JPH05324B2 - - Google Patents
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- JPH05324B2 JPH05324B2 JP58189894A JP18989483A JPH05324B2 JP H05324 B2 JPH05324 B2 JP H05324B2 JP 58189894 A JP58189894 A JP 58189894A JP 18989483 A JP18989483 A JP 18989483A JP H05324 B2 JPH05324 B2 JP H05324B2
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/14—Production of inert gas mixtures; Use of inert gases in general
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造法に
関するものである。特に高濃度次亜塩素酸ソーダ
水溶液の製造において、塩化ナトリウムによる反
応器等の閉塞の心配のない方法に関するものであ
る。
関するものである。特に高濃度次亜塩素酸ソーダ
水溶液の製造において、塩化ナトリウムによる反
応器等の閉塞の心配のない方法に関するものであ
る。
高濃度次亜塩素酸ソーダ水溶液を得るには、高
濃度の苛性ソーダを使用せねばならず、この場合
反応の進行に伴い、次亜塩素酸ソーダ−苛性ソー
ダ−塩化ナトリウムの３成分が液相で共存できな
くなり、塩化ナトリウムが結晶として析出する。
濃度の苛性ソーダを使用せねばならず、この場合
反応の進行に伴い、次亜塩素酸ソーダ−苛性ソー
ダ−塩化ナトリウムの３成分が液相で共存できな
くなり、塩化ナトリウムが結晶として析出する。
この析出した塩化ナトリウムが、反応器等に付
着し、閉塞を起こすことが製造プロセス上重大な
障害となる為、従来閉塞防止の手法が種々検討さ
れている。例えば、特開昭56−114807号に見られ
るように、反応液の流動方向に沿つて開口する塩
素導入管を設ける方法や、特開昭58−20703号に
見られる様に、２重管式のサイクロン型反応器を
用い、塩素含有ガスを内管より供給し、反応液を
外管に接続方向から供給し、サイクロン下部で両
者を接触させる方法が提案されている。しかし前
者、後者いずれの方法でも、塩素供給ノズルが反
応液と接触しており、その近傍で乱流状態で気液
混合が行われる為、液の飛沫が塩素供給ノズル内
面に付着し、やがて閉塞を起こし、現状では満足
できる状態ではない。
着し、閉塞を起こすことが製造プロセス上重大な
障害となる為、従来閉塞防止の手法が種々検討さ
れている。例えば、特開昭56−114807号に見られ
るように、反応液の流動方向に沿つて開口する塩
素導入管を設ける方法や、特開昭58−20703号に
見られる様に、２重管式のサイクロン型反応器を
用い、塩素含有ガスを内管より供給し、反応液を
外管に接続方向から供給し、サイクロン下部で両
者を接触させる方法が提案されている。しかし前
者、後者いずれの方法でも、塩素供給ノズルが反
応液と接触しており、その近傍で乱流状態で気液
混合が行われる為、液の飛沫が塩素供給ノズル内
面に付着し、やがて閉塞を起こし、現状では満足
できる状態ではない。
本発明者らは、この点を改善すべく、鋭意研究
の結果、本発明に至つた。
の結果、本発明に至つた。
本発明は苛性ソーダと塩素の反応により次亜塩
素酸ソーダ水溶液を製造するに際し、苛性ソーダ
を含む反応液を反応器の壁面の任意の位置から、
壁面全面にわたつて流下する濡れ壁を形成する如
く供給し、塩素含有ガスを反応液供給位置より下
部で開口し、かつ壁面の濡れ壁とは独立したノズ
ルから供給し、更に反応液供給位置より上部から
導入されて流下する空気、窒素及び／又はその他
不活性ガス雰囲気下で苛性ソーダと塩素ガスとの
反応を行う方法である。
素酸ソーダ水溶液を製造するに際し、苛性ソーダ
を含む反応液を反応器の壁面の任意の位置から、
壁面全面にわたつて流下する濡れ壁を形成する如
く供給し、塩素含有ガスを反応液供給位置より下
部で開口し、かつ壁面の濡れ壁とは独立したノズ
ルから供給し、更に反応液供給位置より上部から
導入されて流下する空気、窒素及び／又はその他
不活性ガス雰囲気下で苛性ソーダと塩素ガスとの
反応を行う方法である。
本発明の方法を図面に基づいて説明する。
第１図は、本発明方法に用いる装置の１例の正
面図を示し、第２図は、第１図に示す装置の平面
図である。
面図を示し、第２図は、第１図に示す装置の平面
図である。
第１図及び第２図において、反応液貯槽７の上
部に、垂直に円筒状反応器３が取り付けられてい
る。
部に、垂直に円筒状反応器３が取り付けられてい
る。
この円筒状反応器３に反応液供給ノズル２を通
じて、苛性ソーダを含む反応液６が接線方向８か
ら導入される。反応器３の反応液供給面から、下
部排出口に至るまで壁全面にわたり、濡れ壁が形
成されれば、別に他の手法で導入してもよい。も
し一部でも濡れていない所が生じるとその固液界
面に塩化ナトリウムが析出し、その後増々成長し
反応器を閉塞さす。円筒状反応器３内面は塩化ナ
トリウムの壁付着防止の為、出来るだけ滑らかな
方が好ましい。濡れ壁を全面に形成さすに必要な
液流量及び流速は、反応器の直径により異なるの
で特定できないが、この円筒状濡れ壁が形成され
ている所へ、塩素ガス供給ノズル１を通じて、反
応器３の上から下に向けて、塩素含有ガスが導入
される。ここで重要な事は塩素ガス供給ノズル１
が反応液と完全に独立しており、かつ該ノズル１
も開口部の位置が、反応液供給ノズル２の位置よ
りも下にあることである。塩素ガス供給ノズル１
が反応液と接触すると、接触部に塩化ナトリウム
が析出し、工合が悪く、又塩素ガスが濡れ壁の上
端に浸入してくると、ここでも塩化ナトリウムが
析出する。
じて、苛性ソーダを含む反応液６が接線方向８か
ら導入される。反応器３の反応液供給面から、下
部排出口に至るまで壁全面にわたり、濡れ壁が形
成されれば、別に他の手法で導入してもよい。も
し一部でも濡れていない所が生じるとその固液界
面に塩化ナトリウムが析出し、その後増々成長し
反応器を閉塞さす。円筒状反応器３内面は塩化ナ
トリウムの壁付着防止の為、出来るだけ滑らかな
方が好ましい。濡れ壁を全面に形成さすに必要な
液流量及び流速は、反応器の直径により異なるの
で特定できないが、この円筒状濡れ壁が形成され
ている所へ、塩素ガス供給ノズル１を通じて、反
応器３の上から下に向けて、塩素含有ガスが導入
される。ここで重要な事は塩素ガス供給ノズル１
が反応液と完全に独立しており、かつ該ノズル１
も開口部の位置が、反応液供給ノズル２の位置よ
りも下にあることである。塩素ガス供給ノズル１
が反応液と接触すると、接触部に塩化ナトリウム
が析出し、工合が悪く、又塩素ガスが濡れ壁の上
端に浸入してくると、ここでも塩化ナトリウムが
析出する。
これを防止するため、円筒状反応器３の上面に
空気、窒素及び／又は不活性ガス導入口５を複数
個設ける。この穴より空気、窒素及び／又は不活
性ガスを少量反応器内に導入することにより、塩
素ガスが 場合導入する空気、窒素及び／又は不活性ガスは
圧入でも反応器系内減圧による吸い込みでもかま
わない。
空気、窒素及び／又は不活性ガス導入口５を複数
個設ける。この穴より空気、窒素及び／又は不活
性ガスを少量反応器内に導入することにより、塩
素ガスが 場合導入する空気、窒素及び／又は不活性ガスは
圧入でも反応器系内減圧による吸い込みでもかま
わない。
又、塩素含有ガスは文字通り、100％塩素でな
ければならない必要はなく、２〜30vol％の塩素
を含む粗塩素ガスでもかまわない。この塩素含有
ガスの液膜への拡散を助長する為、塩素ガス供給
ノズル１の先端に、気流分散器４を設け、気流が
真直に下方に移動するのでなく、横方向にも移動
する様に工夫してもかまわない。塩素ガス供給ノ
ズル１は図面では円筒状反応器３の中央に挿入さ
れているが、これに限定されるものではなく、複
数個中央以外の所に配置されてもかまわない。も
ちろんこの場合も上述の如く塩素ガス供給ノズル
１の管径及び、取り付け位置を適切に選び、液膜
と塩素ガス供給ノズル１とが接触しないようにし
なければならない。これは、塩素ガス供給ノズル
１に反応液が接触し、塩化ナトリウムが接触部で
析出するのを防ぐ為である。塩素ガスを吸収反応
した反応液は反応器３下部に直結した貯槽７に入
る。貯槽７は攪拌されているのが好ましく、この
中の反応液は循環ポンプで一部抜き出され、反応
液供給ノズル２に至る。塩素と苛性ソーダの反応
は発熱反応であり、貯槽７もしくは反応液循環ラ
インにおいて冷却機（図示せず）による除熱を必
要とする。反応液の温度を20°〜30℃に保持する
のが副反応防止の為好ましい。
ければならない必要はなく、２〜30vol％の塩素
を含む粗塩素ガスでもかまわない。この塩素含有
ガスの液膜への拡散を助長する為、塩素ガス供給
ノズル１の先端に、気流分散器４を設け、気流が
真直に下方に移動するのでなく、横方向にも移動
する様に工夫してもかまわない。塩素ガス供給ノ
ズル１は図面では円筒状反応器３の中央に挿入さ
れているが、これに限定されるものではなく、複
数個中央以外の所に配置されてもかまわない。も
ちろんこの場合も上述の如く塩素ガス供給ノズル
１の管径及び、取り付け位置を適切に選び、液膜
と塩素ガス供給ノズル１とが接触しないようにし
なければならない。これは、塩素ガス供給ノズル
１に反応液が接触し、塩化ナトリウムが接触部で
析出するのを防ぐ為である。塩素ガスを吸収反応
した反応液は反応器３下部に直結した貯槽７に入
る。貯槽７は攪拌されているのが好ましく、この
中の反応液は循環ポンプで一部抜き出され、反応
液供給ノズル２に至る。塩素と苛性ソーダの反応
は発熱反応であり、貯槽７もしくは反応液循環ラ
インにおいて冷却機（図示せず）による除熱を必
要とする。反応液の温度を20°〜30℃に保持する
のが副反応防止の為好ましい。
以上述べた如く、本発明によれば塩素ガス供給
ノズル１、円筒状反応器３において、塩化ナトリ
ウムの析出による閉塞が起こらず、長時間安定し
て、反応が継続できる。尚本発明はバツチ運転に
於ても連続運転に於ても適用できる。
ノズル１、円筒状反応器３において、塩化ナトリ
ウムの析出による閉塞が起こらず、長時間安定し
て、反応が継続できる。尚本発明はバツチ運転に
於ても連続運転に於ても適用できる。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例 １
攪拌機及び反応液循環ポンプ、槽内冷却コイル
を備えた容積500の貯槽７に、直径150mm、長さ
2mの図面に示すような反応器３を取り付けた。
この貯槽７に次亜塩素酸ソーダ濃度24重量％、結
晶を含む全塩化ナトリウム濃度21重量％苛性ソー
ダ濃度３重量％のスラリー状反応液を350仕込
み、循環速度２m3／hrで反応液供給ノズル６を通
じ、接線方向から円筒状反応器３に循環させた。
この循環ラインに35重量％の苛性ソーダを約80
Kg／hrの速度で供給し、塩素ガス20vol％含有の
粗塩素ガスを純分換算で26Kg／hrで直径30mmの塩
素ガス供給ノズル１を通して供給した。また、貯
槽７及び円筒状反応器３の系を約50mmH2Ｏ減圧
とし、反応器上部に、径３mmの穴を４個あけて、
その穴より空気の導入を計つた。この間貯槽の苛
性ソーダの濃度を４〜１重量％に保つよう、苛性
ソーダ供給量を調節し、貯槽７は攪拌し、冷却コ
イルにより温度を20°〜25℃に保つた。反応液は
貯槽液量が350になるように一部連続で抜き出
した。抜き出した液の組成は最初仕込んだ液組成
とほぼ同じであつた。反応は開始後７日間を経過
しても反応器の閉塞は起こらなかつた。
を備えた容積500の貯槽７に、直径150mm、長さ
2mの図面に示すような反応器３を取り付けた。
この貯槽７に次亜塩素酸ソーダ濃度24重量％、結
晶を含む全塩化ナトリウム濃度21重量％苛性ソー
ダ濃度３重量％のスラリー状反応液を350仕込
み、循環速度２m3／hrで反応液供給ノズル６を通
じ、接線方向から円筒状反応器３に循環させた。
この循環ラインに35重量％の苛性ソーダを約80
Kg／hrの速度で供給し、塩素ガス20vol％含有の
粗塩素ガスを純分換算で26Kg／hrで直径30mmの塩
素ガス供給ノズル１を通して供給した。また、貯
槽７及び円筒状反応器３の系を約50mmH2Ｏ減圧
とし、反応器上部に、径３mmの穴を４個あけて、
その穴より空気の導入を計つた。この間貯槽の苛
性ソーダの濃度を４〜１重量％に保つよう、苛性
ソーダ供給量を調節し、貯槽７は攪拌し、冷却コ
イルにより温度を20°〜25℃に保つた。反応液は
貯槽液量が350になるように一部連続で抜き出
した。抜き出した液の組成は最初仕込んだ液組成
とほぼ同じであつた。反応は開始後７日間を経過
しても反応器の閉塞は起こらなかつた。
第１図は本発明方法に用いる装置の１例の正面
図、第２図は第１図に示す装置の平面図である。
図中１は塩素ガス供給ノズル、２は反応液供給ノ
ズル、３は円筒状反応器、４は気流分散器、５は
空気、窒素及び／又は不活性ガス導入口、６は苛
性ソーダを含む反応液、７は貯槽、８は接線方向
を示す。
図、第２図は第１図に示す装置の平面図である。
図中１は塩素ガス供給ノズル、２は反応液供給ノ
ズル、３は円筒状反応器、４は気流分散器、５は
空気、窒素及び／又は不活性ガス導入口、６は苛
性ソーダを含む反応液、７は貯槽、８は接線方向
を示す。
１ カルボン酸又はその塩の存在下において、金
化合物及び水溶性金属塩を含有する水溶液をアル
カル性化合物で中和し、生成した共沈物を加熱す
ることを特徴とする金超微粒子固定化酸化物の製
造法。 ２ 金化合物及び水溶性金属塩を含有する水溶液
をアルカル性化合物で中和して共沈物を得た後、
共沈物を含有する溶液中にカルボン酸又はその塩
を添加し、次いで共沈物を加熱することを特徴と
する金超微粒子固定化酸化物の製造法。
化合物及び水溶性金属塩を含有する水溶液をアル
カル性化合物で中和し、生成した共沈物を加熱す
ることを特徴とする金超微粒子固定化酸化物の製
造法。 ２ 金化合物及び水溶性金属塩を含有する水溶液
をアルカル性化合物で中和して共沈物を得た後、
共沈物を含有する溶液中にカルボン酸又はその塩
を添加し、次いで共沈物を加熱することを特徴と
する金超微粒子固定化酸化物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18989483A JPS6081003A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | 次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18989483A JPS6081003A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | 次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6081003A JPS6081003A (ja) | 1985-05-09 |
| JPH05324B2 true JPH05324B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=16248962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18989483A Granted JPS6081003A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | 次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6081003A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050169832A1 (en) * | 2004-02-02 | 2005-08-04 | Powell Technologies Llc | Concurrent packed tower manufacture of hypochlorite |
| JP6443865B2 (ja) * | 2017-03-02 | 2018-12-26 | 日本軽金属株式会社 | 次亜塩素酸ナトリウム５水和物の結晶体およびその製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5820703A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-07 | Tokuyama Soda Co Ltd | 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法、及びその装置 |
| JPS5818919B2 (ja) * | 1979-08-02 | 1983-04-15 | 石津 皓史 | 色紙の製作方法 |
| JPS59102806A (ja) * | 1982-11-27 | 1984-06-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高濃度次亜塩素酸ナトリウム水溶液の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5818919U (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-05 | 株式会社トクヤマ | 次亜塩素酸ソ−ダ製造用反応装置 |
-
1983
- 1983-10-13 JP JP18989483A patent/JPS6081003A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5818919B2 (ja) * | 1979-08-02 | 1983-04-15 | 石津 皓史 | 色紙の製作方法 |
| JPS5820703A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-07 | Tokuyama Soda Co Ltd | 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法、及びその装置 |
| JPS59102806A (ja) * | 1982-11-27 | 1984-06-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高濃度次亜塩素酸ナトリウム水溶液の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6081003A (ja) | 1985-05-09 |
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