JPH0546937B2

JPH0546937B2 -

Info

Publication number: JPH0546937B2
Application number: JP26100884A
Authority: JP
Inventors: Enu Akuserurotsudo Nooman
Original assignee: ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISU; ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISUTEMUZU Inc
Current assignee: ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISU; ESU BUI JII RITOGURAFUII SHISUTEMUZU Inc
Priority date: 1983-12-12
Filing date: 1984-12-12
Publication date: 1993-07-15
Also published as: DE3433024A1; JPS60144648A; DE3433024C2; GB2151352A; GB8422206D0; US4588293A; GB2151352B

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、集積回路のためのホトリソグラフイ
ー、詳言すれば、欠陥を検出するためにホトマス
クを検査する方法及び装置に関する。

［従来の技術］本出願人による1972年４月25日発行の米国特許
第3658420号明細書には、マイクロ回路を製造す
る際に使用されるホトマスクにおけるホール型の
欠陥及び過剰のスポツトを検出するための光学空
間周波数フイルタリング技術が開示された。該特
許明細書によれば、近似値的形状係数強度フイル
タが規則正しく形成されたマスク特徴の抑圧を行
う。この場合、近似値的形状係数強度空間周波数
フイルタとは、個々のアパーチヤ間又は回折素子
の詳細な形状に基づいて光エネルギをフイルタリ
ングするために形成された空間周波数フイルタで
ある。該フイルタに関しては、上記米国特許明細
書の第１欄、第63〜65頁に詳細に記載されてい
る。従つて、その境界線がＸ−Ｙ方向に沿つてい
る特徴を有するマスクのためには、該フイルタは
変換面に配置された十字形を有する。直角の特徴
を持つものは抑圧されるが、主として非直角の欠
陥データは通過するので、0.1ミル程度のスポツ
トが検出される。

［発明が解決しようとする課題］本発明の課題は、前記特許明細書の記載の方法
を以下に明らかにするように改良することであつ
た。

本発明の１つの目的は、光学的デザインを有す
るマスク特徴のオリエンテーシヨンを検出する手
段を提供することであつた。本発明のもう１つの
目的は、マスク特徴からの光学デザインを適当な
空間周波数フイルタリングによつて抑圧すること
ができるように、特徴の検出されたオリエンテー
シヨンに相当して空間周波数フイルタリングを変
えるための手段を提供することであつた。

［課題を解決するための手段］所望の結果を達成するために、本発明は、異な
つた任意のオリエンテーシヨンを有する特徴を持
つたホトマスクにおける欠陥を検出するための新
規のかつ改良された方法及び装置を提供する。前
記装置は、その１つの構成では、マスク特徴から
の光学信号を適当な手段によつて抑圧することが
できるように、マスク特徴のオリエンテーシヨン
を検出するための検出器を有する。１つの適当な
手段は、空間周波数フイルタリングである。該空
間周波数フイルタリングは、マスク特徴の決めら
れたオリエンテーシヨンをベースとして電子工学
的に調節される。本発明の１つの構成では、該空
間フイルタリングは、光検出器アレイ内の選択し
た数の光検出器だけからの光検出信号を受信する
ことにより行う。この場合、選択は、マスク特徴
のオリエンテーシヨンから決める。本発明の１つ
の構成では、第２の識別可能な欠陥検出ビーム
を、第１の欠陥検出ビームに対して等価マスクエ
リヤのために使用し、かつマスク内の欠陥を検出
するための手段は、第１の欠陥検出ビームを使用
するマスクの第１のエリヤ内の欠陥を検出する手
段と、第２の欠陥検出ビームを使用する前記マス
クの第２の等価エリヤ内の欠陥を検出する手段と
からなる。

前記には、以下に詳細に説明する本発明の構成
を理解し易くし、かつ本発明の基礎とする技術的
思想が本発明の若干の目的を実施するために別の
方法及び装置を構成するための基本思想として即
座に使用することができるという当該技術に対す
る貢献を明らかにするために、本発明の重要な特
徴をむしろ一般的に記述して来た。従つて、本発
明の特許請求の範囲は、本発明の技術思想から逸
脱しない同等の方法及び装置を包含するものと見
なされるべきことが重要である。

［実施例］次に図示の実施例により本発明を詳細に説明す
る。

第１図に示した実施例においては、欠陥を検出
するためのホトマスクを検査する装置が示されて
おり、該装置は欠陥の試験が行われるべきマスク
を取り付けるためのマスクステーシヨン１０を有
する。マスクのステーシヨンへの出し入れ運動
は、制御器１２によつて制御される。制御器１２
は、以下により完全に説明する形式で、装置内で
の該素子の機能の制御及び調整を行う。マスクに
放射線を投射するためにソース１４が設けられて
いる。該ビームはコヒーレントでもまたインコヒ
ーレントであつてもよく、かつ可視範囲内にあつ
てもまたなくてもよい。本発明の若干の構成にお
いては、１つのオリエンテーシヨンビームと、１
つ以上の欠陥検出ビームが存在し、これらのビー
ムは相互に判別可能である。本発明のもう１つの
構成においては、オリエンテーシヨンビーム及び
欠陥検出ビームは、マスクステーシヨンの後で形
成され、一方単一のソースが放射源をマスクに投
射する。

マスクステーシヨンから１つ以上のビームはフ
ーリエ変換レンズ１６を通り、該レンズはマスク
を透過したビームをレンズの変換面にフオーカシ
ングする。本発明のこの実施例では、検出器装置
１８は、制御器１２により制御されて、空間周波
数フイルタ、復調器又はビームスプリツタ及び検
出器としての多重目的の機能を果たす。フイルタ
として機能する場合には、該検出器は規則正しく
形成されたマスク特徴を抑圧しかつ残りのものか
らマスク欠陥を検出する。従つて、この検出器
は、オリエンテーシヨンビームを使用してマスク
特徴のオリエンテーシヨンを検出し、かつ相当す
る信号を制御器１２に出力する手段２０を有し、
上記制御器は検出器を相応する形式で調節する。
この検出器は、また欠陥検出ビームを使用してマ
スク内の欠陥を検出し、２４で示されているよう
に、その指標を出力する手段２２を有する。

本発明の１つの構成では、マスクオリエンテー
シヨン検出器２０は、第５図に示されているよう
に、パイ形に配置されていてもよい。従つて、検
出器２６のアレイは、中心周辺部分２８が除かれ
たパイのスライスのように見える。パイスライス
の形の検出器を有する検出器アレイを使用する
と、コンピユータデータ収集及び処理が不必要に
なり、かつ比較的簡単なハードウエヤを用いてハ
ードワイヤード処理を行うことができる。

本発明のもう１つの実施例では、検出器装置
は、第６図に３０示されているように、検出器の
矩形のアレイの形で配置されている。マスクから
のビームが該検出器に達すると、情報はマスク特
徴のオリエンテーシヨンを指示する信号に処理さ
れて制御器に送られる。規則正しく形成されたマ
スク特徴は、例えば、３２で示されているよう
に、十字形又は直線形であつてもよい。結果とし
て、検出器のアレイは規則正しく形成されたマス
ク特徴のオリエンテーシヨンに応じてゲート処理
される。即ち、十字形エリヤ内の検出器３４は付
勢されず、一方残りの検出器は付勢されので、マ
スクからの放射線が検出器のアレイに向けられる
と、付勢された検出器はマスク内に欠陥が存在す
ることを示す指標を出力する。選択的に、検出器
装置は、マスク特徴のオリエンテーシヨンに感応
する一つおきの検出器と、その他の、スク欠陥に
感応する検出器を有するダイオード検出器とのア
レイであつてもよい。前記のその他の検出器もし
くは欠陥検出器は、得られるオリエンテーシヨン
情報に応じて調節可能である。

第７図は、マスク特徴のオリエンテーシヨンを
検出する検出器装置の別の所望の形を示す。第７
図の検出器は、矢印３８で示されているように、
ビームの軸が円筒体の軸線と同軸になるように、
円筒体状に配置された複数のストリツプ状検出器
３６からなる、それによりどの検出器が付勢され
るかによつてオリエンテーシヨンは決められる。

第２図は、欠陥の検査が行われるべきマスクを
取り付けるためのマスクステーシヨン４０を有す
る、本発明の別の実施例を示す。該マスクは制御
器４２によつて制御される位置に出し入れするこ
とができる。

第１図の実施例との関連で指摘したように、該
制御器は該装置内の素子の機能を制御及び調整す
る。マスクに放射線を投射するために、ソースが
設けられている。前述のように、該放射線はコヒ
ーレントでもまたインコヒーレントであつてもよ
く、かつ可視範囲内にあつてもまたなくてもよ
い。本発明の若干の構成では、オリエンテーシヨ
ンビーム及び欠陥検出ビームはマスクステーシヨ
ンの後方で形成される。別の構成では、オリエン
テーシヨンビーム４４、第１の欠陥検出ビーム４
６及び第２の欠陥検出ビーム４８が提供される
（第２図）。本発明の若干の構成では、これらのビ
ームは直接マスクステーシヨン４０を通過し、か
つその別の構成では該ビームはそれぞれ変調器５
０，５２及び５４を通過する。変調器の任意の適
当なタイプ、例えば周波数変調器、振幅変調器、
波長変調器又は交番ビームを使用する変調器を使
用することができる。これらの変調器は制御器４
２によつて制御される。

なお第２図の実施例に関して言及すれば、マス
クステーシヨン４０から、単数又は複数のビーム
はフーリエ変換レンズ５６を通過し、該フーリエ
変換レンズはマスクを透過した放射線をレンズの
変換面にフオーカシングする。本発明の１つの構
成では、単数又は複数のビームは、直接検出器装
置に達し、該検出器装置は空間周波数フイルタ、
復調器又はビームスプリツタ及び検出器として機
能する多重目的を有する。本発明の別の構成で
は、変換レンズからの単数又は複数のビームは、
フイルタ装置を通過し、該フイルタ装置は、第１
のフイルタ装置５８、第２のフイルタ装置６０及
び第３のフイルタ装置６２を有することができ
る。第１のフイルタ装置はオリエンテーシヨンビ
ームを形成し、該ビームはオリエンテーシヨン検
出器６４に向けられる。第２のフイルタ装置は第
１の欠陥検出ビームを形成し、該ビームは第１の
欠陥検出器６６に向けられる。第３のフイルタ装
置は第２の欠陥検出ビームを形成し、該ビームは
第２の欠陥検出器６８に向けられる。この場合、
例えば第１図の実施例との関連で記載したような
任意の適当な形の検出器を使用することができ
る。

動作過程で、オリエンテーシヨン検出器６４に
よつて検出された信号は制御器４２に送られ、該
制御器はフイルタ装置及び／又は欠陥検出器を、
第１の欠陥検出器６６が７０で示されているよう
な欠陥指標を出力しかつ使用する場合には第２の
欠陥検出器６８が７２で示されているような欠陥
指標を出力することに応じて調節する。

動作過程で、若干の装置においては、第２の欠
陥検出ビーム４８、変調器５４、第３のフイルタ
装置６２及び第２の欠陥検出器６８を使用しなく
ともよい。しかしながら、殆どのマスクは複数
の、同一の、繰り返し、等価回路パターンを有す
る、これらの素子を使用する場合には、２つ以上
の等価回路パターンの検査を１つの光学系を使用
して実施することができる。従つて、２つ以上の
エリヤからの信号を、例えば異なつた時間周波数
のような２つの照明ビームの変調によつて区別す
ることができる。この実施例では、フイルタ装置
６２及び／又は欠陥検出器６８は更に第２の欠陥
検出ビームを第１の欠陥検出ビーム及びオリエン
テーシヨンビームから分離するので、該検出器６
６は第１の欠陥検出ビームを使用してマスクの第
１のエリヤ内の欠陥を検出しかつ検出器６８は第
２の欠陥検出ビームを使用してマスクの第２のエ
リヤ内の欠陥を検出し、かつその指標をそれぞれ
７０及び７２として出力する。

次に、第３図に示された本発明の構成について
説明する。この構成は、フーリエ変換レンズが除
かれている以外は、第１図及び第２図に示した本
発明の構成に類似している。該装置は、マスクを
通過するビームを直接検出器で検出する。放射源
７６、変調器７８、マスクステーシヨン８０、制
御器８２は、第１図及び第２図の構成と関連して
説明したと同じ配置及び機能を有することができ
る。しかしながら、この場合には、ビームはマス
クの位置で例えばそれぞれ１インチの約１ミルよ
りも小さい直径を有するように極めて小さいこと
が必須要件である。検出器は、例えば第５図、第
６図及び第７図との関連で説明したような任意の
タイプのものを使用することができる。

本発明のもう１つの実施例は、第４図に示され
ている。この場合には、オリエンテーシヨンビー
ム８４、第１の欠陥検出ビーム８６及び第２の欠
陥検出ビーム８８が設けられている。本発明の若
干の構成では、上記ビームは直接マスクステーシ
ヨン９０に達し、かつその他の構成では、ビーム
はそれぞれ変調器９２，９４及び９６を通過す
る。この場合、任意のタイプの変調器、例えば周
波数変調器、振幅変調器、波長変調器又は交番ビ
ームを使用する変調器を使用することができる。
これらの変調器はビーム８４，８６及び８８と同
様に制御器９８によつて制御される。

マスクステーシヨン９０から、単数又は複数の
ビームはフーリエ変換レンズ１００に達し、該レ
ンズはマスクを透過したビームをレンズの変換に
フオーカシングする。第４図に示した１実施例で
は、規則正しく形成されたマスク特徴を抑圧しか
つ欠陥の光トレーシングを通過させるために実質
的に前記変換面に空間周波数フイルタ１０２が取
り付けられている。該空間周波数フイルタ１０２
のオリエンテーシヨンは、制御器９８によつて制
御される。該空間周波数フイルタに引き続き、若
干の素子の１つ以上を使用することができ、該素
子は若干の可能な順序で使用することができる。
即ち、若干の構成においては、マスクを通過する
ビームに依存して、検出器装置１０４だけを使用
することが必要である。この場合には、該検出器
装置は、復調器及び検出器として機能する多重目
的を有する任意のタイプを有することができる。
本発明のもう１つの構成では、復調器１０６は検
出器１０４の前方又は後方のいずれかに取り付け
ることができ、かつなお別の構成では、ビームス
プリツタ１０８を検出器１０４の前方又は後方に
取り付けることができる。任意のタイプの復調
器、例えばオリエンテーシヨンビーム、第１の欠
陥検出ビーム及び第２の欠陥検出ビームを互いに
分離するものを使用することができる。復調器の
タイプ及び特徴は、もちろん供給されるビーム及
び変調器のタイプ及び特徴に依存する。該ビーム
スプリツタ１０８は、ビームをオリエンテーシヨ
ンビーム、第１の欠陥検出ビーム及び第２の欠陥
検出ビームに分割する。

ビームスプリツタは、ビームを波長に基づき分
割することができるようにダイクロイツクであつ
てよい。場合により、マスクの特徴のオリエンテ
ーシヨンに相当する信号を制御器９８に送り、次
いで該制御器で、検出器装置１０４がマスク内の
欠陥の存在又は不在を表示する１１０で示されて
いるような指標を出力するように空間周波数フイ
ルタを調節する。第２図の構成に類似して、この
構成は第２の欠陥検出ビーム及び検出器を使用す
る形式のもの、又はこれらの素子を省いた形式の
ものであつてよい。若干の構成においては、多数
の個々の欠陥検出ビームを相応する検出器と共に
使用するのが望ましい。

従つて、本発明が確かに欠陥を検出するための
マスクを検査する新規かつ改良された方法及び装
置を提供し、しかも検出器アレイから所望のされ
るコンピユータ処理を減少し、かつ従来使用され
た装置よりも簡単でありかつより正確かつ迅速で
あることは明らかである。

ここまで、特殊な実施例につき説明して来た
が、特許請求の範囲によつてのみ制限されるべき
である本発明の思想及び範囲から逸脱することな
く、種々の変更が可能であることは、当業者にと
つて自明のことである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による装置の第１実施例の略示
構成図、第２図は同第２実施例の略示構成図、第
３図は同第３実施例の略示構成図、第４図は同第
４実施例の略示構成図、第５図は本発明の１実施
例による検出器アレイの略示平面図、第６図は別
の実施例による検出器アレイの略示平面図及び第
７図は別の実施例による検出器アレイの略示斜視
図である。１０，４０，８０，９０……マスクステーシヨ
ン、１２，４２，８２，９８……制御器、１４，
７６……ソース、１６，５６，１００……変換レ
ンズ、１８，１０４……検出器装置、２０……オ
リエンテーシヨン検出器、２２，６６，６８……
欠陥検出器、２４，７０，７２，１１０……出
力、２６，３０，３６……検出器アレイ、７４…
…検出器、５０，５２，５４，７８，９２，９
４，９６……変調器、４４，８４……オリエンテ
ーシヨンビーム、４６，８６……第１の欠陥検出
ビーム、４８，８８……第２の欠陥検出ビーム、
１０２……空間周波数フイルタ装置、１０６……
復調器、１０８……ビームスプリツタ。

Claims

【特許請求の範囲】１回路素子を含有するホトマスク内の欠陥を検
出する方法において、検査すべきマスクをマスクステーシヨンに取り
付け、前記マスクに放射線を投射し、マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出し、マスク特徴の決められたオリエンテーシヨンに
一致する特徴からの光信号を抑圧し、かつ前記マスク内の欠陥を検出しかつその指標を出
力することを特徴とする、欠陥を検出するために
マスクを検査する方法。２回路素子を含有するホトマスク内の欠陥を検
出する方法において、検査すべきマスクをマスクステーシヨンに取り
付け、前記マスクに放射線を投射し、オリエンテーシヨンビームを形成し、欠陥検出ビームを形成し、前記オリエンテーシヨンビームを使用してマス
ク特徴のオリエンテーシヨンを検出しかつ相当す
る信号を制御器に出力し、かつ前記マスク特徴のオリエンテーシヨンに相当し
て前記制御器によつて制御される前記欠陥検出ビ
ームを使用して、前記マスク内の欠陥を検出しそ
の指標を出力することを特徴とする、欠陥を検出
するためにマスクを検査する方法。３回路素子を含有するホトマスク内の欠陥を検
出する方法において、検査すべきマスクをマスクステーシヨンに取り
付け、前記マスクに放射線を投射し、オリエンテーシヨンビームを形成し、欠陥検出ビームを形成し、前記マスクを透過した放射線を前記マスクの変
換面にフオーカシングするために、前記放射線の
通路内に変換レンズを取り付け、前記オリエンテーシヨンビーム使用してマスク
特徴のオリエンテーシヨンを検出しかつ相当する
信号を制御器に出力し、かつマスク特徴のオリエンテーシヨンに相当して制
御器によつて制御される欠陥検出ビームを使用し
て前記マスク内の欠陥を検出しかつその指標を出
力することを特徴とする、欠陥を検出するために
マスクを検査する方法。４回路素子を含有するホトマスク内の欠陥を検
出する方法において、フーリエ変換面を有する光学系にマスクを取り
付け、規則正しく形成されたマスク特徴を抑圧しかつ
欠陥の光トレーシングを通過させるための、実質
的に前記変換面に近似値的形状係数強度空間周波
数フイルタを取り付け、マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出し、前記空間周波数フイルタをマスク特徴の決めら
れたオリエンテーシヨンをベースとして調節し、出力を発生するために前記通過した光を検出
し、かつ前記出力を前記マスク内の欠陥の指標を発生す
るために利用することを特徴とする、欠陥を検出
するためにマスクを検査する方法。５欠陥を検出するためにマスクを検査する装置
において、検査すべきマスクを取り付けるためのマスクス
テーシヨンと、前記マスクに放射線を投射する手段と、マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出する手
段と、マスク特徴の決められたオリエンテーシヨンに
一致する特徴からの光信号を抑圧する手段と、前記マスク内の欠陥を検出しかつその指標を出
力する手段とから構成されていることを特徴とす
る、欠陥を検出するためにマスクを検査する装
置。６マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出する
前記手段が、ビームの軸が円筒体の軸線に沿うよ
うに円筒体状の配置形式で配置された複数のスト
リツプ状の検出器からなり、それによりどの検出
器が付勢されるかによつてオリエンテーシヨンが
決められる、特許請求の範囲第５項記載の装置。７オリエンテーシヨンを検出する前記手段と、
欠陥を検出する前記手段とが、マスク特徴のオリ
エンテーシヨンに感応する一つおきの検出器と、
その他の、マスク内の欠陥に感応する検出器とを
有するダイオード検出器のアレイからなる、特許
請求の範囲第５項記載の装置。８投射される放射線が１インチの約１ミルより
も小さい直径を有するビームの形である、特許請
求の範囲第５項記載の装置。９マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出する
前記手段が、中心部近くの部分が取り除かれたパ
イに似たアレイ内の光軸に回りの配置された実質
的に円形配置の個々の検出器からなる、特許請求
の範囲第５項記載の装置。１０マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出す
る前記手段が、検出器の実質的に矩形のアレイか
らなる、特許請求の範囲第５項記載の装置。１１放射線を投射する前記手段が、前記マスク
ステーシヨンにオリエンテーシヨンビームを投射
するための第１のソースと、前記マスクステーシ
ヨンに欠陥検出ビームを投射するための第２の別
個のソースとからなる、特許請求の範囲第５項記
載の装置。１２オリエンテーシヨンビームからの信号と、
欠陥検出ビームからの信号を識別する手段を有す
る、特許請求の範囲第１１項記載の装置。１３オリエンテーシヨンビームからの信号と、
欠陥検出ビームからの信号を識別する手段がビー
ムスプリツタからなる、特許請求の範囲第１２項
記載の装置。１４前記オリエンテーシヨンビームと、前記欠
陥検出ビームとが異なつた光波長を有する、特許
請求の範囲第１１項記載の装置。１５前記オリエンテーシヨンビームと、欠陥検
出ビームが異なつた変調周波数を有する、特許請
求の範囲第１１項記載の装置。１６前記ビームの直径がそれぞれ１インチの約
１ミル未満であり、かつオリエンテーシヨンを検
出する前記手段と、欠陥を検出する前記手段と
が、前記マスクに接近して取り付けられた検出器
のアレイからなり、規則正しく形成されたマスク
特徴のオリエンテーシヨンに基づき前記の検出器
のアレイをゲート処理する手段、及び前記ゲート
処理された検出器のアレイを使用して前記マスク
内の欠陥を検出する手段を有する、特許請求の範
囲第１１項記載の装置。１７欠陥を検出するためにマスクを検査する装
置において、検査すべきマスクを取り付けるためのマスクス
テーシヨンと、前記マスクに放射線を投射するソースと、オリエンテーシヨンビームを形成する手段と、欠陥検出ビームを形成する手段と、制御器と、前記オリエンテーシヨンビームを使用して、マ
スク特徴のオリエンテーシヨンを検出しかつ相当
する信号を前記制御器に出力する手段と、前記欠陥検出ビームを使用して、前記マスク内
の欠陥を検出しかつその指標を出力する手段とか
ら構成されており、前記制御器がマスク特徴のオ
リエンテーシヨンに相当して欠陥を検出する前記
手段を制御することを特徴とする、欠陥を検出す
るためにマスクを検査する装置。１８マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出す
る前記手段が、ビームの軸が円筒体の軸線に沿う
ように円筒体状の配置形式で配置された複数のス
トリツプ状の検出器からなり、それによりどの検
出器が付勢されるかによつてオリエンテーシヨン
が決められる、特許請求の範囲第１７項記載の装
置。１９オリエンテーシヨンを検出する前記手段
と、欠陥を検出する前記手段とが、マスク特徴の
オリエンテーシヨンビームに感応する一つおきの
検出器と、その他の、欠陥検出ビームに感応する
検出器とを有するダイオード検出器のアレイから
なる、特許請求の範囲第１７項記載の装置。２０前記ビームの直径が、それぞれ１インチの
約１ミルよりも小さい、特許請求の範囲第１７項
記載の装置。２１マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出す
る前記手段が、中心部近くの部分が取り除かれた
パイに似たアレイ内の光軸の回りの配置された実
質的に円形配置の個々の検出器からなる、特許請
求の範囲第１７項記載の装置。２２マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出す
る前記手段が、検出器の実質的に矩形のアレイか
らなる、特許請求の範囲第１７項記載の装置。２３前記ソースが、前記マスクステーシヨンに
オリエンテーシヨンビームを投射するための第１
のソースと、前記マスクステーシヨンに欠陥検出
ビームを投射するための第２の別個のソースとか
らなる、特許請求の範囲第１７項記載の装置。２４オリエンテーシヨンビームからの信号と、
欠陥検出ビームからの信号を識別する手段を有す
る、特許請求の範囲第１７項記載の装置。２５オリエンテーシヨンビームからの信号と、
欠陥検出ビームからの信号とを識別する手段がビ
ームスプリツタからなる、特許請求の範囲第２４
項記載の装置。２６前記オリエンテーシヨンビームと、前記欠
陥検出ビームとが異なつた光波長を有する、特許
請求の範囲第１７項記載の装置。２７前記オリエンテーシヨンビームと、欠陥検
出ビームとが、異なつた変調周波数を有する、特
許請求の範囲第１７項記載の装置。２８前記ビームの直径がそれぞれ１インチの約
１ミル未満であり、かつオリエンテーシヨンを検
出する前記手段と、欠陥を検出する前記手段と
が、前記マスクに接近して取り付けられた検出器
のアレイからなり、規則正しく形成されたマスク
特徴のオリエンテーシヨンに基づき前記の検出器
のアレイをゲート処理する手段、及び前記ゲート
処理された検出器のアレイを使用する前記マスク
内の欠陥を検出する手段を有する、特許請求の範
囲第１７項記載の装置。２９欠陥を検出するためにマスクを検査する装
置において、検査すべきマスクを取り付けるためのマスクス
テーシヨンと、前記マスクに放射線を投射するソースと、オリエンテーシヨンビームを形成する手段と、欠陥検出ビームを形成する手段と、制御器と、前記放射線の通路に取り付けられた、前記マス
クを透過した放射線を前記マスクの変換面にフオ
ーカシングする手段と、前記オリエンテーシヨンビームを使用してマス
ク特徴のオリエンテーシヨンを検出しかつ相当す
る信号を前記制御器に出力する手段と、前記欠陥検出ビームを使用して前記マスク内の
欠陥を検出しかつその指標を出力する手段とから
構成されており、前記制御器がマスク特徴のオリ
エンテーシヨンに相当して欠陥を検出する前記手
段を制御することを特徴とする、欠陥を検出する
ためにマスクを検査する装置。３０マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出す
る前記手段が、ビームの軸が円筒体の軸線に沿う
ように円筒体状の配置形式で配置された複数のス
トリツプ状の検出器からなり、それによりどの検
出器が付勢されるかによつてオリエンテーシヨン
が決められる、特許請求の範囲第２９項記載の装
置。３１オリエンテーシヨンを検出する前記手段
と、欠陥を検出する前記手段とが、マスク特徴の
オリエンテーシヨンビームに感応する一つおきの
検出器と、その他の、欠陥検出ビームに感応する
検出器とを有するダイオード検出器のアレイから
なる、特許請求の範囲第２９項記載の装置。３２前記ビームの直径が、それぞれ１インチの
約１ミルよりも小さい、特許請求の範囲第２９項
記載の装置。３３マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出す
る前記手段が、中心部近くの部分が取り除かれた
パイに似たアレイ内の光軸の回りの配置された実
質的に円形配置の個々の検出器からなる、特許請
求の範囲第２９項記載の装置。３４マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出す
る前記手段が、検出器の実質的に矩形のアレイか
らなる、特許請求の範囲第２９項記載の装置。３５前記ソースが、前記マスクステーシヨンに
オリエンテーシヨンビームを投射するための第１
のソースと、前記マスクステーシヨンに欠陥検出
ビームを投射するための第２の別個のソースとか
らなる、特許請求の範囲第２９項記載の装置。３６オリエンテーシヨンビームからの信号と、
欠陥検出ビームからの信号を識別する手段を有す
る、特許請求の範囲第２９項記載の装置。３７オリエンテーシヨンビームからの信号と、
欠陥検出ビームからの信号とを識別する手段がビ
ームスプリツタからなる、特許請求の範囲第３６
項記載の装置。３８前記オリエンテーシヨンビームと、前記欠
陥検出ビームとが異なつた光波長を有する、特許
請求の範囲第２９項記載の装置。３９前記オリエンテーシヨンビームと、欠陥検
出ビームとが、異なつた変調周波数を有する、特
許請求の範囲第２９項記載の装置。４０前記ビームの直径がそれぞれ１インチの約
１ミル未満であり、かつオリエンテーシヨンを検
出する前記手段と、欠陥を検出する前記手段と
が、前記マスクに接近して取り付けられた検出器
のアレイからなり、規則正しく形成されたマスク
特徴のオリエンテーシヨンに基づき前記の検出器
のアレイをゲート処理する手段、及び前記ゲート
処理された検出器のアレイを使用する前記マスク
内の欠陥を検出する手段を有する、特許請求の範
囲第２９項記載の装置。４１第１の欠陥検出ビームに対して、等価マス
クエリヤを検出する第２の識別可能な欠陥検出ビ
ームを有し、かつ前記マスク内の欠陥を検出する
前記手段が、前記の第１の欠陥検出ビームを使用
して前記マスクの第１のエリヤ内の欠陥を検出す
る手段と、前記第２の欠陥検出ビームを使用して
前記マスクの第２の等価エリヤ内の欠陥を検出す
る手段とからなる、特許請求の範囲第２９項記載
の装置。４２欠陥を検出するためにマスクを検査する装
置において、フーリエ変換面を有する光学系と、前記光学系にマスクを取り付ける手段と、規則正しく形成されたマスク特徴を抑圧しかつ
欠陥の光トレーシングを通過させるための、実質
的に前記変換面に取り付けられた手段と、規則正しく形成されたマスク特徴のオリエンテ
ーシヨンを検出する手段と、マスク特徴の決められたオリエンテーシヨンを
ベースとして規則正しく形成されたマスク特徴を
抑圧する手段を調節する手段と、前記の通過した光を検出して、欠陥の存在を指
示する出力を発生させる手段とから構成されてい
ることを特徴とする、欠陥を検出するためにマス
クを検査する装置。４３欠陥を検出するためにマスクを検査する装
置において、フーリエ変換面を有する光学系と、前記光学系にマスクを取り付ける手段と、規則正しく形成されたマスク特徴を抑圧しかつ
欠陥の光トレーシングを通過させるための、実質
的に前記変換面に取り付けられた近似値的形状係
数強度空間周波数フイルタと、マスク特徴のオリエンテーシヨンを検出する手
段と、マスク特徴の決められたオリエンテーシヨンを
ベースとして前記空間周波数フイルタを調節を調
節する手段と、前記の通過した光を検出して、出力を発生させ
る手段と前記出力を利用して、前記マスク内の欠陥の指
標を発生する手段とから構成されていることを特
徴とする、欠陥を検出するためにマスクを検査す
る装置。