JPH05342524A - Magnetic head and its production - Google Patents

Magnetic head and its production

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JPH05342524A
JPH05342524A JP15221592A JP15221592A JPH05342524A JP H05342524 A JPH05342524 A JP H05342524A JP 15221592 A JP15221592 A JP 15221592A JP 15221592 A JP15221592 A JP 15221592A JP H05342524 A JPH05342524 A JP H05342524A
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JP
Japan
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magnetic
thin film
metal
nitrogen
magnetic thin
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Application number
JP15221592A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Kawakami
良男 川上
Michio Yanagi
道男 柳
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to JP15221592A priority Critical patent/JPH05342524A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide the magnetic head in which magnetic metallic thin films having a high saturation magnetic flux density is disposed near its magnetic gap and which sufficiently suppresses the reaction of welding glass and the metal magnetic thin films contg. nitrogen and does not exert any adverse influence on magnetic recording characteristics and the process for production thereof. CONSTITUTION:The metal magnetic thin films are constituted of magnetic materials which contain nitride in the first layers 9a, 9b on magnetic core half bodies 8a, 8b side consisting of ferrite and do not contain the nitrogen in the second layers 10a, 10b on welding glass 12a, 12b side. The magnetic core half bodies are subjected to a heating treatment after the deposition of the first metal thin films, by that, the diffusion of the first metal thin films and the second metal thin films at the time of welding is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に対して
磁気コアを摺動させて磁気記録または再生を行う磁気ヘ
ッドに関し、特に磁気コアが主にフェライトよりなり、
磁気ギャップ近傍部に高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を
配した磁気ヘッドに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head which slides a magnetic core on a magnetic recording medium to perform magnetic recording or reproduction, and particularly, the magnetic core is mainly made of ferrite,
The present invention relates to a magnetic head in which a metal magnetic thin film having a high saturation magnetic flux density is arranged near the magnetic gap.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年VTR(ビデオテープレコーダ)や
DAT(デジタルオーデイオテープレコーダ)等の機器
においては、磁気記録の高密度化を図るために抗磁力の
高い磁気記録媒体を用いる様になり、これに伴い磁気ヘ
ッドとしては、主にフェライトから形成された磁気コア
の磁気ギャップに面する突き合わせ面にセンダトやアモ
ルファスなどの高飽和磁束密度の磁性薄膜を、真空薄膜
形成法により成膜、被着した磁気ヘッド、所謂MIG
(メタル・イン・ギャップ)ヘッドが用いられる様にな
ってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, in devices such as VTRs (video tape recorders) and DATs (digital audio tape recorders), magnetic recording media having a high coercive force have been used in order to increase the density of magnetic recording. As a result, as a magnetic head, a magnetic thin film of high saturation magnetic flux density such as send or amorphous was formed and deposited by a vacuum thin film forming method on the abutting surface facing the magnetic gap of a magnetic core formed mainly of ferrite. Magnetic head, so-called MIG
(Metal in gap) heads have come to be used.

【0003】図7は、この種のMIGヘッドの構成例を
示す図であり、図中1a.1bは夫々フェライトからな
る磁気コア半体、3は巻線窓、4a,4bは夫々センダ
スト薄膜、5は巻線溝、6は溶着ガラス、7は磁気記録
媒体摺動面、gは磁気ギャップである。
FIG. 7 is a diagram showing an example of the configuration of this type of MIG head. In FIG. 1b is a magnetic core half made of ferrite, 3 is a winding window, 4a and 4b are sendust thin films, 5 is a winding groove, 6 is welding glass, 7 is a magnetic recording medium sliding surface, and g is a magnetic gap. is there.

【0004】一方、より磁気特性を向上させるため、ま
た、耐摩耗性を向上させるために、上述の磁性薄膜とし
て窒素を含む磁性薄膜を用いることが提案されている。
On the other hand, it has been proposed to use a magnetic thin film containing nitrogen as the above-mentioned magnetic thin film in order to further improve the magnetic characteristics and wear resistance.

【0005】窒素を磁性薄膜中に含ませる手法として
は、磁性薄膜の生成時におけるスパッタガスをアルゴン
(Ar)と窒素(N)とを含むガスとし、反応性スパッ
タリング法により形成することが一般的である。
As a method for incorporating nitrogen into the magnetic thin film, it is general to form the magnetic thin film by a reactive sputtering method using a sputtering gas containing argon (Ar) and nitrogen (N). Is.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところが、窒素入り薄
膜の場合、溶着ガラスとの反応が激しく、特に、Fe−
Al−Si系センダスト薄膜の場合、N2 を添加するこ
とにより、反応性が急激に激しくなり、気泡を生じてし
まう。
However, in the case of a thin film containing nitrogen, the reaction with the fused glass is vigorous, and in particular Fe--
In the case of an Al-Si-based sendust thin film, the addition of N 2 causes the reactivity to rapidly increase, resulting in bubbles.

【0007】この気泡が磁気記録媒体と摺接する部分に
も発生し、磁気記録媒体を傷つけたり、磁性分の剥離に
ともない磁気ヘッドの多くの磁性分が付着し、ドロップ
アウト等の原因となっていた。これらの原因により、一
般に窒素入りの金属磁性薄膜を用いるMIGヘッドにお
いては、不良率が高くなっていた。
The air bubbles are also generated in a portion in sliding contact with the magnetic recording medium, which damages the magnetic recording medium and causes a large amount of magnetic components of the magnetic head to adhere due to the separation of the magnetic components, which causes dropout and the like. It was Due to these causes, the defect rate is generally high in the MIG head using the metal magnetic thin film containing nitrogen.

【0008】窒素入りの金属磁性薄膜が、溶着ガラスと
の反応性が激しい理由は現在のところ完全には解明され
ていないが、以下の理由であると考えられる。
The reason why the nitrogen-containing metal magnetic thin film has a strong reactivity with the fused glass has not been completely clarified at present, but it is considered as follows.

【0009】即ち、センダスト膜を例にとった場合、N
2 が含まれていると、一般のセンダスト膜の様に安全な
不働態膜が形成されにくく、深く酸化されやすくなる。
そのため、溶着ガラスとの境界で、磁性膜がガラス中の
酸素の取り込むために気泡が発生するのではないかと考
えられる。
That is, when the sendust film is taken as an example, N
When 2 is included, a safe passive film is unlikely to be formed like a general sendust film, and is easily oxidized deeply.
Therefore, it is considered that bubbles may be generated at the boundary with the fused glass because the magnetic film takes in oxygen in the glass.

【0010】この対策としては、第1に反応しない溶着
ガラスを選択すること、第2に反応防止膜を設けその膜
厚を厚くすること等が考えられる。
As measures against this, firstly, a fused glass which does not react may be selected, and secondly, a reaction preventive film may be provided to increase the film thickness.

【0011】しかしながら、窒素入りのセンダスト膜の
場合には反応が激しく、反応しない溶着ガラスを選択す
ることは事実上不可能である。
However, in the case of a nitrogen-containing sendust film, the reaction is so vigorous that it is virtually impossible to select a fused glass that does not react.

【0012】また、反応防止膜として金属薄膜やセラミ
ック薄膜を厚く形成すれば、反応を防止することは可能
であり、特に、Cr23 やCr膜はガラスに溶けず、
保護膜としては最適であるが、これらCr23 やCr
膜は磁気記録媒体に対する耐摩耗性が非常に良く、溶着
ガラスやギャップ材のSiO2 膜に比し摩耗しないた
め、磁気記録媒体摺動面において凸部となってしまう。
そのため、この凸部により磁気記録媒体を傷つけてしま
うことがある。
If a metal thin film or a ceramic thin film is formed thick as the reaction preventing film, the reaction can be prevented. In particular, the Cr 2 O 3 or Cr film does not melt in glass,
It is most suitable as a protective film, but Cr 2 O 3 and Cr
The film has very good wear resistance with respect to the magnetic recording medium, and does not wear as compared with the fused glass and the SiO 2 film of the gap material, and thus becomes a convex portion on the sliding surface of the magnetic recording medium.
Therefore, the protrusion may damage the magnetic recording medium.

【0013】特に、溶着ガラスと磁性薄膜との境界にお
ける保護膜を磁気ギャップ用非磁性膜とに兼用する場合
においては、磁気ギャップ部に凸部が生じることにな
り、磁気記録媒体の剥離が進み、磁気ギャップ部分に剥
離した磁性粉が付着することになり、致命的な欠点とな
る。
In particular, when the protective film at the boundary between the fused glass and the magnetic thin film is also used as the non-magnetic film for the magnetic gap, a convex portion is formed in the magnetic gap portion, and the magnetic recording medium is peeled off. The peeled magnetic powder adheres to the magnetic gap, which is a fatal defect.

【0014】そのため、保護膜としては100Å程度し
か、その厚みをとることができず、溶着ガラスと磁性薄
膜との反応を充分に抑圧することは不可能であった。
Therefore, the thickness of the protective film can be only about 100 Å, and it has been impossible to sufficiently suppress the reaction between the fused glass and the magnetic thin film.

【0015】本発明は上述の如き背景下において、磁気
コアが主にフェライトよりなり磁気ギャップ近傍部に高
飽和磁束密度の金属磁性薄膜を配した磁気ヘッドにおい
て、溶着ガラスと窒素を含む金属磁性薄膜との反応を充
分に抑制し、且、磁気記録特性に何らの悪影響をも与え
ない磁気ヘッド、及び、その製造方法を提示することを
目的とする。
Under the above circumstances, the present invention is a magnetic head in which a magnetic core is mainly made of ferrite and a metal magnetic thin film having a high saturation magnetic flux density is arranged in the vicinity of a magnetic gap, and a metal magnetic thin film containing fused glass and nitrogen. It is an object of the present invention to provide a magnetic head that sufficiently suppresses the reaction with the magnetic recording medium and does not have any adverse effect on the magnetic recording characteristics, and a manufacturing method thereof.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】斯かる目的下において、
本発明の磁気ヘッドにおいては、フェライトよりなる一
対の磁気コア半体の少なくとも一方に金属磁性薄膜を被
着し、溶着ガラスにより該一対の磁気コア半体を前記金
属磁性薄膜及び磁気ギャップを介して接合してなる磁気
ヘッドにおいて、前記金属磁性薄膜を、フェライト側の
第1層が窒素を含み、前記溶着ガラス側の第2層が窒素
を含まない磁性材より構成している。
[Means for Solving the Problems] Under such a purpose,
In the magnetic head of the present invention, a metal magnetic thin film is deposited on at least one of a pair of magnetic core halves made of ferrite, and the pair of magnetic core halves is made of fused glass via the metal magnetic thin film and the magnetic gap. In the bonded magnetic head, the metal magnetic thin film is composed of a magnetic material in which the first layer on the ferrite side contains nitrogen and the second layer on the fused glass side does not contain nitrogen.

【0017】また、本発明による磁気ヘッドの製造方法
においては、フェライトよりなる一対の磁気コア半体の
少なくとも一方に窒素を含む第1の金属磁性薄膜を被着
し、該第1の金属薄膜の被着された磁気コア半体を加熱
処理し、該加熱処理後に窒素を含まない第2の金属磁性
薄膜を前記第1の金属磁性薄膜上に被着し、該第2の金
属磁性薄膜の被着後、溶着ガラスにより該一対の磁気コ
ア半体を前記第1,第2の金属磁性薄膜及び磁気ギャッ
プを介して接合する。
Further, in the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a first metal magnetic thin film containing nitrogen is deposited on at least one of a pair of magnetic core halves made of ferrite, and the first metal thin film of the first metal thin film is formed. The deposited magnetic core half is heat-treated, and after the heat treatment, a nitrogen-free second metallic magnetic thin film is deposited on the first metallic magnetic thin film, and then the second metallic magnetic thin film is coated. After the bonding, the pair of magnetic core halves are bonded by the fused glass via the first and second metal magnetic thin films and the magnetic gap.

【0018】[0018]

【作用】上述の如き磁気ヘッドの構成によれば、溶着ガ
ラスと磁性薄膜との間に厚い反応防止膜を設けることな
く、窒素入り磁性薄膜と溶着ガラスとの反応を抑圧する
ことができる。
According to the structure of the magnetic head as described above, the reaction between the nitrogen-containing magnetic thin film and the fused glass can be suppressed without providing a thick reaction preventive film between the fused glass and the magnetic thin film.

【0019】また、上記第1の金属薄膜の被着後、一旦
磁気コア半体を加熱処理を施すことにより、溶着時にお
ける第1の金属薄膜と第2の金属薄膜間の拡散を防止
し、上記磁性薄膜と溶着ガラスとの反応の抑圧効果を更
に高めることができる。
Further, after the deposition of the first metal thin film, the magnetic core half body is once subjected to heat treatment to prevent diffusion between the first metal thin film and the second metal thin film during welding, The effect of suppressing the reaction between the magnetic thin film and the fused glass can be further enhanced.

【0020】[0020]

【実施例】図1は本発明の一実施例の磁気ヘッドを磁気
記録媒体摺動面から見た図であり、図2はその要部拡大
図である。
FIG. 1 is a view of a magnetic head according to an embodiment of the present invention as seen from a sliding surface of a magnetic recording medium, and FIG. 2 is an enlarged view of a main part thereof.

【0021】図中、8a,8bは夫々フェライトからな
る磁気コア半体であり、これらの夫々の端面には窒素を
含有するセンダスト薄膜9a,9bが被着されている。
そして、この窒素を含有するセンダスト薄膜9a,9b
上には、更に窒素を含有しないセンダスト薄膜10a,
10bが磁性保護膜として被着されている。
In the figure, 8a and 8b are magnetic core halves made of ferrite, respectively, and sendust thin films 9a and 9b containing nitrogen are deposited on the end faces of these magnetic core halves.
Then, the sendust thin films 9a and 9b containing nitrogen.
Above the sendust thin film 10a containing no nitrogen,
10b is deposited as a magnetic protective film.

【0022】11a,11bは反応防止膜であり、その
厚みは100Å程度である。12a,12bは夫々溶着
ガラスであり、反応防止膜11a,11bはこの溶着ガ
ラス12a,12bと窒素を含有しないセンダスト薄膜
10a,10bとの間に介在することになる。
Reference numerals 11a and 11b are reaction preventing films having a thickness of about 100Å. 12a and 12b are welded glasses, respectively, and the reaction preventive films 11a and 11b are interposed between the welded glasses 12a and 12b and the sendust thin films 10a and 10b containing no nitrogen.

【0023】本実施例の磁気ヘッドにおいて、保護用磁
性薄膜10a,10bの厚みは100Å以上1μm以下
としている。この理由を以下に説明する。
In the magnetic head of this embodiment, the thickness of the protective magnetic thin films 10a and 10b is 100 Å or more and 1 μm or less. The reason for this will be described below.

【0024】即ち、保護用磁性薄膜10a,10bの厚
みが100Åとなると、ガラス溶着の際の温度500℃
〜600℃によって第1層目の窒素を含有するセンダス
ト薄膜9a,9bと、第2層目の窒素を含有しない保護
用センダスト薄膜10a,10との間に拡散が生じ、N
2 が保護用磁性薄膜10a,10bにも移動し、磁気記
録媒体摺動面に前述のような大きなガラス気泡が生じて
しまう可能性が高くなる。
That is, when the thickness of the protective magnetic thin films 10a and 10b is 100Å, the temperature at the time of glass welding is 500 ° C.
At about 600 ° C., diffusion occurs between the first layer of nitrogen-containing sendust thin films 9a and 9b and the second layer of nitrogen-free protective sendust thin films 10a and 10;
2 also moves to the protective magnetic thin films 10a and 10b, which increases the possibility that large glass bubbles as described above are generated on the sliding surface of the magnetic recording medium.

【0025】また、一方、保護用磁性薄膜10a,10
bの厚みが1μm以上となってしまうと、下記の如き問
題が残る可能性がある。
On the other hand, the protective magnetic thin films 10a, 10
If the thickness of b is 1 μm or more, the following problems may remain.

【0026】即ち、1つには、高周波域の特性向上のた
めに用いられている窒素を含有するセンダスト膜の特性
が磁気ヘッド自体の特性として充分に引き出せない点で
ある。
That is, one is that the characteristics of the sendust film containing nitrogen, which is used for improving the characteristics in the high frequency range, cannot be sufficiently extracted as the characteristics of the magnetic head itself.

【0027】また、窒素を含有するセンダスト膜9a,
9bの硬さは900〜1000(HV )程度であり、窒
素を含有しないセンダスト膜10a,10bの硬さは5
00〜700(HV )程度であり、窒素を含有しないセ
ンダスト膜の厚みが1μm以上となってしまうと、両層
の間で段差が発生し、磁気記録媒体を損傷する原因とな
る可能性がある。尚、窒素を含有しないセンダスト膜の
厚みが1μm以下の場合、窒素を含有するセンダスト膜
9a,9bによってささえられ、段差は殆どなくなるこ
とが確認されている。
Further, a sendust film 9a containing nitrogen,
The hardness of 9b is about 900 to 1000 (H V ), and the hardness of the sendust films 10a and 10b containing no nitrogen is 5%.
00 to 700 (H V) is about the thickness of the sendust film not containing nitrogen becomes a more 1 [mu] m, level difference occurs between the two layers, it can cause damage to the magnetic recording medium is there. It has been confirmed that when the thickness of the sendust film containing no nitrogen is 1 μm or less, it is supported by the sendust films 9a and 9b containing nitrogen and the step is almost eliminated.

【0028】尚、反応防止膜11a,11bとしては前
述したCr23 膜やCr膜を用いている。
As the reaction preventing films 11a and 11b, the above-mentioned Cr 2 O 3 film or Cr film is used.

【0029】次に、上述した図1、図2に示す磁気ヘッ
ドの製造方法についてず3(A)〜(F)を用いて説明
する。
Next, a method of manufacturing the magnetic head shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIGS. 3 (A) to 3 (F).

【0030】まず、図3(A)に示す様にフェライト板
15に加工を施す。これは後工程において成膜すること
も考慮しつつ、トラック溝13及び巻線溝14を形成す
る工程である。
First, as shown in FIG. 3A, the ferrite plate 15 is processed. This is a step of forming the track groove 13 and the winding groove 14 in consideration of film formation in a later step.

【0031】次に、図3(B)に示す様に、第1層目の
磁性薄膜16として、Fe85wt%(重量パーセン
ト),Al4wt%,Si9wt%,N2 2wt%よりなる磁
性薄膜16を5μm被着させる。ここで、窒素を含有す
るセンダストについてはarに窒素を添加したガス内に
おいて反応性スパッタリングを行うことにより形成し
た。
Next, as shown in FIG. 3B, as the first magnetic thin film 16, a magnetic thin film 16 made of Fe 85 wt% (weight percent), Al 4 wt%, Si 9 wt%, N 2 2 wt% is 5 μm. Put on. Here, sendust containing nitrogen was formed by performing reactive sputtering in a gas obtained by adding nitrogen to ar.

【0032】この、スパッタリング直後においては、図
3(B)に示すピースは上記第1層目の磁性薄膜16側
に反り返る。即ち、−5〜−10×109 (dyn/cm2
もの大きな応力が生じている。このままでは、後の突き
合わせ工程においてギャップ長の精度が出ないため、応
力除去用のポストアニールを400℃〜450℃程度で
行う。
Immediately after the sputtering, the piece shown in FIG. 3 (B) is bent back toward the magnetic thin film 16 of the first layer. That is, -5 to -10 x 10 9 (dyn / cm 2 )
Very large stress is generated. If this is left as it is, the accuracy of the gap length cannot be obtained in the subsequent butting step, so post-annealing for stress relief is performed at about 400 ° C to 450 ° C.

【0033】この時の熱処理により、(110)の強度
が高くなり、配向性が増し、結晶子も大きくなる。この
様子を図4,図5に示す。図4は第1層目の磁性薄膜1
6のスパッタリング直後のX線回析結果、図5は上記4
00℃〜450℃の熱処理を2時間行った後のX線回析
結果を夫々示す。
By the heat treatment at this time, the strength of (110) is increased, the orientation is increased, and the crystallite is increased. This state is shown in FIGS. FIG. 4 shows the first-layer magnetic thin film 1.
6 X-ray diffraction result immediately after sputtering, FIG.
The results of X-ray diffraction after heat treatment at 00 ° C to 450 ° C for 2 hours are shown.

【0034】これは、図3(B)に示す工程で被着され
た第1層目の磁性薄膜16が、熱処理により再配列し、
原子レベルの移動が発生していることを示している。第
1層目の磁性薄膜16の成膜中に、N2 の添加をやめる
等して、窒素を含有しない磁性薄膜を第1層の磁性薄膜
上に成膜した場合においても、前述の様に応力除去の熱
処理や、ガラス溶着時において、膜内で原子レベルの移
動が活性化し、窒素を含有しない磁性薄膜にも窒素が拡
散する。
This is because the first-layer magnetic thin film 16 deposited in the step shown in FIG. 3B is rearranged by heat treatment,
This indicates that atomic level migration is occurring. Even when a magnetic thin film containing no nitrogen is formed on the magnetic thin film of the first layer by stopping addition of N 2 during the formation of the magnetic thin film 16 of the first layer, as described above. At the time of heat treatment for stress removal and glass welding, movement at the atomic level is activated in the film, and nitrogen diffuses into the magnetic thin film containing no nitrogen.

【0035】本実施例では、これに伴う気泡の発生によ
り、窒素を含有しない磁性薄膜を保護膜として設ける効
果が減退するのを防止するために、窒素を含有する第1
層目の磁性薄膜16の成膜後において、応力除去のため
の熱処理を一旦行い、膜内の原子の再配列を行った後、
第2層目の保護膜としての窒素を含有しない磁性薄膜1
7の被着を行う様にした。
In the present embodiment, in order to prevent the effect of providing the magnetic thin film containing no nitrogen as the protective film from being deteriorated due to the generation of bubbles accompanying this, the first nitrogen containing film is formed.
After forming the magnetic thin film 16 of the layer, after performing heat treatment for stress relief to rearrange the atoms in the film,
Nitrogen-free magnetic thin film 1 as second protective film
7 was applied.

【0036】ここで、上述の応力除去熱処理を400℃
〜450℃にて行うことにより、その後のガラス溶着温
度約550℃と温度が近いので、このガラス溶着時には
拡散が発生しにくい。図6は約550℃の熱処理を2時
間行った後のX線回析結果を示す。
Here, the above-mentioned stress relief heat treatment is performed at 400 ° C.
By performing the heating at ˜450 ° C., the temperature is close to the subsequent glass welding temperature of about 550 ° C., so that diffusion does not easily occur during this glass welding. FIG. 6 shows the X-ray diffraction result after heat treatment at about 550 ° C. for 2 hours.

【0037】図5,図6から明らかな様に、400℃〜
450℃による応力除去熱処理後の回析結果は、約55
0℃の熱処理を2時間行った後の回析結果とほぼ同様で
あり、原子配列が殆ど変化していないことがわかる。
As is apparent from FIGS. 5 and 6, 400.degree.
After the stress relief heat treatment at 450 ° C, the diffraction result is about 55
It is almost the same as the diffraction result after the heat treatment at 0 ° C. for 2 hours, and it can be seen that the atomic arrangement is hardly changed.

【0038】そして、上記400℃〜450℃による応
力除去熱処理後、図3(C)に示す様に保護膜としての
窒素を含有しない磁性薄膜17の被着を行い、図3
(D)に示す工程にて、磁気ギャップとなるギャップ材
及び上述した反応防止膜よりなる薄膜18をこの第2層
目の磁性薄膜17上に被着しする。
After the stress relieving heat treatment at 400 ° C. to 450 ° C., the nitrogen-free magnetic thin film 17 as a protective film is deposited as shown in FIG.
In the step shown in (D), a thin film 18 made of a gap material that serves as a magnetic gap and the above-described reaction preventive film is deposited on the second magnetic thin film 17.

【0039】そして、その後図3(E)に示す様に溶着
に都合の良い寸法に毎に切断し、図(F)に示す様に5
50℃で2時間かけて、低融点ガラス19で溶着し、更
に図3(F)のA,B線に沿って切断することにより図
1,図2に示した本実施例のヘッドを得る。
After that, as shown in FIG. 3 (E), each piece is cut into a size convenient for welding, and as shown in FIG.
The low melting point glass 19 is welded for 2 hours at 50 ° C., and the head is cut along the lines A and B of FIG. 3 (F) to obtain the head of this embodiment shown in FIGS.

【0040】尚、磁性膜16,17中にRuを若干、例
えば0.05wt%添加することにより、溶着ガラスとの
反応性がより少なくなり、本発明の効果を一層高めるこ
とができる。
By adding a small amount of Ru, for example, 0.05 wt% to the magnetic films 16 and 17, the reactivity with the fused glass is further reduced, and the effect of the present invention can be further enhanced.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上、説明した様に本発明の磁気ヘッド
によれば、磁気コアが主にフェライトよりなり磁気ギャ
ップ近傍部に高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を配した磁
気ヘッドにおいて、金属磁性薄膜を、フェライト側の第
1層が窒素を含み、前記溶着ガラス側の第2層が窒素を
含まない磁性材より構成することにより、溶着ガラスと
窒素を含む金属磁性薄膜との反応を充分に抑制し、且、
磁気記録特性に何らの悪影響をも与えない磁気ヘッドを
得ることができる。
As described above, according to the magnetic head of the present invention, in the magnetic head in which the magnetic core is mainly made of ferrite and the metal magnetic thin film having a high saturation magnetic flux density is arranged in the vicinity of the magnetic gap, By constituting the thin film from a magnetic material in which the first layer on the ferrite side contains nitrogen and the second layer on the fused glass side does not contain nitrogen, the reaction between the fused glass and the metallic magnetic thin film containing nitrogen is sufficiently performed. Suppress and
It is possible to obtain a magnetic head that does not adversely affect the magnetic recording characteristics.

【0042】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法によ
れば、第1の金属薄膜の被着された磁気コア半体を加熱
処理し、該加熱処理後に窒素を含まない第2の金属磁性
薄膜を前記第1の金属磁性薄膜上に被着することによ
り、溶着時における第1の金属薄膜と第2の金属薄膜間
の拡散を防止し、上記磁性薄膜と溶着ガラスとの反応の
抑圧効果を更に高めることができる。
Further, according to the method of manufacturing a magnetic head of the present invention, the magnetic core half having the first metal thin film adhered thereto is heat-treated, and after the heat treatment, the second metal magnetic thin film containing no nitrogen. Is deposited on the first metal magnetic thin film to prevent diffusion between the first metal thin film and the second metal thin film during welding, and to suppress the reaction between the magnetic thin film and the fused glass. It can be further increased.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の磁気ヘッドを磁気記録媒体
摺動面から見た図である。
FIG. 1 is a diagram of a magnetic head according to an embodiment of the present invention as viewed from a sliding surface of a magnetic recording medium.

【図2】図1に示される磁気ヘッドの要部拡大図であ
る。
FIG. 2 is an enlarged view of a main part of the magnetic head shown in FIG.

【図3】図1及び図2に示される磁気ヘッドの製造工程
を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a manufacturing process of the magnetic head shown in FIGS. 1 and 2;

【図4】図3の製造工程中、第1層目の磁性薄膜のスパ
ッタリング直後のX線回析結果を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing an X-ray diffraction result immediately after sputtering of the magnetic thin film of the first layer in the manufacturing process of FIG. 3;

【図5】図3の製造工程中、400℃〜450℃の熱処
理を2時間行った後のX線回析結果を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an X-ray diffraction result after heat treatment at 400 ° C. to 450 ° C. for 2 hours in the manufacturing process of FIG.

【図6】図3の製造工程中、ガラス溶着のための550
℃の熱処理を2時間行った後のX線回析結果を示す図で
ある。
FIG. 6 is a schematic diagram of the 550 for glass welding during the manufacturing process of FIG.
It is a figure which shows the X-ray-diffraction result after heat-processing at 2 degreeC for 2 hours.

【図7】従来の磁気ヘッドの一構成例を示す斜視図であ
る。
FIG. 7 is a perspective view showing a configuration example of a conventional magnetic head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

8a,8b フェライトコアからなる磁気コア半体 9a,9b 窒素を含有するセンダスト薄膜(第1層) 10a,10b 窒素を含有しないセンダスト薄膜(第
2層) 11a,11b 反応防止膜 12a,12b 溶着ガラス 15 フェライト板 16 第1層目の金属磁性薄膜 17 第2層目の金属磁性薄膜 19 低融点(溶着)ガラス
8a, 8b Magnetic core half body composed of ferrite core 9a, 9b Sendust thin film containing nitrogen (first layer) 10a, 10b Sendust thin film containing no nitrogen (second layer) 11a, 11b Anti-reaction film 12a, 12b Welded glass 15 Ferrite Plate 16 First-Layer Metal Magnetic Thin Film 17 Second-Layer Metal Magnetic Thin Film 19 Low Melting Point (Fused) Glass

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フェライトよりなる一対の磁気コア半体
の少なくとも一方に金属磁性薄膜を被着し、溶着ガラス
により該一対の磁気コア半体を前記金属磁性薄膜及び磁
気ギャップを介して接合してなる磁気ヘッドであって、 前記金属磁性薄膜はフェライト側の第1層が窒素を含
み、前記溶着ガラス側の第2層が窒素を含まないことを
特徴とする有する磁気ヘッド。
1. A metal magnetic thin film is deposited on at least one of a pair of magnetic core halves made of ferrite, and the pair of magnetic core halves are bonded by means of fused glass via the metal magnetic thin film and a magnetic gap. The magnetic head according to claim 1, wherein the metal magnetic thin film has a ferrite-side first layer containing nitrogen and a fused glass-side second layer containing no nitrogen.
【請求項2】 前記金属磁性薄膜の第2層はFe−Al
−Siを主成分とする組成であることを特徴とする請求
項1の磁気ヘッド。
2. The second layer of the metal magnetic thin film is Fe--Al.
The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head has a composition containing -Si as a main component.
【請求項3】 前記金属磁性薄膜の第1層もまたFe−
Al−Siを主成分とする組成であることを特徴とする
請求項2の磁気ヘッド。
3. The first layer of the metallic magnetic thin film is also Fe--
The magnetic head according to claim 2, wherein the magnetic head has a composition containing Al-Si as a main component.
【請求項4】 前記金属磁性薄膜の第1層及び第2層に
は夫々Ruが添加されていることを特徴とする請求項3
の磁気ヘッド。
4. The Ru is added to each of the first layer and the second layer of the metal magnetic thin film.
Magnetic head.
【請求項5】 前記金属磁性薄膜の第1層の厚みが、1
00Å以上1μm以下であることを特徴とする請求項1
の磁気ヘッド。
5. The thickness of the first layer of the metal magnetic thin film is 1
2. The thickness is from 00Å to 1 μm.
Magnetic head.
【請求項6】 前記金属磁性薄膜と前記溶着ガラスと保
護膜が形成されており、前記保護膜の一部が前記磁気ギ
ャップを構成することを特徴とする請求項1の磁気ヘッ
ド。
6. The magnetic head according to claim 1, wherein the metal magnetic thin film, the fused glass, and a protective film are formed, and a part of the protective film constitutes the magnetic gap.
【請求項7】 フェライトよりなる一対の磁気コア半体
の少なくとも一方に窒素を含む第1の金属磁性薄膜を被
着し、 該第1の金属薄膜の被着された磁気コア半体を加熱処理
し、 該加熱処理後に窒素を含まない第2の金属磁性薄膜を、
前記第1の金属磁性薄膜上に被着し、 該第2の金属磁性薄膜の被着後、溶着ガラスにより該一
対の磁気コア半体を前記第1,第2の金属磁性薄膜及び
磁気ギャップを介して接合することを特徴とする磁気ヘ
ッドの製造方法。
7. A first metal magnetic thin film containing nitrogen is applied to at least one of a pair of magnetic core halves made of ferrite, and the magnetic core halves to which the first metal thin film is applied are heat-treated. The second metal magnetic thin film containing no nitrogen after the heat treatment is
After depositing on the first metal magnetic thin film, and then depositing the second metal magnetic thin film, the pair of magnetic core halves are attached to the first and second metal magnetic thin films and the magnetic gap by means of fused glass. A method of manufacturing a magnetic head, characterized in that the magnetic heads are bonded to each other.
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