JPH05322249A - Maintenance mechanism for clean tunnel - Google Patents

Maintenance mechanism for clean tunnel

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JPH05322249A
JPH05322249A JP13277092A JP13277092A JPH05322249A JP H05322249 A JPH05322249 A JP H05322249A JP 13277092 A JP13277092 A JP 13277092A JP 13277092 A JP13277092 A JP 13277092A JP H05322249 A JPH05322249 A JP H05322249A
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JP
Japan
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clean
maintenance
tunnel
clean tunnel
airtight
Prior art date
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Application number
JP13277092A
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Japanese (ja)
Inventor
Kiyotaka Ihara
清隆 井原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a maintenance mechanism for a clean tunnel, which is capable of effecting maintenance works in the clean tunnel without rapturing clean space in the clean tunnel. CONSTITUTION:In a clean tunnel having a clean space, constituted of an air supplying and discharging device 5 and an air cleaning device 3, and a manufacturing line and/or a transporting line 6, arranged in the clean space, airtight maintenance port 9, provided on the outer wall of the clean tunnel with a predetermined space, and a maintenance globe, attached to the airtight maintenance port 9 and used upon the maintenance of various lines 6, are provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体の製造や搬送に
使用するクリーントンネルに関し、特に、クリーントン
ネルのメンテナンスに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a clean tunnel used for manufacturing and carrying semiconductors, and more particularly to maintenance of the clean tunnel.

【0002】[0002]

【従来の技術】以前から、半導体の製造や搬送には、給
排気装置と空気清浄化装置とによって構成されるクリー
ン空間と、このクリーン空間内に配された製造ライン又
は/及び搬送ラインとを有するクリーントンネルが使用
されている。このクリーントンネルの従来例を図5に基
づいて説明する。
2. Description of the Related Art Conventionally, in the manufacture and transportation of semiconductors, a clean space constituted by an air supply / exhaust device and an air cleaning device and a production line and / or a transportation line arranged in the clean space have been used. The clean tunnel I have is being used. A conventional example of this clean tunnel will be described with reference to FIG.

【0003】図5において、クリーントンネルの上面、
底面、右面、左面、前面、後面の6外壁は、高性能フィ
ルター3を有する複数のクリーンモジュール1と給排気
装置5とを接続して構成される。クリーンモジュール1
は、通気口2を有する給気ゾーンAと、排気口4を有す
る排気ゾーンCと、給気ゾーンAとの接続側に高性能フ
ィルター(HAPAフィルター)3が配され、排気ゾー
ンCとの接続側に空気排出口13を配してクリーン空間
を構成すると共に、その内部に搬送装置6を有するクリ
ーントンネル部Bとを備える。搬送装置6はワーク8を
搬送し、給排気装置5は、その給排気機能によって、給
排気の流れ7を構成し、給排気の流れ7は各クリーンモ
ジュール1に分かれて、高性能フィルター(HAPAフ
ィルター)3によって空気中のダストを濾し取られてク
リーンな空気の流れ7′になってクリーントンネル部B
に入り、搬送装置6上のワーク8を清浄に保つ。ワーク
8と搬送装置6とを通過した空気は搬送装置6で発生し
たダストと共に空気排出口13を通って排気ゾーンCに
排出され、給排気の流れ7となって給排気装置5に戻り
循環を繰り返す。
In FIG. 5, the upper surface of the clean tunnel,
The bottom surface, the right surface, the left surface, the front surface, and the rear surface 6 are configured by connecting a plurality of clean modules 1 having the high-performance filter 3 and the air supply / exhaust device 5. Clean module 1
Is provided with a high-performance filter (HAPA filter) 3 on the side connected to the air supply zone A having the vent 2, the exhaust zone C having the exhaust 4, and the connection to the exhaust zone C. A clean space is formed by arranging the air exhaust port 13 on the side, and a clean tunnel portion B having the transfer device 6 therein is provided. The transport device 6 transports the work 8, and the air supply / exhaust device 5 constitutes a flow 7 of air supply / exhaust according to its air supply / exhaust function, and the flow 7 of air supply / exhaust is divided into each clean module 1, and a high performance filter (HAPA The dust in the air is filtered out by the filter 3 to form a clean air flow 7'and the clean tunnel portion B
Then, the work 8 on the transfer device 6 is kept clean. The air that has passed through the work 8 and the transfer device 6 is discharged to the exhaust zone C through the air outlet 13 together with the dust generated in the transfer device 6, becomes a supply / exhaust flow 7 and returns to the supply / exhaust device 5 for circulation. repeat.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来例
の構成では、一部のクリーンモジュール1において、搬
送装置6の故障修理や点検のために、クリーンモジュー
ル1のその部分を開放すると、外部のダストがクリーン
トンネル部B内全体を汚染し、クリーン空間が破壊され
てしまうという問題点がある。
However, in the configuration of the above-mentioned conventional example, when some parts of the clean module 1 are opened for repairing or inspecting the carrier device 6, the external parts are not exposed to the outside. However, there is a problem that the dust inside the clean tunnel portion B contaminates the entire inside thereof and the clean space is destroyed.

【0005】そして、一度、クリーン空間が汚染される
と、ダストは、クリーンモジュール1の内部や内部に設
置された搬送装置等の細部にまで付着し、再度、当初の
クリーン状態にするためには、清掃とダスト除去のため
に、多大な時間と運転費用とが必要であるという問題点
がある。
Once the clean space is contaminated, the dust adheres to the details of the inside of the clean module 1 and the conveying device installed inside the clean module 1, and in order to restore the initial clean state again. However, there is a problem that a large amount of time and operating cost are required for cleaning and dust removal.

【0006】本発明は、上記の問題点を解決し、クリー
ントンネル部Bのクリーン空間を破壊することなく、ク
リーントンネル部B内の装置をメンテナンスできるクリ
ーントンネルのメンテナンス機構を提供することを課題
としている。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a maintenance mechanism of a clean tunnel which can maintain the device in the clean tunnel portion B without destroying the clean space of the clean tunnel portion B. There is.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のクリーントンネ
ルのメンテナンス機構は、上記の課題を解決するため
に、給排気装置と空気清浄化装置とによって構成される
クリーン空間と、このクリーン空間内に配された製造ラ
イン又は/及び搬送ラインとを有するクリーントンネル
において、クリーントンネルの外壁上に所定間隔をおい
て設けた気密メンテナンスポートと、この気密メンテナ
ンスポートに気密に取り付けて前記各種ラインのメンテ
ナンス時に使用するメンテナンスグローブとを備えたこ
とを特徴とする。
In order to solve the above problems, a maintenance mechanism for a clean tunnel according to the present invention includes a clean space constituted by an air supply / exhaust device and an air cleaning device, and a clean space in the clean space. In a clean tunnel having an arranged production line and / or a transfer line, an airtight maintenance port provided at a predetermined interval on the outer wall of the clean tunnel, and airtightly attached to this airtight maintenance port during maintenance of the various lines It is characterized by having maintenance gloves to be used.

【0008】[0008]

【作用】本発明のクリーントンネルのメンテナンス機構
は、クリーントンネルの外壁上に所定間隔をおいて設け
た気密メンテナンスポートと、この気密メンテナンスポ
ートに気密に取り付けて前記各種ラインのメンテナンス
時に使用するメンテナンスグローブとを備えているの
で、クリーントンネル内の搬送ライン6の故障修理や点
検や異常の生じたワークの処理等のために、このメンテ
ナンスグローブ10を使用し、クリーントンネルと外気
間の気密を保持したままで、必要な部品は製造ラインや
搬送ラインを使用してメンテナンス位置に搬送し、異常
を発生したワークや取り外した部品は製造ラインや搬送
ラインを使用して搬出することによって、メンテナンス
作業を行うことができる。このようにすると、従来例の
ように、クリーントンネル内を外気に開放してメンテナ
ンスを行う場合に比較して、当初のクリーン状態に復帰
させるに要する時間と運転費用を極めて大幅に削減する
ことができる。
The maintenance mechanism for a clean tunnel according to the present invention comprises an airtight maintenance port provided on the outer wall of the clean tunnel at a predetermined interval, and a maintenance glove which is airtightly attached to the airtight maintenance port and used for maintenance of the various lines. The maintenance glove 10 is used to maintain the airtightness between the clean tunnel and the outside air in order to repair the failure of the transfer line 6 in the clean tunnel, to inspect it, and to process the work with the abnormality. Up to this point, the necessary parts are carried to the maintenance position using the manufacturing line or the transfer line, and the work in which the abnormality has occurred or the removed parts are carried out using the manufacturing line or the transfer line for maintenance work. be able to. By doing this, as compared with the case of performing maintenance by opening the inside of the clean tunnel to the outside air as in the conventional example, it is possible to significantly reduce the time and operation cost required to return to the initial clean state. it can.

【0009】[0009]

【実施例】本発明のクリーントンネルのメンテナンス機
構の一実施例を図1〜図4に基づいて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a maintenance mechanism for a clean tunnel according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0010】図1は、本実施例を使用したクリーントン
ネルの断面図、図2は図1の外観の斜視図である。
FIG. 1 is a sectional view of a clean tunnel using this embodiment, and FIG. 2 is a perspective view of the appearance of FIG.

【0011】図1、図2において、クリーントンネルの
上面、底面、右面、左面、前面、後面の6外壁は、高性
能フィルター(HAPAフィルター等)3を有する複数
のクリーンモジュール1と給排気装置5とを接続して構
成される。クリーンモジュール1は、通気口2を有する
給気ゾーンAと、排気口4を有する排気ゾーンCと、給
気ゾーンAとの接続側に高性能フィルター(HAPAフ
ィルター等)3が配され、排気ゾーンCとの接続側に空
気排出口13を配してクリーン空間を構成すると共に、
その内部に搬送ライン6を有するクリーントンネル部B
とを備える。搬送ライン6はワーク8を搬送し、給排気
装置5は、その給排気機能によって、給排気の流れ7
(クリーン度クラス100万程度)を構成し、給排気の
流れ7は各クリーンモジュール1に分かれて、高性能フ
ィルター(HAPAフィルター等)3によって空気中の
ダストを濾し取られてクリーンな空気の流れ7′(クリ
ーン度クラス1程度)になってクリーントンネル部Bに
入り、搬送ライン6上のワーク8を清浄に保つ。ワーク
8と搬送ライン6とを通過した空気は搬送装置6で発生
したダスト(クリーン度クラス10万〜100万程度)
と共に空気排出口13を通って排気ゾーンCに排出さ
れ、給排気の流れ7となって給排気装置5に戻り循環を
繰り返す。このようにして、各クリーンモジュール1の
クリーントンネル部Bは連続したクリーン空間(クリー
ン度クラス1程度)を形成する。
1 and 2, a plurality of clean modules 1 having a high-performance filter (HAPA filter, etc.) 3 on the top, bottom, right, left, front, and rear surfaces of the clean tunnel, and the air supply / exhaust device 5. It is configured by connecting and. The clean module 1 includes an air supply zone A having a ventilation port 2, an exhaust zone C having an exhaust port 4, and a high performance filter (HAPA filter or the like) 3 on the side connected to the air supply zone A. An air outlet 13 is arranged on the side connected to C to form a clean space, and
A clean tunnel section B having a transfer line 6 inside thereof
With. The transfer line 6 transfers the work 8, and the air supply / exhaust device 5 uses the air supply / exhaust function to supply / exhaust flow 7
(Cleanliness class about 1 million), the air supply / exhaust flow 7 is divided into each clean module 1, and the high-performance filter (HAPA filter, etc.) 3 filters out dust in the air to clean air flow. 7 '(cleanness class about 1) enters the clean tunnel portion B, and the work 8 on the transfer line 6 is kept clean. The air passing through the work 8 and the transfer line 6 is dust generated in the transfer device 6 (cleanliness class: 100,000 to 1,000,000)
At the same time, it is discharged to the exhaust zone C through the air discharge port 13, becomes a supply / exhaust flow 7 and returns to the supply / exhaust device 5 to repeat circulation. In this way, the clean tunnel portion B of each clean module 1 forms a continuous clean space (clean degree class 1).

【0012】上記までは、通常のクリーントンネルの構
成の説明で、以下に、本実施例の構成を図1〜図4に基
づいて説明する。
The above is a description of the structure of a normal clean tunnel, and the structure of this embodiment will be described below with reference to FIGS.

【0013】図1〜図4において、本実施例のクリーン
トンネルのメンテナンス機構は、クリーントンネルの各
クリーンモジュール1の外壁上に所定間隔をおいて設け
た気密メンテナンスポート9と、この気密メンテナンス
ポート9に気密に取り付けて前記各種ライン6のメンテ
ナンス時に使用する気密メンテナンスグローブ10(例
えば、フランジ付のゴム製グローブ等)とを備えてい
る。気密メンテナンスポート9には、メンテナンスグロ
ーブ10を取り付ける穴と一対のカバーガイド12とが
あり、常時はカバー11で気密に閉じられて、クリーン
モジュール1内部の与圧の低下を防止し、ダストの侵入
を防止している。
1 to 4, a maintenance mechanism for a clean tunnel according to the present embodiment has an airtight maintenance port 9 provided at a predetermined interval on the outer wall of each clean module 1 of the clean tunnel, and this airtight maintenance port 9 An airtight maintenance glove 10 (for example, a rubber glove with a flange) that is airtightly attached to and used for maintenance of the various lines 6 is provided. The airtight maintenance port 9 has a hole for attaching the maintenance glove 10 and a pair of cover guides 12. The airtight maintenance port 9 is always airtightly closed by the cover 11 to prevent a decrease in pressurization inside the clean module 1 and prevent dust from entering. Is being prevented.

【0014】クリーントンネル内の搬送ライン6の故障
やワーク8の異常が発生した場合には、これらの異常が
発生したクリーンモジュール1の気密メンテナンスポー
ト9のカバー11をカバーガイド12から取り外し、代
わりに、メンテナンスグローブ10をカバーガイド12
の溝部に挿入する。この場合、メンテナンスグローブ1
0のフランジ部とカバー11とを密接させ、且つ、これ
らを気密メンテナンスポート9に密着させて両方を一緒
に横方向に移動させ、気密メンテナンスポート9からク
リーンな空気が流出するのを防止しながら、メンテナン
スグローブ10を所定の位置に設置する。勿論、カバー
ガイド12の溝部と、カバー11及びメンテナンスグロ
ーブ10とは、挿入作業中及び挿入後に気密を維持でき
るように製作されている。メンテナンスグローブ10の
設置が終わると、このメンテナンスグローブ10を使用
し、クリーントンネルと外気間の気密を保持したまま
で、必要な部品は製造ラインや搬送ラインを使用してメ
ンテナンス位置に搬送し、異常が発生したワークや取り
外した部品は製造ラインや搬送ラインを使用して搬出す
ることによって、メンテナンス作業を行う。メンテナン
スが終了すると、メンテナンスグローブ10のフランジ
部とカバー11とを密接させ、且つ、これらを気密メン
テナンスポート9に密着させて両方を一緒に横方向に移
動させ、気密メンテナンスポート9からクリーンな空気
が流出するのを防止しながら、気密メンテナンスポート
9からメンテナンスグローブ10を取り外して、カバー
11を元の位置に戻す。このようにすると、従来例のよ
うに、クリーントンネル内を外気に開放してメンテナン
スを行う場合に比較して、当初のクリーン状態に復帰さ
せるに要する時間と運転費用を極めて大幅に削減するこ
とができる。例えば、10個のクリーンモジュール1を
接続したクリーントンネルの場合には、当初のクリーン
状態に復帰させるに要する時間は1/100程度、運転
費用も1/100程度になる。
When a failure of the transfer line 6 in the clean tunnel or an abnormality of the work 8 occurs, the cover 11 of the airtight maintenance port 9 of the clean module 1 in which these abnormalities occur is removed from the cover guide 12, and instead. , Maintenance glove 10 cover guide 12
Insert it into the groove. In this case, maintenance glove 1
The flange portion of 0 and the cover 11 are brought into close contact with each other, and these are brought into close contact with the airtight maintenance port 9 so that both of them are moved laterally together while preventing clean air from flowing out from the airtight maintenance port 9. The maintenance glove 10 is installed at a predetermined position. Of course, the groove portion of the cover guide 12, the cover 11 and the maintenance glove 10 are manufactured so that airtightness can be maintained during and after the insertion work. After the maintenance gloves 10 are installed, the maintenance gloves 10 are used to carry the necessary parts while maintaining the airtightness between the clean tunnel and the outside air, and the necessary parts are transferred to the maintenance position using the manufacturing line or the transfer line, causing abnormalities. Maintenance work is carried out by carrying out the work or the removed parts that have occurred using the manufacturing line or the transfer line. When the maintenance is completed, the flange portion of the maintenance glove 10 and the cover 11 are brought into close contact with each other, and these are brought into close contact with the airtight maintenance port 9 so that both of them are moved laterally together. The maintenance glove 10 is removed from the airtight maintenance port 9 and the cover 11 is returned to its original position while preventing it from flowing out. By doing this, as compared with the case of performing maintenance by opening the inside of the clean tunnel to the outside air as in the conventional example, it is possible to significantly reduce the time and operation cost required to return to the initial clean state. it can. For example, in the case of a clean tunnel in which ten clean modules 1 are connected, the time required to return to the initial clean state is about 1/100 and the operating cost is about 1/100.

【0015】尚、本発明のクリーントンネルのメンテナ
ンス機構は、上記の実施例に限らず種々の態様が可能で
ある。例えば、本実施例ではメンテナンスグローブ10
をフランジ付のゴム製グローブとしたが、空気漏れが無
く発塵の少ない材料であればこれに限らない。又、気密
メンテナンスポート9の位置や気密構造は本実施例に限
らず自由に設計できる。又、メンテナンスグローブ10
を気密メンテナンスポート9に取り付けたままの常時取
り付け型とし、不使用時には、メンテナンスグローブ1
0を裏返しにして外部に引き出しておくこともできる。
The maintenance mechanism of the clean tunnel according to the present invention is not limited to the above embodiment, but various modes are possible. For example, in this embodiment, the maintenance glove 10
Is a rubber glove with a flange, but the material is not limited to this as long as the material does not leak air and generates little dust. Further, the position of the airtight maintenance port 9 and the airtight structure are not limited to those in this embodiment, and can be freely designed. Also, maintenance gloves 10
Is always attached to the airtight maintenance port 9, and when not in use, maintenance gloves 1
It is also possible to turn 0 over and pull it out.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明のクリーントンネルのメンテナン
ス機構は、クリーントンネルの外壁上に所定間隔をおい
て設けた気密メンテナンスポートと、この気密メンテナ
ンスポートに気密に取り付けてクリーントンネル内の各
種ラインのメンテナンス時に使用するメンテナンスグロ
ーブとを備えることによって、クリーントンネル内の搬
送ライン6の故障修理や点検や異常が生じたワークの除
去等が必要な場合に、このメンテナンスグローブ10を
使用し、クリーントンネルと外気間の気密を保持したま
まで、必要な部品を製造ラインや搬送ラインを使用して
メンテナンス位置に搬送し、異常を発生したワークや取
り外した部品を製造ラインや搬送ラインを使用して搬出
することによって、メンテナンス作業を行うことができ
る。このようにすると、従来例のように、クリーントン
ネル内を外気に開放してメンテナンスを行う場合に比較
して、当初のクリーン状態に復帰させるに要する時間と
運転費用を極めて大幅に削減することができる。例え
ば、10個のクリーンモジュール1を接続したクリーン
トンネルの場合には、当初のクリーン状態に復帰させる
に要する時間は1/100程度、運転費用も1/100
程度になる。
The maintenance mechanism of the clean tunnel according to the present invention includes an airtight maintenance port provided on the outer wall of the clean tunnel at a predetermined interval, and airtightly attached to the airtight maintenance port to maintain various lines in the clean tunnel. This maintenance glove 10 is used when maintenance work for the transfer line 6 in the clean tunnel needs to be repaired or inspected, or if an abnormal work is removed by using the maintenance glove that is sometimes used. While maintaining the airtightness between the parts, the necessary parts are transferred to the maintenance position using the manufacturing line or the transfer line, and the defective work or removed parts are transferred using the manufacturing line or the transfer line. Maintenance work can be performed. By doing this, as compared with the case of performing maintenance by opening the inside of the clean tunnel to the outside air as in the conventional example, it is possible to significantly reduce the time and operation cost required to return to the initial clean state. it can. For example, in the case of a clean tunnel in which 10 clean modules 1 are connected, the time required to return to the initial clean state is about 1/100 and the operating cost is 1/100.
It will be about.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のクリーントンネルのメンテナンス機構
の一実施例を使用したクリーントンネルの断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view of a clean tunnel using an embodiment of a clean tunnel maintenance mechanism of the present invention.

【図2】図1の外観の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the appearance of FIG.

【図3】図2の一部拡大図である。FIG. 3 is a partially enlarged view of FIG.

【図4】図2の一部拡大図である。FIG. 4 is a partially enlarged view of FIG.

【図5】従来例のクリーントンネルの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of a conventional clean tunnel.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A 給気ゾーン B クリーントンネル部 C 排気ゾーン 1 クリーンモジュール 2 通気口 3 高性能フィルター(空気清浄化装置) 4 排気口 5 給排気装置 6 搬送ライン 7 給排気の流れ 7′ クリーンな空気の流れ 8 ワーク 9 気密メンテナンスポート 10 メンテナンスグローブ 11 カバー 12 カバーガイド 13 空気排出口 A Air supply zone B Clean tunnel part C Exhaust zone 1 Clean module 2 Vent 3 High performance filter (air purifier) 4 Exhaust 5 Air supply / exhaust 6 Transport line 7 Air supply / exhaust flow 7'Clean air flow 8 Work 9 Airtight maintenance port 10 Maintenance gloves 11 Cover 12 Cover guide 13 Air outlet

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 給排気装置と空気清浄化装置とによって
構成されるクリーン空間と、このクリーン空間内に配さ
れた製造ライン又は/及び搬送ラインとを有するクリー
ントンネルにおいて、クリーントンネルの外壁上に所定
間隔をおいて設けた気密メンテナンスポートと、この気
密メンテナンスポートに気密に取り付けて前記各種ライ
ンのメンテナンス時に使用するメンテナンスグローブと
を備えたことを特徴とするクリーントンネルのメンテナ
ンス機構。
1. A clean tunnel having a clean space constituted by an air supply / exhaust device and an air cleaning device, and a production line and / or a transfer line arranged in the clean space, on a outer wall of the clean tunnel. A maintenance mechanism for a clean tunnel, comprising: an airtight maintenance port provided at a predetermined interval, and a maintenance glove that is airtightly attached to the airtight maintenance port and used for maintenance of the various lines.
JP13277092A 1992-05-25 1992-05-25 Maintenance mechanism for clean tunnel Pending JPH05322249A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13277092A JPH05322249A (en) 1992-05-25 1992-05-25 Maintenance mechanism for clean tunnel

Applications Claiming Priority (1)

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Publications (1)

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JPH05322249A true JPH05322249A (en) 1993-12-07

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Country Status (1)

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JP (1) JPH05322249A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000346416A (en) * 1999-06-08 2000-12-15 Takasago Thermal Eng Co Ltd Circulating clean room
JPWO2004088743A1 (en) * 2003-03-28 2006-07-06 平田機工株式会社 Substrate transfer system

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000346416A (en) * 1999-06-08 2000-12-15 Takasago Thermal Eng Co Ltd Circulating clean room
JPWO2004088743A1 (en) * 2003-03-28 2006-07-06 平田機工株式会社 Substrate transfer system
JP4648190B2 (en) * 2003-03-28 2011-03-09 平田機工株式会社 Substrate transfer system

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