JPH06195629A - Magnetic head and its production - Google Patents

Magnetic head and its production

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JPH06195629A
JPH06195629A JP34250192A JP34250192A JPH06195629A JP H06195629 A JPH06195629 A JP H06195629A JP 34250192 A JP34250192 A JP 34250192A JP 34250192 A JP34250192 A JP 34250192A JP H06195629 A JPH06195629 A JP H06195629A
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JP
Japan
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magnetic
thin film
film
metal
magnetic head
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Application number
JP34250192A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Kawakami
良男 川上
Michio Yanagi
道男 柳
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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Priority to JP34250192A priority Critical patent/JPH06195629A/en
Publication of JPH06195629A publication Critical patent/JPH06195629A/en
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Abstract

PURPOSE:To relatively easily produce a magnetic head having satisfactory magnetic characteristics in a high frequency band, well inhibiting the reaction of melt bonding glass with metallic magnetic thin films and the generation of stress and exerting no harmful influence on magnetic recording characteristics. CONSTITUTION:Thin films based on Fe-Al-Si and contg. N2 and Ru are used as metallic magnetic thin films 14a, 14b having high saturation magnetic flux density formed near a magnetic gap. A two-layered structure consisting of a Cr2O3, film 18a (18b) and an SiO2 film 19a (19b) is imparted to nonmagnetic thin films constituting the magnetic gap and the nonmagnetic thin films are allowed to also act as films preventing the reaction of melt bonding glass 6 with the metallic magnetic thin films 14a, 14b.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体に対して
磁気コアを摺動させて磁気記録または再生を行う磁気ヘ
ツドに関し、特に磁気コアが主にフェライトよりなり、
磁気ギャップ近傍部に高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を
配した磁気ヘッド及びその製造方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic head for performing magnetic recording or reproduction by sliding a magnetic core on a magnetic recording medium, and in particular, the magnetic core is mainly made of ferrite,
The present invention relates to a magnetic head in which a metal magnetic thin film having a high saturation magnetic flux density is arranged in the vicinity of a magnetic gap, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年VTR(ビデオテープレコーダ)や
DAT(デジタルオーデイオテープレコーダ)等の機器
においては、磁気記録の高密度化を図るために抗磁力の
高い磁気記録媒体を用いる様になり、これに伴い磁気ヘ
ッドとしては、主にフェライトから形成された磁気コア
の磁気ギャップに面する突き合わせ面にセンダトやアモ
ルファスなどの高飽和磁束密度の磁性薄膜を、真空薄膜
形成法により成膜、被着した磁気ヘッド、所謂MIG
(メタル・イン・ギャップ)ヘッドが用いられる様にな
ってきた。
2. Description of the Related Art In recent years, in devices such as VTRs (video tape recorders) and DATs (digital audio tape recorders), magnetic recording media having high coercive force have been used in order to increase the density of magnetic recording. As a result, as a magnetic head, a magnetic thin film of high saturation magnetic flux density such as sender or amorphous was formed and deposited by a vacuum thin film forming method on the abutting surface facing the magnetic gap of a magnetic core formed mainly of ferrite. Magnetic head, so-called MIG
(Metal in gap) heads have come to be used.

【0003】図9は、この種のMIGヘッドの構成例を
示す図であり、図中1a.1bは夫々フェライトからな
る磁気コア半体、3は巻線窓、4a,4bは夫々センダ
スト薄膜、5は巻線溝、6は溶着ガラス、7は磁気記録
媒体摺動面、gは磁気ギャップである。
FIG. 9 is a diagram showing an example of the structure of this type of MIG head. 1b is a magnetic core half made of ferrite, 3 is a winding window, 4a and 4b are sendust thin films, 5 is a winding groove, 6 is welding glass, 7 is a magnetic recording medium sliding surface, and g is a magnetic gap. is there.

【0004】図10は図9のMIGヘッドの要部を拡大
した図面であり、図10(B)は図9のヘッドの磁気記
録媒体摺動面7の磁気ギャップ近傍を示し、図10
(A)は図10(B)のAの部分の拡大図である。
FIG. 10 is an enlarged view of the main part of the MIG head of FIG. 9, and FIG. 10B shows the vicinity of the magnetic gap of the magnetic recording medium sliding surface 7 of the head of FIG.
FIG. 10A is an enlarged view of a portion A in FIG.

【0005】図中8a,8bはセンダスト薄膜4a,4
bと溶着ガラス6との反応を防止する保護膜、9a,9
bは磁気ギャップとなる非磁性薄膜(ギャップ薄膜)で
ある。図示の如く、保護膜8a,8bはセンダスト薄膜
4a,4bと溶着ガラス6との境界のみに存在し、磁気
ギャップ部gには存在していない。
In the figure, 8a and 8b are sendust thin films 4a and 4
b, a protective film for preventing the reaction between the fused glass 6 and 9a, 9
Reference numeral b is a non-magnetic thin film (gap thin film) that serves as a magnetic gap. As shown in the figure, the protective films 8a and 8b are present only at the boundaries between the sendust thin films 4a and 4b and the fused glass 6, and are not present at the magnetic gap portion g.

【0006】この理由は、磁気ギャップの幅(ギャップ
長)とは無関係に保護膜8a,8bの厚みを決定できる
からである。
The reason for this is that the thickness of the protective films 8a and 8b can be determined independently of the width of the magnetic gap (gap length).

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
如き構成の磁気ヘッドにおいては、以下の様な問題があ
る。
However, the magnetic head having the above-mentioned structure has the following problems.

【0008】まず、上述の如き構成とすることによっ
て、トラック幅の精度が保てない。なぜなら、磁気ギャ
ップ部gから保護膜8a,8bを取り除く場合、この磁
気ギャップ形成面上をラップ加工することになるが、こ
のラップ加工の精度が一般に悪い。その理由はラップ加
工の場合には、一般にフェライト平板を用い、複数のヘ
ッドに対して同時に加工を行うが、これに伴いヘッド間
でその加工量が異なることになり、磁気ギャップと垂直
方向への精度が悪くなり、保護膜8a,8bは一般に磁
気ギャップと垂直に配されているのではないので、上記
加工量のばらつきが、そのままトラック幅のばらつきと
なってしまうからである。
First, with the above-mentioned structure, the accuracy of the track width cannot be maintained. This is because when removing the protective films 8a and 8b from the magnetic gap portion g, the lapping process is performed on the magnetic gap forming surface, but the precision of the lapping process is generally poor. The reason for this is that in the case of lapping, generally, a ferrite flat plate is used and processing is performed on a plurality of heads at the same time. This is because the precision is deteriorated and the protective films 8a and 8b are not generally arranged perpendicular to the magnetic gap, so that the variation in the processing amount directly leads to the variation in the track width.

【0009】また、その製造工程についてもかなり複雑
なものとなってしまう。即ち、保護膜8a,8bを形
成、被着した後、ギャップ薄膜9a,9bが形成、被着
されるまでの間に、上述のギャップ形成面のラップ工程
が必要となる。このことは、単に1つのラップ工程が加
わるということに留らず、スパッタリング等による2つ
の薄膜形成工程間に機械工程が入ることにより、被着面
の洗浄や前処理等の工程が余分に必要となり、かなり工
程数が増加してしまうことになる。
Further, the manufacturing process thereof becomes quite complicated. That is, after the protective films 8a and 8b are formed and deposited, the gap forming surface wrapping process described above is required until the gap thin films 9a and 9b are formed and deposited. This means not only that one lapping step is added, but an additional step such as cleaning of the adherend surface and pretreatment is required because a mechanical step is inserted between two thin film forming steps such as sputtering. Therefore, the number of processes will increase considerably.

【0010】一方、近年磁気ヘッドの今日トラックか及
び磁気記録の短波長化が図られる中で、MIGヘッドに
おいても特にその高周波域の磁気特性を向上させるた
め、上述の磁性薄膜として窒素を含む磁性薄膜を用いる
ことが提案されている。例えば、Fe−Al−Si膜に
2 を添加することにより、膜内に一軸誘導磁気異方性
がつき、高周波特性を改善できるものである。窒素を磁
性薄膜中に含ませる手法としては、磁性薄膜の生成時に
おけるスパッタガスをアルゴン(Ar)と窒素(N)と
を含むガスとし、反応性スパッタリング法により形成す
ることが一般的である。
On the other hand, in recent years, as the magnetic head is being tracked and the wavelength of magnetic recording is being shortened, in the MIG head as well, in order to improve the magnetic characteristics especially in the high frequency region, the magnetic thin film containing nitrogen is used as the magnetic thin film. It has been proposed to use thin films. For example, by adding N 2 to the Fe-Al-Si film, it sticks uniaxial induced magnetic anisotropy in the film, but can improve the high frequency characteristics. As a method of including nitrogen in the magnetic thin film, it is common to use a sputtering gas at the time of forming the magnetic thin film as a gas containing argon (Ar) and nitrogen (N), and to form by a reactive sputtering method.

【0011】ところが、窒素入り薄膜を用いた場合、以
下の如き問題が生じる。
However, when the nitrogen-containing thin film is used, the following problems occur.

【0012】まず、第1にはスパッタリング等により成
膜された膜の応力が高く、フェライト基板がそり返るこ
とである。これは、ArガスにN2 を少量入れ反応性ス
パッタで行うため一般的に知られていることである。一
例として、7mmTorrで100SCCM(Standard Cubic
Centimeters per Minute )Arガス中でN2 ガスを5
%添加して、基板温度200℃で行った場合、−10×
109 (dyn/cm2 )の大きな圧縮応力を発生し、フェラ
イト基板がそり返ってしまう。
First, the stress of a film formed by sputtering or the like is high, and the ferrite substrate is warped. This is generally known because a small amount of N 2 is put in Ar gas and reactive sputtering is performed. As an example, 100 SCCM (Standard Cubic at 7 mm Torr
Centimeters per Minute) 5 N 2 gas in Ar gas
%, And when the substrate temperature is 200 ° C., −10 ×
A large compressive stress of 10 9 (dyn / cm 2 ) is generated, and the ferrite substrate is warped.

【0013】そのため、特にギャップ形成面の突き合わ
せ直後においてギャップ寸法の狂いが生じてしまった
り、磁気特性の劣化が生じたりして、大きな問題とな
る。
For this reason, the gap dimension is distorted or the magnetic characteristics are deteriorated immediately after the gap formation surfaces are butted, which is a serious problem.

【0014】また、第2には窒素入り磁性薄膜は溶着ガ
ラスとの反応が激しく、特に、Fe−Al−Si系セン
ダスト薄膜の場合、N2 を添加することにより、反応性
が急激に激しくなり、気泡を生じてしまう。
Secondly, the nitrogen-containing magnetic thin film has a strong reaction with the fused glass. Especially, in the case of the Fe-Al-Si-based sendust thin film, the addition of N 2 causes the reactivity to rapidly increase. , Will cause bubbles.

【0015】この気泡が磁気記録媒体と摺接する部分に
も発生し、磁気記録媒体を傷つけたり、磁性分の剥離に
ともない磁気ヘッドの多くの磁性分が付着し、ドロップ
アウト等の原因となっていた。これらの原因により、一
般に窒素入りの金属磁性薄膜を用いるMIGヘッドにお
いては、不良率が高くなっていた。
The bubbles are also generated in a portion which is in sliding contact with the magnetic recording medium, which damages the magnetic recording medium and causes a large amount of magnetic components of the magnetic head to adhere due to the separation of the magnetic components, which causes dropout and the like. It was Due to these causes, the defect rate is generally high in the MIG head using the nitrogen-containing metal magnetic thin film.

【0016】これを防止するため、上述の如き保護膜を
厚く形成することが考えられるが、保護膜として最適な
Cr23 やCr膜は磁気記録媒体に対する耐摩耗性が
非常に良く、溶着ガラスやギャップ材のSiO2 膜に比
し摩耗しないため、磁気記録媒体摺動面において凸部と
なってしまう。そのため、この凸部により磁気記録媒体
を傷つけてしまうことがある。
In order to prevent this, it is conceivable to form a thick protective film as described above, but Cr 2 O 3 and Cr films, which are optimal as protective films, have very good wear resistance to the magnetic recording medium, and are not welded. Since it does not wear as compared with the glass or the SiO 2 film of the gap material, it becomes a convex portion on the sliding surface of the magnetic recording medium. Therefore, the protrusion may damage the magnetic recording medium.

【0017】本発明は上述の如き背景下において、製造
工程が比較的簡単で、高周波域における磁気特性が良好
で、且、溶着ガラスと金属磁性薄膜との反応や応力の発
生を充分に抑制し、且、磁気記録特性に何らの悪影響を
も与えない磁気ヘッド、及び、その製造方法を提示する
ことを目的とする。
Under the above background, the present invention has a relatively simple manufacturing process, has good magnetic properties in a high frequency range, and sufficiently suppresses the reaction between the fused glass and the metal magnetic thin film and the generation of stress. An object of the present invention is to provide a magnetic head that does not have any adverse effect on magnetic recording characteristics and a method for manufacturing the magnetic head.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】斯かる目的下において、
本発明の磁気ヘッドにおいては、フェライトよりなる一
対の磁気コア半体の少なくとも一方に金属磁性薄膜を被
着し、溶着ガラスにより該一対の磁気コア半体を金属磁
性薄膜及び磁気ギャップを介して接合してなる磁気ヘッ
ドにおいて、磁気ギャップを構成する非磁性薄膜が溶着
ガラスと金属磁性薄膜間に延び、溶着ガラスから金属磁
性薄膜を保護する保護膜としても作用し、金属磁性薄膜
がFe−Al−Siを主成分とし、N2 ,Ruが添加さ
れてなる構成としている。
[Means for Solving the Problems] Under such a purpose,
In the magnetic head of the present invention, at least one of the pair of magnetic core halves made of ferrite is coated with a metal magnetic thin film, and the pair of magnetic core halves are bonded together by a fused glass via the metal magnetic thin film and the magnetic gap. In the magnetic head thus formed, the non-magnetic thin film forming the magnetic gap extends between the fused glass and the metal magnetic thin film, and also acts as a protective film for protecting the metal magnetic thin film from the fused glass. The main component is Si, and N 2 and Ru are added.

【0019】また、本発明による磁気ヘッドの製造方法
においては、フェライトよりなる一対の磁気コア半体の
少なくとも一方に磁気ギャップ形成面を規定してトラッ
ク幅を定めるためのトラック溝を形成し、トラック溝の
形成された磁気コア半体の端面に対し、トラック溝内を
含み、Fe−Al−Siを主成分としN2 ,Ruが添加
されてなる金属磁性薄膜を被着し、磁気コア半体の金属
磁性薄膜が被着された端面に対し、磁気ギャップ形成面
及びトラック溝内を含む範囲に亙って磁気ギャップ材及
び金属磁性薄膜の保護材となる非磁性薄膜を被着し、非
磁性薄膜の被着後、溶着ガラスにより一対の磁気コア半
体を金属磁性薄膜及び非磁性薄膜を介して接合する。
In the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a track groove for defining a track width by defining a magnetic gap forming surface is formed on at least one of a pair of magnetic core halves made of ferrite. A metal magnetic thin film containing the inside of the track groove and containing Fe—Al—Si as a main component and added with N 2 and Ru is adhered to the end surface of the magnetic core half having the groove formed. The non-magnetic thin film, which serves as a protective material for the magnetic gap material and the metal magnetic thin film, is applied to the end surface on which the metal magnetic thin film is applied, over the range including the magnetic gap forming surface and the inside of the track groove. After the deposition of the thin film, a pair of magnetic core halves are bonded by means of fused glass via the metallic magnetic thin film and the non-magnetic thin film.

【0020】[0020]

【作用】上述の如き磁気ヘッドの構成によれば、Ruと
2 とを適宜添加することによりこれらを添加すること
による問題の発生を抑制し、且、夫々の利点を充分に享
受できる様になり、製造工程が比較的簡易で、且、高周
波域の磁気特性が良好とすることができながら、溶着ガ
ラスと金属磁性薄膜との反応や応力の発生を充分に抑制
できる。
According to the structure of the magnetic head as described above, by appropriately adding Ru and N 2, it is possible to suppress the occurrence of problems due to the addition of Ru and N 2 and to fully enjoy their respective advantages. Therefore, the manufacturing process is relatively simple and the magnetic characteristics in the high frequency range can be improved, while the reaction between the fused glass and the metal magnetic thin film and the generation of stress can be sufficiently suppressed.

【0021】[0021]

【実施例】図1(B)は本発明の一実施例の磁気ヘッド
要部を磁気記録媒体摺動面から見た図であり、図1
(A)はその要部拡大図である。
1 (B) is a view of a main portion of a magnetic head according to an embodiment of the present invention as seen from a sliding surface of a magnetic recording medium.
(A) is an enlarged view of a main part thereof.

【0022】図中、1a,1bは夫々フェライトからな
る磁気コア半体であり、これらの夫々の端面にはN2
びRuを含有するセンダスト薄膜14a,14bが被着
されている。そして、このN2 及びRuを含有するセン
ダスト薄膜14a,14b上には、保護膜としてのCr
23 膜18a,18bが被着されている。
In the figure, 1a and 1b are magnetic core halves made of ferrite, and sendust thin films 14a and 14b containing N 2 and Ru are deposited on the end faces of these magnetic core halves. Then, Cr as a protective film is formed on the sendust thin films 14a and 14b containing N 2 and Ru.
2 O 3 films 18a and 18b are deposited.

【0023】ここで、このCr23 膜18a,18b
は溶着ガラス6に対するセンダスト薄膜14a,14b
の反応を防止する保護膜として作用すると共に、磁気ギ
ャップ材としてギャップ部gのギャップ形成面上にもに
も被着される。更に、19a,19bは磁気ギャップ材
としてのSiO2 膜であり、Cr23 膜18a,18
b上に堆積されている。
Here, the Cr 2 O 3 films 18a and 18b are formed.
Is the sendust thin films 14a and 14b for the welded glass 6.
It acts as a protective film for preventing the reaction of 1) and is also deposited on the gap forming surface of the gap part g as a magnetic gap material. Further, 19a and 19b are SiO 2 films as magnetic gap materials, and Cr 2 O 3 films 18a and 18b
It is deposited on b.

【0024】図2(A)〜(F)は本発明の磁気ヘッド
の製造方法の一実施例を示し、本例は図1(A),
(B)に示す磁気ヘッドの製造方法である。
2A to 2F show an embodiment of a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention. This example is shown in FIGS.
It is a method of manufacturing the magnetic head shown in FIG.

【0025】まず、図2(A)に示す様に、Mn−Zn
フェライト板45に図示の如く巻線溝44及びトラック
溝43を精密平面研削盤により形成する。
First, as shown in FIG. 2A, Mn-Zn
As shown in the drawing, the winding groove 44 and the track groove 43 are formed on the ferrite plate 45 by a precision surface grinder.

【0026】次に、対向ターゲット型のスパッタリング
装置により、成膜後の組成がFe−Al−Si−Ru−
Nとなるように、Ar+N2 中での反応性スパッタリン
グを行ない、図2(B)に示す如くN2 及びRuを含有
するセンダスト薄膜46を被着した。
Next, the composition after the film formation is Fe--Al--Si--Ru--using a facing target type sputtering apparatus.
Reactive sputtering was performed in Ar + N 2 so as to obtain N, and a sendust thin film 46 containing N 2 and Ru was deposited as shown in FIG. 2B.

【0027】更に、図2(C)に示す如くこのセンダス
ト薄膜46上に磁気ギャップ材及び保護膜として作用す
るCr23 薄膜47を200Å被着し、次に、図2
(D)に示す様にCr23 薄膜47上に磁気ギャップ
材となるSiO2 膜を2800Å被着した。
Further, as shown in FIG. 2C, 200 Å of Cr 2 O 3 thin film 47 acting as a magnetic gap material and a protective film is deposited on this sendust thin film 46, and then, as shown in FIG.
As shown in (D), a SiO 2 film serving as a magnetic gap material was deposited on the Cr 2 O 3 thin film 47 by 2800Å.

【0028】そして、450°にて2時間の熱処理を施
し、後述の如く応力の緩和を図り、図2(D)に示す様
に磁気記録媒体摺動面側に膜切り溝49を形成した後、
ブロック全体を2つに切断する。
After heat treatment at 450 ° for 2 hours to relax the stress as described later, after forming a film kerf 49 on the sliding surface side of the magnetic recording medium as shown in FIG. 2D. ,
Cut the entire block in two.

【0029】この状態で、夫々をコア半体として図2
(F)に示す様に突き合わせ、低融点ガラス(PbO7
0wt%,SiO2 20wt%,B23 5wt%,ZnO5
wt%)50により550°前後で溶着し一体化した。
In this state, the respective core halves are used as shown in FIG.
Butt as shown in (F), low melting point glass (PbO7
0 wt%, SiO 2 20 wt%, B 2 O 3 5 wt%, ZnO 5
wt%) 50 and fused at around 550 ° to be integrated.

【0030】その後、図2(F)中のA,Bに示す破線
に沿って切断し、1つのヘッドコアチップを得る。ここ
で、1つのヘッドコアチップそのものの構成は外観上は
図9に示すものと同様である。
After that, the head core chip is obtained by cutting along the broken lines indicated by A and B in FIG. 2 (F). Here, the appearance of one head core chip itself is similar to that shown in FIG. 9 in appearance.

【0031】以下、本実施例の磁気ヘッドの詳細につい
て説明する。
The details of the magnetic head of this embodiment will be described below.

【0032】まず、本実施例の磁気ヘッドにおいてはセ
ンダスト薄膜14a,14bがN2を含有している。前
述した様に窒素入りの磁性薄膜を用いた場合に高周波域
における磁気特性の改善効果が得られるが、以下、これ
を具体的に説明する。
First, in the magnetic head of this embodiment, the sendust thin films 14a and 14b contain N 2 . As described above, when the nitrogen-containing magnetic thin film is used, the effect of improving the magnetic characteristics in the high frequency range can be obtained, which will be specifically described below.

【0033】表1は複数種の磁性膜を0.5インチ径の
フェライトと同じ線膨張係数(110×10-7)の非磁
性基板上に5μmの膜厚で形成した時の容易磁化方向と
これと90°異なる困難磁化方向についての6MHZのμ
e(透磁率)を示す。表1から明らかなように容易磁化
方向と困難磁化方向における透磁率の向上は、N2 を付
加することにより達成されている。
Table 1 shows the directions of easy magnetization when a plurality of types of magnetic films were formed with a film thickness of 5 μm on a non-magnetic substrate having the same linear expansion coefficient (110 × 10 −7 ) as a 0.5 inch diameter ferrite. μ of 6MH Z for this and 90 ° different hard magnetization directions
e (permeability) is shown. As is clear from Table 1, the improvement of the magnetic permeability in the easy magnetization direction and the hard magnetization direction is achieved by adding N 2 .

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】この理由については定かではないが、N2
の添加されたFe−Al−Si膜は後の熱処理の工程に
より、透磁率が大きく改善されることから推察すると、
スパッタリング直後のN2 入り膜の欠陥の多い磁性膜
が、ある方向に対して再結晶することにより配向性が増
し、一軸異方性が発生するものと考えられる。
The reason for this is not clear, but N 2
Inferring from the fact that the Fe-Al-Si film added with is greatly improved in magnetic permeability in the subsequent heat treatment step,
It is considered that the magnetic film with many defects in the N 2 -containing film immediately after sputtering is recrystallized in a certain direction to increase the orientation and generate uniaxial anisotropy.

【0036】図3は第1層目の磁性薄膜のスパッタリン
グ直後のX線回析結果、図4は上記550℃の熱処理を
2時間行った後のX線回析結果を夫々示す。これらの図
面から明らかなように熱処理後に(110)面の配向が
極端に強くなっていることが分かる。
FIG. 3 shows the X-ray diffraction results immediately after sputtering the first magnetic thin film, and FIG. 4 shows the X-ray diffraction results after the heat treatment at 550 ° C. for 2 hours. As can be seen from these drawings, the orientation of the (110) plane is extremely strong after the heat treatment.

【0037】さて、一方Fe−Al−Siのみの磁性膜
を用いたMIGヘッドの場合、VTRに搭載し、蒸着
(ME)テープに対してスチル再生を行なった場合、蒸
着テープの潤滑材の作用により腐食、摩耗を起こし、出
力の低下を招くことがある。特に潤滑材の中でF素系ア
セタール結合(−OCF2 O−)があるとき、この問題
が顕著であり、この理由として腐食反応がある。
On the other hand, in the case of the MIG head using the magnetic film of only Fe--Al--Si, when mounted on the VTR and still reproduction is performed on the vapor deposition (ME) tape, the action of the lubricant of the vapor deposition tape is obtained. May cause corrosion and wear, resulting in a reduction in output. Especially when there is a F Motokei acetal bond in the lubricant (-OCF 2 O-), this problem is remarkable, there is a corrosion reaction as this reason.

【0038】ところが、Fe−Al−Siに対して2at
%以上N2 を添加した場合には腐食摩耗は発生せず、出
力低下は発生しない。この原因は、Fe−Al−Siに
2を添加することで耐食性が向上したものと認められ
る。また、N2 が添加されることにより結晶粒界が微細
化することも一因と思われる。
However, 2 atm with respect to Fe-Al-Si
% Or more N 2 is added, no corrosive wear occurs and output reduction does not occur. It is considered that this is because the corrosion resistance is improved by adding N 2 to Fe-Al-Si. It is also considered that the addition of N 2 makes the grain boundaries finer.

【0039】なお、このような効果はFe−Al−Si
にRuを添加することによっても同様に得られ、Ruを
添加することによっても同様に耐食性が向上し蒸着テー
プに対してスチル再生を行なった場合にも出力の低下が
発生しない。Ruの場合には1at%以上添加した場合に
出力の低下が発生しないことが確認された。
Incidentally, such an effect is obtained by Fe--Al--Si.
The same can be obtained by adding Ru to Ru, and the corrosion resistance is also improved by adding Ru, and the output does not decrease even when still reproduction is performed on the vapor deposition tape. In the case of Ru, it was confirmed that the output did not decrease when 1 at% or more was added.

【0040】Ruを添加した理由としては、Fe系磁性
材料に耐食性金属、例えばCv,Ti,白金族等のを添
加する場合、これらの中で、Ruが磁束密度を低下させ
ないで耐食性効果が最も高い元素であるからである。ま
た、上述したMEテープの潤滑材として用いられるFイ
オンの存在が、上述した腐食原因の大きな要因となって
いることから、Fイオンに対して強いRuを用いてい
る。
The reason for adding Ru is that when a corrosion-resistant metal such as Cv, Ti, or platinum group metal is added to the Fe-based magnetic material, Ru has the highest corrosion resistance effect without decreasing the magnetic flux density. This is because it is a high element. Further, since the existence of F ions used as a lubricant for the ME tape described above is a major factor of the above-mentioned corrosion, Ru that is strong against F ions is used.

【0041】一方、Ruを添加したFe−Al−Si膜
の磁気特性は、表1に示すように、ほとんどFe−Al
−Si膜と同一であるか、やや劣化し、一軸異方性もつ
けることができない。但し、Fe−Al−Si−Ru膜
の場合には、ヘッド製造工程上においてはRuを添加し
ないFe−Al−Si膜を用いた場合と全く変わりがな
く、磁性膜の応力変化やガラスとの反応性が高くなるこ
ともない。
On the other hand, as shown in Table 1, the magnetic characteristics of the Fe-Al-Si film containing Ru are almost the same as those of Fe-Al.
It is the same as the -Si film or deteriorates slightly, and uniaxial anisotropy cannot be applied. However, in the case of the Fe-Al-Si-Ru film, there is no difference in the head manufacturing process from the case of using the Fe-Al-Si film in which Ru is not added, and there is no change in the stress of the magnetic film or glass. The reactivity does not become high.

【0042】ところで、前述したようにFe−Al−S
i膜に対してN2 を添加すると溶着ガラスとの反応性が
高くなる。この原因としては、N2 が添加されたFe−
Al−Si膜の場合には、この膜中の最も窒素親和度の
高いAlと反応しているため、膜表面においてAl成分
の高い酸素と反応した緻密な不導体膜が形成されず、ガ
ラスとの反応性の高いFe1-xx などの不充分な不導
体膜のため、ガラスとの反応が激しくなっていることが
大きな要因であると推察される。
By the way, as described above, Fe-Al-S
Addition of N 2 to the i film increases the reactivity with the fused glass. The reason for this is that Fe- containing N 2 is added.
In the case of an Al-Si film, since it reacts with Al having the highest nitrogen affinity in this film, a dense non-conductive film that has reacted with oxygen with a high Al component is not formed on the film surface, It is presumed that a large factor is that the reaction with glass is intense due to an insufficient non - conductive film such as Fe 1-x O x having a high reactivity.

【0043】図5はFe−Al−Si膜の表面から深さ
方向に向かってのオージエ分析を示す図で、図6はFe
−Al−Si−N(8at%)膜の表面から深さ方向に向
かってのオージエ分析を示すである。これらの結果は、
いずれもガラス溶着と同じ雰囲気と加熱条件にて処理し
た膜を用いたものである。
FIG. 5 is a diagram showing Auger analysis from the surface of the Fe--Al--Si film toward the depth direction, and FIG. 6 shows Fe.
8 is a diagram showing an Auger analysis from the surface of a -Al-Si-N (8 at%) film in the depth direction. These results are
In each case, a film processed under the same atmosphere and heating conditions as glass welding was used.

【0044】本実施例の磁気ヘッドの場合、特に、磁気
ギャップとして作用する膜を溶着ガラスとセンダスト膜
との反応防止膜としても用いているため、この反応防止
膜の厚さはそれほど厚くはできず、問題となる。
In the case of the magnetic head of this embodiment, since the film acting as the magnetic gap is also used as the reaction preventive film between the fused glass and the sendust film, the reaction preventive film cannot be made so thick. It becomes a problem.

【0045】そこで、本実施例の磁気ヘッドにおいて
は、この問題の1つの解決策として前述したようにFe
−Al−Si膜に対して窒素(N)とルテニウム(R
u)をそれぞれを添加することによる欠点が出ない程度
適量添加することにより、窒素添加にともない発生する
溶着ガラスとの反応を抑え込んでいる。
Therefore, in the magnetic head of the present embodiment, as described above as one solution to this problem, Fe is used.
-Al-Si film with respect to nitrogen (N) and ruthenium (R
By adding u) in an appropriate amount so as not to cause a defect due to the addition of each of them, the reaction with the fused glass which occurs with the addition of nitrogen is suppressed.

【0046】この溶着ガラスとの反応性については、N
の添加量を6at%以内とすることによって、反応性を抑
えることができ、Nの添加量は少ない程よい。特に、R
uを0.05at%以上添加した場合には反応性はより低
下する。これはガラスと反応しにくいRuを添加するこ
とでより効果が上がっているものと考えられる。Ruの
添加量が多ければ大きいほど、この反応性が低下するの
は言うまでもない。
Regarding the reactivity with this fused glass, N
The reactivity can be suppressed by setting the addition amount of N to be 6 at% or less, and the smaller the addition amount of N is, the better. In particular, R
When u is added in an amount of 0.05 at% or more, the reactivity becomes lower. It is considered that this is because the effect is further improved by adding Ru, which does not easily react with glass. It goes without saying that the greater the amount of Ru added, the lower the reactivity.

【0047】また、本実施例の磁気ヘッドにおいては反
応防止膜と磁気ギャップ材として作用する膜の構造をC
23 膜とSiO2 膜との2重構造とした。溶着ガラ
スとの反応防止の観点からすると、Cr23 膜は非常
に有効であるが、1000Å以上の厚みがあると磁気ギ
ャップが磁気記録媒体走行後においてもりあがり、スペ
ーシングロスやバインダの付着等が発生する原因とな
る。
In the magnetic head of this embodiment, the structure of the reaction preventing film and the film acting as the magnetic gap material is C
It has a double structure of an r 2 O 3 film and a SiO 2 film. The Cr 2 O 3 film is very effective from the viewpoint of preventing the reaction with the fused glass, but if it has a thickness of 1000 Å or more, the magnetic gap rises after running on the magnetic recording medium, spacing loss, binder adhesion, etc. Will be caused.

【0048】また、このCr23 膜の厚みを100Å
未満としたのでは膜質が悪く、前述の反応防止膜として
の役目を果たすことができない。そこで、本実施例の磁
気ヘッドにおいてはCr23 膜を100〜1000Å
とし、残りの部分をSiO2膜としている。SiO2
は溶着ガラスやフェライトと同様な摩耗特性を有してい
る。
The thickness of this Cr 2 O 3 film is 100Å
If the amount is less than the above, the film quality is poor and the above-mentioned reaction preventing film cannot be fulfilled. Therefore, in the magnetic head of this embodiment, the Cr 2 O 3 film is 100 to 1000 Å.
And the remaining portion is a SiO 2 film. The SiO 2 film has the same wear characteristics as fused glass and ferrite.

【0049】本実施例においては、添加する窒素の量と
しては、ガラスとの反応性を考慮して1〜8at%の範囲
とした。この範囲でも、一軸異方性は問題なく発生し高
周波特性の改善が計れる。特に、その添加量の最適値は
4at%である。図7はFe−Al−Si−Ru−N膜に
おいてRuの添加量を2at%とし、Nの添加量xat%を
変化させた場合の容易磁化方向と困難磁化方向における
6MHZの透磁率を示している。これはX線回析の調査で
も裏付けがなされており、Nの添加量としては4at%が
最も(110)配向度が高く、なおかつ、ピーク値が高
かった。図7から明らかなようにNの添加量としては3
〜6at%であれば非常に高周波特性が改善されることが
分かる。
In this example, the amount of nitrogen added was in the range of 1 to 8 at% in consideration of the reactivity with glass. Even in this range, uniaxial anisotropy can be generated without any problem, and high frequency characteristics can be improved. Particularly, the optimum value of the added amount is 4 at%. Figure 7 is a 2at% the amount of Ru in the Fe-Al-Si-Ru- N film, shows the permeability of 6MH Z in direction of easy magnetization and hard magnetization direction in the case of changing the addition amount xat% of N ing. This has been confirmed by the examination of X-ray diffraction, and when the amount of N added is 4 at%, the degree of (110) orientation is the highest, and the peak value is also high. As is clear from FIG. 7, the amount of N added is 3
It can be seen that the high frequency characteristics are significantly improved when the content is up to 6 at%.

【0050】次に、今度はNの添加量を4at%に固定し
て、Ruの添加量yat%を変化させた場合の容易磁化方
向と困難磁化方向における6MHZの透磁率を図8に示
す。図から明らかなようにRuの添加量を増すと、4at
%位までは、殆ど磁気特性は変化しない。詳細には2at
%程度の添加量が最も磁気特性がよく、5at%を越える
と磁気特性が劣化し、この5at%が境界値であることが
わかる。
Next, this time by fixing the amount of N to 4at%, Figure 8 shows the permeability of 6MH Z in direction of easy magnetization and hard magnetization direction in the case of changing the addition amount yat% of Ru . As is clear from the figure, when the amount of Ru added is increased, 4 at
The magnetic characteristics hardly change up to about%. 2at for details
%, The magnetic property is the best, and if it exceeds 5 at%, the magnetic property deteriorates, and it is understood that this 5 at% is the boundary value.

【0051】他方、Fe−Al−Si−Ru−N膜にお
いてRuの添加量を2at%とし、Nの添加量を4at%と
した場合の成膜時の応力は−4×10-9(dyn/m2)であ
り、Fe−Al−Si膜に比べて大幅に少なくなり、そ
の後450°で2時間のポストアニールを施すことによ
り応力をほぼ0とすることができた。これはRuを2at
%添加することにより線膨張係数がRuを添加しないと
きに比べて20×10-7/deg下がったため、下地のフェ
ライトの線膨張係数に近づかせることができたためであ
る。尚、Ruを更に添加することによりこの効果は更に
大きくなる。
On the other hand, in the Fe-Al-Si-Ru-N film, when the amount of Ru added is 2 at% and the amount of N added is 4 at%, the stress during film formation is -4 × 10 -9 (dyn). / m 2 ), which is much smaller than that of the Fe-Al-Si film, and the stress can be made almost zero by performing post-annealing at 450 ° for 2 hours. This is Ru at 2 at
%, The coefficient of linear expansion decreased by 20 × 10 −7 / deg compared to the case of not adding Ru, and it was possible to bring the coefficient of linear expansion close to that of the underlying ferrite. This effect is further enhanced by further adding Ru.

【0052】なお、参考までにFe−Al−Si−N
(4at%)膜の線膨張係数は170×10-7/degであ
り、Fe−Al−Si−Ru(2at%)−N(4at%)
膜の線膨張係数は120×10-7/degである。
For reference, Fe-Al-Si-N is used.
The linear expansion coefficient of the (4 at%) film is 170 × 10 −7 / deg, and Fe—Al—Si—Ru (2 at%)-N (4 at%).
The linear expansion coefficient of the film is 120 × 10 −7 / deg.

【0053】また、上述した蒸着テープから静止画再生
をする際においても、Fe−Al−Si−Ru(yat
%)−N(xat%)膜を用いた場合において、xが1
(at%)以上、Yが 0.05(at%)以上であれば、
蒸着テープの潤滑材との反応による腐食、摩耗は発生し
ない。好ましくはxが1(at%)以上、Yも1(at%)
以上であることが望ましい。この腐食摩耗についてはx
もyも高い程発生しにくくなる。
Further, even when a still image is reproduced from the above vapor deposition tape, Fe--Al--Si--Ru (yat
%)-N (xat%) film, x is 1
If (at%) or more and Y is 0.05 (at%) or more,
Corrosion and wear due to the reaction of the vapor deposition tape with the lubricant do not occur. Preferably x is 1 (at%) or more and Y is also 1 (at%)
The above is desirable. X for this corrosive wear
The higher both y and y, the less likely it is to occur.

【0054】本件出願の発明の磁気ヘッドにおいては上
述のごとき様々な要因に鑑みて、磁性膜の成分をFe−
Al−Siを主成分とし、N2 ,Ruが添加されてなる
ものとした。更に、少なくともNが1at%〜8at
%、Ruが0.05at%〜5at%とすることで非常
に大きな効果が得られ、理想的にはNが3at%〜6a
t%、Ruが1at%〜4at%とする。
In the magnetic head of the invention of the present application, in view of various factors as described above, the component of the magnetic film is Fe--
The Al-Si as the main component, was assumed to N 2, Ru is added. Furthermore, at least N is 1 at% to 8 at
%, And Ru at 0.05 at% to 5 at%, a very large effect can be obtained. Ideally, N is 3 at% to 6 a.
t% and Ru are 1 at% to 4 at%.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上、説明した様に本発明の磁気ヘッド
によれば、磁気コアが主にフェライトよりなり磁気ギャ
ップ近傍部に高飽和磁束密度の金属磁性薄膜を配した磁
気ヘッドにおいて、磁気ギャップを構成する非磁性薄膜
が前記溶着ガラスと前記金属磁性薄膜間に延び、該溶着
ガラスから前記金属磁性薄膜を保護する保護膜としても
作用する構成とすることにより、製造工程の簡略化及び
トラック幅の高精度化がが図れる一方、金属磁性薄膜を
Fe−Al−Siを主成分とし、N2 ,Ruが添加され
たものとすることにより、高周波特性の改善や溶着ガラ
スと金属磁性薄膜との反応や応力の発生の抑制ができ、
偏摩耗や腐食等も発生しにくい理想的な磁気ヘッドを得
ることができる。
As described above, according to the magnetic head of the present invention, in the magnetic head in which the magnetic core is mainly made of ferrite and the metal magnetic thin film having a high saturation magnetic flux density is arranged in the vicinity of the magnetic gap, The non-magnetic thin film forming the structure extends between the fused glass and the metal magnetic thin film, and also acts as a protective film for protecting the metal magnetic thin film from the fused glass, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the track width. of while high accuracy is can be achieved, the thin magnetic metal film mainly composed of Fe-Al-Si, by shall N 2, Ru is added, the high-frequency characteristic improvement or welding glass and the metallic magnetic film The reaction and the generation of stress can be suppressed,
It is possible to obtain an ideal magnetic head in which uneven wear and corrosion are less likely to occur.

【0056】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法によ
れば、上述の如き磁気ヘッドを比較的簡単な工程で製造
することができた。
According to the method of manufacturing the magnetic head of the present invention, the magnetic head as described above can be manufactured by a relatively simple process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の磁気ヘッドを磁気記録媒体
摺動面から見た図、及びその要部の拡大図である。
FIG. 1 is a diagram of a magnetic head according to an embodiment of the present invention seen from a sliding surface of a magnetic recording medium, and an enlarged view of a main part thereof.

【図2】図1に示される磁気ヘッドの製造工程を示す図
である。
FIG. 2 is a diagram showing a manufacturing process of the magnetic head shown in FIG.

【図3】Fe−Al−Si−N膜のスパッタリング直後
のX線回析結果を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an X-ray diffraction result immediately after sputtering an Fe—Al—Si—N film.

【図4】Fe−Al−Si−N膜に対し550℃の熱処
理を2時間行った後のX線回析結果を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an X-ray diffraction result after heat treatment of a Fe—Al—Si—N film at 550 ° C. for 2 hours.

【図5】Fe−Al−Si膜の表面から深さ方向に向か
ってのオージエ分析を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing Auger analysis from the surface of the Fe—Al—Si film in the depth direction.

【図6】Fe−Al−Si−N(8at%)膜の表面から
深さ方向に向かってのオージエ分析を示すである。
FIG. 6 is a diagram showing an Auger analysis from the surface of the Fe—Al—Si—N (8 at%) film toward the depth direction.

【図7】Fe−Al−Si−Ru(2at%)−N膜のN
の添加量を変化させたときの磁気特性の変化を示す図で
ある。
FIG. 7 N of Fe-Al-Si-Ru (2at%)-N film
FIG. 6 is a diagram showing changes in magnetic characteristics when the addition amount of is changed.

【図8】Fe−Al−Si−Ru−N(4at%)膜のR
uの添加量を変化させたときの磁気特性の変化を示す図
である。
FIG. 8: R of Fe-Al-Si-Ru-N (4 at%) film
It is a figure which shows the change of a magnetic characteristic when changing the addition amount of u.

【図9】従来の磁気ヘッドの構成を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a configuration of a conventional magnetic head.

【図10】図9の磁気ヘッドを磁気記録媒体摺動面から
見た図、及びその要部の拡大図である。
FIG. 10 is a view of the magnetic head of FIG. 9 viewed from a sliding surface of a magnetic recording medium, and an enlarged view of a main part thereof.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1a,1b フェライトコアからなる磁気コア半体 6 溶着ガラス 14a,14b 窒素及びルテニウムを含有するセンダ
スト薄膜 18a,18b Cr23 膜 19a,19b SiO2 膜 12a,12b 溶着ガラス 45 フェライト板 46 窒素及びルテニウムを含有するセンダスト薄膜 47 Cr23 膜 48 SiO2 膜 50 低融点ガラス
1a, 1b Magnetic core half body composed of ferrite core 6 Welded glass 14a, 14b Sendust thin film containing nitrogen and ruthenium 18a, 18b Cr 2 O 3 film 19a, 19b SiO 2 film 12a, 12b Welded glass 45 Ferrite plate 46 Nitrogen and Sendust thin film containing ruthenium 47 Cr 2 O 3 film 48 SiO 2 film 50 Low melting point glass

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フェライトよりなる一対の磁気コア半体
の少なくとも一方に金属磁性薄膜を被着し、溶着ガラス
により該一対の磁気コア半体を前記金属磁性薄膜及び磁
気ギャップを介して接合してなる磁気ヘッドであって、 前記磁気ギャップを構成する非磁性薄膜が前記溶着ガラ
スと前記金属磁性薄膜間に延び、該溶着ガラスから前記
金属磁性薄膜を保護する保護膜としても作用し、 前記金属磁性薄膜がFe−Al−Siを主成分とし、N
2 ,Ruが添加されてなることを特徴とする磁気ヘッ
ド。
1. A metal magnetic thin film is deposited on at least one of a pair of magnetic core halves made of ferrite, and the pair of magnetic core halves are bonded by means of fused glass via the metal magnetic thin film and a magnetic gap. In the magnetic head, the non-magnetic thin film forming the magnetic gap extends between the fused glass and the metal magnetic thin film, and also acts as a protective film for protecting the metal magnetic thin film from the fused glass. The thin film contains Fe-Al-Si as a main component, and N
2. A magnetic head characterized by being added with Ru.
【請求項2】 前記非磁性薄膜がCr23 膜と、Si
2 膜との2層からなることを特徴とする請求項1の磁
気ヘッド。
2. The non-magnetic thin film comprises a Cr 2 O 3 film and Si.
The magnetic head according to claim 1, comprising two layers of an O 2 film.
【請求項3】 前記Cr23 膜は前記金属磁性薄膜側
に配され、その膜厚が100Å〜1000Åであること
を特徴とする請求項2の磁気ヘッド。
3. The magnetic head according to claim 2, wherein the Cr 2 O 3 film is arranged on the metal magnetic thin film side and has a film thickness of 100Å to 1000Å.
【請求項4】 前記金属磁性薄膜がFe−Al−Siを
主成分とし、Nが1at%〜8at%、Ruが0.05
at%〜5at%添加されてなることを特徴とする請求
項1の磁気ヘッド。
4. The metal magnetic thin film contains Fe—Al—Si as a main component, N is 1 at% to 8 at%, and Ru is 0.05.
The magnetic head according to claim 1, wherein the magnetic head is added at at% to 5 at%.
【請求項5】 前記金属磁性薄膜がFe−Al−Siを
主成分とし、Nが3at%〜6at%、Ruが1at%
〜4at%添加されてなることを特徴とする請求項4の
磁気ヘッド。
5. The metal magnetic thin film contains Fe—Al—Si as a main component, N is 3 at% to 6 at%, and Ru is 1 at%.
5. The magnetic head according to claim 4, wherein the magnetic head is added at 4 at%.
【請求項6】 フェライトよりなる一対の磁気コア半体
の少なくとも一方に磁気ギャップ形成面を規定してトラ
ック幅を定めるためのトラック溝を形成する工程と、 該トラック溝の形成された前記磁気コア半体の端面に対
し、該トラック溝内を含みFe−Al−Siを主成分と
し、N2 ,Ruが添加されてなる金属磁性薄膜を被着す
る工程と、 前記磁気コア半体の前記金属磁性薄膜が被着された端面
に対し、前記磁気ギャップ形成面及び該トラック溝内を
含む範囲に亙って磁気ギャップ材及び前記金属磁性薄膜
の保護材となる非磁性薄膜を被着する工程と、 前記非磁性薄膜の被着後、溶着ガラスにより前記一対の
磁気コア半体を前記金属磁性薄膜及び前記非磁性薄膜を
介して接合することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
法。
6. A step of forming a track groove for defining a track width by defining a magnetic gap forming surface on at least one of a pair of magnetic core halves made of ferrite, and the magnetic core having the track groove formed therein. Depositing a metal magnetic thin film containing Fe—Al—Si as a main component and containing N 2 and Ru added to the end face of the half body, and the metal of the magnetic core half body A step of applying a non-magnetic thin film, which serves as a protective material for the magnetic gap material and the metal magnetic thin film, to the end surface on which the magnetic thin film is applied, over a range including the magnetic gap forming surface and the track groove; A method of manufacturing a magnetic head, characterized in that, after the nonmagnetic thin film is deposited, the pair of magnetic core halves are bonded by means of fused glass via the metal magnetic thin film and the nonmagnetic thin film.
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