinder that typically operates in the temperature range of 70 to 130 K and provides radiation shielding for the cold array. The radiation shield typically includes a housing that is closed except for the portion of the frontal array located between the main pumping surface and the chamber to be evacuated. At these elevated temperatures, the first stage front array acts as a pumping point for high boiling gases, such as water vapor.

作動時、例えば水蒸気のような高沸点ガスは前
記正面アレイで凝縮する。低沸点ガスは前記アレ
イを通過して、放射遮蔽内のチヤンバへ入り第2
段アレイ上で凝縮する。また、例えば木炭のよう
な吸収剤を塗布した面、あるいは第2段アレイの
温度、あるいはそれ以下で作動する分子篩を極め
て沸点の低いガスを除去するため前記チヤンバ内
に設けることができる。このようにガスを凝縮し
たり、あるいはポンピング面に吸収させることに
より作動チヤンバは真空のみになる。
In operation, high boiling gases, such as water vapor, condense on the front array. The low boiling point gas passes through the array and into a chamber within the radiation shield.
Condense on stage array. Additionally, a surface coated with an absorbent, such as charcoal, or a molecular sieve operating at or below the temperature of the second stage array may be provided within the chamber to remove very low boiling point gases. By condensing or absorbing the gas onto the pumping surface, the working chamber becomes vacuum-only.

閉鎖サイクル冷却器により冷却されるシステム
においては、冷却器は典型的には、放射遮蔽の後
方を貫通して延びる冷却フインガを有する2段式
冷凍機である。低温冷却器の第2段の最冷ステー
ジの冷却端は冷却フインガの先端にある。主ポン
ピング面、即ち低温パネルは冷却フインガの第2
段の最冷端部において熱だめに接続されている。
前記低温パネルは第2段の熱だめの周りに配設さ
れ、かつ該熱だめに接続された簡単な金属板ある
いは金属そらせ板のアレイでよい。また、前記第
2段の低温パネルは低温吸収剤を支持する。
In systems cooled by closed cycle coolers, the cooler is typically a two-stage refrigerator with cooling fingers extending through the rear of the radiation shield. The cooling end of the second, coldest stage of the cryocooler is at the tip of the cooling finger. The main pumping surface, i.e. the cold panel, is the second part of the cooling finger.
Connected to a heat sink at the coldest end of the stage.
The cold panel may be a simple metal plate or an array of metal baffles disposed around and connected to the second stage heat sink. The second stage cryogenic panel also supports a cryogenic absorbent.

放射遮蔽は冷凍器の第一段の最冷端において、
熱だめあるいは熱ステーシヨンに接続されてい
る。前記遮蔽は第一段の低温パネルを放射熱から
保護するように該パネルを囲んでいる。正面アレ
イは、側方遮蔽、あるいは米国特許第4356701号
に示すように熱支柱を介して第一段の熱だめによ
り冷却される。
Radiation shielding is provided at the coldest end of the first stage of the refrigerator.
Connected to a heat sink or heat station. The shield surrounds the first stage cryogenic panel to protect it from radiant heat. The frontal array is cooled by a first stage heat sink via side shields or thermal struts as shown in US Pat. No. 4,356,701.

低温ポンプシステムのある使用者が経験した1
つの問題は、クロスオーバ「ハングアツプ」とし
て知られている。この問題はプロセスがアルゴ
ン、酸素あるいは窒素雰囲気中で進行するスパタ
リングシステムの如きシステムに特に関連する。
クロスオーバとは作動チヤンバと低温ポンプとの
間の弁が開放して極めて高度の真空状態の低温ポ
ンプを低度の真空状態の作動チヤンバへ露出する
プロセス段階のことである。その場合、作動チヤ
ンバの圧力は低温ポンプによつて減圧される。作
動チヤンバの圧力を例えば10-7トルまで持つてく
るには、アルゴンの場合、ガスを冷たい第22段ア
レイで28.6Kの温度で凝縮する必要がある。高温
でルゴンを凝縮するとアルゴンの分圧が高くな
り、そのため作動チヤンバの圧力が高くなる。
Experienced by a user of a cryogenic pump system1
One problem is known as a crossover "hangup." This problem is particularly relevant to systems such as sputtering systems where the process proceeds in an argon, oxygen or nitrogen atmosphere.
Crossover is a process step in which a valve between the working chamber and the cryopump opens to expose the very high vacuum of the cryopump to the low vacuum of the working chamber. In that case, the pressure in the working chamber is reduced by a cryo-pump. To bring the working chamber pressure to, say, 10 -7 Torr, in the case of argon, the gas needs to be condensed in a cold 22nd stage array at a temperature of 28.6 K. Condensing rougon at high temperatures increases the partial pressure of argon and therefore the pressure in the working chamber.

第1段のアレイが例えば77Kの温度に保持され
るシステムの通常作動の間は、アルゴンは第1段
アレイでは凝縮せず、第2段アレイで適度に凝縮
するよう直接第2段アレイへ通過する。しかしな
がら、熱負荷の低い状態では、正面アレイの温度
は約40K程度まで低下しうる。その温度ではアル
ゴンは正面アレイで凝縮せず、かつ該温度におい
ては、固体アルゴンの蒸発とアルゴン分子の凝縮
との均衝から生じる分圧によつて分圧は単に10-3
から10-4トルまでになつてしまう。アルゴンが正
面アレイにおいてこの昇華状態にある限りは、作
動チヤンバの圧力を希望する10-7トルまで下げる
ことはできない。
During normal operation of the system, where the first stage array is held at a temperature of e.g. 77K, argon does not condense in the first stage array, but passes directly to the second stage array with moderate condensation in the second stage array. do. However, under low heat load conditions, the temperature of the front array can drop to around 40K. At that temperature, argon does not condense in the front array, and at that temperature the partial pressure resulting from the equilibrium between the evaporation of solid argon and the condensation of argon molecules reduces the partial pressure to only 10 -3
to 10 -4 torr. As long as the argon remains in this sublimated state in the front array, the working chamber pressure cannot be reduced to the desired 10 -7 Torr.

昇華の間アルゴンガスが蒸発するにつれて、ア
ルゴンガスは最終的に冷たい第2段へと移動し、
そこで捕捉される。しかしながら昇華速度は遅
く、昇華が完了するまでにシステム内の圧力は高
温で「ハングアツプ(停止)」する。
As the argon gas evaporates during sublimation, it eventually moves to the cooler second stage and
It is captured there. However, the rate of sublimation is slow and the pressure in the system "hangs up" at high temperatures by the time sublimation is complete.

「ハングアツプ」に対する可能な解決策とし
て、第一段アレイの温度の冷却を防止するため電
気的熱荷重を導入して第一段アレイを暖めること
が提案されてきた。しかしながら、第一段アレイ
に熱負荷を加えると通常冷凍機の冷却時間を増加
させることになる。冷却時間を最短にすることが
低温ポンプ設計上の有意義な関心事であり、さら
に、水素濃度の高い個所では電気エレメントは危
険となりうる。
As a possible solution to "hang-up", it has been proposed to warm up the first stage array by introducing an electrical thermal load to prevent the temperature of the first stage array from cooling down. However, adding a heat load to the first stage array typically increases the cooling time of the refrigerator. Minimizing cooling time is a significant concern in cryogenic pump design, and furthermore, electrical elements can be dangerous in areas with high hydrogen concentrations.

低温ポンプシステムに関連する別の問題は、脈
動する熱負荷は作動チヤンバ内の圧力を一定にし
ないことである。例えば、放射率の低い弁ドアを
開放して放射率の高い放射面へ正面アレイを露出
するにつれて、熱負荷が増加し、圧力が不安定に
なりうる。
Another problem associated with cryogenic pump systems is that the pulsating heat load does not provide constant pressure within the working chamber. For example, as a low emissivity valve door is opened to expose the front array to a high emissivity radiating surface, heat loads may increase and pressure instability may occur.

本発明の原理によれば、第1段が約50K以上の
温度に保持されるよう第一段に受動熱負荷を提供
することにより低温ポンプにおけるクロスオーバ
ハングアツプが排除される。冷却の初期段階の
間、受動熱負荷は最終の冷却温度状態におけるよ
り著しく少ないため、冷却時間は著しく影響され
ることはない。
In accordance with the principles of the present invention, cross-over hang-up in cryogenic pumps is eliminated by providing a passive heat load to the first stage such that the first stage is maintained at a temperature above about 50K. During the initial stage of cooling, the cooling time is not significantly affected since the passive heat load is significantly less than in the final cooling temperature state.

熱負荷は放射遮蔽の放射加熱によることが好ま
しい。第一段に対する放射熱負荷を増加するに
は、放射遮蔽の少なくとも一部と真空容器との間
の有効放射率を増加させる。第1段が低温の場合
は、第1段の放射熱負荷は熱流束が温度差の4乗
の関数であるという事実のために大きい。その結
果、第1段が50K近くの温度まで低下すると、熱
負荷は著しくなり、第1段が50K以下の温度まで
低下しないようにする。温度が50K以上に保持さ
れている限りは、クロスオーバハングアツプは排
除されることが判明している。高温においては、
放射遮蔽と真空容器との間の温度差は低く、放射
熱流束が温度差の関数であるという事実のため、
熱負荷は著しく低い。シシステムが最初に大気温
にある場合熱負荷は無視しうるほど少ない。この
ため、第1段に放射熱負荷を提供することによ
り、冷却温度においては熱負荷は最小となるが、
極めて低温では第一段が50K以下の温度まで低下
しないようにするに十分著しく高い。冷却時間が
著しく損われず、クロスオーバハングアツプが排
除される。
Preferably, the heat load is due to radiant heating of the radiation shield. The radiant heat load on the first stage is increased by increasing the effective emissivity between at least a portion of the radiation shield and the vacuum vessel. When the first stage is cold, the radiant heat load on the first stage is large due to the fact that the heat flux is a function of the temperature difference to the fourth power. As a result, when the first stage cools down to a temperature close to 50K, the heat load becomes significant and prevents the first stage from dropping below a temperature of 50K. It has been found that as long as the temperature is kept above 50K, crossover hang-up is eliminated. At high temperatures,
Due to the fact that the temperature difference between the radiation shield and the vacuum vessel is low and the radiation heat flux is a function of the temperature difference,
The heat load is significantly lower. If the system is initially at ambient temperature, the heat load is negligible. Therefore, by providing a radiant heat load to the first stage, the heat load is minimized at cooling temperatures;
At very low temperatures it is significantly high enough to prevent the first stage from dropping below 50K. Cooling time is not significantly compromised and crossover hang-ups are eliminated.

放射遮蔽と真空容器との間の有効放射率は放射
遮蔽の外面を黒色に塗ることによつて得ることが
好ましい。真空容器の内面を塗布しても有効放射
率を増加させるが、高温においては真空容器の前
記塗料からガス放出がなされることになるかもれ
ない。
Preferably, the effective emissivity between the radiation shield and the vacuum vessel is obtained by painting the outer surface of the radiation shield black. Coating the interior surfaces of the vacuum vessel will also increase the effective emissivity, but at elevated temperatures may result in outgassing from the coating on the vacuum vessel.

クロスオーバ「ハングアツプ」に係る問題は、
第2段の冷凍機シリンダの側部にガスが凝縮する
ことによつて発生しうる。この問題は、アレイの
裏側の吸収材に対して最大限の流通性を提供する
ために開放した第2段アレイを使用した場合特に
明らかである。通常の作動温度においては、約
77Kの第1段熱だめから、15Kの第2段の熱だめ
まで、冷凍機シリンダの長さにわたり温度傾斜が
ある。アルゴンおよびその他のガスは50K以下の
温度の冷凍機シリンダのゾーンに沿つて凝縮しう
る。前記ゾーンにおける温度はシステムの圧力に
よつて決定される。例えばシステムにおける弁を
開放することにより第1段に熱負荷が加えられる
と、第1段の温度は増加し、冷凍機シリンダの長
さにわたり50Kのゾーンを移動させる。前記ゾー
ンが移動するにつれて、シリンダ上で冷凍したガ
スが急速に解放される。この急速な蒸発によつて
作動チヤンバの圧力が急激に増加する。さらに、
第1段の熱負荷が一定の場合でさえも、冷凍機シ
リンダ内の移動装置が往復運動し、臨界ゾーンを
連続的に運動させる。臨界ゾーンの前記運動によ
り作動チヤンバ内の圧力を頻繁に変動させる。
The problem with the crossover "Hang Up" is
It can be caused by gas condensing on the sides of the second stage refrigerator cylinder. This problem is particularly evident when using an open second stage array to provide maximum flow to the absorbent material on the back side of the array. At normal operating temperatures, approximately
There is a temperature gradient across the length of the refrigerator cylinder from the first stage heat sink at 77 K to the second stage heat sink at 15 K. Argon and other gases can condense along zones of the refrigerator cylinder at temperatures below 50K. The temperature in the zone is determined by the system pressure. When a heat load is applied to the first stage, for example by opening a valve in the system, the temperature of the first stage increases, moving a zone of 50 K over the length of the refrigerator cylinder. As the zone moves, the gas frozen on the cylinder is rapidly released. This rapid evaporation causes the pressure in the working chamber to increase rapidly. moreover,
Even when the heat load of the first stage is constant, the displacement device within the refrigerator cylinder reciprocates, causing continuous movement of the critical zone. Said movement of the critical zone causes frequent fluctuations in the pressure within the working chamber.

第2段冷凍機においてアルゴンおよびその他の
ガスが凝縮することにより起因する問題を排除す
るには、緊密装置のスリーブが冷凍機シリンダを
囲繞する。スリーブは第2段の熱だめと熱接触す
るが冷凍機シリンダとは接触しない。第2段アレ
イを通過するほとんどのガスはシリンダに到来す
る前に遮蔽上で凝縮する。遮蔽とシリンダとの間
に約2.54ミリ(0.1インチ)以下の狭い空〓があ
ればシリンダの下方を通過するガスでさえも確実
に冷たい遮蔽上で急速に凝縮され、かつ捕捉され
るようにする。第2段熱だめの低温で放射遮蔽を
保持することにより、該遮蔽上で凝縮するガスが
該遮蔽上に保持され、その後移動装置あるいは高
度の熱負荷が第1段へ運動しても蒸発することは
ない。
To eliminate problems caused by condensation of argon and other gases in the second stage refrigerator, a sleeve of a sealing device surrounds the refrigerator cylinder. The sleeve is in thermal contact with the second stage heat sink but not with the refrigerator cylinder. Most of the gas passing through the second stage array condenses on the shield before reaching the cylinder. A narrow air space of approximately 0.1 inch or less between the shield and the cylinder ensures that even gas passing below the cylinder is rapidly condensed and trapped on the cold shield. . By keeping the radiation shield at the low temperature of the second stage heat sink, gases that condense on the shield will be retained on the shield and evaporated even as mobile equipment or higher heat loads move to the first stage. Never.

本発明の前述およびその他の目的、特徴および
利点は、種々の図面を通して同一部材に同じ参照
番号を付した添付図面に示す本発明の好適実施例
についての以下詳細説明から明らかとなる。図面
は必ずしも尺度通りではなく、本発明の原理を示
す上で誇張して示してある。
The foregoing and other objects, features and advantages of the invention will become apparent from the following detailed description of a preferred embodiment of the invention, illustrated in the accompanying drawings in which like reference numerals refer to like parts throughout the various drawings. The drawings are not necessarily to scale, emphasis instead being placed upon illustrating the principles of the invention.

第1図と第2図に示す低圧ポンプは、フランジ
14に沿つて作動チヤンバの壁に取り付けられた
真空容器12を含む。容器12の正面開口16は
作動チヤンバの円形開口と連通する。
The low pressure pump shown in FIGS. 1 and 2 includes a vacuum vessel 12 attached to the wall of the working chamber along a flange 14. The front opening 16 of the container 12 communicates with the circular opening of the working chamber.

第2図に示すように、運搬のために取外し可能
のカバー17が前記開口上に設けられている。代
替的に、低温ポンプ組立体をチヤンバ内へ突出さ
せ、後部フランジに真空シールを設けてよい。冷
凍機の第2段冷却フインガ18が開口20を貫通
して容器12中へ突出している。この場合、冷凍
機はチエリス他(Chellis et al)への米国特許第
3218815号に開示のようなギフオード・マクマホ
ン(Gifford−MacMahon)の冷凍機である。冷
却フインガ18の第2段移動装置がモータ22に
よつて駆動される。サイクル毎に、配管24を介
して加圧されて冷却フインガへ導入されたヘリウ
ムガスが膨張し、冷却されて配管26を介して排
出される。第1段の熱だめ、即ち熱ステーシヨン
28が冷凍機の第1段部分29の冷却端に取り付
けられている。同様に熱だめ30が第2段32の
冷却端に取り付けられている。熱だめ30の後部
には適当な感温エレメント34が取り付けられて
いる。
As shown in FIG. 2, a removable cover 17 is provided over the opening for transportation. Alternatively, the cryopump assembly may project into the chamber and include a vacuum seal on the rear flange. A second stage cooling finger 18 of the refrigerator projects through the opening 20 and into the container 12 . In this case, the refrigerator is a U.S. patent to Chellis et al.
3218815, a Gifford-MacMahon refrigerator. A second stage moving device for cooling finger 18 is driven by motor 22 . During each cycle, helium gas introduced under pressure into the cooling finger via line 24 is expanded, cooled and discharged via line 26. A first stage heat sink or station 28 is attached to the cold end of the first stage section 29 of the refrigerator. Similarly, a heat sink 30 is attached to the cooled end of the second stage 32. A suitable temperature sensitive element 34 is mounted at the rear of the heat sink 30.

主要ポンピング面は熱だめ30に取り付けられ
たアレーである。前記アレーはデイスク38と、
垂直配列され、前記デイスク38に熱支柱41に
より取り付けられた一一組の円形の山形絞状部材
40とから構成されている。前記支柱41は前記
絞状部材40と、該絞状部材の間に設けられた円
筒形スペーサ43を貫通して延び、前記支柱の端
部にあるナツトが前記山形絞状部材とスペーサと
を圧縮して緊密な積重体とする。例えば木炭の粉
末のような低温吸収材が前記絞状部材の下部裏面
部分に接着されている。低沸点のガスは開放した
山形絞状部材を通つて前記吸収材に近接する。前
記山形絞状部材を支柱によつて前述のように開放
配置することにより組立ても簡単にし、かつガス
が絞状部材40の前側を通つて吸収材まで流れや
すくする。代替例として、山形絞状部材を、吸収
材を接着しうる内部シリンダに支持させてもよ
い。
The primary pumping surface is an array attached to the heat sink 30. The array includes a disk 38;
It consists of a set of circular chevron-shaped diaphragms 40 arranged vertically and attached to the disk 38 by thermal struts 41. The strut 41 extends through the diaphragm 40 and a cylindrical spacer 43 provided between the diaphragms, and a nut at the end of the strut compresses the chevron-shaped diaphragm and the spacer. to form a tight stack. A cold absorbing material, such as charcoal powder, is adhered to the lower back surface portion of the diaphragm. The low boiling point gas approaches the absorbent material through the open chevron-shaped diaphragm. By arranging the chevron-shaped diaphragm member in the open manner as described above by the struts, assembly is simplified and gas can easily flow through the front side of the diaphragm member 40 to the absorbent material. Alternatively, the chevron-shaped diaphragm may be supported by an internal cylinder to which the absorbent material can be adhered.

下記する理由から、スリーブ52が第2段冷凍
機シリンダ32上に位置している。前記スリーブ
52は、第2段熱だめ30に取り付けられ、かつ
該熱だめから下方に延びる2個の半円筒形部材5
4,56から形成されている。前記スリーブとシ
リンダ32との間には小さい空〓55が設けられ
ている。
Sleeve 52 is located over second stage refrigerator cylinder 32 for reasons discussed below. The sleeve 52 has two semi-cylindrical members 5 attached to and extending downwardly from the second stage heat sink 30.
It is formed from 4,56. A small cavity 55 is provided between the sleeve and the cylinder 32.

コツプ状の放射熱だめ44が第1段の高温熱だ
め28に取り付けられている。第2段の冷却フイ
ンガが前記放射遮蔽の開口45を貫通して延びて
いる。前記放射遮蔽44は第2段アレイを後部お
よび側部まで囲み、放射によるアレイの加熱を最
小にする。前記放射遮蔽の温度は約120K以下で
あることが好ましい。
A pot-shaped radiant heat sink 44 is attached to the first stage high temperature heat sink 28. A second stage cooling finger extends through the radiation shield opening 45. The radiation shield 44 surrounds the second stage array to the rear and sides to minimize heating of the array by radiation. Preferably, the temperature of the radiation shield is about 120K or less.

正面低温パネルアレイ46は主要低温パネル用
の放射遮蔽ならびに、水蒸気のような高沸点ガス
用の低温ポンピング面の双方として作用する。前
記アレイはリム50により接続されたよろい板4
8を含む。正面アレイ46は放射遮蔽44に取り
付けられ、該遮蔽は正面アレイを支持し、かつ熱
だめ28から前記アレイまでの熱通路として作用
する。前記アレイの形状は図示した配置に限定さ
れる必要はなく、放射熱遮蔽として、かつ高温で
の低温ポンピングパネルをして作用し、一方低沸
点ガスの第2段アレイまでの通路を提供するよう
配置したそらせアレイであるべきである。
The front cryo panel array 46 acts as both a radiation shield for the main cryo panels and a cryo-pumping surface for high boiling point gases such as water vapor. Said array is connected by a rim 50 of the armor plates 4
Contains 8. The front array 46 is attached to a radiation shield 44 that supports the front array and acts as a thermal path from the heat sink 28 to the array. The shape of the array need not be limited to the arrangement shown, and may be designed to act as a radiant heat shield and as a cold pumping panel at high temperatures, while providing a path for low boiling point gases to the second stage array. There should be a deflector array in place.

前述のように、クロスオーバハングアツプの問
題はアルゴンやその他のガスが第2段へ直接通過
するよりもむしろ第1段の正面アレイ上で冷凍す
ることから発生する。実験によれば、アルゴンに
よるハングアツプは正面アレイの温度を50K度以
上に保持することにより排除しうることを示して
いる。これは低温の第1段に熱負荷を提供するこ
とにより達成できる。他方、冷却速度を高めるた
めに高温での第1段の熱負荷は最小にすることが
好ましい。この目的に対して、放射遮蔽44の外
側をつや消しの黒色塗料で塗布して第一段へ放射
熱負荷を供給する。このため、放射遮蔽の放射率
が増加し、真空容器から遮弊までの放射熱の流れ
を増加させる。前記放射熱の流れは第1段冷凍機
への熱負荷である。
As previously mentioned, the crossover hangup problem arises from argon and other gases freezing on the front array of the first stage rather than passing directly to the second stage. Experiments have shown that argon hang-up can be eliminated by maintaining the front array temperature above 50K degrees. This can be achieved by providing a heat load to the cold first stage. On the other hand, it is preferred to minimize the heat load of the first stage at high temperatures in order to increase the cooling rate. To this end, the outside of the radiation shield 44 is coated with a matte black paint to provide a radiant heat load to the first stage. This increases the emissivity of the radiation shield, increasing the flow of radiant heat from the vacuum vessel to the shield. The radiant heat flow is a heat load on the first stage refrigerator.

第1段への熱負荷は放射遮蔽44への放射熱の
流れQによるものである。
The heat load on the first stage is due to the radiant heat flow Q to the radiation shield 44.

Q=Aδeeff(TH 4−TL 4) (1) Aは表面積、δは常数、eeffは有効放射率、TH
は真空容器の温度、TLは放射遮蔽の温度である。
Q=Aδe eff (T H 4 −T L 4 ) (1) A is surface area, δ is constant, e eff is effective emissivity, T H
is the temperature of the vacuum vessel and T L is the temperature of the radiation shield.

有効放射率は放射遮蔽の外面の放射率e0と真空
容器の内面の放射率eiとの関数である。
The effective emissivity is a function of the emissivity e 0 of the outer surface of the radiation shield and the emissivity e i of the inner surface of the vacuum vessel.

eeff1/1/c0+1/ei−1 (2) 過去、前記面は約0.05以下の有効放射率に対し
て、約0.1以下の極めて低い放射率を得るため研
磨した。前記の低い有効放射率により放射熱の流
量および第1段に対する熱負荷を最小にする。本
発明により第1段に適度の熱負荷を提供するに
は、有効放射率は少なくとも約0.10であるべきで
ある。この有効放射率は放射遮蔽44の外面の1
に近い放射率と、真空容器12の内面の約0.1の
放射率とにより得られる。
e eff 1/1/c 0 +1/e i −1 (2) In the past, the surface has been polished to obtain a very low emissivity of about 0.1 or less, for an effective emissivity of about 0.05 or less. The low effective emissivity minimizes the flow of radiant heat and the heat load on the first stage. To provide a reasonable heat load to the first stage according to the present invention, the effective emissivity should be at least about 0.10. This effective emissivity is 1 of the outer surface of the radiation shield 44.
and an emissivity of about 0.1 for the inner surface of the vacuum vessel 12.

高放射率が放射遮蔽44上に提供されるのであ
つて、正面アレイ46上でないことが重要であ
る。正面アレイ46に高度の放射率を提供するこ
とにより、有効放射率を大きく変えることができ
る。作動チヤンバへの弁ドアが開放するにつれ
て、正面アレイ上の放射率は0.1から1近くまで
変化する。前記アレイ上の放射率が1近くになる
と、有効放射率は約0.1から約1まで変わる。こ
の結果、数ワツト熱負荷が変化する。
It is important that high emissivity is provided on the radiation shield 44 and not on the front array 46. By providing the front array 46 with a high degree of emissivity, the effective emissivity can be greatly varied. As the valve door to the working chamber opens, the emissivity on the front array changes from 0.1 to near 1. As the emissivity on the array approaches 1, the effective emissivity varies from about 0.1 to about 1. This results in a change in heat load of several watts.

現在のような配置によつて、正面アレイの放射
率は約0.1となり、弁が開放するにつれて、正面
アレイの放射率は約0.05から約0.1まで変化する。
弁位置とは関係なく放射遮蔽と真空容器の間の有
効放射率は約0.1に留る。このように、第1段の
熱負荷は約1あるいは2ワツトではるかに一定状
態となる。
With the current arrangement, the emissivity of the front array is about 0.1, and as the valve opens, the emissivity of the front array changes from about 0.05 to about 0.1.
Regardless of the valve position, the effective emissivity between the radiation shield and the vacuum vessel remains approximately 0.1. Thus, the heat load on the first stage remains much more constant at about 1 or 2 watts.

放射熱流量は温度差の4乗の関数であることが
判る。このように、温度差が増えるにつれて、熱
流量は増加する。放射遮蔽44を黒色に塗布する
ことにより約0.9の放射率を提供し、第1段の低
温状態において、放射熱の流れにより第1段に著
しい熱負荷が得られることが判明した。前記の熱
負荷は正面アレイ46を含めた第1段の温度を
50K以上に保持するに十分である。しかしなが
ら、高温では放射熱負荷ははるかに少なく、シス
テムの冷却を著しく阻害しない。
It can be seen that the radiant heat flow is a function of the fourth power of the temperature difference. Thus, as the temperature difference increases, the heat flow increases. It has been found that painting the radiation shield 44 black provides an emissivity of about 0.9, and in the cold conditions of the first stage, the flow of radiant heat provides a significant heat load on the first stage. The above heat load increases the temperature of the first stage including the front array 46.
Enough to hold over 50K. However, at high temperatures the radiant heat load is much lower and does not significantly impede system cooling.

低温においてのみ希望する熱負荷を得るための
別の装置を第3図に示す。この配置において、熱
スイツチが低温において、真空容器12と放射遮
蔽44との間の伝熱性の熱通路を提供する。前記
スイツチはバイメタルエレメント57,58から
形成されている。50Kに近い低温において、前記
バイメタルエレメントは接着し、放射遮蔽に対し
て熱の流れ通路を提供し正面アレイの温度が50K
以下に低下しないようにする。しかしながら、高
温においては、前記エレメントは分離しており、
該エレメント57と58の間の真空が良好な断熱
作用を提供する。
Another device for obtaining the desired heat load only at low temperatures is shown in FIG. In this arrangement, the thermal switch provides a thermally conductive thermal path between the vacuum vessel 12 and the radiation shield 44 at low temperatures. Said switch is formed from bimetallic elements 57,58. At low temperatures close to 50K, the bimetallic elements bond and provide a heat flow path for the radiation shield, allowing the front array to reach a temperature of 50K.
Avoid dropping below. However, at high temperatures, the elements are separated;
The vacuum between the elements 57 and 58 provides good insulation.

放射熱負荷は第2段により均一な負荷を提供
し、かつシステムに対して何ら構造上の変更をも
たらさないので、伝熱性熱負荷よりも好ましい。
放射熱負荷および伝熱性熱負荷の双方共、システ
ムにおいて電気的加熱エレメントの必要性を排除
し、かつ双方共第1段温度が減少するにつれてよ
り大きい熱負荷を提供する。
Radiant heat loads are preferred over conductive heat loads because they provide a more uniform load on the second stage and do not introduce any structural changes to the system.
Both radiant and conductive heat loads eliminate the need for electrical heating elements in the system, and both provide a greater heat load as the first stage temperature decreases.

放射遮蔽44への放射を増加することにより提
供される熱負荷はアルゴンおよび凝固温度の低い
その他のガスが正面アレイで凝縮するのを阻止す
るが、第2段の冷凍機シリンダ32にアルゴンが
凝縮するためまだ問題があることが判明した。第
1段の熱だめ28が77Kで、第2段の熱だめ30
が15Kの通常の作動温度においてさえも、シリン
ダ32の長さにわたり前記熱だめの間には温度傾
斜がある。例えば10-4トルのチヤンバの圧力が、
アルゴンガスが凝縮し均衡状態で蒸発する50K以
下の限定温度範囲を規定する。このように、常に
シリンダの長さに沿つたある点において、アルゴ
ンガスが凝縮し、均衡状態で蒸発する温度におい
てシリンダ32上の臨界ゾーンが存在する。シリ
ンダ32内の移動装置が上下に往復運動するにつ
れて、前記臨界ゾーンもシリンダに沿つて上下に
運動する。前記ゾーンが上方に運動するにつれ
て、凝縮したアルゴンを支持していた領域はアル
ゴンが蒸発する高温まで暖められる。アルゴンが
かなり急速に蒸発することによりシステムの圧力
を増加させる。移動装置が往復運動するにつれ
て、臨界領域の振動がチヤンバ圧力の振動として
認められる。
The heat load provided by increasing radiation to the radiation shield 44 prevents argon and other gases with low freezing temperatures from condensing in the front array, but prevents argon from condensing in the second stage refrigerator cylinder 32. It turns out that there are still problems. 1st stage heat sink 28 is 77K, 2nd stage heat sink 30
Even at normal operating temperatures of 15K, there is a temperature gradient between the heat sinks over the length of cylinder 32. For example, if the chamber pressure is 10 -4 Torr,
Defines a limited temperature range below 50K in which argon gas condenses and evaporates in an equilibrium state. Thus, at any given point along the length of the cylinder, there is a critical zone on the cylinder 32 at which temperature the argon gas condenses and evaporates at equilibrium. As the moving device within the cylinder 32 reciprocates up and down, the critical zone also moves up and down along the cylinder. As the zone moves upward, the area that was supporting the condensed argon is warmed to a high temperature where the argon evaporates. The argon evaporates fairly quickly, increasing the pressure in the system. As the transfer device reciprocates, oscillations in the critical region are seen as oscillations in the chamber pressure.

シリンダ32上にアルゴンが凝縮することによ
る別の結果は第1段に対する熱負荷の変化に伴い
圧力が不安定になることである。例えば、弁が作
動チヤンバに対して開放されると、第1段には大
きな熱負荷が加わり、第1段の熱だめ28の温度
を増加させる。このため臨界ゾーンを急速に移動
させチヤンバ内の圧力を不安定にする。
Another consequence of argon condensation on cylinder 32 is pressure instability as the heat load on the first stage changes. For example, when the valve is opened to the actuation chamber, a large heat load is placed on the first stage, increasing the temperature of the first stage heat sink 28. Therefore, the critical zone moves rapidly and the pressure inside the chamber becomes unstable.

シリンダ上でのアルゴンの凝縮は、緊密装着の
遮蔽52をシリンダ上に位置させ、該遮蔽を安定
した低温に保持することにより事実上排除されう
ることが判明した。第2段アレイを通過し、さも
なければ第2段のシリンダ32と接触するであろ
うガスのほとんどは遮蔽によつてしや断される。
さらに、遮蔽の下方から該遮蔽とシリンダの間の
領域中へ通過しうるいづれのガスもすぐに遮蔽の
内面上で捕捉される。15Kの遮蔽上で一旦アルゴ
ンが凝縮すると、蒸発は極めて限定される。他
方、シリンダ上に凝縮するいづれのガスも比較的
速く蒸発する。次いで均衡すると、遮蔽とシリン
ダの間の空〓へ入るガスはシリンダによつて急速
に捕捉され、シリンダ上の凝縮は事実上排除され
る。この目的に対して2.16ミリ(0.085インチ)
の空〓が適当であることが判明した。
It has been found that argon condensation on the cylinder can be virtually eliminated by placing a tightly fitted shield 52 over the cylinder and maintaining the shield at a stable low temperature. Most of the gas that passes through the second stage array and would otherwise come into contact with the second stage cylinders 32 is cut off by the shield.
Furthermore, any gas that may pass from below the shield into the area between the shield and the cylinder is immediately trapped on the inner surface of the shield. Once the argon condenses on the 15K screen, evaporation is extremely limited. On the other hand, any gas that condenses on the cylinder evaporates relatively quickly. Then, upon equilibrium, gas entering the air space between the shield and the cylinder is rapidly captured by the cylinder, and condensation on the cylinder is virtually eliminated. 2.16 mm (0.085 inch) for this purpose
It turned out that the sky was suitable.

本発明を好適実施例に関して詳細に図示、かつ
説明してきたが、当該技術分野の専門家には特許
請求の範囲記載の精神および範囲から逸脱するこ
となくその形態および細部において種々の変更が
可能なことが理解される。例えば、閉鎖サイクル
の2段冷凍機が示されているが、例えば液体窒
素、水素あるいはヘリウムのような開放サイクル
冷凍機により冷却される低温ポンプも使用可能で
ある。また、冷却を行うために一段および二段の
閉鎖サイクル冷凍機の組合せも使用できる。
While the invention has been illustrated and described in detail with respect to preferred embodiments, those skilled in the art will recognize that various changes can be made in form and detail without departing from the spirit and scope of the claims. That is understood. For example, although a closed-cycle, two-stage refrigerator is shown, a cryo-pump cooled by an open-cycle refrigerator, such as liquid nitrogen, hydrogen, or helium, could also be used. A combination of single stage and two stage closed cycle refrigerators can also be used to provide cooling.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明を実施した低温ポンプの斜視
図、第2図は第1図に示す低温ポンプの側断面
図、および第3図は熱スイツチの代替実施例を示
す図である。 図において、12…真空容器、16,20…開
口、18…冷却フインガ、28,30…熱だめ、
29…第一段、32…第2段、34…感温エレメ
ント、38…デイスク、40…山形絞状部材、4
1…熱支柱、43…スペーサ、44…熱遮蔽、4
6…正面アレイ、52…スリーブ、54,56…
半円筒形部材、48…よろい板。
FIG. 1 is a perspective view of a cryo-pump embodying the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional side view of the cryo-pump shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a diagram showing an alternative embodiment of the thermal switch. In the figure, 12... vacuum container, 16, 20... opening, 18... cooling finger, 28, 30... heat sink,
29...First stage, 32...Second stage, 34...Temperature sensing element, 38...Disc, 40...Chevron shaped member, 4
1... Heat strut, 43... Spacer, 44... Heat shield, 4
6...Front array, 52...Sleeve, 54, 56...
Semi-cylindrical member, 48... armor plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 冷凍機の少なくとも2段29,32を有する
低温ポンプであつて、第1段29に対する受動的
な熱負荷を有し、該第1段29は約50K以上の温
度に保持されており、前記熱負荷は最初の第1段
29の温度においてはより小さく、前記受動的な
熱負荷は、放射遮蔽44による放射熱流に基づく
ものである。低温ポンプにおいて、前記放射遮蔽
44の外面が黒色であることを特徴とする低温ポ
ンプ。 2 前記放射遮蔽44の外面が黒色に塗布されて
いる特許請求の範囲第1項記載の低温ポンプ。 3 前記放射遮蔽44の放射効率が約0.1以上で
ある特許請求の範囲第1項又は第2項記載の低温
ポンプ。 4 前記放射遮蔽44の外面の放射率がほぼ1で
あり且つ該放射遮蔽44を取り囲む真空容器12
の内面の放射率が約0.1である特許請求の範囲第
3項記載の低温ポンプ。 5 システム内のアルゴン、窒素及び酸素ガスが
第1段の低温ポンピング面で凝縮されないように
されている特許請求の範囲第1項から第4項まで
のいずれか1つに記載の低温ポンプ。 6 前記放射遮蔽44は第2段の低温ポンピング
面38,40,41,43を取り囲んでおり、該
第2段の低温ポンピング面38,40,41,4
3は前記冷凍機の第2段32上に配置された少な
くとも熱だめ30に熱的に接触していて、低温凝
縮ガスを凝縮させる特許請求の範囲第1項から第
5項までのいずれか1つに記載の低温ポンプ。 7 冷凍機の少なくとも2段29,31を有する
低温ポンプにおけるクロスオーバハングアツプを
阻止する方法であつて、第1段29に対して受動
的な熱負荷を提供し、該第1段29は約50K以上
の温度に保持されており、前記熱負荷は最初の第
1段29の温度においてはより小さく、前記受動
的な熱負荷は、放射遮蔽44による放射熱流に基
づくものである方法において、前記放射遮蔽44
の外面を黒色にすることを特徴とする方法。 8 前記放射遮蔽44の放射効率が約0.1以上に
される、特許請求の範囲第7項記載の方法。
[Claims] 1. A cryogenic pump having at least two stages 29, 32 of a refrigerator, with a passive heat load on the first stage 29, the first stage 29 being heated to a temperature of about 50K or more. The heat load is lower at the temperature of the first stage 29 , and the passive heat load is based on the radiant heat flow through the radiation shield 44 . A cryogenic pump characterized in that the outer surface of the radiation shield 44 is black. 2. The cryo-pump according to claim 1, wherein the outer surface of the radiation shield 44 is painted black. 3. The cryogenic pump according to claim 1 or 2, wherein the radiation efficiency of the radiation shielding 44 is about 0.1 or more. 4. A vacuum container 12 whose outer surface of the radiation shield 44 has an emissivity of approximately 1 and which surrounds the radiation shield 44.
4. The cryogenic pump according to claim 3, wherein the inner surface of the cryogenic pump has an emissivity of about 0.1. 5. A cryopump according to any one of claims 1 to 4, wherein the argon, nitrogen and oxygen gases in the system are prevented from condensing on the cryo-pumping surface of the first stage. 6 the radiation shielding 44 surrounds the second stage cold pumping surfaces 38, 40, 41, 43;
3 is in thermal contact with at least the heat sink 30 disposed on the second stage 32 of the refrigerator, and is configured to condense low-temperature condensed gas. Cryogenic pump as described in . 7. A method of preventing crossover hang-up in a cryogenic pump having at least two stages 29, 31 of refrigerators, the first stage 29 providing a passive heat load to the first stage 29, the first stage 29 having a temperature of approximately 50K. in which the heat load is lower at the temperature of the first stage 29 and the passive heat load is based on radiant heat flow through a radiation shield 44; Shielding 44
A method characterized by making the outer surface of a black color. 8. The method of claim 7, wherein the radiation efficiency of the radiation shield 44 is greater than or equal to about 0.1.
JP59067303A 1983-04-04 1984-04-04 Low-temperature pump Granted JPS59218372A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US48178383A 1983-04-04 1983-04-04
US481783 1983-04-04

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59218372A JPS59218372A (en) 1984-12-08
JPH0549826B2 true JPH0549826B2 (en) 1993-07-27

Family

ID=23913381

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59067303A Granted JPS59218372A (en) 1983-04-04 1984-04-04 Low-temperature pump

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP0126909B1 (en)
JP (1) JPS59218372A (en)
CA (1) CA1220948A (en)
DE (1) DE3464948D1 (en)
IL (1) IL71403A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009250148A (en) * 2008-04-08 2009-10-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd Cryopump and refrigerator

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4555907A (en) * 1984-05-18 1985-12-03 Helix Technology Corporation Cryopump with improved second stage array
US4718241A (en) * 1985-10-31 1988-01-12 Helix Technology Corporation Cryopump with quicker adsorption
JPS63501585A (en) * 1985-10-31 1988-06-16 ヘリツクス テクノロジ− コ−ポレ−シヨン Rapid adsorption cryopump
EP0338113B1 (en) * 1988-04-22 1992-01-29 Leybold Aktiengesellschaft Method for the adaptation of a 2-stage cryogenic pump to a specific gas
EP3384212B1 (en) 2015-12-04 2019-04-17 Koninklijke Philips N.V. Cryogenic cooling system with temperature-dependent thermal shunt
CN117489563A (en) * 2023-12-05 2024-02-02 上海优尊真空设备有限公司 Improved cryogenic pump

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4150549A (en) * 1977-05-16 1979-04-24 Air Products And Chemicals, Inc. Cryopumping method and apparatus
US4311018A (en) * 1979-12-17 1982-01-19 Varian Associates, Inc. Cryogenic pump
JPS57176372A (en) * 1981-04-21 1982-10-29 Osaka Oxgen Ind Ltd Low temperature heat transmitter

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4295338A (en) * 1979-10-18 1981-10-20 Varian Associates, Inc. Cryogenic pumping apparatus with replaceable pumping surface elements
US4356701A (en) * 1981-05-22 1982-11-02 Helix Technology Corporation Cryopump

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4150549A (en) * 1977-05-16 1979-04-24 Air Products And Chemicals, Inc. Cryopumping method and apparatus
US4311018A (en) * 1979-12-17 1982-01-19 Varian Associates, Inc. Cryogenic pump
JPS57176372A (en) * 1981-04-21 1982-10-29 Osaka Oxgen Ind Ltd Low temperature heat transmitter

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009250148A (en) * 2008-04-08 2009-10-29 Sumitomo Heavy Ind Ltd Cryopump and refrigerator

Also Published As

Publication number Publication date
CA1220948A (en) 1987-04-28
EP0126909B1 (en) 1987-07-22
IL71403A0 (en) 1984-06-29
IL71403A (en) 1991-01-31
EP0126909A2 (en) 1984-12-05
JPS59218372A (en) 1984-12-08
DE3464948D1 (en) 1987-08-27
EP0126909A3 (en) 1985-01-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4546613A (en) Cryopump with rapid cooldown and increased pressure
US4679401A (en) Temperature control of cryogenic systems
EP0079960B1 (en) Improved cryopump
US7313922B2 (en) High conductance cryopump for type III gas pumping
US4150549A (en) Cryopumping method and apparatus
US4277951A (en) Cryopumping apparatus
US5156007A (en) Cryopump with improved second stage passageway
US20160069339A1 (en) Method And Apparatus For Providing Temperature Control To A Cryopump
US5782096A (en) Cryopump with improved shielding
US4514204A (en) Bakeable cryopump
US4555907A (en) Cryopump with improved second stage array
US6155059A (en) High capacity cryopump
JPH0549826B2 (en)
US4454722A (en) Cryopump
JPH0216377A (en) Cryopump
KR102615000B1 (en) Cryopump with improved frontal array
KR102579506B1 (en) Cryopump with peripheral first and second stage arrays
US4219588A (en) Method for coating cryopumping apparatus
EP0506133B1 (en) A cryopump
JP2668261B2 (en) Method for adapting a two-stage refrigerator cryopump to a predetermined gas and a cryopump suitable for implementing the method
JPH0544642A (en) Cryopump equipped with low temperature trap
JP2597696B2 (en) Cryopumps staged optimally
RU2206027C2 (en) Cryostatted photodetecting system for extra- atmospheric astronomy, space exploration, and remote earth sounding
GB2220449A (en) Cryopump
JPH0451669B2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term