JPH0323386A - Cryopump - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、超高真空を得るために使用するクライオポン
プに関する．
（従来の技術）
従来、この種タライオポンブは、例えば、実開昭８３−
１４８７８号公報に記載され、かつ、第５図で示したご
とく、ポンプケース（Ｃ）と、該ケース（Ｃ）に内装さ
れる輻射熱シールドパネル（Ｐ１）と、このシールドパ
ネル（Ｐｉ）に内装されるセカンドパネル（Ｐ２）とを
備え、前記シールドパネル（Ｐ１）をヘリウム冷凍機（
Ｒ）から延びる第１冷却筒（Ｔ１）の第１ヒートステー
ジ（Ｈ１）に結合し、また、前記セカンドパネル（Ｐ２
）を前記第１冷却ｆｌＪ（Ｔ１）から延び第２冷却Ｗ
（Ｔ２） の第２ヒ− トス＋−’）（Ｈ２）Ｆ’−結
合すると共に、前記シールドパネル（Ｐｌ）の上方開口
部に、一層構造としたバッフル（Ｂ）をインジウムなど
を介して取付けている。Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a cryopump used to obtain an ultra-high vacuum. (Prior art) Conventionally, this type of talio pump has been developed, for example, by
As described in Japanese Patent No. 14878 and as shown in FIG. a second panel (P2), and the shield panel (P1) is connected to a helium refrigerator (
R) is coupled to the first heat stage (H1) of the first cooling cylinder (T1) extending from the second panel (P2
) extends from the first cooling flJ (T1) and a second cooling W
(T2) second heat +-') (H2)F'- is coupled, and a baffle (B) having a single layer structure is attached to the upper opening of the shield panel (Pl) via indium or the like. ing.
そして、前記シールドパネル（Ｐ１）の開口部を真空槽
側に取付けて、前記バッフル（Ｂ）で排気気体中の水分
を凝纏させ、また、前記セカンドパネル（Ｐ２）で排気
気体中の窒素やアルゴン、水素などのガスを凝縮又は吸
着させて、超高真空を得るのである。Then, the opening of the shield panel (P1) is attached to the vacuum chamber side, and the baffle (B) condenses moisture in the exhaust gas, and the second panel (P2) condenses the moisture in the exhaust gas. An ultra-high vacuum is obtained by condensing or adsorbing gases such as argon and hydrogen.
（発明が解決しようとする課題）
所で、以上のクライオポンプでは、一層構造とされたバ
ッフル（Ｂ）が使用され、このバッフル（Ｂ）が真空槽
側に配設されるため、該バッフル（Ｂ）の内方側に設け
られる前記セカンドパネル（Ｐ２）が前記真空槽側の熱
影響を受け易く、例えば、該真空槽側からの熱輻射が増
加したような場合には、輻射熱シールドパネル（Ｐ１）
とバッフル（Ｂ）間の熱抵抗の程度に応じて前記バッフ
ル（Ｂ）側での温度上昇が特に大きくなって水分の凝縮
効果を損なったり、また、このバッフル（Ｂ）からの輻
射熱などで前記セカンドパネル（Ｐ２）側の温度上昇を
招いて、該セカンドパネル（Ｐ２）によるガスの凝縮或
いは吸着効果を損なって、排気性能が低下する問題があ
った。(Problem to be Solved by the Invention) However, in the above cryopump, a baffle (B) having a single layer structure is used, and since this baffle (B) is disposed on the vacuum chamber side, the baffle ( If the second panel (P2) provided on the inner side of B) is easily affected by heat from the vacuum chamber side, and for example, heat radiation from the vacuum chamber side increases, the radiant heat shield panel (P2) P1)
Depending on the degree of thermal resistance between the baffle (B) and the baffle (B), the temperature rise on the baffle (B) side may become particularly large, impairing the moisture condensation effect, or the radiant heat from the baffle (B) may There is a problem in that the temperature on the second panel (P2) side increases, impairing the gas condensation or adsorption effect of the second panel (P2), and deteriorating exhaust performance.
本発明は以上のよろな問題に鑑みてなしたもので、その
目的は、バッフル側での水分凝縮効果を高めながら、真
空槽側からセカンドパネルへの熱影響を少なくできて、
安定した排気性能が得られるクライオポンプを提供する
ことにある。The present invention was made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to reduce the heat influence from the vacuum chamber side to the second panel while increasing the moisture condensation effect on the baffle side.
The object of the present invention is to provide a cryopump that provides stable pumping performance.
（課題を解決するための手段）
上記目的を達成するために、本発明では、セカンドパネ
ル（３）を取囲む輻射熱シールドパネル（２）の開口部
に、バッフルを設けたクライオポンプにわいて、前記バ
ッフルを２つの第１及び第２バッフル（７）（８）で構
成して、これらバッフル（７）（８）を、該各バッフル
（７）（８）の分子通過部（７１）（８１）の間を熱的
に遮断した状態で、前記シールドパネル（２）に上下二
段に取付けたことを特徴とするものである．また、上段
開放側に設けられる前記第１バッフル（７）の表面を低
輻射率表面とし、下段内方側に設けられる前記第２バッ
フル（８）の表面を高輻射率表面としてもよい．
更に、前記第１バッフル（７）の分子通過部（７１）を
上下に傾斜するルーバー（７２）で形成すると共に、前
記第２バッフル（８）の分子通過部（８１）を、前記第
１バッフル（７）と逆向きに傾斜する逆ルーバー（８２
）で形成することも可能である。(Means for Solving the Problem) In order to achieve the above object, the present invention provides a cryopump in which a baffle is provided in the opening of the radiant heat shield panel (2) surrounding the second panel (3). The baffle is composed of two first and second baffles (7) (8), and these baffles (7) (8) are connected to the molecule passing portions (71) (81) of each baffle (7) (8). ) is attached to the shield panel (2) in two stages, upper and lower, with thermal insulation between the two. Alternatively, the surface of the first baffle (7) provided on the open side of the upper stage may be a low emissivity surface, and the surface of the second baffle (8) provided on the inner side of the lower stage may be a surface of high emissivity. Further, the molecule passage section (71) of the first baffle (7) is formed by a vertically inclined louver (72), and the molecule passage section (81) of the second baffle (8) is formed by a louver (72) that slopes up and down. Reverse louver (82) that slopes in the opposite direction to (7)
) can also be formed.
（作用）
２つの第１及び第２バッフル（７）（８）を使用し、そ
の各分子通過部（７１）（８１）を熱的に遮断した状態
で輻射熱シールドパネル（２）の開口部側に二層構造と
して配設することにより、真空槽側から多大な熱輻射が
あっても、分子通過部（８１）の温度上昇を十分に抑制
できるため、セカンドパネル（３）が真空槽側の熱影響
を受け離くなって、安定した排気性能が得られ、また、
前記各バッフル（７）（８）で水分の凝縮効果も高めら
れる。(Function) Using two first and second baffles (7) (8), the opening side of the radiant heat shield panel (2) is thermally isolated from each molecule passing portion (71) (81). Even if there is a large amount of heat radiation from the vacuum chamber side, the temperature rise in the molecule passage section (81) can be sufficiently suppressed by disposing the second panel (3) as a two-layer structure on the vacuum chamber side. It is far away from the effects of heat, providing stable exhaust performance, and
The baffles (7) and (8) also enhance the water condensation effect.
また、前記第１バッフル（７）の表面を低輻射率となし
、第２バッフル（８）の表面を高輻射率とするときには
、前記第１バッフル（７）で真空４ｆ！側からの輻射熱
などが反射され、かつ、該第１バッフル（７）からの輻
射熱などが第２バッフル（８）で吸収されて、前記セカ
ンドパネル（３）の真空槽側からの熱影響が一層少なく
なる。Moreover, when the surface of the first baffle (7) is made to have a low emissivity and the surface of the second baffle (8) is made to be a high emissivity, the first baffle (7) is vacuumed at 4f! Radiant heat etc. from the side is reflected, and radiant heat etc. from the first baffle (7) is absorbed by the second baffle (8), so that the heat influence from the vacuum chamber side of the second panel (3) is further reduced. It becomes less.
更に、前記第１バッフル（７）に設ける分子通過部（７
１）を上下方向に傾斜するルーバー（７２）で形成し、
また、前記第２バッフル（８）の分子通過部（８１）を
、前記第１バッフル（７）と逆向きに傾斜する逆ルーバ
ー（８２）で形成するときには、真空槽側からの水分な
どが前記各バッフル（７）（８）で確実に捕捉されて凍
結凝縮され、前記セカンドパネル（３）への水分などの
侵入が阻止される。Furthermore, a molecule passing section (7) provided in the first baffle (7) is provided.
1) is formed by a louver (72) that slopes in the vertical direction,
Furthermore, when the molecule passage section (81) of the second baffle (8) is formed of a reverse louver (82) that is inclined in the opposite direction to the first baffle (7), moisture etc. from the vacuum chamber side can be It is reliably captured and frozen and condensed by each baffle (7) and (8), and moisture etc. are prevented from entering the second panel (3).
（実施例）
第１図に示したクライオポンプは、ポンプケース（１）
の内部に、上部側を開放した有底筒状の輻射熱シールド
パネル（２）を配設し、該シールドパネル（２）の内部
に、下部側を開放した有底筒状のセカンドパネル（３）
を配設すると共に、前記シールドパネル（２）の底壁中
央部を、ヘリウム冷凍機（４）から延びる第１冷却田（
５）の第ｌヒートステージ（５１）に結合し、かつ、前
記セカンドパネル（３）の土壁中央部を、前記第１冷却
筒（５）から延びる第２冷却筒（６）の第２ヒートステ
ージ（６１）に結合する一方、前記セカンドパネル（３
）の内面に活性炭などのガス吸着層を設け、また、前記
シールドパネル（２）の開口側にはバッフルを一体に取
付けている。(Example) The cryopump shown in Fig. 1 has a pump case (1)
A bottomed cylindrical radiant heat shield panel (2) with an open upper side is disposed inside the shield panel (2), and a bottomed cylindrical second panel (3) with an open lower side is disposed inside the shield panel (2).
At the same time, the central part of the bottom wall of the shield panel (2) is provided with a first cooling field (
5), and connects the middle part of the earthen wall of the second panel (3) to the second heat stage (6) of the second cooling cylinder (6) extending from the first cooling cylinder (5). While coupled to the stage (61), the second panel (3
) A gas adsorption layer such as activated carbon is provided on the inner surface of the shield panel (2), and a baffle is integrally attached to the opening side of the shield panel (2).
斯くシて、前記シールドパネル（２）・のＵ口部を真空
槽側に取付けて、前記冷凍機（４）を運転し、前記シー
ルドパネル（２）を約５０〜８０Ｋ程度にまで冷却して
、該パネル（２）に取付ける前記バッフルも同程度にま
で冷却させ、真空槽側からの排気気体がバッフルを通過
するときに、排気気体中の水分を凍結凝總させ、また、
前記セカンドパネル（３）を約１０〜２０Ｋ程度にまで
冷却して、該セカンドパネル（３）において排気気体中
の窒素や酸素及びアルゴンなどのガスを凝縮させ、更に
、以上の極低温で凝縮しない水素やヘリウムなどのガス
は、前記セカンドパネル（３）の内面に設けた吸着層に
吸着させて、超高真空を得るのである。Thus, the U opening of the shield panel (2) was attached to the vacuum chamber side, and the refrigerator (4) was operated to cool the shield panel (2) to about 50 to 80K. , the baffle attached to the panel (2) is also cooled to the same extent, and when the exhaust gas from the vacuum chamber side passes through the baffle, the moisture in the exhaust gas is frozen and condensed;
The second panel (3) is cooled to about 10 to 20K, and gases such as nitrogen, oxygen, and argon in the exhaust gas are condensed in the second panel (3), and further, they do not condense at extremely low temperatures. Gases such as hydrogen and helium are adsorbed on an adsorption layer provided on the inner surface of the second panel (3) to obtain an ultra-high vacuum.
しかして、以上のクライオポンプにおいて、前記冫−ル
ドパネル（２）の開口部側に設けるバッフルとして、２
つの第１及び第２バッフル（７）（８）を使用し、該各
バッフル（７）（８）を、その分子通過部（７１）（８
１）の間を熱的に遮断させた状態で前記シールドパネル
（２）の開口側に上下二段にわたって取付け、前記各バ
ッフル（７）（８）で真空槽側からの前記セカンドパネ
ル（３）への熱影響を少なくしたのである。Therefore, in the above cryopump, two baffles are provided on the opening side of the cold panel (2).
using two first and second baffles (7) (8), and each baffle (7) (8) is connected to its molecular passage portion (71) (8).
The second panel (3) is attached to the opening side of the shield panel (2) in two stages, upper and lower, with thermal insulation between the two baffles (7) and (8). This reduced the thermal effect on the
前記第１及び第２バッフル（７）（８）の分子通過部（
７１）（８１）は、大小円形状とされ、かつ、上下斜め
方向に向けて延びる複数のルーパ− （７２）（８２）
を連結枠などで一体に枠組みして構成するのであり、斯
く横成した各ルーバー（７２）（８２）の外周側を、こ
れら各ルーバー（７２）（８２）が上下方向に所定間隔
を置いて相対向されるように、それぞれ熱抵抗の少ない
例えばインジウム（Ｉｎ）を介して、前記シールドパネ
ル（２）の上方開口部に一体に取付ける。The molecule passing portions of the first and second baffles (7) and (8) (
71) (81) is a plurality of loopers (72) (82) each having a large and small circular shape and extending diagonally up and down.
These louvers (72) (82) are arranged vertically at a predetermined interval on the outer periphery of each louver (72) (82) formed laterally. They are integrally attached to the upper opening of the shield panel (2) through indium (In) having low thermal resistance, for example, so as to face each other.
また、第１図の実施例では、前記第１及び第２バッフル
（７）（８）の各ルーバー（７２）（８２）をそれぞれ
同一方向に指向させて順向き状に配列したが、これら各
ルーバー（７２）（８２）は、第２図に示したごとく、
それぞれ逆向きに傾斜させて配列することも可能であり
、斯くするときには、真空槽側からの水分などが前記セ
カンドパネル（３）に直接侵入することがなく、例えば
前記第１バッフル（７）のルーバー（７２）と同一角度
で水分が侵入しても、この水分は前記第２バッフル（８
）のルーバー（８２）で確実に捕捉されて凍結凝縮され
、前記セカンドパネル（３）の水分などによる熱影響が
排除される。Furthermore, in the embodiment shown in FIG. 1, the louvers (72) and (82) of the first and second baffles (7) and (8) are arranged in the same direction and are arranged in the forward direction. The louvers (72) and (82) are as shown in Figure 2.
It is also possible to arrange them so that they are inclined in opposite directions, and in this case, moisture etc. from the vacuum chamber side will not directly enter the second panel (3), and for example, the first baffle (7) can be arranged. Even if moisture enters at the same angle as the louver (72), this moisture will flow through the second baffle (8).
) is reliably captured and frozen and condensed by the louver (82) of the second panel (3), thereby eliminating the thermal influence caused by moisture in the second panel (3).
更に、前記第１バッフル（７）に設けるルーバー（７２
）は、鏡面加工などを施すことにより低輻射率表面とな
し、一方、第２バッフル（８）に設けるルーバー（８２
）は、黒色の着色被膜を施すなどして高輻射率表面とす
ることが望ましく、斯くするときは、前記第１バッフル
（７）のルーバー（７２）で真空槽側からの輻射熱？ｊ
どを反射させ、また、該ルーバー（７２）からの輻射熱
などを前記第２バッフル（８）のルーバー（８２）で吸
収させて、前記セカンドパネル（３）のｊｌ槽側からの
熱影響を一層少なくできる。Furthermore, a louver (72) provided on the first baffle (7)
) has a low emissivity surface by applying mirror finishing etc. On the other hand, the louver (82) provided on the second baffle (8)
) is desirably made to have a high emissivity surface by applying a black colored coating, etc. When doing so, the louver (72) of the first baffle (7) absorbs the radiant heat from the vacuum chamber side. j
In addition, the radiant heat from the louver (72) is absorbed by the louver (82) of the second baffle (8), thereby further reducing the influence of heat from the JL tank side of the second panel (3). You can do less.
前記各ルーバー（７２）（８２）は、前記各バッフル（
７）（８）の全体にわたって設けることなく、前記シー
ルドパネル（２）側に配設されるルーバーの一部を切欠
くようにしてもよく、斯くするときには、排気気体の流
通抵抗を少なくできる。Each of the louvers (72) (82) is connected to each of the baffles (
7) A part of the louver disposed on the shield panel (2) side may be cut out instead of being provided over the entirety of (8), and in this case, the flow resistance of exhaust gas can be reduced.
また、前記各バッフル（７）（８）を前記シールドパネ
ル（２）の上方開口側に、熱的に遮断した状態で上下二
段状に取付けるにあたっては、第３図に示したごとく、
前記シールドパネル（２）の上方開口側に、内方に向け
て一体に突出する取付部（２１）を設けると共に、前記
第１バッフル（７）の外周側に高さの高い第１支持部（
７３）を、また、第２バッフル（８）の外周側に前記第
１支持部（７３）よりも高さを低くした第２支持部（８
３〉をそれぞれ一体に設けて、これら各支持部（７３）
（８３）を前記取付部（２１）上にインジウムなどを介
して当接させ、前記各支持部（７３）（８３）と取付部
（２１）との間を、それぞれポル｝ （７４）（８４）
を介して固定するようにしてもよい．
更には、第４図で示したごとく、前記シールドパネル（
２）の上方開口側に、内方に向けて突出する取付部（２
２）を設けると共に、前記第１バッフル（７）の外周側
に、そのルーバー（７２）と同一高さとした第３支持部
（７５）を、また、第２バッフル（８）の外周側にも、
そのルーバー（８２）と同一高さとした第４支持部（８
５）をそれぞれ一体に設けて、これら各支持部（７５）
（８５）と前記取付部（２２）との間に、熱抵杭の少な
いインジウムなどから成るスベーサ（９）を介装させた
状態で上下二段状に積重ね、前記各支持部（７５）（８
５）と取付部（２２）との間を、それぞれボルト（１０
）で固定するようにしてもよい。In addition, when installing the baffles (7) and (8) in upper and lower layers on the upper opening side of the shield panel (2) in a thermally isolated state, as shown in FIG.
A mounting portion (21) integrally protruding inward is provided on the upper opening side of the shield panel (2), and a high first support portion (21) is provided on the outer peripheral side of the first baffle (7).
73), and a second support part (8) which is lower in height than the first support part (73) on the outer peripheral side of the second baffle (8).
3> are provided integrally, and each of these support parts (73)
(83) is brought into contact with the mounting portion (21) via indium or the like, and the holes are connected between each of the supporting portions (73) (83) and the mounting portion (21), respectively. )
It may also be fixed via Furthermore, as shown in FIG. 4, the shield panel (
2) Attachment part (2) that protrudes inward on the upper opening side.
2), and a third support part (75) having the same height as the louver (72) is provided on the outer circumferential side of the first baffle (7), and also on the outer circumferential side of the second baffle (8). ,
The fourth support part (82) is at the same height as the louver (82).
5) are integrally provided, and each of these support parts (75)
(85) and the mounting portion (22), the support portions (75) and the mounting portions (22) are stacked in two layers, with a substrate (9) made of indium or the like having low heat resistance interposed therebetween. 8
5) and the mounting part (22) respectively.
) may be fixed.
尚、第１図中、（１１）（１２）は高圧及び低圧ヘリウ
ムの接続口である。In FIG. 1, (11) and (12) are connection ports for high pressure and low pressure helium.
（発明の効果）
以上説明したように、本発明のクライオポンプでは、２
つの第１及び第２バッフル（７）（８）を用い、その各
分子通過部（７１）（８２）を熱的に遮断した状態で輻
射熱シールドパネル（２）の開口部側に上下二段状に取
付けたから、前記シールドパネル（２）内に配設される
セカンドパネル（３）への真空槽側からの熱影響を少な
くできて、安定した排気性能が得られ，しかも、前記各
バッフル（７）（８）で水分の凝縮効果も高め得るので
ある。(Effect of the invention) As explained above, the cryopump of the present invention has two
Two first and second baffles (7) and (8) are used to thermally isolate the molecule passing portions (71) and (82) of the radiant heat shield panel (2). Since the second panel (3) disposed inside the shield panel (2) is installed in ) (8) can also enhance the water condensation effect.
また、前記゜第１バッフル（７〉の表面を低輻射率とな
し、第２バッフル（８）の表面を高輻射率とすることに
より、前記セカンドパネル（３）の真空槽側からの熱影
響を一層少なくできる。In addition, by making the surface of the first baffle (7) have a low emissivity and the surface of the second baffle (8) having a high emissivity, the thermal influence from the vacuum chamber side of the second panel (3) can be reduced. can be further reduced.
更に、前記第１バッフル（７）に設ける分子通過部（７
１）を上下方向に傾斜するルーバー（７２）で形成し、
また、第２バッフル（８）の分子通過部（８１）を、前
記第１バッフル（７）と逆向きに傾斜する逆ルーバー（
８２）で形成することにより、真空槽側からの水分など
が前記セカンドパネル（３）に侵入するのを確実に阻止
でき、該セカンドパネル（３）の水分などによる熱影響
を排除できるのである。Furthermore, a molecule passing section (7) provided in the first baffle (7) is provided.
1) is formed by a louver (72) that slopes in the vertical direction,
In addition, the molecule passing portion (81) of the second baffle (8) is connected to a reverse louver (
82), it is possible to reliably prevent moisture etc. from the vacuum chamber side from entering the second panel (3), and it is possible to eliminate the thermal influence due to moisture etc. in the second panel (3).
第１図は本発明にかかるクライオボンプの断面図、第２
図はバッフルの他実施例を示す断面図、第３図及び第４
図はバッフルの取付例を示す断面図、第５図は従来例を
示す断面図である。
（２）●●●●●●●輻射熱シールドパネル（３）●●
●●●●●セカンドパネル
（７）●●●●●●●第１バッフル
（８）●●●●●●●第２バッフル
（７１）（８１）●●●分子通過部
（７２）（８２）●●●ルーバ−
第１図
第２図
８２
第８図
第４図FIG. 1 is a sectional view of the cryobump according to the present invention, and FIG.
The figures are sectional views showing other embodiments of the baffle, Figures 3 and 4.
The figure is a cross-sectional view showing an example of baffle attachment, and FIG. 5 is a cross-sectional view showing a conventional example. (2)●●●●●●●Radiant heat shield panel (3)●●
●●●●●Second panel (7)●●●●●●●First baffle (8)●●●●●●●Second baffle (71) (81)●●●Molecular passage section (72) (82 )●●● Louver - Figure 1 Figure 2 82 Figure 8 Figure 4
Claims (1)
ル（２）の開口部に、バッフルを設けたクライオポンプ
において、前記バッフルを第１バッフル（７）と第２バ
ッフル（８）とで構成して、該各バッフル（７）（８）
を、これらバッフル（７）（８）の分子通過部（７１）
（８１）の間は熱的に遮断した状態で前記輻射熱シール
ドパネル（２）に上下二段に取付けていることを特徴と
するクライオポンプ。 ２）上段開放側の第１バッフル（７）の表面を低輻射率
表面と２）下段内方側の第２バッフル（８）の表面を高
輻射率表面としている請求項１記載のクライオポンプ。 ３）第１バッフル（７）の分子通過部（７１）を上下に
傾斜するルーバー（７２）で形成すると共に、第２バッ
フル（８）の分子通過部（８１）を、前記第１バッフル
（７）と逆向きに傾斜する逆ルーバー（８２）で形成し
ている請求項１又は２記載のクライオポンプ。[Claims] 1) In a cryopump in which a baffle is provided at the opening of a radiant heat shield panel (2) surrounding a second panel (3), the baffle is connected to a first baffle (7) and a second baffle (8). ), each baffle (7) (8)
, the molecule passage part (71) of these baffles (7) and (8)
(81) A cryopump characterized in that it is attached to the radiant heat shield panel (2) in two stages, upper and lower, in a thermally insulated state. 2. The cryopump according to claim 1, wherein: 2) the surface of the first baffle (7) on the open side of the upper stage is a low emissivity surface, and 2) the surface of the second baffle (8) on the inner side of the lower stage is a high emissivity surface. 3) The molecule passage part (71) of the first baffle (7) is formed by a vertically inclined louver (72), and the molecule passage part (81) of the second baffle (8) is formed by a louver (72) that slopes up and down. 3. The cryopump according to claim 1, wherein the cryopump is formed by a reverse louver (82) that is inclined in the opposite direction to the louver (82).
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15799289A JPH0323386A (en) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | Cryopump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15799289A JPH0323386A (en) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | Cryopump |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0323386A true JPH0323386A (en) | 1991-01-31 |
Family
ID=15661878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15799289A Pending JPH0323386A (en) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | Cryopump |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0323386A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002070738A (en) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | Ulvac Kuraio Kk | Cryotrap |
| JP2010084702A (en) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Cryopump |
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| JPS62206278A (en) * | 1986-03-05 | 1987-09-10 | Hitachi Ltd | Cryopump |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP15799289A patent/JPH0323386A/en active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS62206278A (en) * | 1986-03-05 | 1987-09-10 | Hitachi Ltd | Cryopump |
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