JPH0531671Y2 - - Google Patents
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- JPH0531671Y2 JPH0531671Y2 JP1985134990U JP13499085U JPH0531671Y2 JP H0531671 Y2 JPH0531671 Y2 JP H0531671Y2 JP 1985134990 U JP1985134990 U JP 1985134990U JP 13499085 U JP13499085 U JP 13499085U JP H0531671 Y2 JPH0531671 Y2 JP H0531671Y2
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 97
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 42
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 34
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 34
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 32
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 31
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 25
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 25
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 8
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 24
- -1 allyl 2-aziridinylpropionate Chemical compound 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 6
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 5
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 4
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004069 aziridinyl group Chemical group 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 3
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 3
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 2
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 2
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000005033 polyvinylidene chloride Substances 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 229910021487 silica fume Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- VTRHYFDNOLMPHD-UHFFFAOYSA-N (1-prop-2-enoyloxycyclohexyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1(OC(=O)C=C)CCCCC1 VTRHYFDNOLMPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEZCCHVCBAZAQD-UHFFFAOYSA-N 2-(aziridin-1-yl)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN1CC1 XEZCCHVCBAZAQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C(C)=C IEVADDDOVGMCSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C(C)=C ULYIFEQRRINMJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCOC(=O)C=C ZVYGIPWYVVJFRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 4-oxo-4-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)butanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC(=O)OCCOC(=O)C=C UZDMJPAQQFSMMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910015902 Bi 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910004261 CaF 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003327 LiNbO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910012463 LiTaO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N Rosin Natural products O(C/C=C/c1ccccc1)[C@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 KHPCPRHQVVSZAH-HUOMCSJISA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229910002370 SrTiO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical group O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTNAQYPNHOEHCW-UHFFFAOYSA-N [1-(2-methylprop-2-enoyloxy)cyclohexyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1(OC(=O)C(C)=C)CCCCC1 XTNAQYPNHOEHCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)butyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C(C)=C GCNKJQRMNYNDBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-2-(prop-2-enoyloxymethyl)butyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(CC)COC(=O)C=C TUOBEAZXHLTYLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CO)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C JUDXBRVLWDGRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000005007 epoxy-phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006242 ethylene acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000005242 forging Methods 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N methacrylamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O FQPSGWSUVKBHSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N morpholin-4-yl-(2-nitrophenyl)methanone Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C(=O)N1CCOCC1 ZZSKMNCIAKKVRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N n-(2-methyl-4-oxopentan-2-yl)prop-2-enamide Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C OMNKZBIFPJNNIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001289 polyvinyl ether Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- YZLDWOUBPARRAL-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;triazine Chemical compound OC(=O)C=C.C1=CN=NN=C1 YZLDWOUBPARRAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N trans-cinnamyl beta-D-glucopyranoside Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC=CC1=CC=CC=C1 KHPCPRHQVVSZAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本考案は証明書、証券等の表面の一部に貼りつ
けて使用し、剥離を試みると接着剤層からラベル
が破壊してしまうため、証明書、証券の貼りつけ
部分の記載事項の変更や、剥離して他の証明書、
証券等に貼り替えることが不可能なホログラムラ
ベルに関する。[Detailed description of the invention] (Field of industrial application) This invention is used by pasting it on a part of the surface of a certificate, securities, etc., and if you try to peel it off, the label will break from the adhesive layer. Change the information on the pasted part of the certificate or security, or remove it and attach it to another certificate.
This invention relates to hologram labels that cannot be reattached to securities, etc.
(従来の技術)
ホログラフイーはある平面における光波の振幅
と位相の両方を記録する技術であり、この技術に
よつて作られたホログラムは、通常の写真(一点
から見た映像しか捕えていない)にくらべ、異な
る角度から見た立体像を再生することが可能であ
る。更にホログラムは製造技術が高度なものであ
り、製造装置も複雑かつ高価であるために、ホロ
グラム自体の偽造、変造は一般的には困難であ
り、この偽造の困難性を利用し、証明書、証券等
の偽造防止手段としての使用が試みられている。(Prior technology) Holography is a technology that records both the amplitude and phase of light waves in a certain plane, and holograms created using this technology are similar to ordinary photographs (capturing images only from a single point). It is possible to reproduce stereoscopic images viewed from different angles. Furthermore, since holograms require advanced manufacturing technology and manufacturing equipment is complex and expensive, it is generally difficult to counterfeit or alter holograms. Taking advantage of this difficulty, certificates, Attempts are being made to use it as a means to prevent counterfeiting of securities, etc.
(考案が解決しようとする問題点)
しかし、ホログラムを単に被着体に貼りつけて
も、剥離して他の被着体に貼り替えたり、剥離し
た部分の被着体表面の記載事項を変えて再びホロ
グラムを貼りつけることは不可能ではなく、ホロ
グラム自体の偽造・変造の困難性が活用できな
い。(Problem that the invention aims to solve) However, even if a hologram is simply pasted on an adherend, it can be peeled off and replaced with another adherend, or the written information on the peeled part of the adherend surface can be changed. It is not impossible to paste the hologram again, but the difficulty of forging or altering the hologram itself makes it impossible to take advantage of it.
本考案は上記の点に鑑みてなされたものであ
り、ホログラムに脆質接着剤層を積層することに
よりホログラムラベルを形成すれば上記の欠点が
解消されることが明らかになつたため、これに基
いて考案されたものである。 The present invention has been developed in view of the above points, and it has become clear that the above drawbacks can be overcome by forming a hologram label by laminating a brittle adhesive layer on a hologram. It was devised by
(問題点を解決するための手段)
本考案のホログラムラベルは、ホログラム形成
層、反射性金属薄膜層、および接着剤層が順次積
層してあるホログラムラベルにおいて、前記接着
剤層が、接着性を有する合成樹脂と、前記合成樹
脂を脆質化させる無機質微粉末とからなる脆質接
着剤層であることを特徴とするものである。(Means for Solving the Problems) The hologram label of the present invention is a hologram label in which a hologram forming layer, a reflective metal thin film layer, and an adhesive layer are sequentially laminated, in which the adhesive layer has adhesive properties. The adhesive layer is characterized by being a brittle adhesive layer consisting of a synthetic resin containing a synthetic resin and an inorganic fine powder that makes the synthetic resin brittle.
以下、図面に基いて本考案を説明する。 The present invention will be explained below based on the drawings.
第1図は本考案のホログラムラベル1の基本構
造を示す断面図であつて、上面側からホログラム
形成層2、反射性金属薄膜層3、脆質接着剤層4
が順次積層されており、このホログラムラベル1
は接着剤層4が被着体の表面に接触するようにし
て重ね、必要に応じて加熱を行ないつつ、加圧し
て被着体に貼りつけるものである。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing the basic structure of the hologram label 1 of the present invention, in which from the top side a hologram forming layer 2, a reflective metal thin film layer 3, a brittle adhesive layer 4
are sequentially stacked, and this hologram label 1
The adhesive layer 4 is stacked so as to be in contact with the surface of the adherend, and is attached to the adherend by applying pressure while heating as necessary.
ホログラム形成層2は種々の材料により構成す
ることができ、銀塩を代表とする公知の写真材
料、感光性樹脂、サーモプラスチツクなどの材料
を使用することができる。しかし、これらの材料
はいずれにおいても露光と現像を要し、多数の原
版を用いて同時に行なつたにせよ、必ずしも量産
向きとは言えない。 The hologram forming layer 2 can be made of various materials, and materials such as known photographic materials typified by silver salts, photosensitive resins, and thermoplastics can be used. However, all of these materials require exposure and development, and even if this can be done simultaneously using a large number of original plates, they are not necessarily suitable for mass production.
そこで、ホログラムを感光性樹脂、サーモプラス
チツク等を利用して、一旦、凹凸の形で表現し
て、レリーフホログラムとし、得られたレリーフ
ホログラムを、めつき等により型取りして金型も
しくは樹脂型を作成し使用することにより、合成
樹脂に対する賦型法でレリーフホログラムの大量
複製が可能になる。この意味でホログラム形成層
2は賦型可能な合成樹脂により構成されているこ
とがより好ましい。Therefore, the hologram is first expressed in the form of unevenness using photosensitive resin, thermoplastic, etc. to create a relief hologram, and the resulting relief hologram is molded by plating or other methods into a mold or resin mold. By creating and using holograms, it becomes possible to reproduce large quantities of relief holograms using a molding method on synthetic resin. In this sense, it is more preferable that the hologram forming layer 2 is made of a moldable synthetic resin.
賦型可能な合成樹脂としては次のようなものを
挙げることができる。ポリ塩化ビニル、アクリル
(例、MMA)、ポリスチレン、ポリカーボネート
等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミ
ン、エポキシ、ポリエステル(メタ)アクリレー
ト、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ
(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)ア
クリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、
メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系ア
クリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、
或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合
物が使用可能である。 Examples of moldable synthetic resins include the following. Thermoplastic resins such as polyvinyl chloride, acrylic (e.g. MMA), polystyrene, polycarbonate, unsaturated polyester, melamine, epoxy, polyester (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, epoxy (meth)acrylate, polyether (meth) ) acrylate, polyol (meth)acrylate,
Cured thermosetting resins such as melamine (meth)acrylate and triazine acrylate,
Alternatively, a mixture of the above thermoplastic resin and thermosetting resin can be used.
更に賦型可能な合成樹脂として、ラジカル重合
性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能であ
り、これには次の2種類のものがある。 Furthermore, thermoformable materials having radically polymerizable unsaturated groups can be used as synthetic resins that can be shaped, and there are two types of these:
(1) ガラス転移点が0〜250℃のポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するもの。さらに具
体的には、ポリマーとしては以下の化合物〜
を重合もしくは共重合させたものに対し後述
する方法(イ)〜(ニ)によりラジカル重合性不飽和基
を導入したものを用いることができる。(1) Polymers with a glass transition point of 0 to 250°C that have radically polymerizable unsaturated groups. More specifically, the following compounds are used as polymers:
It is possible to use a product obtained by polymerizing or copolymerizing and introducing a radically polymerizable unsaturated group by methods (a) to (d) described below.
水酸基を有する単量体:N−メチロールア
クリルアミド、2−ヒドロキシエチルアクリ
レート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒド
ロキシブチルメタクリレート、2−ヒドロキ
シ−3−フエノキシプロピルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプロピ
ルアクリレートなど。 Monomers having hydroxyl groups: N-methylolacrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate,
2-hydroxypropyl methacrylate, 2
-Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, etc.
カルボキシル基を有する単量体:アクリル
酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチ
ルモノサクシネートなど。 Monomers with carboxyl groups: acrylic acid, methacrylic acid, acryloyloxyethyl monosuccinate, etc.
エポキシ基を有する単量体:グリシジルメ
タクリレートなど。 Monomers with epoxy groups: glycidyl methacrylate, etc.
アジリジニル基を有する単量体:2−アジ
リジニルエチルメタクリレート、2−アジリ
ジニルプロピオン酸アリルなど。 Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinylethyl methacrylate, allyl 2-aziridinylpropionate, etc.
アミノ基を有する単量体:アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリ
ルアミド、ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、ジエチルアミノエチルメタクリレート
など。 Monomers with amino groups: acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, etc.
スルフオン基を有する単量体:2−アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルフオン酸
など。 Monomer having a sulfon group: 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid, etc.
イソシアネート基を有する単量体:2,4
−トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキ
シエチルアクリレートの1モル対1モル付加
物などのジイソシアネートと活性水素を有す
るラジカル重合性単量体の付加物など。 Monomer having isocyanate group: 2,4
- Adducts of diisocyanates and radically polymerizable monomers having active hydrogen, such as 1 mol to 1 mol adducts of toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate.
さらに、上記の共重合体のガラス転移点を
調節したり、硬化膜の物性を調節したりする
ために、上記の化合物と、この化合物と共重
合可能な以下のような単量体と共重合させる
こともできる。このような共重合可能な単量
体としては、例えばメチルメタクリレート、
メチルアクリレート、エチルアクリレート、
エチルメタクリレート、プロピルアクリレー
ト、プロピルメタクリレート、ブチルアクリ
レート、ブチルメタクリレート、イソブチル
アクリレート、イソブチルメタクリレート、
t−ブチルアクリレート、t−ブチルメタク
リレート、イソアミルアクリレート、イソア
ミルメタクリレート、シクロヘキシルアクリ
レート、シクロヘキシルメタクリレート、2
−エチルヘキシルアクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。 Furthermore, in order to adjust the glass transition point of the above copolymer and the physical properties of the cured film, the above compound is copolymerized with the following monomers that can be copolymerized with this compound. You can also do it. Examples of such copolymerizable monomers include methyl methacrylate,
Methyl acrylate, ethyl acrylate,
Ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate,
t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, isoamyl acrylate, isoamyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2
-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, and the like.
次に上述のようにして得られた重合体を以下に
述べる方法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル重合
性不飽和基を導入することによつて、本発明に係
る材料を得ることができる。 Next, the material according to the present invention is obtained by reacting the polymer obtained as described above by methods (a) to (d) described below to introduce a radically polymerizable unsaturated group. Can be done.
(イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共
重合体の場合にはアクリル酸、メタクリル
酸などのカルボキシル基を有する単量体な
どを縮合反応させる。 (a) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid is subjected to a condensation reaction.
(ロ) カルボキシル基、スルフオン基を有する
単量体の重合体または共重合体の場合には
前述の水酸基を有する単量体を縮合反応さ
せる。 (b) In the case of a polymer or copolymer of monomers having a carboxyl group or a sulfonate group, the aforementioned monomers having a hydroxyl group are subjected to a condensation reaction.
(ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいは
アジリジニル基を有する単量体の重合体ま
たは共重合体の場合には前述の水酸基を有
する単量体もしくはカルボキシル基を有す
る単量体を付加反応させる。 (c) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group, or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction.
(ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する
単量体の重合体または共重合体の場合には
エポキシ基を有する単量体あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体あるいはジイソシ
アネート化合物と水酸基含有アクリル酸エ
ステル単量体の1対1モルの付加物を付加
反応させる。 (d) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group or a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylic ester monomer A 1:1 mole ratio of the adducts is subjected to an addition reaction.
上記の反応を行うには、微量のハイドロキノ
ンなどの重合禁止剤を加え乾燥空気を送りなが
ら行うことが好ましい。 In order to carry out the above reaction, it is preferable to add a trace amount of a polymerization inhibitor such as hydroquinone and carry out the reaction while blowing dry air.
(2) 融点が0〜250℃でありラジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具体的にはステアリルア
クリレート、ステアリルメタクリレート、トリ
アクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジ
オールジアクリレート、シクロヘキサンジオー
ルジメタクリレート、スピログリコールジアク
リレート、スピログリコールジメタクリレート
などが挙げられる。(2) A compound having a melting point of 0 to 250°C and having a radically polymerizable unsaturated group. Specific examples include stearyl acrylate, stearyl methacrylate, triacryl isocyanurate, cyclohexanediol diacrylate, cyclohexanediol dimethacrylate, spiroglycol diacrylate, and spiroglycol dimethacrylate.
また、賦型可能な合成樹脂として前記(1)、(2)を
混合して用いることもでき、さらに、それらに対
してラジカル重合性不飽和単量体を加えることも
できる。このラジカル重合性不飽和単量体は、電
離放射線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を
向上させるものであつて、前述の単量体の他にエ
チレングリコールジアクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、トリメチロー
ルプロパンジアクリレート、トリメチロールプロ
パンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレー
ト、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、エチレングリコールジグリシジル
エーテルジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジメタ
クリレート、プロピレングリコールジグリシジル
エーテルジアクリレート、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジグリシジルエーテルジアク
リレート、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ソルビトールテト
ラグリシジルエーテルテトラアクリレート、ソル
ビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタク
リレートなどを用いることができ、前記した共重
合体混合物の固型分100重量部に対して、0.1〜
100重量部で用いることが好ましい。また、上記
のものは電子線により充分に硬化可能であるが、
紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤として
ベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテルなどのベンゾインエーテル類、ハロゲン化
アセトフエノン類、ビアセチル類などの紫外線照
射によりラジカルを発生するものも用いることが
できる。 Furthermore, the above (1) and (2) can be used in combination as a moldable synthetic resin, and a radically polymerizable unsaturated monomer can also be added to them. This radically polymerizable unsaturated monomer improves crosslinking density and heat resistance when irradiated with ionizing radiation, and in addition to the above-mentioned monomers, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, Polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate, trimethylolpropane dimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, penta Erythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, Polyethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, propylene glycol diglycidyl ether diacrylate, propylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, sorbitol tetraglycidyl ether tetraacrylate, sorbitol tetraglycidyl Ether tetramethacrylate etc. can be used, and 0.1 to 100 parts by weight of the solid content of the copolymer mixture described above can be used.
It is preferable to use 100 parts by weight. In addition, although the above materials can be sufficiently cured by electron beams,
In the case of curing by ultraviolet irradiation, sensitizers that generate radicals upon ultraviolet irradiation, such as benzoquinone, benzoin, benzoin ethers such as benzoin methyl ether, halogenated acetophenones, and biacetyls, can also be used.
ホログラム形成層2にレリーフホログラムを上
記のような賦型可能な合成樹脂を使用して設ける
には、従来既知の方法が利用できる。レリーフホ
ログラムを形成するための型としては、
(1) ホログラムの干渉縞が凹凸の形でフオトレジ
スト上に、露光及び現像により形成されている
もの、
(2) 上記(1)の凹凸のある側(型面)に、銀めつき
及びニツケルめつきを行う等により、上記(1)の
凹凸が複製された金型、および
(3) 上記(1)もしくは(2)の型の型面の凹凸を合成樹
脂で複製した樹脂型等
のいずれでも使用でき、これらの型は適宜な手段
で多数複製して適当な配列を行つて複合型とし、
一回の賦型工程で多くのレリーフホログラムが複
製できるようにするとよい。なお、合成樹脂で型
を作る際には、型の耐摩耗性、熱プレスするとき
は型の耐熱性を向上させる意味で、熱硬化性もし
くは電離放射線硬化性の硬化性の合成樹脂を型の
材料として使用するのがよい。 A conventionally known method can be used to provide a relief hologram in the hologram forming layer 2 using the above-described moldable synthetic resin. The molds for forming relief holograms include: (1) The hologram's interference fringes are formed in the form of unevenness on the photoresist by exposure and development, and (2) The uneven side of (1) above is used. A mold in which the unevenness of (1) above is duplicated by silver plating or nickel plating on the (mold surface), and (3) the unevenness of the mold surface of the mold of (1) or (2) above. It is possible to use any resin mold made by duplicating the above using synthetic resin, and these molds can be made into a composite mold by duplicating them in large numbers using appropriate means and arranging them in an appropriate manner.
It is preferable that many relief holograms can be reproduced in one molding process. When making molds from synthetic resins, thermosetting or ionizing radiation-curable synthetic resins are used in the molds to improve the wear resistance of the molds, and to improve the heat resistance of the molds when hot pressing. Good to use as a material.
なお、ホログラム形成層2に凹凸の形で設ける
ホログラムとしては、リツプマンホログラムを除
く、フレネルホログラム、フーリエ変換ホログラ
ム、フランホーフアーホログラムなどの原理のも
のに及び、それらの原理を利用したイメージホロ
グラム、レインボーホログラム、ホログラフイツ
クステレオグラム、ホログラフイツク回折格子な
どが用いられる。 Note that the holograms provided in the hologram forming layer 2 in the form of unevenness include those based on principles such as Fresnel holograms, Fourier transform holograms, and Fraunhofer holograms, excluding Lipman holograms, and image holograms using these principles. , rainbow hologram, holographic stereogram, holographic diffraction grating, etc. are used.
このホログラム形成層は、ラベル剥離時に脆質
接着剤層と共に容易に破断する必要があり、厚み
は、0.4〜4μ程度とするのがよい。 This hologram forming layer needs to be easily broken together with the brittle adhesive layer when the label is peeled off, and its thickness is preferably about 0.4 to 4 μm.
反射性金属薄膜層3はホログラム形成層2のホ
ログラムに反射性を与えるものであつて、Cr、
Ti、Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ge、Al、
Mg、Sb、Pb、Pd、Cd、Bi、Sn、Se、In、Ga、
Rbなどの金属およびその酸化物、窒化物などを
単独もしくは2種以上組合せて用いて形成され
る。これらの金属のうちAl、Cr、Ni、Ag、Au
などが特に好ましい。 The reflective metal thin film layer 3 imparts reflectivity to the hologram of the hologram forming layer 2, and is made of Cr,
Ti, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, Au, Ge, Al,
Mg, Sb, Pb, Pd, Cd, Bi, Sn, Se, In, Ga,
It is formed using a metal such as Rb, its oxide, nitride, etc. alone or in combination of two or more. Among these metals, Al, Cr, Ni, Ag, Au
etc. are particularly preferred.
反射性金属薄膜層3は蒸着、スパツタリング、
イオンプレーテイング、CVDなどの方法や、め
つきによつて形成でき、その厚みは200〜1000Å
であることが好ましい。 The reflective metal thin film layer 3 is formed by vapor deposition, sputtering,
It can be formed by methods such as ion plating, CVD, or plating, and its thickness is 200 to 1000 Å.
It is preferable that
あるいは上記のような金属、金属酸化物、もし
くは金属窒化物の単独もしくは組合せの薄膜以外
に、ホログラム形成層2とは異なる屈折率を持つ
物質の連続薄膜を設けても、このような膜自体は
透明であるにも拘らず、反射性金属薄膜層として
使用できる。 Alternatively, even if a continuous thin film of a substance having a refractive index different from that of the hologram forming layer 2 is provided in addition to the above thin film of metal, metal oxide, or metal nitride alone or in combination, such a film itself Despite being transparent, it can be used as a reflective metal thin film layer.
このうち屈折率がホログラム形成層より大きい
ものとしては(以下、材質名の右にカツコ書きで
屈折率:nを付記する)、Sb2S3(n=3.0)、Fe2
O3(n=2.7)、TiO2(n=2.6)、CbS(n=2.6)、
CeO2(n=2.3)、ZnS(n=2.3)、PbCl2(n=
2.3)、CdO(n=2.2)、Sb2O3(n=2.0),WO3(n
=2.0)、SiO(n=2.0)、Bi2O3(n=2.5)、In2O3
(n=2.0)、PbO(n=2.6)、Ta2O5(n=2.4)、
ZnO(n=2.1)、ZrO2(n=2.0)、Cd2O3(n=
1.8)、Al2O3(n=1.6)、CaO・SiO2(n=1.8)、
などが挙げられる。 Among these, those whose refractive index is larger than the hologram forming layer (hereinafter, refractive index: n is added in a box to the right of the material name) are Sb 2 S 3 (n = 3.0), Fe 2
O 3 (n=2.7), TiO 2 (n=2.6), CbS (n=2.6),
CeO 2 (n=2.3), ZnS (n=2.3), PbCl 2 (n=
2.3), CdO (n=2.2), Sb 2 O 3 (n=2.0), WO 3 (n
= 2.0), SiO (n = 2.0), Bi 2 O 3 (n = 2.5), In 2 O 3
(n=2.0), PbO (n=2.6), Ta 2 O 5 (n=2.4),
ZnO (n=2.1), ZrO 2 (n=2.0), Cd 2 O 3 (n=
1.8), Al 2 O 3 (n=1.6), CaO・SiO 2 (n=1.8),
Examples include.
連続薄膜はその屈折率がホログラム形成層2の
屈折率よりも0.3以上大きいことが好ましく、よ
り好ましくは0.5以上大きいことである。本考案
者等の実験によれば1.0以上大きいことが最適で
あるという結果がもたらされている。 The continuous thin film preferably has a refractive index greater than the refractive index of the hologram forming layer 2 by 0.3 or more, more preferably by 0.5 or more. According to experiments conducted by the inventors of the present invention, a value larger than 1.0 is optimal.
連続薄膜の膜厚は薄膜を形成する材料の透明領
域であればよいが通常は100〜10,000Åが好まし
い。連続薄膜をホログラム形成層のレリーフ形成
面に形成する方法として、真空蒸着法、スパツタ
リング法、反応性スパツタリング法、イオンプレ
ーテイング法などの一般的薄膜形成手段が採用で
きる。 The thickness of the continuous thin film may be within the transparent region of the material forming the thin film, but is usually preferably 100 to 10,000 Å. As a method for forming a continuous thin film on the relief forming surface of the hologram forming layer, general thin film forming methods such as vacuum evaporation, sputtering, reactive sputtering, and ion plating can be employed.
このように屈折率の大きい連続薄膜を設ける
と、ホログラムの特徴である再生の角度依存性に
より、ホログラムの再生可能な角度範囲外では単
なる透明体としてしか見えず、ホログラムの再生
可能な角度範囲内では光の反射率が最大になり、
反射型ホログラムとしての効果が出てくる。 When a continuous thin film with a high refractive index is provided in this way, due to the angular dependence of reproduction, which is a characteristic of holograms, it appears as a mere transparent body outside the angular range where the hologram can be reproduced; , the reflectance of light is maximum,
The effect as a reflection hologram appears.
上記した連続薄膜はホログラム形成層の屈折率
よりも小さいものであつてもよく、LiF(n=
1.4)、MgF2(n=1.4)、3NaF・AlF3(n=1.4も
しくは1.2)、AlF3(n=1.4)、CaF2(n=1.3もし
くは1.4)、NaF(n=1.3)などが例示される。 The continuous thin film described above may have a refractive index smaller than that of the hologram forming layer, and LiF (n=
1.4), MgF 2 (n=1.4), 3NaF・AlF 3 (n=1.4 or 1.2), AlF 3 (n=1.4), CaF 2 (n=1.3 or 1.4), NaF (n=1.3), etc. be done.
あるいは、ホログラム形成層より屈折率が大き
い透明な強誘導体も同様に使用でき、CuCl(n=
2.0)、CuBr(n=2.2)、CaAS(n=3.3〜3.6)、
GaP(n=3.3〜3.5)、N4(CH2)6(n=1.6)、Bi4
(GeO4)3(n=2.1)、KH2PO4(KDP)(n=1.5)、
KD2PO5(n=1.5)、NH4H2PO4(n=1.5)、KH2
ASO4(n=1.6)、RbH2ASO4(n=1.6)、BaTiO3
(n=2.4)、KTa0.65Nb0.35O3(n=2.3)、K0.6Li0.4
NbO3(n=2.3)、KSr2Nb5O15(n=2.3)、SrX
Ba1-XNb2O6(n=2.3)、Ba2NaNbO15(n=2.3)、
LiNbO3(n=2.3)、LiTaO3(n=2.4)、SrTiO3
(n=2.4)、KTaO3(n=2.2)等が例示される。 Alternatively, a transparent ferroconductor with a higher refractive index than the hologram forming layer can be used as well, CuCl (n=
2.0), CuBr (n=2.2), CaAs (n=3.3-3.6),
GaP (n=3.3-3.5), N4 ( CH2 ) 6 (n=1.6), Bi4
(GeO 4 ) 3 (n=2.1), KH 2 PO 4 (KDP) (n=1.5),
KD 2 PO 5 (n=1.5), NH 4 H 2 PO 4 (n=1.5), KH 2
A S O 4 (n=1.6), RbH 2 A S O 4 (n=1.6), BaTiO 3
(n=2.4), KTa 0.65 Nb 0.35 O 3 (n=2.3), K 0.6 Li 0.4
NbO 3 (n=2.3), KSR 2 Nb 5 O 15 (n=2.3), Sr
Ba 1-X Nb 2 O 6 (n=2.3), Ba 2 NaNbO 15 (n=2.3),
LiNbO3 (n=2.3), LiTaO3 (n=2.4), SrTiO3
(n=2.4), KTaO 3 (n=2.2), etc.
更に前記した反射性金属薄膜層であつても厚み
が200Å以下の場合は屈折率は複素屈折率n*(n*
=n−iκ)で表わされ、透過率がかなり小さいた
めに透明でありながら反射性金属薄膜層として使
用しうる。具体的にはBe(n=2.7、κ=0.9、以
下n,κの順で記載)、Mg(0.6、0.1)、Ca(0.3、
8.1)、Sr(0.6、3.2)、Ba(0.9、1.7)、La(1.8、
1.9)、Ce(1.7、1.4)、Cr(3.3、1.3)、Mn(2.5、
1.3)、Cu(0.7、2.4)、Ag(0.1、3.3)、Au(0.3、
2.4)、Al(0.8、5.3)、Sb(3.0、1.6)、Pb(1.9、
)、Ni(1.8、 )、その他Su、In、Te等があ
る。 Furthermore, even if the reflective metal thin film layer mentioned above has a thickness of 200 Å or less, the refractive index will be the complex refractive index n * (n *
= n−iκ), and since the transmittance is quite low, it can be used as a reflective metal thin film layer even though it is transparent. Specifically, Be (n = 2.7, κ = 0.9, hereinafter written in the order of n and κ), Mg (0.6, 0.1), Ca (0.3,
8.1), Sr (0.6, 3.2), Ba (0.9, 1.7), La (1.8,
1.9), Ce (1.7, 1.4), Cr (3.3, 1.3), Mn (2.5,
1.3), Cu (0.7, 2.4), Ag (0.1, 3.3), Au (0.3,
2.4), Al (0.8, 5.3), Sb (3.0, 1.6), Pb (1.9,
), Ni (1.8, ), and others such as Su, In, and Te.
又、ホログラム形成層2とは屈折率の異なる透
明な合成樹脂の層を反射性金属薄膜層3に代用す
ることもでき、具体的な合成樹脂として使用でき
るものは次のようなものである。 Further, a layer of transparent synthetic resin having a different refractive index from that of the hologram forming layer 2 may be substituted for the reflective metal thin film layer 3. Specific synthetic resins that can be used are as follows.
ポリテトラフロロエチレン(屈折率;n=
1.35)、ポリクロロトリフロロ(n=1.43)、ポリ
酢酸ビニル(n=1.45〜1.47)ポリエチレン(n
=1.50〜1.54)、ポリプロピレン(n=1.49)、ポ
リメチルメタクリレート(n=1.49)、ポリスチ
レン(n=1.60)、ポリ塩化ビニリデン(n=
1.60〜1.63)、ポリビニルブチラール(n=1.48)、
ポリビニルホルマール(n=1.50)、ポリ塩化ビ
ニル(n=1.52〜1.55)、ポリエステル(n=1.52
〜1.57)。 Polytetrafluoroethylene (refractive index; n=
1.35), polychlorotrifluoro (n=1.43), polyvinyl acetate (n=1.45-1.47), polyethylene (n
= 1.50-1.54), polypropylene (n = 1.49), polymethyl methacrylate (n = 1.49), polystyrene (n = 1.60), polyvinylidene chloride (n =
1.60-1.63), polyvinyl butyral (n=1.48),
Polyvinyl formal (n=1.50), polyvinyl chloride (n=1.52-1.55), polyester (n=1.52)
~1.57).
なお、ホログラム形成層2を反射性金属薄膜層
3を伴うことなく、単独で用いてもホログラムは
視認可能であるので、反射性金属薄膜層3は省略
しうる。 Note that the hologram is visible even when the hologram forming layer 2 is used alone without the reflective metal thin film layer 3, so the reflective metal thin film layer 3 can be omitted.
本考案におけるホログラムは上記のようにホロ
グラムの凹凸を下面に有するホログラム形成層2
および、ホログラム形成層の下面の反射性金属薄
膜層3とを原則的に有しているが、ホログラムの
凹凸を上面に有するホログラム形成層と、ホログ
ラムの凹凸の上に接して、もしくはホログラムの
凹凸のない方の面に接して設けられた反射性金属
薄膜層とから成つていてもよい。 The hologram in the present invention has a hologram forming layer 2 having hologram irregularities on the lower surface as described above.
In principle, it has a reflective metal thin film layer 3 on the lower surface of the hologram forming layer, but the hologram forming layer has the unevenness of the hologram on the upper surface, and the hologram forming layer is in contact with the unevenness of the hologram, or is in contact with the unevenness of the hologram. It may also consist of a reflective metal thin film layer provided in contact with the side without the reflective metal layer.
本考案においてはホログラムの下層に脆質接着
剤層4を設ける。脆質接着剤層4はホログラムを
被貼着体の表面に貼りつける役割を有している
が、ホログラムを被貼着体よりはがそうとすると
きは、脆質接着剤層間の剥離が、ホログラムの破
壊のきつかけとなるものである。 In the present invention, a brittle adhesive layer 4 is provided below the hologram. The brittle adhesive layer 4 has the role of pasting the hologram onto the surface of the object to which it is adhered, but when trying to peel off the hologram from the object, the peeling between the brittle adhesive layers occurs. This is the trigger for the destruction of the hologram.
脆質接着剤層4は、典型的には、接着性を有す
る合成樹脂に、この合成樹脂を脆質化させる充填
剤を添加した組成物からなつている。 The brittle adhesive layer 4 is typically made of a composition in which a filler that makes the synthetic resin brittle is added to a synthetic resin having adhesive properties.
脆質接着剤層4を構成する合成樹脂としては次
のように種々のものが使用でき、種々のタイプの
接着剤がこの層を形成する目的で使用でき、次の
ような接着剤が例示される。フエノール系樹脂、
フエノール系樹脂、フラン系樹脂、尿素系樹脂、
メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、エポヰシ系樹脂若しくはその他の熱
硬化性樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルア
ルコール樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニル
ブチラール樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、
ニトロセルロース、ポリアミド若しくはその他の
熱可塑性樹脂、ブタジエン−アクリロニトリルゴ
ム、ネオプレンゴム若しくはその他のゴム、又
は、ニカワ、天然樹脂、カゼイン、ケイ酸ナトリ
ウム、デキストリン、でんぷん、アラビアゴム等
のうち1種又は2種以上を主成分とする接着剤を
使用することができる。又、これら接着剤は溶液
型、エマルジヨン型、粉末型又はフイルム型等の
いずれのものでもよく、又、常温固化型、溶剤揮
発固化型、融解固化型等のいずれのものでもよ
い。 Various types of synthetic resins can be used as the synthetic resin constituting the brittle adhesive layer 4, and various types of adhesives can be used to form this layer, and the following adhesives are exemplified. Ru. phenolic resin,
Phenol resin, furan resin, urea resin,
Melamine resin, polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin or other thermosetting resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl butyral resin, poly(meth)acrylic resin,
One or two of nitrocellulose, polyamide or other thermoplastic resin, butadiene-acrylonitrile rubber, neoprene rubber or other rubber, or glue, natural resin, casein, sodium silicate, dextrin, starch, gum arabic, etc. Adhesives containing the above as main components can be used. Further, these adhesives may be of any type such as solution type, emulsion type, powder type, or film type, and may also be of any type such as room temperature solidification type, solvent volatilization type, melting and solidification type, etc.
更には、本考案においては接着剤層を構成する
材料として粘着剤と言われるもの、例えばアクリ
ル樹脂、アクリル酸エステル樹脂、又は、これら
の共重合体、スチレンブタジエン共重合体、天然
ゴム、カゼイン、ゼラチン、ロジンエステル、テ
ルペン樹脂、フエノール系樹脂、スチレン系樹
脂、クロマンインデン樹脂、キシレン、脂肪族系
炭化水素、ポリビニールアルコール、ポリエチレ
ンオキシド、ポリメチレンオキシド、ポリエチレ
ンスルホン酸等が用いうるし、加熱により接着性
が付与される感熱接着剤(言い換えればヒートシ
ール剤)を用いることもできる。感熱接着剤を構
成する材料としては、ポリエチレン、ポリ酢酸ビ
ニル、又はこれらの共重合体、アクリル樹脂又は
エチレン−アクリル酸共重合体、ポリビニルブチ
ラール、ポリアミド、ポリエステル、可塑化クロ
ロプレン、ポリプロピレン、ポリビニルアルコー
ル、ポリカーボネート、ポリビニルエーテル、ポ
リウレタン、セルロース系樹脂、ワツクス類、パ
ラフイン類、ロジン類、アスフアルト類等の熱可
塑性樹脂、エポキシ樹脂、フエノール樹脂等の未
硬化の熱硬化樹脂が挙げられる。 Furthermore, in the present invention, materials constituting the adhesive layer include what is called an adhesive, such as acrylic resin, acrylic acid ester resin, or a copolymer thereof, styrene-butadiene copolymer, natural rubber, casein, Gelatin, rosin ester, terpene resin, phenolic resin, styrene resin, chromanindene resin, xylene, aliphatic hydrocarbon, polyvinyl alcohol, polyethylene oxide, polymethylene oxide, polyethylene sulfonic acid, etc. can be used, and they can be bonded by heating. It is also possible to use a heat-sensitive adhesive (in other words, a heat-sealing agent) to which properties are imparted. Materials constituting the heat-sensitive adhesive include polyethylene, polyvinyl acetate, or a copolymer thereof, acrylic resin or ethylene-acrylic acid copolymer, polyvinyl butyral, polyamide, polyester, plasticized chloroprene, polypropylene, polyvinyl alcohol, Examples include thermoplastic resins such as polycarbonate, polyvinyl ether, polyurethane, cellulose resins, waxes, paraffins, rosins, asphalts, and uncured thermosetting resins such as epoxy resins and phenolic resins.
脆質接着剤層4は、厚みが20〜50μ程度となる
ように設けるとよい。 The brittle adhesive layer 4 is preferably provided to have a thickness of about 20 to 50 μm.
脆質接着剤層には、更に充填剤として、炭カ
ル、タルク、チヤイナクレー、カオリン、マイク
ロシリカ、TiO2、ガラスフレーク、アスベスト、
ろう石粉、けい石粉末(石粉)、硫酸バリウム、
シエルベン、シアモツト等、無機質微粉末を合成
樹脂100重量部に対して80〜200重量部添加するこ
とにより、一層もろくなるので、層間の剥離がよ
り一層確実になる。 The brittle adhesive layer further contains fillers such as charcoal, talc, china clay, kaolin, microsilica, TiO 2 , glass flakes, asbestos,
Silica powder, silica powder (stone powder), barium sulfate,
By adding 80 to 200 parts by weight of an inorganic fine powder such as Sielben or Siamoto to 100 parts by weight of the synthetic resin, it becomes even more brittle, so that peeling between the layers becomes even more reliable.
本考案は上記の基本構成からなつているが、必
要に応じ、次のような改変を行うこともできる。 Although the present invention has the basic configuration described above, the following modifications can be made as necessary.
第2図は反射性金属薄膜層3と脆質接着剤層4
との間にアンカー層5を形成したものである。ア
ンカー層5は脆質層4の上面を反射性金属薄膜層
3に強固に接着させ、脆質接着剤層4がラベル1
を被着体からはがすときに必ず反射性金属薄膜層
3に付着するようにする。アンカー層5の具体的
な構成材料としては塩化ビニル、酢酸ビニル、ポ
リビニルアルコール、および、これらの共重合
体、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエス
テル系樹脂、などの従来アンカー層として、既知
のものが広く使用できる。 Figure 2 shows a reflective metal thin film layer 3 and a brittle adhesive layer 4.
An anchor layer 5 is formed between the two. The anchor layer 5 firmly adheres the upper surface of the brittle layer 4 to the reflective metal thin film layer 3, and the brittle adhesive layer 4 adheres to the label 1.
Make sure that the reflective metal thin film layer 3 adheres to the reflective metal thin film layer 3 when it is peeled off from the adherend. Specific constituent materials for the anchor layer 5 include vinyl chloride, vinyl acetate, polyvinyl alcohol, copolymers thereof, urethane resins, epoxy resins, polyester resins, and other materials known as conventional anchor layers. can be widely used.
アンカー層5と同様な意味で接着剤層をアンカ
ー層5に置き換えて使用することもでき、この接
着剤層の厚みは4〜20μ程度である。 An adhesive layer can also be used in place of the anchor layer 5 in the same sense as the anchor layer 5, and the thickness of this adhesive layer is about 4 to 20 μm.
上記アンカー層もしくは接着剤層を設けておく
と、ラベル1を被着体から注意深くはがしたとし
ても、脆質接着剤層4が必ず反射性金属薄膜層3
側にも接着し、脆質接着剤層4の層間剥離がきつ
かけとなつて、ホログラムが破壊されるととも
に、反射性金属薄膜層3に残つている脆質接着剤
層4の表面は脆質接着剤層の接着力の不均一によ
り凸凹が露出し、再使用の妨げとなる。 If the anchor layer or adhesive layer is provided, even if the label 1 is carefully peeled off from the adherend, the brittle adhesive layer 4 will always be attached to the reflective metal thin film layer 3.
The surface of the brittle adhesive layer 4 remaining on the reflective metal thin film layer 3 becomes brittle. Uneven adhesive strength of the adhesive layer exposes unevenness, which impedes reuse.
第3図はホログラム形成層2を支持体6および
ホログラム形成樹脂層7の積層体とした例であ
る。 FIG. 3 shows an example in which the hologram forming layer 2 is a laminate of a support 6 and a hologram forming resin layer 7.
レリーフホログラムの凹凸は実際には非常に
細かいのでホログラム形成層自体はごく薄い合成
樹脂層で構成することができる。しかし、一般的
に言つて、ごく薄い合成樹脂のフイルムを取り扱
うのは困難であり、又、加工後も使用者の手に渡
るまでは、ごく薄い合成樹脂層は何らかの手段に
より補強されているのがよい。 Since the relief hologram has very fine irregularities, the hologram forming layer itself can be composed of a very thin synthetic resin layer. However, it is generally difficult to handle extremely thin synthetic resin films, and even after processing, the extremely thin synthetic resin layer must be reinforced by some means before it reaches the user. Good.
ここで一つの有効な手段はホログラム形成層を
単一の層ではなく、透明な支持体にホログラム形
成樹脂層を積層した積層体として構成することで
ある。例えば、透明な支持体6に合成樹脂を塗
布、溶融塗布、もしくはラミネート等の積層手段
により積層し、その後ホログラムを賦型するか、
或いは積層と共にホログラムを賦型することによ
り、レリーフホログラムの形成が容易になり、取
り扱いも容易になる上、支持体6はラベルとして
使用する際にはホログラム形成樹脂層7の保護層
となりうる。 One effective means here is to configure the hologram forming layer not as a single layer but as a laminate in which a hologram forming resin layer is laminated on a transparent support. For example, a synthetic resin may be coated on the transparent support 6, laminated by a laminating method such as melt coating, or lamination, and then a hologram may be formed.
Alternatively, by forming a hologram along with lamination, it becomes easy to form a relief hologram and the handling becomes easy, and the support 6 can serve as a protective layer for the hologram-forming resin layer 7 when used as a label.
ここで支持体6としては上記のような機能を有
するものであれば何でもよいが、通常はプラスチ
ツクフイルムの透明なものを用いるのがよく、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ル/酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、
ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリビ
ニルブチラール、ポリカーボネート、ポリアミ
ド、セルロース系樹脂、ナイロン、アクリル系樹
脂、ふつ素樹脂、等の重合体フイルムも用いられ
うる。とりわけ、抗張力、耐熱性を有するポリエ
チレンテレフタレートフイルムがよい。 The support 6 may be any material as long as it has the above-mentioned functions, but it is usually preferable to use a transparent plastic film, such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyvinyl chloride, or vinyl chloride. /vinyl acetate copolymer, polyvinylidene chloride,
Polymer films such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyamide, cellulose resin, nylon, acrylic resin, fluororesin, etc. can also be used. In particular, polyethylene terephthalate film having high tensile strength and heat resistance is preferred.
第4図に示すものは第3図に示すものの変形例
であり、支持体6とホログラム形成樹脂層7の間
に剥離層8を有しており、このようにすると、ラ
ベルを被着体にラミネートした後、支持体6をは
がし、支持体6によつてホログラムの効果が若干
低下することが防止できる。 The one shown in FIG. 4 is a modification of the one shown in FIG. 3, and has a peeling layer 8 between the support 6 and the hologram forming resin layer 7. After laminating, the support 6 is peeled off, and the effect of the hologram can be prevented from being slightly reduced by the support 6.
ここで剥離層8は剥離の際に層6側、層7側の
いずれに付着してもよく、又、層8の層間で剥離
してもよい。層7側に付着する場合は剥離層8を
ホログラム形成樹脂層の保護層とすることもでき
る。なお、支持体6が元来、剥離性を有している
ならば、剥離層8を省略することもできる。 Here, the peeling layer 8 may be attached to either the layer 6 side or the layer 7 side during peeling, or may be peeled off between the layers 8. When attached to the layer 7 side, the peeling layer 8 can also be used as a protective layer for the hologram-forming resin layer. Note that if the support 6 originally has releasability, the release layer 8 can be omitted.
支持体6をはがして使用する場合、支持体6と
下層との剥離強度は脆質接着剤層4の層間強度も
しくは被着体との剥離強度よりも弱くしておくこ
とが望ましく、このようにすると支持体6をはが
す際にホログラムが一緒にはがれることが防止で
きる。 When using the support 6 by peeling it off, it is desirable that the peel strength between the support 6 and the lower layer be weaker than the interlayer strength of the brittle adhesive layer 4 or the peel strength with the adherend. This prevents the hologram from being peeled off when the support 6 is peeled off.
なお、支持体6をはがす場合には上記のいずれ
の場合においても、ホログラム形成樹脂層上に接
して保護層を設けておくのが有効である。 In addition, when the support body 6 is to be peeled off, it is effective to provide a protective layer in contact with the hologram-forming resin layer in any of the above cases.
保護層としては、ポリメチルメタクリレート樹
脂と他の熱可塑性、例えば塩化ビニル/酢酸ビニ
ル共重合体もしくはニトロセルロース樹脂との混
合物、またはポリメチルメタクリレート樹脂とポ
リエチレンワツクスとの混合物等が挙げられ、
又、酢酸セルロース樹脂と熱硬化性樹脂、例えば
エポキシ樹脂、フエノール樹脂、熱硬化型アクリ
ル樹脂もしくはメラミン樹脂との混合物が望まし
い例として挙げられる。 Protective layers include mixtures of polymethyl methacrylate resin and other thermoplastics, such as vinyl chloride/vinyl acetate copolymers or nitrocellulose resins, or mixtures of polymethyl methacrylate resin and polyethylene wax, etc.
Desirable examples include mixtures of cellulose acetate resin and thermosetting resins such as epoxy resins, phenolic resins, thermosetting acrylic resins, or melamine resins.
本考案において各層の厚みは特に限定されない
が、被着体表面に貼りつけたときに過度に厚いラ
ベルは好ましくなく、この意味でラベルのトータ
ルの厚みは25〜100μであり、又、ラベルを貼つ
た後、支持体をはがすような場合には、被着体上
に残るべき各層のトータル厚みは2〜10μ、好ま
しくは2〜6μである。 In the present invention, the thickness of each layer is not particularly limited, but it is not preferable to use an excessively thick label when attached to the surface of the adherend. When the support is peeled off after the adhesion, the total thickness of each layer to remain on the adherend is 2 to 10 microns, preferably 2 to 6 microns.
(作用・効果)
本考案のホログラムラベルは以上説明したよう
な構成を有しているので、使用に際しては所要の
大きさ、形状に切断し、証書や身分証明書のよう
な偽造・変造されたくない被着体に、加圧によ
り、必要に応じ、加熱をしながら、貼りつける。
貼りつけた後、場合によつては支持体をはがすこ
ともある。(Function/Effects) Since the hologram label of the present invention has the configuration described above, it can be cut into the required size and shape before use, and can be used to prevent forgery or alteration, such as certificates or identification cards. It is attached to an adherend by applying pressure and heating if necessary.
After pasting, the support may be peeled off in some cases.
このように被着体に貼りつけられたホログラム
ラベルは、はがそうとすると脆質接着剤層の層間
ではがれてしまつたり、あるいは、脆質接着剤層
の部分からラベル全体が破断してしまうのでラベ
ルをそつくりそのままはがすことは出来ない。従
つて、ラベルが貼つてあつた箇所の印刷・筆記内
容、印影写真等を直すためには、残つているラベ
ルや脆質接着剤層を除去する必要があり、偽造が
困難となる。又、ホログラム形成層のような被膜
の破断を伴なわずにこれらの層をはがすことは困
難であり、又、はがしたものはラベルの一部であ
るので、脆質接着剤層の一部は既に失なわれてい
るから、他の被着体に貼りつけることができず、
さらに、脆質接着剤層の表面は無機質微粉末によ
り凹凸状になつており、再度他の被着体に貼つた
としても、脆質接着剤層の表面凹凸がホログラム
形成層および反射性金属薄膜層に歪みを生じさ
せ、ホログラムの再生像が不明瞭となつてしま
い、正当に貼られたホログラムであるか、剥離後
に再度貼られたホログラムであるか、容易に判別
でき、偽造防止の機能をはたすことができる。 If you try to peel off a hologram label that has been attached to an adherend in this way, it may come off between the brittle adhesive layers, or the entire label may break from the brittle adhesive layer. Since the label is stored away, it is not possible to make the label and peel it off. Therefore, in order to correct the printed/written content, stamp photograph, etc. where the label was pasted, it is necessary to remove the remaining label and the brittle adhesive layer, making counterfeiting difficult. Furthermore, it is difficult to peel off these layers without breaking the coating, such as the hologram forming layer, and since what is peeled off is part of the label, part of the brittle adhesive layer may be removed. Since it has already been lost, it cannot be attached to another adherend,
Furthermore, the surface of the brittle adhesive layer is uneven due to the inorganic fine powder, and even if it is reattached to another adherend, the surface unevenness of the brittle adhesive layer will cause the hologram forming layer and the reflective metal thin film to become uneven. This causes distortion in the layer and the reproduced image of the hologram becomes unclear, making it easy to distinguish whether it is a legitimately pasted hologram or a hologram that has been peeled off and reapplied, and has a counterfeit prevention function. It can be used.
従つて、本考案のホログラムラベルは証書、身
分証明書等の偽造されたくない被着体への適用は
勿論の事、封書、包装物等の封印として、さらに
は物品等への装飾的な意味での適用にも充分役立
つものである。 Therefore, the hologram label of the present invention can be applied not only to adherends that do not want to be forged, such as certificates and identification cards, but also as a seal for envelopes, packages, etc., and also for decorative purposes to articles, etc. It is also useful for applications in
以下具体的実施例を挙げて本考案を更に詳細に
説明する。 The present invention will be described in more detail below with reference to specific examples.
実施例 1
基材として厚み25μのポリエステルフイルムを
用い、このフイルムの片面に下記(1),(2),(3),
(4),(5)の各組成物を用い、剥離保護層(厚さ
(0.5μ)、ホログラム形成層(厚さ2.5μ)、金属反
射層(500〜1000Å)、脆質接着剤層(20μ)を順
次塗布形成して、転写シートを作成した。Example 1 A polyester film with a thickness of 25 μm was used as the base material, and the following (1), (2), (3),
Using each of the compositions (4) and (5), a peeling protective layer (thickness (0.5 μ), a hologram forming layer (thickness 2.5 μ), a metal reflective layer (500 to 1000 Å), a brittle adhesive layer ( A transfer sheet was prepared by sequentially applying and forming 20μ).
尚、金属反射層は塗布ではなく真空蒸着法を用
いて積層した。 Note that the metal reflective layer was laminated using a vacuum deposition method rather than coating.
(1) 剥離性保護層用組成物
酢酸セルロース樹脂 ……5重量部
メタノール ……25重量部
MEK ……45重量部
トルエン ……25重量部
メチロール化メラミン樹脂 ……0.5重量部
パラトルエンスルフオン酸 ……0.05重量部
(2) ホログラム形成層用組成物
アクリル樹脂 ……40重量部
メラミン樹脂 ……10重量部
アノン ……50重量部
MEK ……50重量部
(3) 金属反射層用材料
アルミニウム
(4) 脆質接着剤層用組成物
アクリル酸エステル樹脂 ……20重量部
トルエン ……40 〃
酢酸エチル ……40 〃
ポリイソシアネート系架橋剤 ……0.5 〃
マイクロシリカ ……40 〃
得られたホログラムラベルは熱プレスにより証
書の記載欄上に貼りつけた。(1) Composition for peelable protective layer Cellulose acetate resin...5 parts by weight Methanol...25 parts by weight MEK...45 parts by weight Toluene...25 parts by weight Methylolated melamine resin...0.5 parts by weight Para-toluenesulfonic acid ...0.05 parts by weight (2) Composition for hologram forming layer Acrylic resin ...40 parts by weight Melamine resin ...10 parts by weight Anon ...50 parts by weight MEK ...50 parts by weight (3) Material for metal reflective layer Aluminum ( 4) Composition for brittle adhesive layer Acrylic acid ester resin...20 parts by weight Toluene...40 Ethyl acetate...40 Polyisocyanate crosslinking agent...0.5 Microsilica...40 Obtained hologram label was pasted onto the entry column of the certificate using a heat press.
この貼りつけられたホログラムラベルは注意深
くはがそうとしても脆質接着剤層の層間剥離がき
つかけとなつて、ホログラムが破壊され、そつく
りそのままの形ではがすことは不可能であつた。 Even if an attempt was made to carefully remove the affixed hologram label, the hologram was destroyed due to delamination of the brittle adhesive layer, and it was impossible to remove the hologram in its original form.
第1図および第2図は本考案の実施態様を示す
断面図、第3図および第4図は、本考案で用いる
ホログラム部分の他の態様を示す断面図である。
1……ホログラムラベル、2……ホログラム形
成層、3……反射性金属薄膜層、4……脆質接着
剤層、5……アンカー層、6……支持体、7……
ホログラム形成樹脂層、8……剥離層。
1 and 2 are cross-sectional views showing an embodiment of the present invention, and FIGS. 3 and 4 are cross-sectional views showing other aspects of the hologram portion used in the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Hologram label, 2... Hologram forming layer, 3... Reflective metal thin film layer, 4... Brittle adhesive layer, 5... Anchor layer, 6... Support, 7...
Hologram forming resin layer, 8...Peeling layer.
Claims (1)
び接着剤層が順次積層してあるホログラムラベ
ルにおいて、 前記接着剤層が、接着性を有する合成樹脂
と、前記合成樹脂を脆質化させる無機質微粉末
とからなる脆質接着剤層であることを特徴とす
るホログラムラベル。 (2) 反射性金属薄膜層と脆質接着剤層とがアンカ
ー層を介して積層してあることを特徴とする実
用新案登録請求の範囲第(1)項のホログラムラベ
ル。 (3) 反射性金属薄膜層と脆質接着剤層とが接着剤
層を介して積層してあることを特徴とする実用
新案登録請求の範囲第(1)項のホログラムラベ
ル。 (4) ホログラム形成層は単一の層からなることを
特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)項のホ
ログラムラベル。 (5) ホログラム形成層はホログラム形成樹脂層と
ホログラム形成樹脂層支持体との積層体である
ことを特徴とする実用新案登録請求の範囲第(1)
項のホログラムラベル。 (6) ホログラム形成樹脂層とホログラム形成樹脂
層支持体とは剥離可能に積層された積層体であ
ることを特徴とする実用新案登録請求の範囲第
(5)項のホログラムラベル。[Claims for Utility Model Registration] (1) A hologram label in which a hologram forming layer, a reflective metal thin film layer, and an adhesive layer are sequentially laminated, wherein the adhesive layer is made of a synthetic resin having adhesive properties; A hologram label characterized by a brittle adhesive layer made of inorganic fine powder that makes synthetic resin brittle. (2) The hologram label according to claim (1) of the utility model registration, characterized in that a reflective metal thin film layer and a brittle adhesive layer are laminated with an anchor layer interposed therebetween. (3) The hologram label according to claim (1) of the utility model registration, characterized in that a reflective metal thin film layer and a brittle adhesive layer are laminated with an adhesive layer interposed therebetween. (4) The hologram label according to claim (1) of the utility model registration, characterized in that the hologram forming layer consists of a single layer. (5) Utility model registration claim No. (1) characterized in that the hologram forming layer is a laminate of a hologram forming resin layer and a hologram forming resin layer support.
Holographic label for the term. (6) Utility model registration claim No. 1, characterized in that the hologram-forming resin layer and the hologram-forming resin layer support are a laminate that is removably laminated.
Hologram label in section (5).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985134990U JPH0531671Y2 (en) | 1985-09-03 | 1985-09-03 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985134990U JPH0531671Y2 (en) | 1985-09-03 | 1985-09-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6243378U JPS6243378U (en) | 1987-03-16 |
JPH0531671Y2 true JPH0531671Y2 (en) | 1993-08-13 |
Family
ID=31036745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985134990U Expired - Lifetime JPH0531671Y2 (en) | 1985-09-03 | 1985-09-03 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0531671Y2 (en) |
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- 1985-09-03 JP JP1985134990U patent/JPH0531671Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5988780A (en) * | 1982-11-08 | 1984-05-22 | アメリカン・バンク・ノ−ト・カムパニ− | Making of optical refraction recording body and optical refraction pattern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6243378U (en) | 1987-03-16 |
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