JPH05329402A

JPH05329402A - スプレーノズル

Info

Publication number: JPH05329402A
Application number: JP13526492A
Authority: JP
Inventors: Norio Onishi; 憲男大西; Katsunori Okimoto; 勝則沖本; Akimasa Kuramoto; 章正倉本; Koichi Ozawa; 宏一小澤; Tsuneo Kondo; 恒雄近藤; Mikio Suzuki; 幹雄鈴木; Taizo Sera; 泰三瀬良
Original assignee: H Ikeuchi and Co Ltd; NKK Corp; Nippon Kokan Ltd
Current assignee: H Ikeuchi and Co Ltd; JFE Engineering Corp
Priority date: 1992-05-27
Filing date: 1992-05-27
Publication date: 1993-12-14
Anticipated expiration: 2013-02-25
Also published as: JP2719073B2

Abstract

(57)【要約】【目的】スプレーノズルを並設して噴霧範囲をラップ
させた場合に、ラップ部の流量、打力をラップしていな
い部分と均等化し、かつ、噴霧流量を変えても噴霧パタ
ーンが変動しないようにする。【構成】ノズル本体の中心軸線に沿って気液混合液流路
となる主孔を設け、該主孔の円弧形状とした下孔部をノ
ズル本体の噴射側端面に近接して形成し、該噴射側端面
より直径方向の切り込みを上記下孔部と連通させて設け
て、中央部の巾が狭く左右外周側に向かって巾が広くな
ると共に左右両端を円弧状としたオリフィスを形成する
と共に、該オリフィスの左右両端に連続して外周側に向
かって巾の広がるガイド凹部を形成し、かつ、オリフィ
スの中央部の前後両側に、主孔に連通した副孔を設けて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、二流体式のスプレーノ
ズルに関し、連続鋳造装置の二次冷却帯における冷却ミ
スト噴射用として好適に使用されるもので、詳しくは、
鋳片に対して連続的に冷却ミストを噴射するために、ノ
ズルを所要間隔あけて設置して噴霧範囲がラップする場
合、噴霧流量を広範囲で制御しても、噴角変動を少なく
して、流量分布、打力分布および粒子径の均一化を図
り、よって、冷却ムラの発生を防止するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、連続鋳造装置の二次冷却帯におい
ては、冷却ミスト噴射用のスプレーノズルを鋳片引き抜
きロールの間に設置し、鋳片に対して連続的に冷却ミス
トを噴射している。上記スプレーノズルとしては、従来
一流体ノズルが用いられていたが、一流体ノズルでは局
部的な過冷却や未冷却による鋳片の表面割れやノズルの
目詰まりが発生しやすく、かつ、噴霧範囲が狭い等の問
題があった。そのため、一流体ノズルより流量分布等の
均一化を図ることが出来、よって、局部的な過冷却、未
冷却によるの鋳片の表面割れを減少し、歩留まり率の向
上が得られると共に、噴霧範囲の拡大で製造時間の短縮
を図ることが出来る二流体ノズルに切り換えられてい
る。

【０００３】上記した二流体ノズルとしては、例えば、
図１２(Ａ)(Ｂ)に示すように、ノズル本体１の中心軸線
に沿って気水混合液の流入路２を設け、該流入路２の漸
次縮小した先端部に対して頂面より左右方向(直径方向)
の切り欠きを入れて、左右方向に長く、中心部の巾Ｗ１
が狭く、左右両側部の中央部で巾Ｗ２が広くなり、左右
両端に向かって収険して左右両端には巾がなくなるオリ
フィス３を形成したノズルが提供されている。

【０００４】上記ノズルは、均一で微細な液滴を広い噴
霧範囲にわたって噴射することができ、その噴霧パター
ンは図１３に示すように、オリフィス３の形状を左右両
端に向かって収険させているため、ノズル直下より両側
に長い傾斜部を有する流量分布となっている。かつ、噴
霧流量を変化させた場合、噴射角度および流量分布が変
化する割合が大きい。即ち、図中、Ｉ→II→III→IV→
Ｖへの噴霧流量(液量Ｑｗ)の増加に伴い、ノズル直下の
中央部の液量が減少すると共に、流量が均一に分布され
る部分が減少し、かつ、両側へのスソ引き部分が長くな
っている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】連続鋳造装置の二次冷
却帯ではノズルを間隔をあけて設置し、噴霧範囲をラッ
プさせる必要がある。その場合、上記ノズルの流量分布
は両側スソ引き部分が長く、かつ、流量の増加に応じて
次第に広がるため、図１４に示すように、特に、ラップ
した部分の流量分布および打力分布が不均一になってい
る。

【０００６】尚、図１４の実験データは、対象物よりノ
ズル本体を１００mm上方に夫々設置し、かつ、ノズル本
体の間の距離は４２５mmにしている。また、噴霧条件は
下記の表１に示す通りに設定している。

【０００７】

【表１】Ｉ II III IV Ｖ空気圧 Pa:kg/cm² 3.20 3.25 3.32 3.36 3.91 液圧 Pw: 〃 0.29 0.50 1.00 2.00 4.00 空気量 Qa:Nm²/min 1.28 1.28 1.28 1.28 1.28 液量 Qw:l/min 7.40 13.1 23.7 43.8 68.0気水比 Qa/Qw 173 98 54 29 19

【０００８】図１４に示すように、例えば、噴霧流量が
最も少ないI段階では、ラップ部分Ｒの流量が少なく、
当該部分と対向する鋳片は未冷却となり、一方、噴霧流
量の最も大きいV段階ではラップ部分Ｒの流量が多くな
り、鋳片は過冷却となる。また、打力分布はラップ部分
Ｒが弱くなっている。

【０００９】上記流量分布および打力分布の不均一は、
割れ感受性の小さい材質からなる鋳片に対しては、±５
０％以下の差であれば、割れの発生を許容範囲内に抑え
ることができるが、割れ感受性の大きな材質からなる鋳
片に対しては、±２０％以下にする必要がある。噴霧の
対象物である鋼種の中には、低炭素含有材料(Ｃ：０.１
４〜０.２％、Ｎb,Ｖ,Ｃd,Ｎi)のようにオシュレーショ
ン割れ、コーナー割れ、表面割れ等の割れ感受性の強い
材料も多い。近時、連続鋳造装置では、多品種少量生
産、鋼種の拡大が図られているため、上記した流量分布
および打力分布における差は±２０％以下となるように
要請されている。

【００１０】さらに、鋳片寸法も巾が６００mm〜２１０
０mm、厚さ２００mm〜３００mmと従来に比べて対象範囲
が広がっている。それに応じて、噴霧流量の範囲を鋳片
寸法に応じて広い範囲で制御する必要がある。しかしな
がら、上記したように、従来の二流体ノズルでは噴霧流
量を変化させると、流量分布、打力分布および粒子径の
ムラが大きくなるため、流量制御範囲、所謂ターンダウ
ン比は１：１０の範囲以下とされている。

【００１１】しかし、上記ターンダウン比＝１：１０以
下でも、噴射角度等が変化して、図１３に示すように、
流量分布、打力分布に２０％以上の変動が生じて、鋳片
の割れが発生している。

【００１２】鋳片の割れが生じた場合、後工程の圧延工
程で補修されているが、製鋼工程で一度降温した鋼を、
圧延工程で再度昇温して圧延するため、エネルギーロス
が生じている。この点に関して、省エネルギーおよび省
力化のため、製鋼から圧延までの温度ロスのない一貫生
産ラインの技術、即ち、ＨＤＲ方式(ホット・ダイレク
ト・ローリング方式)の採用に対する要求が高まってい
る。

【００１３】上述したように、連続鋳造において、鋳片
の割れをなくして、製鋼工程での不良率を低減し、ＨＤ
Ｒ方式の採用を可能とし、しかも、多品種小量生産の要
請に対応するには、下記の性能を有するスプレーノズル
を提供する必要がある。ａ)製鋼工程での不良率の低減に対して、流量分布、打
力分布、粒径分布の変動率を２０％以下に抑えて、均等
な冷却を行う。ｂ)鋼種の拡大に対して、流量制御範囲(ターンダウン
比)を１：２０以上に広げても、上記流量分布、打力分
布および粒径分布の変動率を２０％以下に抑える。ｃ)鋼寸法の多様化に対して、噴霧距離が変化(５０〜４
００mm)しても噴霧パターンを安定化させる。

【００１４】本発明は、上記した点に鑑みてなされたも
ので、噴霧範囲がラップした部分とラップしていない部
分の流量、打力および粒子径の均等化を図り、しかも、
流量をターンダウン比＝１：２０以上の広い範囲で変動
しても、上記ラップ部分とラップしていな部分との流
量、打力および粒子径の変動率を２０％以下に抑えられ
るスプレーノズルを提供することを目的としている。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、スプレーノズルのオリフィス形状等を改
良し、その噴霧パターンが、両側のスソ引き部分が短い
台形状になり、かつ、この両側スソ引き部分の流量を合
算するとノズル直下の流量と略同一となり、しかも、流
量を変動しても、噴射角度の変動が少なく、噴霧パター
ンの両側のスソ引き部分の長さが長くならず、ラップ部
分とラップしていない部分との流量、打力および粒子径
を均一化させるものである。

【００１６】即ち、本発明は、ノズル本体の中心軸線に
沿って気液混合液流路となる主孔を設け、該主孔の先端
の円弧形状の下孔部をノズル本体の噴射側端面に近接し
て形成し、該噴射側端面より直径方向の切り込みを上記
下孔部と連通させて設けて、中央部の巾が狭く左右外周
側に向かって巾が広くなると共に左右両端を円弧状とし
たオリフィスを形成すると共に、該オリフィスの左右両
端に連続して外周側に向かって巾の広がるガイド凹部を
形成し、かつ、オリフィスの中央部の前後両側に、主孔
に連通した副孔を設けていることを特徴とするスプレー
ノズルを提供するものである。

【００１７】上記オリフィスの左右両端部の円弧は大き
な曲率としており、かつ、オリフィスの中央部の巾と左
右両側部の最大巾との差は従来より小さくなるように設
定している。

【００１８】また、上記ノズル本体の噴射側端面への切
り込みはテーパエンドミルを用いて左右方向よりノズル
本体の中心軸線に対して傾斜させて形成して、ガイド凹
部の底面は、オリフィスの左右両端に連続して噴射側端
面にむかって外周側へ広がる方向に傾斜させていると共
に、ガイド凹部の両側面を噴射側端面に向かって巾が広
がる方向に傾斜させている。

【００１９】

【作用】上記のように、オリフィスの形状を左右両端を
鋭角的に突出させずに、円弧形状としているため、噴霧
パターンを台形状にすることができ、均一分布部分の両
側のスソ部の長さが短くなる。よって、スソ部分が重な
って流量および打力の変動が発生しやすいラップ部分が
少なくなり、かつ、該ラップ部分の流量および打力をラ
ップしていない部分と均等とすることが可能となる。

【００２０】また、上記ガイド凹部の形状および副孔を
設けているため、低流量では噴射角度を広げる一方、高
流量では噴射角度を抑えることが出来、噴霧流量を変え
ても噴射角度の変動を抑えることが出来る。

【００２１】

【実施例】以下、本発明に係するスプレーノズルを図面
に示す実施例により詳細に説明する。図１に示すよう
に、ノズル本体１０は断面略小判状で、前後両側外面１
０ａは直線状で、左右両側外面１０ｂは円弧形状として
いる。ノズル本体１０の内部中心には軸線Ｌに沿って断
面真円形状の主孔１１を設け、該主孔１１の図中上端開
口は、気液混合液の配管(図示せず)と接続するようにし
ている。

【００２２】主孔１１は上端側よりノズル本体１０の上
下方向の中央部まで略同一径の大径孔部１２とし、その
内周面に上記配管との接続用雌ネジを形成している。上
記大径孔部１２より下側は若干小径とした小径孔部１３
を設け、該小径孔部１３の下側部を先端にむけて漸次円
弧状に縮小した下孔部１４とし、該下孔部１４の軸線Ｌ
上に位置する頂点(下端点)Ｐはノズル本体１０の下端面
１０ｃより僅かに上側(内側)に位置させている。

【００２３】上記下孔部１４は上端より頂点にかけて３
段アール部１４ａ,１４ｂ,１４ｃを連続的に組み合わせ
て形成している。本実施例では、アール１４ａを０.２
９３Ｄ、１４ｂを１.０Ｄ、１４ｃを１.５Ｄとしてい
る。

【００２４】上記小径孔部１３の前後両側内周面には、
大径孔部１２の内周面に連続するように形成した断面小
円弧形状の一対の副孔１５Ａ,１５Ｂを設け、これら副
孔１５Ａと１５Ｂを下孔１４の頂点Ｐの近傍まで延在さ
せている。

【００２５】ノズル本体１０の噴射側下端面１０ｃに
は、中心軸線Ｌと左右直径方向の切り込みを入れ、上記
主孔１１の下孔部１４の先端を開口して、図１(Ａ)に示
す形状の吐出口となるオリフィス１６を形成している。

【００２６】上記切り込みは図２に示すように、テーパ
エンドミル２０を用いて、ノズル本体１０の対して左右
両側よりノズル軸線Ｌに対して傾斜させて行い、よっ
て、オリフィス１６を言わばピーナッツ形状に形成して
いる。即ち、中心部分１６ａの巾Ｗ１を狭く、両側部１
６ｂ,１６ｃを左右外周方向に向かって巾を広げ、左右
両側部１６ｂ,１６ｃの先端近傍で巾Ｗ２を最大とし、
左右両側部１６ｂ,１６ｃの先端１６ｄ,１６ｅを円弧形
状としている。該左右両端部の円弧は大きな曲率とし
て、直線に近似させている。

【００２７】上記オリフィス１６の形状は、図３に前記
図１１の従来のオリフィス３を一点鎖線で比較して示す
ように、従来のオリフィス３では左右両端が収険して両
側に突出していたのに対して、左右両端を大きな曲率の
円弧形状とし、かつ、両側に突出させていない。さら
に、巾の狭い中央部Ｗ１と最大巾Ｗ２の差を従来例より
小さくしている。

【００２８】また、上記切り込みにより、オリフィス１
６の左右両側部に連続するガイド凹部１７を形成してい
る。このガイド凹部１７の底面(内面)１７ａは、図１
(Ｄ)に示すように、下側噴射方向に向かって傾斜し、ま
た、左右両側面１７ｂ,１７ｂは、図１(Ａ)に示すよう
に、左右先端側に向かって外広がりに傾斜して左右両側
面間の巾Ｓ１を広げていると共に、図１(Ｅ)に示すよう
に、下端より上端に向かって内側に傾斜させて巾Ｓ２を
狭くしている。

【００２９】上記副孔１５Ａ,１５Ｂは下孔１４の前後
両側に形成し、かつ、下端頂点側まで延長させていない
ため、図１(Ｃ)に示すように、オリフィス１６とは連続
させておらず、オリフィス１６の近傍の下孔部１４の前
後先端側に副孔１５Ａ,１５Ｂの先端を連続している。

【００３０】上記形状のスプレーノズルでは、オリフィ
ス１６の形状を上記のように、中央部１６ａの巾Ｗ１を
左右両側部１６ｂ,１６ｃの巾Ｗ２より小さくしている
ため、ノズル直下の流量を抑えることができる一方、左
右両側部１６ｂ,１６ｃの巾を中央部１６ａより広くし
ているため、図４および図５に示すように、流量が均一
な範囲Ｘが長い台形状の噴霧パターンとすることが出来
る。

【００３１】さらに、オリフィス１６の左右両端１６
ｄ,１６ｅを鋭角状態に突出させずに、円弧形状として
いるため、噴霧巾を厚くなり、両側への噴射の広がりが
抑制される。よって、上記均一流量部分Ｘの両側のスソ
部分Ｙが短くなる。

【００３２】よって、図５に示すようにノズル本体１０
を間隔をあけて配置した場合、スソ部分Ｙをラップさせ
ると、該ラップ部分Ｒの流量を均一流量部分Ｘと略同一
量とすることが出来る。よって、ラップ部分Ｒにおける
過冷却、あるいは未冷却の発生を低減することが出来
る。

【００３３】また、噴霧流量を変動した場合、低流量で
はガイド凹部１７により噴射角度が広くなると共に、副
孔１５Ａ,１５Ｂの存在により、流量分布を中央部に集
中させずに均等に分布させることが出来る。一方、高流
量では、ガイド凹部１７により逆に噴射角度が抑えられ
ると共に、ガイド凹部１７の巾を先端に向かって広げて
いるため、噴霧の厚さ方向の噴射角度が広くなり、両側
スソ部分Ｙへの広がりを抑制出来る。このように、低流
量では噴射角度が広くなるように、高流量では噴射角度
を抑えように機能させているため、流量を変動しても噴
射角度を略一定に保つことができ、よって、噴霧パター
ンが図４および図５の状態で変動せず、冷却ムラの発生
を低減出来る。

【００３４】

【実験例１】上記本発明のスプレーノズルを用いて、噴
霧流量等の噴霧条件を変えて、流量分布および打力分布
を測定した。また、連続鋳造装置の二次冷却帯に設置す
る場合は、鋳片寸法に応じて、スプレーノズル位置から
鋳片までの距離を変化させ、図６に示すように、上下３
段の位置にスプレーノズルを設置して測定した。図６に
おいて、測定面Ｂから下段のスプレーノズル１０Ａの高
さＨ１は６１mm、中段のスプレーノズル１０Ｂの高さＨ
２は１５０mm、上端のスプレーノズル１０Ｃの高さＨ２
は２２５mmとしている。また、水平方向に並列する下段
のスプレーノズル１０Ａ間の距離ＮＰ１は、２２５mm、
中段のスプレーノズル１０Ｂ間の距離ＮＰ２は４８０m
m、上端のスプレーノズル１０Ｃ間の距離ＮＰ３は７０
０mmとしている。

【００３５】噴霧条件は各段において、夫々、下記の表
２に示すように、〜に変えて行い、次第に噴霧流量
を増加させた。

【００３６】

【表２】

【００３７】図７は下段のスプレーノズル１０Ａ,１０
Ａによる実験結果の流量分布と打力分布を示している。
図７に示すように、流量分布は台形状になり、ラップ部
分Ｒの流量はラップしていない部分と略均等となってい
る。また、噴霧流量を増加させても流量分布のパターン
は変動していない。打力分布も流量分布と略同様とな
り、ラップ部分Ｒとラップしていない部分とが略均等
で、かつ、噴霧流量を増加させても略同一となってい
る。即ち、流量および打力の変動を２０％以下に抑える
ことが出来た。

【００３８】図８は中段のスプレーノズル１０Ｂ,１０
Ｂによる実験結果の流量分布と打力分布を示している。
また、図９は上段のスプレーノズル１０Ｃ,１０Ｃによ
る実験結果の流量分布と打力分布を示している。いずれ
も、上記下段の場合と同様に、流量分布および打力分布
が台形状態となり、ラップ分布Ｒでの変動がな少なく、
また、噴霧流量を増加しても流量および打力は均等とな
っている。

【００３９】

【実験例２】本発明のスプレーノズルにより噴霧の粒子
径と、従来の図１２に示すスプレーノズルの噴霧の粒子
径を、図１０に示すように、ノズル直下位置Ａ、Ａ位置
より３７５mmの位置Ｂ、Ａ位置より７５０mmの位置Ｃの
３箇所で測定した。その結果は、下記の表３に示す通り
である。

【００４０】

【表３】

【００４１】上記表３に示すように、本発明のスプレー
ノズルでは、従来のスプレーノズルと比較して、Ａ位
置、Ｂ位置およびＣ位置における粒子径の変動が少な
く、噴霧範囲の全体にわたって粒子径が略均等であっ
た。

【００４２】上記した実験結果より、図１１の噴霧流量
と消費空気量との関係において、従来のスプレーノズル
では実線で示すラインが制御ラインとなっているのに対
して、本発明のスプレーノズルでは点線で示すラインが
制御ラインとなっている。即ち、従来のスプレーノズル
では流量が４リットル／分以下の低流量ではラップ部分
の流量が少なくなり、冷却ムラが発生していたために、
４リットル以下は使用出来ず、よって、４リットルから
４０リットルの間で、流量制御範囲のターンダウン比が
１：１０の範囲であった。これに対して、本発明のスプ
レーノズルでは、流量が２リットルの低流量でもラップ
部分の流量をラップしていな部分と均等にすることが出
来、よって、２リットルから４０リットルの範囲で制御
可能で、ターンダウン比を１：２０と広げることが出来
る。

【００４３】しかも、従来の実線で示す制御範囲におい
ては、流量分布および打力分布の変動率が５０％以下の
範囲を制御範囲に含めていたが、本発明の制御範囲は上
記変動率を２０％以下の範囲としている。

【００４４】

【発明の効果】以上の説明より明らかなように、本発明
に係わるスプレーノズルでは、オリフィスの形状を左右
外周側を鋭角状に突出させずに円弧形状としているた
め、流量部布および打力分布のパターンを両側スソ部が
広がらない台形状するすることが出来る。かつ、オリフ
ィスの中心部分の前後両側に副孔を設けると共に、オリ
フィスの左右両端に連続するガイド面を下方傾斜させる
と共に外周にむかって巾を広くしているため、噴霧流量
を変えても噴射角度に変動を生じないようにすることが
出来る。

【００４５】上記のように、噴霧パターンが台形状とな
り、噴霧範囲の全体にわたって流量、打力および粒子径
の均等化が図られ、かつ、ラップ部分とラップしていな
い部分の流量、打力および粒子径も均等となり、流量お
よび打力の変動率を２０％以下に抑えることが出来る。
よって、割れ感受性の強い材質の鋳片に対して用いた場
合にも、鋳片の割れ発生を低減することが出来る。さら
に、噴霧流量を変えても、噴霧パターンが変動せず、流
量、打力および粒子径の均等であるため、流量制御範囲
のターンダウン比を１：２０に広げることが出来る。そ
のため、鋳片寸法の相違に応じて噴霧流量を変えて対応
させることができ、多品種小量生産の要請に応えること
が出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のスプレーノズルの実施例を示し、
(Ａ)は底面図、(Ｂ)は平面図、(Ｃ)は(Ａ)のＣ−Ｃ線断
面図、(Ｄ)は(Ａ)のＤ−Ｄ線断面図、(Ｅ)は側面図であ
る。

【図２】上記実施例の加工状態を示す断面図である。

【図３】上記実施例のオリフィス形状を示す拡大図で
ある。

【図４】上記実施例の流量分布を示す線図である。

【図５】上記実施例の噴霧範囲をラップさせた場合の
流量分布を示す線図である。

【図６】実験例１の実験方法を示す概略図である。

【図７】実験例１の結果を示す線図である。

【図８】同上

【図９】同上

【図１０】実験例２の実験方法を示す概略図である。

【図１１】本発明と従来のスプレーノズルの制御範囲
を比較した線図である。

【図１２】従来のスプレーノズルを示し、(Ａ)は断面
図、(Ｂ)は底面図である。

【図１３】従来のスプレーノズルの流量分布パターン
示す線図である。

【図１４】従来のスプレーノズルの噴霧範囲をラップ
させた場合の実験結果を示す線図である。

【符号の説明】

１０ノズル本体１１主孔１２大径孔部１３小径孔部１４下孔部１５Ａ,１５Ｂ副孔１６オリフィス１７ガイド凹部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小澤宏一東京都千代田区丸の内１丁目１番２号日本鋼管株式会社内 (72)発明者近藤恒雄東京都千代田区丸の内１丁目１番２号日本鋼管株式会社内 (72)発明者鈴木幹雄東京都千代田区丸の内１丁目１番２号日本鋼管株式会社内 (72)発明者瀬良泰三東京都千代田区丸の内１丁目１番２号日本鋼管株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ノズル本体の中心軸線に沿って気液混合
液流路となる主孔を設け、該主孔の先端の円弧形状とし
た下孔部をノズル本体の噴射側端面に近接して形成し、
該噴射側端面より直径方向の切り込みを上記下孔部と連
通させて設けて、中央部の巾が狭く左右外周側に向かっ
て巾が広くなると共に左右両端を円弧状としたオリフィ
スを形成すると共に、該オリフィスの左右両端に連続し
て外周側に向かって巾の広がるガイド凹部を形成し、か
つ、オリフィスの中央部の前後両側に、主孔に連通した
副孔を設けていることを特徴とするスプレーノズル。
【請求項２】上記オリフィスの左右両端部の円弧は大
きな曲率としていることを特徴とする請求項１記載のス
プレーノズル。
【請求項３】上記ガイド凹部の底面は、オリフィスの
左右両端に連続して噴射側端面にむかって外周側へ広が
る方向に傾斜させていると共に、ガイド凹部の両側面を
噴射側端面に向かって巾が広がる方向に傾斜させている
ことを特徴とする請求項１あるいは２記載のスプレーノ
ズル。