JPH0542154B2 - - Google Patents

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JPH0542154B2
JPH0542154B2 JP12514187A JP12514187A JPH0542154B2 JP H0542154 B2 JPH0542154 B2 JP H0542154B2 JP 12514187 A JP12514187 A JP 12514187A JP 12514187 A JP12514187 A JP 12514187A JP H0542154 B2 JPH0542154 B2 JP H0542154B2
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JP
Japan
Prior art keywords
copper
film
printed wiring
etching
circuit pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP12514187A
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English (en)
Other versions
JPS63289990A (ja
Inventor
Tasuku Fujii
Shoichi Nishida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP12514187A priority Critical patent/JPS63289990A/ja
Publication of JPS63289990A publication Critical patent/JPS63289990A/ja
Publication of JPH0542154B2 publication Critical patent/JPH0542154B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/061Etching masks
    • H05K3/062Etching masks consisting of metals or alloys or metallic inorganic compounds

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、印刷配線板の製造方法、特に、印
刷配線板の回路形成をエツチングによつて行なう
場合に使用するエツチング保護膜(エツチングレ
ジスト)に特徴を有する印刷配線板の製造工程に
関するものである。
〔従来の技術〕
従来の印刷配線板の回路パターン生成工程に使
用されるエツチングレジストは、感光性ドライフ
イルムを利用したテンテイング法およびアルキル
イミダゾールなどの有機レジスト法、電着法等に
より生成され、そのエツチングレジスト以外の部
分をエツチングすることにより印刷配線板を製造
していた。
第3図a,b,cは、従来の感光性ドライフイ
ルムを用いたテンテイング法によるエツチングの
各工程の一例を示す要部拡大破断断面図である。
a図において、1は絶縁基材10上の銅箱、2は
基材10上に施された銅めつき層である。3は、
この銅めつき層2の上に被覆された感光性ドライ
フイルムである。11はスルーホールを示す。こ
の方法においては、銅めつき2を施こした後、感
光性ドライフイルム3を全面に被覆し、感光性ド
ライフイルム3にワークフイルムを用いて、感光
性ドライフイルム3上に必要な回路パターンを露
光形成したのち、感光性ドライフイルム3の不必
要部分を現像にて除去し(b図)、残された感光
性ドライフイルム3をエツチング保護膜として作
用させて、必要な回路パターンを形成させている
(c図)。このとき、印刷配線板の表裏をつなぐス
ルーホール11における銅めつき2壁に対するエ
ツチング保護は、4のテンテイングフイルムによ
つてなされる。
また、この方法とは別の方法として、第4図
a,b,cに、従来の金属めつきを用いたエツチ
ングレジストの形成を利用した製造方法の工程の
一例を示す。第4図aは、第3図に示したテンテ
イング法と同様に、絶縁基材10および銅箔1上
に銅めつき層2を形成し、その上に感光性ドライ
フイルム3を被覆し、上記第3図に示すテンテイ
ング法とは逆の回路パターンを、ワークフイルム
を用いて露光形成したのち、この感光性ドライフ
イルム3以外に、エツチングレジストとして金属
めつき5を施こす(b図)。このとき、スルーホ
ール11における銅めつき2壁に対するエツチン
グ保護は、銅めつき壁上に施された金属めつき6
によつてなされる(c図)。
さらに、別の従来例として第5図a,b,cに
有機保護膜を用いた行程の一例を示す。この例に
おいては、上記第4図に示した、金属めつきエツ
チングレジストを利用する方法と同様に、a図に
おいて、感光正ドライフイルム3上にワークフイ
ルムを用いて逆パターンを形成したのち、第4図
における金属めつき5および6の代わりにキレー
ト状の有機保護膜7を施し(b図)、エツチング
レジストとして利用する。このとき、スルーホー
ル部11における銅めつき2壁に対するエツチン
グ保護は、壁部に付着した有機保護膜7によつて
なされる(c図)。
以上の各従来方法において、ワークフイルムを
用いて、回路パターンを露光形成する場合は、温
度、湿度のコントロールが重要であり、温湿度を
コントロールした部屋で、ワークフイルムの作
成、保管および露光作業を行なう必要があるた
め、温湿度をコントロールした部屋が必要とな
り、設備等に多額の費用がかかる。ワークフイル
ムの温湿度の変化による伸縮は、高密度印刷配線
板の回路パターン形成に大きな障害となつてい
る。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来は、エツチングレジストを前記のように施
すことによつて、印刷配線板を製造するが、第3
図に示したテンテイング法において、スルーホー
ル11を覆つているエツチング保護用感光性ドラ
イフイルム3が剥離して、内部にエツチング液が
浸透し、スルーホール11における銅めつき壁2
を侵すなどの問題があつた。
一方、第4図に示した金属めつき法において
は、電気めつき6により、スルーホール11内の
銅めつき2上にめつきを施すため、印刷配線板の
板厚が厚くなると、スルーホール11中央部に電
気めつきがつきにくく、めつき層が薄くなるた
め、十分なエツチングレジストとして作用しなく
なるという問題があつた。また、はんだめつき時
には、反応ガスが発生し、スルーホール11の穴
径が小さい場合にはガス抜けが悪く、めつきが施
されないという問題があつた。さらに第5図に示
した有機保護膜7にあつては、銅箔2の形成、銅
めつき表面の前処理および後処理において有機保
護膜7を均一に塗布することによつて形成する工
夫を要し、また特殊な有機剤を必要とする等の問
題があつた。
また以上の各方法においては、いずれも回路パ
ターンの形成にはワークフイルムを使用してお
り、このワークフイルムはポリエチレンテレフタ
レエート(PET)でできているため、湿度、温
度変化による前記伸縮の影響による障害を受け易
いという問題点があつた。
この発明は、以上のような従来方法の諸問題点
を解消するためになされたもので、スルーホール
における銅めつき壁に直接作用し、かつ、回路パ
ターン形成用の感光性ドライフイルムやワークフ
イルムを用いることなく、銅箔、銅めつき等の面
に直接作用して回路パターンを形成し、また、電
気めつきを用いることなく、印刷配線板の板厚に
関係なく、スルーホール内部にまで作用してエツ
チングレジストを形成して高密度の印刷配線板を
製造し得る方法を提供することを目的としてい
る。
〔問題点を解決するための手段〕
このため、この発明に係る印刷配線板の製造方
法においては、銅張積層板の表面の銅上に直接必
要な回路パターンと同一パターンで酸化膜による
エツチングレジスト被膜を、レーザ手段を用いて
酸化促進溶液中において形成する行程を設けるこ
とにより、前記目的を達成しようとするものであ
る。
〔作用〕
以上のような製造方法により、レーザ手段によ
り酸化促進溶液中で銅張積層板の表面上の銅めつ
きおよびスルーホール銅めつき壁上に、直接必要
な回路パターンを同一パターンの酸化皮膜を形成
することにより、アルカリエツチングレジスト液
より保護し、皮膜のない部分をエツチングにより
除去することにより、必要とする正確な回路パタ
ーンが得られるようになる。
〔実施例〕
以下に、この発明を実施例に基づいて説明す
る。第1図a,b,cに、この発明に係わる印刷
配線板の製造方法の一実施例の各工程の要部拡大
破断断面図を示す。図において、従来例第3〜5
図におけると同一(または相当)構成要素は同一
符号で表わす。すなわち、1は、絶縁基板10上
の銅箔、2は、それに施された銅めつき、11は
スルーホールである。また、8は、エツチング保
護膜となる酸化皮膜で銅張積層板上の銅めつき2
の表面において必要な回路パターンと同一パター
ンを、レーザ手段により酸化促進溶液11中で描
写形成したものである。
(製造工程) 次に、この発明による印刷配線板の製造方法を
工程順に説明する。
まず、絶縁基材10および銅箔1の表面に銅め
つき2を施こす(第1図a)。銅めつき2表面お
よびスルーホール11壁面に対して、CAD(コン
ピユータ支援設計)データを直結したレーザによ
るパターン描写装置(この種の装置は、いずれも
公知であるため詳細説明は省略する)を用いて、
必要な回路パターンと同じ酸化皮膜8を、酸化促
進溶液L中で形成する(b図)。この酸化皮膜8
をエツチングレジストにしてアルカリエツチング
を行うことにより必要なパターンを形成する(c
図)。
第2図に、レーザビーム照射時の装置要部断面
図を示す。レーザ本体12によるレーザビーム1
4は、集光レンズ13により集光され、容器16
中の酸化促進溶液L中において、印刷配線板用銅
張積層板15に照射される。
要約すると、絶縁基材10および銅箔1の表面
に、無電解銅めつきを施した後、銅めつき2を実
施し、銅めつき2表面およびスルーホール11壁
面に対してレーザビームを用いて酸化促進溶液L
中で酸化皮膜8を形成するものである。
ここにおいて、この製造方法に用いるレーザ手
段12と酸化促進溶液の一実施例を挙げると、 レーザ12の一例 CO2レーザ ノズル径 1.5mmφ レーザ出力 50〜500W ワーク移動速度 1〜5m/分 酸化促進溶液Lの一例 亜塩素酸ナトリウム 60g/ 苛性ソーダ 20g/ リン酸3ナトリウム塩 7g/ 温度 25±2℃ 以上は、いずれも一例であり、これのみに限定
されないことはもちろんである。
この酸化皮膜をエツチングレジストとして、ア
ルカリエツチングを行うことにより必要な回路パ
ターンを形成する。
以上のように、この発明方法においては、回路
パターン形成に工程に、仕上り品質上の欠点要因
となり得る感光性ドライフイルムやワークフイル
ムあるいは電気めつき等を使用しないため、高品
質の高密度の印刷配線板を得ることができる。
〔発明の効果〕
以上、説明したように、この発明に係わる製造
方法によれば、回路パターン形成用に仕上り品質
の欠点要因となり得る感光性ドライフイルムやワ
ークフイルム、あるいは電気めつき等を用いるこ
となく、高品質の高密度印刷配線板が得られるよ
うになつた。
【図面の簡単な説明】
第1図a,b,cは、この発明に係る印刷配線
板の製造方法の一実施例の各種要部拡大断面図、
第2図は、この製造方法におけるレーザビーム照
射装置の要部断面図、第3図a,b,c、第4図
a,b,c、第5図a,b,cは、それぞれ従来
の製造方法における3例の各工程の要部拡大断面
図である。 1……銅箔、2……銅めつき、8……酸化皮
膜、10……絶縁基材、11……スルーホール、
14……レーザビーム、15……銅張積層板、L
……酸化促進溶液。なお、各図において、同一符
号は同一または相当構成要素を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 印刷配線板用銅張積層板の表面に、エツチン
    グにより回路パターンを形成する工程において、
    前記銅張積層板の銅上に、直接、必要とする回路
    パターンと同一パターンで、酸化膜によるエツチ
    ングレジスト皮膜を、レーザ手段を用いて酸化促
    進溶液中において、描写成形する工程を有するこ
    とを特徴とする印刷配線板の製造方法。
JP12514187A 1987-05-22 1987-05-22 印刷配線板の製造方法 Granted JPS63289990A (ja)

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