JPH0546042U - Semiconductor manufacturing equipment - Google Patents

Semiconductor manufacturing equipment

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JPH0546042U
JPH0546042U JP9618891U JP9618891U JPH0546042U JP H0546042 U JPH0546042 U JP H0546042U JP 9618891 U JP9618891 U JP 9618891U JP 9618891 U JP9618891 U JP 9618891U JP H0546042 U JPH0546042 U JP H0546042U
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JP
Japan
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chips
dust
stretching
sheet
dicing
Prior art date
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Pending
Application number
JP9618891U
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
克彦 小林
義文 新中
Original Assignee
ソニー株式会社
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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ダイシング後のダストを低コストで確実に除
去し、半導体チップの信頼性,生産性を向上する。 【構成】 延伸用シート21に貼着したウエハをダイシ
ングした後、延伸用シートを引き伸すことにより各チッ
プ22aに分離したものを、装置本体11に入れ、高圧
エアーノズル13からのエアー吐出によりチップ22a
表面のダストを吹き飛ばし、排気ダクト15から排出す
るようにした。このため、従来のような、ダスト除去用
の粘着シート等を用いることなく、効率の良いダスト除
去が行なえる。また、チップどうしの間部のダストの除
去も行なえるようになる。
(57) [Summary] [Purpose] To reliably remove dust after dicing at low cost and improve the reliability and productivity of semiconductor chips. [Structure] After dicing a wafer attached to a stretching sheet 21, the chips are separated into chips 22a by stretching the stretching sheet, and the chips 22a are put into an apparatus main body 11 and air is ejected from a high-pressure air nozzle 13. Chip 22a
The dust on the surface was blown off and discharged from the exhaust duct 15. Therefore, efficient dust removal can be performed without using a conventional adhesive sheet for dust removal or the like. Also, dust between the chips can be removed.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

この考案は、半導体製造装置に関し、更に詳しくは、半導体ウエハのダイシン グ後のダスト除去手段に係わる。 The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a dust removing means after dicing a semiconductor wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior Art]

従来、半導体ウエハをスクライブラインに沿って切り半導体チップにする場合 、先ず、図5に示すように粘着剤の付いた延伸用シートであるプラスチックフィ ルム2にウエハ1を貼り、高速回転する薄いダイヤモンド砥石(ダイシングソー )3でウエハ1のスクライブライン1aに沿って切り溝を入れる。次に、上下両 方向から内リングと外リング56から成る延伸リングを用いてプラスチックフィ ルム2を挟んで、切り溝を入れたウエハ1を各チップ4に分離する。この分離は 、延伸リングをプラスチックフィルム2に装着することにより、プラスチックフ ィルム2が全方向に延伸されるため、ウエハが切り溝で割れて起るものである。 このように、ウエハのダイシング工程及び延伸工程により、半導体ダストが生じ 、各チップ4の表面には、このダストが付着している。斯る半導体ダストの除去 方法としては、図7に示すように、作業者がこれらチップ4〜4の表面に粘着シ ート6を貼り付けた後、これを剥離することにより行なっていた。 Conventionally, when a semiconductor wafer is cut along a scribe line into semiconductor chips, first, as shown in FIG. 5, a wafer 1 is attached to a plastic film 2 which is a stretching sheet with an adhesive, and a thin diamond that rotates at a high speed. A grindstone (dicing saw) 3 is used to make a kerf along the scribe line 1a of the wafer 1. Next, the stretched ring composed of the inner ring and the outer ring 56 is used from above and below to sandwich the plastic film 2 and separate the wafer 1 having the kerf into the chips 4. This separation occurs because the plastic film 2 is stretched in all directions by mounting the stretch ring on the plastic film 2, so that the wafer is broken at the kerf. Thus, semiconductor dust is generated by the wafer dicing step and the drawing step, and the dust is attached to the surface of each chip 4. As a method of removing such semiconductor dust, as shown in FIG. 7, an operator attaches the adhesive sheet 6 to the surfaces of the chips 4 to 4 and then peels it off.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

しかしながら、従来においては、このような粘着シート6の貼り剥がしによっ て、静電気が発生し、ともするとチップの静電破壊を誘発する問題があった。ま た、粘着シート6の粘着剤がチップの表面に付着してチップを汚染し、製品の信 頼性を低下させる問題を有していた。さらに、このような粘着シート6では、チ ップ表面のダスト除去率が低く、特にダイシング溝内に存在するダストは除去し 得ないものであった。 However, conventionally, there is a problem in that static electricity is generated due to the peeling off of the pressure-sensitive adhesive sheet 6 and possibly electrostatic breakdown of the chip. In addition, there is a problem that the adhesive of the adhesive sheet 6 adheres to the surface of the chip to contaminate the chip and reduce the reliability of the product. Further, with such an adhesive sheet 6, the dust removal rate on the chip surface was low, and especially the dust present in the dicing groove could not be removed.

【0004】 一方、上記ダイシング方法は、ウエハに厚さの半分程度の深さの切り溝を入れ るものであるが、ウエハの厚さを少し越して完全に切断するフルダイシングとい う方法がある。しかし、このフルダイシング法を行なうと、ウエハを割る工程が 無いためダストの発生を稍々抑制することはできるものの、プラスチックシート 2の粘着剤が目詰りを起こしダイシングソーの消耗が5〜10倍に加速すると共 に、シート厚の管理や装置精度の維持管理が非常に困難となる問題が生ずる。こ のため、フルダイシング法は、工数が増え、コスト的にも好ましくない方法であ った。On the other hand, in the dicing method, a kerf having a depth of about half the thickness is formed in the wafer, but there is a method called full dicing in which the wafer is completely cut slightly beyond the thickness of the wafer. .. However, if this full dicing method is performed, the generation of dust can be suppressed because there is no step for breaking the wafer, but the adhesive of the plastic sheet 2 causes clogging and the consumption of the dicing saw is 5 to 10 times. In addition to accelerating, the problem arises that it becomes very difficult to control the sheet thickness and maintain the accuracy of the equipment. For this reason, the full dicing method is not preferable in terms of cost because the number of steps is increased.

【0005】 本考案は、このような従来の問題点に着目して創案されたものであって、粘着 シートなどの消耗材の使用を回避し、低コスト化を図ると共に、チップ製品の信 頼性,生産性及び歩留りを向上する半導体製造装置を得んとするものである。The present invention has been made in view of such conventional problems, and avoids the use of consumable materials such as an adhesive sheet to reduce the cost, and has a high reliability in chip products. The purpose is to obtain a semiconductor manufacturing apparatus that improves productivity, productivity, and yield.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

そこで、本考案は、延伸用シート上に貼着され複数の半導体チップにダイシン グされた半導体ウエハを支持する手段と、前記延伸用シートを延伸する手段と、 前記各チップ間に高圧エアーを吹き付ける手段と、前記高圧エアーの吹き付け時 に生じたダストを排気する手段を備えることを、その解決手段としている。 Therefore, the present invention provides a means for supporting a semiconductor wafer which is attached on a stretching sheet and diced into a plurality of semiconductor chips, a means for stretching the stretching sheet, and high-pressure air is blown between the chips. Means and means for exhausting dust generated when the high-pressure air is blown are provided as means for solving the problem.

【0007】[0007]

【作用】[Action]

延伸用シートを延伸することにより、半導体ウエハはダイシングが施された部 分で各半導体チップに分離し、高圧エアーの吹き付けにより、チップ表面に付着 するダストは吹き飛ばされ、排気手段により除去される。 By stretching the stretching sheet, the semiconductor wafer is separated into the respective semiconductor chips at the diced portions, and the high pressure air is blown to blow off the dust adhering to the chip surface, and the dust is removed by the exhaust means.

【0008】[0008]

【実施例】【Example】

以下、本考案に係る半導体製造装置の詳細を図面に示す実施例に基づいて説明 する。 Hereinafter, details of a semiconductor manufacturing apparatus according to the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings.

【0009】 本実施例に係る装置は、図1に示すように、上部が開口する容器状の装置本体 11と、この装置本体11の開口部を密閉する蓋部12とから大略構成されてい る。As shown in FIG. 1, the apparatus according to the present embodiment is roughly composed of a container-shaped apparatus main body 11 having an open top and a lid 12 for sealing the opening of the apparatus main body 11. ..

【0010】 装置本体11内には、高圧エアーノズル13が、回転駆動手段(モータ)14 によって回転可能に設けられている。また、装置本体11の側壁には、排気ダク ト15が接続され、該本体11内の排気が行なわるようになっている。さらに、 装置本体11の開口部内壁には、内側に向けて突出するフランジ部15を周回す るように形成している。A high-pressure air nozzle 13 is provided in the apparatus body 11 so as to be rotatable by a rotation driving means (motor) 14. An exhaust duct 15 is connected to the side wall of the apparatus main body 11 so that the inside of the main body 11 can be exhausted. Further, a flange portion 15 protruding inward is formed on the inner wall of the opening of the apparatus body 11 so as to circulate.

【0011】 蓋部12は、昇降駆動シリンダ16のピストンロッド16aが、一端部に取付 けられていて、上下方向に立設したガイド杆17に沿って、昇降するようになっ ている。また、蓋部12の下面の周縁部には、シール部材18を周回、配設し、 閉蓋時にこのシール部材18が、装置本体11の上端面に当接して気密性を保つ ように設定されている。また、このシール部材18の内側には、下方に向けて突 出する支持突堤12Aが周回して形成され、装置本体11のフランジ部15に載 置される後記するダイシングフレーム22に当接するようになっている。さらに 、蓋部12の下面中央には、円柱状の突出部12Bが形成され、この突出部12 Bの下端面には、連続多孔質の円板19が埋設されている。なお、前記支持突堤 12A及び円板19の裏面には、吸気路12Cが連通され、吸気路12Cはチュ ーブ20を介して真空ポンプ(図示省略)に接続されている。A piston rod 16 a of a lift drive cylinder 16 is attached to one end of the lid 12, and the lid 12 is lifted and lowered along a guide rod 17 which is vertically erected. A sealing member 18 is arranged around the lower surface of the lid portion 12 so that the sealing member 18 abuts the upper end surface of the apparatus main body 11 to maintain airtightness when the lid is closed. ing. A support projecting ridge 12A projecting downward is formed inside the seal member 18 so as to come into contact with a dicing frame 22 (described later) mounted on the flange portion 15 of the apparatus body 11. Is becoming Further, a cylindrical protrusion 12B is formed in the center of the lower surface of the lid 12, and a continuous porous disc 19 is embedded in the lower end surface of the protrusion 12B. An intake passage 12C is communicated with the back surface of the supporting jetty 12A and the disk 19, and the intake passage 12C is connected to a vacuum pump (not shown) via a tube 20.

【0012】 ここで、本装置によって処理されるチップ並びにその治具を図2〜図4を用い て説明する。先ず、図2に示すように、粘着剤の付いたプラスチックシートで成 る延伸用シート21上にウエハ22を貼り、シート21をリング状のダイシング フレーム23に固定する。次に、ダイシングソー24でウエハ22をスクライブ ラインに沿ってハーフダイシングする。Here, a chip processed by this apparatus and its jig will be described with reference to FIGS. 2 to 4. First, as shown in FIG. 2, a wafer 22 is attached onto a stretching sheet 21 made of a plastic sheet with an adhesive, and the sheet 21 is fixed to a ring-shaped dicing frame 23. Next, the wafer 22 is half-diced along the scribe line with the dicing saw 24.

【0013】 次に、図3に示すように、延伸用シート21の下面側から内側延伸リング25 aを押し当て、該シート21の上面側から外側延伸リング25bを該シート21 を介して内側延伸リング25aに外嵌させることにより、これらリング内のシー ト21を外側に向けて延伸させ、図4に示すように、ハーフダイシングされたウ エハ22を各チップ22aに分離させる。Next, as shown in FIG. 3, the inner stretching ring 25 a is pressed from the lower surface side of the stretching sheet 21, and the outer stretching ring 25 b is internally stretched from the upper surface side of the sheet 21 via the sheet 21. By externally fitting the rings 25a, the sheets 21 in these rings are extended outward, and the half-diced wafer 22 is separated into the chips 22a, as shown in FIG.

【0014】 このようにして分離されたチップ22aが付着した状態で、図1(A)に示す ように、チップ22aを下向きにしてダイシングフレーム23を装置本体11の フランジ部15に載せ、蓋部12を昇降駆動シリンダ16の作動により下降させ 装置本体11に蓋をする。With the chip 22a thus separated attached, as shown in FIG. 1A, the dicing frame 23 is placed on the flange portion 15 of the apparatus main body 11 with the chip 22a facing downward, and the lid portion 12 is lowered by the operation of the lifting drive cylinder 16 and the apparatus main body 11 is covered.

【0015】 次に、図1(B)に示すように、チューブ20側の真空ポンプを作動させるこ とにより、蓋12側の支持突堤12Aはダイシングフレームに密着し、また、連 続多孔質な円板19は、チップ22a〜22aが粘着された延伸シート21の裏 面を全体的に吸着する。Next, as shown in FIG. 1 (B), by operating the vacuum pump on the tube 20 side, the supporting jetty 12A on the lid 12 side is brought into close contact with the dicing frame and is also continuous porous. The disk 19 entirely adsorbs the back surface of the stretched sheet 21 to which the chips 22a to 22a are adhered.

【0016】 次に、高圧エアーノズル13を回転駆動手段14にて回転させながら、別途空 気圧送器からのエアーをノズル13から吐出させ、チップ22a表面のダストを 吹き飛ばすと共に、排気ダストからダストをエアーと伴に排出する。このとき、 延伸シート21は円板19に吸着されて支持されているため、吐出エアーによる 振動が防止されている。Next, while rotating the high-pressure air nozzle 13 by the rotation driving means 14, air from a pneumatic feeder is separately ejected from the nozzle 13 to blow off the dust on the surface of the chip 22a and remove dust from the exhaust dust. Discharge with air. At this time, since the stretched sheet 21 is adsorbed and supported by the disc 19, vibration due to discharge air is prevented.

【0017】 本実施例においては、チップ22aどうしの間の部分もエアーでダストが除去 することが可能となる。In this embodiment, the dust can be removed by air even between the chips 22a.

【0018】 以上、実施例について説明したが、本考案はこれに限定されるものではなく、 構成の要旨に付随する各種の設計変更が可能であり、例えば、上記実施例におい ては、延伸リング25a,25bを用いて延伸してチップ22aを分離した後、 本装置でダスト除去を行なったが、蓋部12下面に内側延伸リング25aを設け 、装着本体11内に外側延伸リング25bを設けておいて、蓋部12を閉じると 共に内外延伸リングが嵌合する構成としてもよい。Although the embodiment has been described above, the present invention is not limited to this, and various design changes accompanying the gist of the configuration can be made. For example, in the above embodiment, the stretch ring After the chips 22a were separated by stretching with the use of 25a and 25b, dust was removed with this device. An inner stretching ring 25a was provided on the lower surface of the lid 12 and an outer stretching ring 25b was provided inside the mounting body 11. The lid 12 may be closed and the inner and outer extension rings may be fitted together.

【0019】 また、高圧エアーノズルの駆動をX−Yテーブルを用い、X,Y方向に動作さ せながら、ダスト除去を行なう構成としてもよい。Further, the XY table may be used to drive the high-pressure air nozzle to remove dust while operating in the X and Y directions.

【0020】 さらに、高圧エアーノズル形状を円盤形状にし、駆動せずにチップ全体を均一 にブローする構成としてもよい。Further, the high-pressure air nozzle may have a disk shape, and the entire chip may be blown uniformly without driving.

【0021】[0021]

【考案の効果】[Effect of the device]

以上の説明から明らかなように、本考案によれば、従来技術で使用していた消 耗材料を削減すると共に、工数を少なくできるため、コストを低減する効果があ る。 As is clear from the above description, according to the present invention, it is possible to reduce the amount of wear material used in the conventional technique and to reduce the number of man-hours.

【0022】 また、ダストをチップ表面から除去できるため、ダイボンド時に発生するチッ プ表面のキズや表面ダメージによる信頼性の低下を防止でき、製品の歩留りを向 上する効果がある。Further, since the dust can be removed from the chip surface, it is possible to prevent deterioration of reliability due to scratches on the chip surface and surface damage that occur during die bonding, and it is effective in improving the yield of products.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】(A)は本考案の実施例の蓋部が開いている状
態の断面図、(B)は蓋部が閉じた状態の断面図。
FIG. 1A is a sectional view of an embodiment of the present invention in a state where a lid is open, and FIG. 1B is a sectional view in which a lid is closed.

【図2】ダイシング工程を示す斜視図。FIG. 2 is a perspective view showing a dicing process.

【図3】延伸工程を示す斜視図。FIG. 3 is a perspective view showing a stretching process.

【図4】延伸後の状態を示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view showing a state after stretching.

【図5】従来例の斜視図。FIG. 5 is a perspective view of a conventional example.

【図6】従来例の斜視図。FIG. 6 is a perspective view of a conventional example.

【図7】従来例の斜視図。FIG. 7 is a perspective view of a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…装置本体、12…蓋部、13…高圧エアーノズ
ル、15…排気ダスト、21…延伸用シート、22a…
チップ。
11 ... Device main body, 12 ... Lid part, 13 ... High pressure air nozzle, 15 ... Exhaust dust, 21 ... Stretching sheet, 22a ...
Chips.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 延伸用シート上に貼着され複数の半導体
チップにダイシングされた半導体ウエハを支持する手段
と、前記延伸用シートを延伸する手段と、前記各チップ
間に高圧エアーを吹き付ける手段と、前記高圧エアーの
吹き付け時に生じたダストを排気する手段を備えること
を特徴とする半導体製造装置。
1. A means for supporting a semiconductor wafer attached on a stretching sheet and diced into a plurality of semiconductor chips, a means for stretching the stretching sheet, and a means for blowing high-pressure air between the chips. A semiconductor manufacturing apparatus comprising means for exhausting dust generated when the high-pressure air is blown.
JP9618891U 1991-11-25 1991-11-25 Semiconductor manufacturing equipment Pending JPH0546042U (en)

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JP9618891U JPH0546042U (en) 1991-11-25 1991-11-25 Semiconductor manufacturing equipment

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006179517A (en) * 2004-12-20 2006-07-06 Denso Corp Method for peeling protective sheet and peeling jig used therefor
JP2007067278A (en) * 2005-09-01 2007-03-15 Tokyo Seimitsu Co Ltd Expanding method and expanding apparatus

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