JPH0677174B2 - Hologram transfer sheet and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、ホログラム転写シートおよびその製造方法に
関し、さらに詳しくは、クレジットカード、バンクカー
ドなどのカード類、本の表紙、レコードジャケットなど
の表面にホログラムを転写法により設けるのに適したホ
ログラム転写シートおよびその製造方法に関する。Description: TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to a hologram transfer sheet and a method for producing the same, and more specifically, on a surface of a card such as a credit card or a bank card, a book cover, a record jacket, or the like. The present invention relates to a hologram transfer sheet suitable for providing a hologram by a transfer method and a method for manufacturing the hologram transfer sheet.
ホログラフイーとは、物体からの光の波面を記録する新
しい技術であって、この技術によって作られたホログラ
ムによれば、立体像を再生することができしかも多重記
録も可能となる。またホログラムの記録の一方法として
物体からの光の波面に相当する干渉縞を材料表面の凹凸
模様で記録することができ、このホログラムは大量複製
が容易である。Holography is a new technique for recording the wavefront of light from an object, and a hologram produced by this technique can reproduce a stereoscopic image and also enables multiple recording. Further, as one method of recording a hologram, interference fringes corresponding to the wavefront of light from an object can be recorded on the surface of the material in a concavo-convex pattern, and this hologram can be easily mass-produced.
このようなホログラムを、たとえばクレジットカード、
バンクカードなどのカード類に設ければ、美しさおよび
目新らしさを備え、しかもカード自体の偽造ならびに変
造が困難なカード類が得られる。また、本の表紙、レコ
ードジャケット、あるいは衣類などに設ければ、美しさ
および目新らしさを備えた製品が得られる。Such holograms, such as credit cards,
When provided on cards such as bank cards, it is possible to obtain cards that are beautiful and novel and that are difficult to forge and alter the cards themselves. Further, when it is provided on the cover of a book, a record jacket, clothes, etc., a product with beauty and novelty can be obtained.
ホログラムをカード類あるいは本の表紙、レコードジャ
ケットなどの表面に設けるためには、物体からの光の波
面に相当する干渉縞を凹凸模様の形でホログラムに記録
し、これを大量に複製することが必要となり、この場合
この凹凸模様を効率よくカード類などに設ける必要があ
る。In order to provide holograms on the surface of cards, book covers, record jackets, etc., it is possible to record interference fringes corresponding to the wavefront of light from an object in the shape of an uneven pattern and duplicate it in large quantities. This is necessary, and in this case, it is necessary to efficiently provide this uneven pattern on cards and the like.
従来、ホログラムをカード類あるいは本の表紙、レコー
ドジャケットなどの表面に設けるには、複製されたホロ
グラムをカード類などの表面にいちいち貼着させてい
た。ところがこの方法によれば、貼着に際して手間がか
かり、大量生産には適していないという問題点があっ
た。したがってホログラムをカード類などの表面に効率
よく設けることが求められていた。Conventionally, in order to provide holograms on the surface of cards, book covers, record jackets, etc., duplicate holograms have been attached to the surfaces of cards and the like. However, according to this method, there is a problem in that it takes a lot of time and effort for sticking and is not suitable for mass production. Therefore, it has been required to efficiently provide the hologram on the surface of cards and the like.
ところでカード類における記録層としては、磁気記録層
が極めて広く用いられているが、この磁気記録層は一般
に熱転写法によってカード基材上に設けられている。こ
のため、もしホログラムをカード類の表面に熱転写法に
よって設けることができるならば、既存の設備によりホ
ログラムをカード類の表面に効率よく設けることができ
るという利点が得られる。By the way, a magnetic recording layer is extremely widely used as a recording layer in cards, but this magnetic recording layer is generally provided on a card substrate by a thermal transfer method. Therefore, if the hologram can be provided on the surface of the card by the thermal transfer method, there is an advantage that the hologram can be efficiently provided on the surface of the card by existing equipment.
ところで、ホログラムを熱転写法によりカード紙などの
基材上に転写する場合には、ホログラム層は一般に熱可
塑性樹脂によって形成されているため、転写に際してホ
ログラム層に熱が加えられ、この際に物体からの光の波
面に相当する干渉縞である凹凸模様が一部消滅してしま
うという重大な問題点があった。By the way, when a hologram is transferred onto a substrate such as a card paper by a thermal transfer method, since the hologram layer is generally formed of a thermoplastic resin, heat is applied to the hologram layer during the transfer, and at this time, the hologram layer is transferred from the object. There was a serious problem that the uneven pattern, which is an interference fringe corresponding to the wavefront of the light, disappeared partly.
本発明は、これら従来技術に伴なう問題点を解決しよう
とするものであり、以下のような目的を有する。The present invention is intended to solve the problems associated with these conventional techniques, and has the following objects.
(a) ホログラムをカード類、本の表紙、レコードジ
ャケットなどの表面に、熱転写法により効率的に設ける
ことを可能とするホログラム転写シートならびにその製
造方法を提供すること。(A) To provide a hologram transfer sheet capable of efficiently providing a hologram on the surface of cards, book covers, record jackets, etc. by a thermal transfer method, and a method for producing the same.
(b) ホログラムをカード類表面に熱転写法により設
けることができ、したがって既存の設備をほぼそのまま
で利用でき、しかもホログラム層の熱転写に際して物体
からの光の波面に相当する干渉縞である凹凸模様が消滅
することなく熱転写されるという利点を有するホログラ
ム転写シートならびにその製造方法を提供すること。(B) Since the hologram can be provided on the surface of the card by the thermal transfer method, the existing equipment can be used almost as it is, and at the time of the thermal transfer of the hologram layer, the uneven pattern which is the interference fringe corresponding to the wavefront of the light from the object is formed. To provide a hologram transfer sheet having an advantage of being thermally transferred without disappearing, and a method for manufacturing the hologram transfer sheet.
本発明に係るアナログ転写シートは、基材フィルム上
に、剥離層、表面に物体からの光の波面に相当する干渉
縞が凹凸の形で形成されているホログラム層、反射性金
属蒸着層および感熱接着剤層がこの順序で設けられてい
るホログラム転写シートにおいて、前記ホログラム層が
硬化された紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂からな
ることを特徴とする。必要に応じて、基材フイルムとホ
ログラム層との間に、剥離層またはオーバープリント層
あるいはこの両者が設けられていてもよく、さらに金属
蒸着層および接着剤層との間に、アンカー層が設けられ
ていてもよい。The analog transfer sheet according to the present invention is a release layer on a substrate film, a hologram layer on the surface of which interference fringes corresponding to the wavefront of light from an object are formed in a concave-convex shape, a reflective metal vapor deposition layer, and a heat-sensitive layer. In the hologram transfer sheet in which the adhesive layer is provided in this order, the hologram layer is made of a cured ultraviolet curable resin or electron beam curable resin. If necessary, a peeling layer or an overprint layer or both may be provided between the substrate film and the hologram layer, and an anchor layer is provided between the metal vapor deposition layer and the adhesive layer. It may be.
また、本発明に係るホログラム転写シートの製造方法
は、基材フィルム上に剥離層が形成され、前記剥離層上
に熱成形性を有し固体状の紫外線硬化樹脂または電子線
硬化樹脂層が形成されたホログラム形成用フィルムを準
備した後、前記ホログラム形成用フィルムと、表面に物
体からの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形で形成さ
れているホログラム原版とを、前記樹脂が加熱されてい
る条件下で、前記ホログラム形成用フィルムの前記樹脂
が前記ホログラム原版に接するようにして圧接させて、
前記樹脂に凹凸を形成して、紫外線または電子線を前記
ホログラム形成用フィルムに照射して前記樹脂を硬化さ
せて、次に凹凸が形成された樹脂表面に反射性金属薄膜
を被着させ、次いでこの反射性金属薄膜層上に感熱接着
剤層を設けることを特徴としている。Further, the method for producing a hologram transfer sheet according to the present invention, a release layer is formed on a substrate film, and a solid ultraviolet curable resin or electron beam curable resin layer having thermoformability is formed on the release layer. After preparing the hologram forming film, the hologram forming film and the hologram original plate on the surface of which the interference fringes corresponding to the wavefront of the light from the object are formed in an uneven shape, the resin is heated. Under the conditions, the resin of the hologram forming film is pressed into contact with the hologram original plate so as to be in contact,
Forming concavities and convexities on the resin, irradiating the hologram forming film with ultraviolet rays or electron beams to cure the resin, and then depositing a reflective metal thin film on the resin surface on which the concavities and convexities are formed, and then A heat-sensitive adhesive layer is provided on the reflective metal thin film layer.
基材フイルムと樹脂との間に、必要に応じて剥離層また
はオーバープリント層のいずれかあるいはこの両者を設
けてもよい。本発明に係るホログラム転写シートの好ま
しい態様の製造方法では、基材フイルム上に紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂が設けられてなるホログラム
形成用フイルムと、表面に物体からの光の波面に相当す
る干渉縞が凹凸の模様として形成されているホログラム
原版とを、前記フイルムの紫外線硬化樹脂または電子線
硬化樹脂がホログラム原版に接するようにして必要な場
合には加熱条件下で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成し
た後紫外線または電子線をホログラム形成用フイルムに
照射して前記樹脂を硬化させ、次に凹凸が形成された樹
脂表面に反射性金属薄膜層を被着させ、次にこの反射性
金属薄膜層上に接着剤層を設けることを特徴としてい
る。基材フイルムと樹脂との間に、剥離層またはオーバ
ープリント層のいずれかあるいはこの両者を設けてもよ
く、さらに反射性金属薄膜層および接着剤層との間に、
アンカー層を設けてもよい。A release layer, an overprint layer, or both may be provided between the base film and the resin, if necessary. In the production method of the preferred embodiment of the hologram transfer sheet according to the present invention, a hologram forming film in which an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin is provided on a substrate film, and the surface corresponds to the wavefront of light from an object. Interference fringes and a hologram master plate formed as an uneven pattern, the ultraviolet curing resin or electron beam curing resin of the film so as to contact the hologram master plate, if necessary under pressure contact with the resin under heating conditions After forming the irregularities, the hologram forming film is irradiated with ultraviolet rays or electron beams to cure the resin, and then a reflective metal thin film layer is applied to the surface of the resin on which the irregularities are formed. It is characterized in that an adhesive layer is provided on the thin film layer. Either a release layer or an overprint layer or both may be provided between the base film and the resin, and further between the reflective metal thin film layer and the adhesive layer,
An anchor layer may be provided.
以下、本発明を図面に示す具体例について説明する。 The present invention will be described below with reference to specific examples shown in the drawings.
本発明に係るホログラム転写シート1は、その断面図が
第1図に示されるように、基材フイルム2上に、ホログ
ラム層3、反射性金属薄膜層4および接着剤層5がこの
順序で設けられて構成されている。また別の具体例であ
るホログラム転写シート1は、その断面図が第2図に示
されるように、基材フイルム2とホログラム層3との間
には、剥離層6およびオーバープリント層7がこの順序
で設けられ、しかも反射性金属薄膜層4と接着剤層5と
の間には、アンカー層8が設けられている。The hologram transfer sheet 1 according to the present invention is provided with a hologram layer 3, a reflective metal thin film layer 4 and an adhesive layer 5 in this order on a base film 2 as shown in the sectional view of FIG. It has been configured. A hologram transfer sheet 1 which is another specific example has a release layer 6 and an overprint layer 7 between a base film 2 and a hologram layer 3 as shown in a sectional view of FIG. An anchor layer 8 is provided between the reflective metal thin film layer 4 and the adhesive layer 5 in this order.
基材フイルム2としては、フイルム状のあらゆる材料が
用いられうる。具体的には、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリイミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレ
ン、ポリビニルブチラール、ポリカーボネートなどの重
合体フイル、合成紙、鉄などの金属フイルムなどが用い
られうる。また、これらの積層体も用いられうる。この
基材フイルムの膜厚は1〜200μm、望ましくは10〜50
μmであることが好ましい。As the base film 2, any film-shaped material can be used. Specifically, polymer films such as polyethylene terephthalate, polyimide, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl butyral, and polycarbonate, synthetic paper, metal films such as iron, and the like can be used. Also, a laminate of these may be used. The film thickness of this base film is 1 to 200 μm, preferably 10 to 50 μm.
It is preferably μm.
ホログラム層3は、熱成形性を有する紫外線または電子
線で硬化する樹脂あるいは熱成形性を有する熱硬化樹脂
で構成されており、これら樹脂の表面にホログラムが凹
凸模様で形成されている。The hologram layer 3 is made of a thermosetting resin that is cured by ultraviolet rays or electron beams or a thermosetting resin that has a thermoforming property, and a hologram is formed on the surface of the resin in an uneven pattern.
このホログラム層3は、後述するが、物体からの光の波
面に相当する干渉縞が凹凸模様で表面に形成されたホロ
グラム原版を用いた複製法により形成する。As will be described later, this hologram layer 3 is formed by a duplication method using a hologram master plate on the surface of which interference fringes corresponding to the wavefront of light from an object are formed in an uneven pattern.
ホログラム層の厚みは、0.1〜50μm、望ましくは0.5〜
5μmであることが好ましい。The thickness of the hologram layer is 0.1-50 μm, preferably 0.5-
It is preferably 5 μm.
本発明に使用可能なホログラム層用の樹脂は、ホログラ
ムの成形(複製)時には熱成形可能であり、ホログラム
成形後つまり転写時には、転写の際の熱に耐えるだけの
耐熱性を有することが必要である。このような樹脂とし
ては、いわゆる紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬
化、自然硬化型の反応性の樹脂などが用いられうる。The resin for the hologram layer that can be used in the present invention can be thermoformed at the time of molding (reproduction) of the hologram, and after the hologram is formed, that is, at the time of transfer, it is necessary that it has heat resistance enough to withstand the heat at the time of transfer. is there. As such a resin, a so-called ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin, a thermosetting resin, a natural curable reactive resin, or the like can be used.
本発明においては、硬化時間の遅い、紫外線もしくは電
子線で硬化する樹脂が適している。In the present invention, a resin having a slow curing time and curable by ultraviolet rays or electron beams is suitable.
具体的には、たとえばメチルメタクリレート、メチルア
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチ
ルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシル
メタクリレート、エチレングリコールジアクリレート、
エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレング
リコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメ
タクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタ
クリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、
トリメチロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサメタクリレート、エチレングリコ
ールジグリシジルエーテルジアクリレート、エチレング
リコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジメ
タクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジアクリレート、プロピレングリコールジグリシジ
ルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジグリジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレン
グリコールジグリジルエーテルジメタクリレート、ソル
ビトールテトラグリジルエーテルテトラアクリレート、
ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリ
レート、などのラジカル重合性不飽和基を有する単量体
が用いられうる。Specifically, for example, methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate,
Butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, t-butyl acrylate, t-butyl methacrylate, isoamyl acrylate, isoamyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate,
2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate,
Ethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, hexanediol diacrylate, hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolpropane diacrylate,
Trimethylolpropane dimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate,
Dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, ethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polyethylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, propylene glycol diglycidyl ether diacrylate Acrylate, propylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether diacrylate, polypropylene glycol diglycidyl ether dimethacrylate, sorbitol tetraglycyl ether tetraacrylate,
A monomer having a radically polymerizable unsaturated group such as sorbitol tetraglycidyl ether tetramethacrylate may be used.
さらに熱成形性を有する紫外線または電子線硬化樹脂と
しては、以下の化合物〜を重合もしくは共重合させ
た重合体に対し、後述する方法(イ)〜(ニ)によりラ
ジカル性不飽和基を導入したものが用いられる。Further, as the ultraviolet or electron beam curable resin having thermoformability, a radical unsaturated group is introduced into a polymer obtained by polymerizing or copolymerizing the following compounds (1) to (2) to (4) described below. Things are used.
水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルアミ
ド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2
−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエノキシプ
ロピルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエノキ
シプロピルアクリレート、など。Monomers having hydroxyl groups: N-methylol acrylamide, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2
-Hydroxybutyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and the like.
カルボキシル基を有する単量体:アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。Monomers having a carboxyl group: acrylic acid, methacrylic acid, acryloyloxyethyl monosuccinate, etc.
エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレ
ートなど。Monomers having epoxy groups: glycidyl methacrylate and the like.
アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニルエ
チルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸ア
リルなど。Monomers having an aziridinyl group: 2-aziridinyl ethyl methacrylate, allyl 2-aziridinyl propionate, etc.
アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。Monomers having amino groups: acrylamide, methacrylamide, diacetone acrylamide, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate and the like.
スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド−
2−メチルプロパンスルフォン酸など。Monomer having sulfone group: 2-acrylamide-
2-methylpropanesulfonic acid and the like.
イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエンジ
イソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレートの
1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活性水
素を有するラジアル重合性単量体の付加物など。Monomers having isocyanate groups: 1,4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl acrylate, such as an adduct of 1 mole to 1 mole of diisocyanate and a radically polymerizable monomer having active hydrogen.
さらに、上記の共重合体のガス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
を共重合させることができる。このような共重合可能な
単量体としては、たとえばメチルメタクリレート、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリ
レート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソ
ブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−
ブチルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソ
アミルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シク
ロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキ
シルメタクリレート、などが挙げられる。Further, in order to control the gas transition point of the above copolymer or the physical properties of the cured film, the above compound and the following monomer copolymerizable with this compound are copolymerized. It can be polymerized. Examples of such a copolymerizable monomer include methyl methacrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate and t-.
Butyl acrylate, t-butyl methacrylate, isoamyl acrylate, isoamyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate and the like can be mentioned.
次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方
法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル重合性不飽
和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線硬
化樹脂が得られる。Next, the polymer obtained as described above is reacted by the following methods (a) to (d) to introduce a radically polymerizable unsaturated group, whereby an ultraviolet or electron beam curable resin is obtained.
(イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキ
シル基を有する単量体などを縮合反応させる。(A) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid or methacrylic acid is subjected to a condensation reaction.
(ロ) カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有
する単量体を縮合反応させる。(B) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a carboxyl group or a sulfone group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group is subjected to a condensation reaction.
(ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシ
ル基を有する単量体を付加反応させる。(C) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an epoxy group, an isocyanate group or an aziridinyl group, the above-mentioned monomer having a hydroxyl group or a monomer having a carboxyl group is subjected to an addition reaction.
(ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有す
る単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるい
はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エス
テル単量体の1対1モルの付加物を付加反応させても良
い。(D) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, a monomer having an epoxy group, a monomer having an aziridinyl group or a diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylic acid ester unit amount The addition reaction of 1: 1 mol of the body may be carried out.
またさらに、前述の単量体と、上記の熱成形性の紫外線
または電子線硬化樹脂とを混合して用いることもでき
る。Further, the above-mentioned monomer and the thermoformable ultraviolet ray or electron beam curable resin may be mixed and used.
また上記のものは電子線により十分な硬化可能である
が、紫外線照射で硬化させる場合には、増感剤としてベ
ンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
などのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセトフェノ
ン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラジカルを発
生するものも用いることができる。Further, although the above can be sufficiently cured by electron beam, when cured by ultraviolet irradiation, benzoquinone, benzoin, benzoin methyl ether as a sensitizer,
It is also possible to use benzoin ethers such as, halogenated acetophenones, and peeryls that generate radicals by irradiation with ultraviolet rays.
反射性金属薄膜層4は、ホログラム層3に反射性を与え
るためのものであって、Cr,Ti,Fe,Co,Ni,Cu,Ag,Au,Ge,A
l,Mg,Sb,Pb,Cd,Bi,Sn,Se,In,Ga,Rbなどの金属およびそ
の酸化物、窒化物などを単独もしくは2種以上組合せて
用いて形成される。これらの金属のうちAl,Cr,Ni,Ag,Au
などが特に好ましい。The reflective metal thin film layer 4 is for providing the hologram layer 3 with reflectivity, and includes Cr, Ti, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, Au, Ge, A.
It is formed using a metal such as l, Mg, Sb, Pb, Cd, Bi, Sn, Se, In, Ga, or Rb and an oxide or nitride thereof alone or in combination of two or more. Of these metals, Al, Cr, Ni, Ag, Au
Are particularly preferable.
このような反射性金属薄膜層をホログラム層上に形成す
るには、上記のような金属あるいは合金を準備し、これ
をスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティン
グ法、電気メッキ法などの従来既知の方法によってホロ
グラム層上に成膜すればよい。この反射性金属薄膜層の
膜厚は10〜10.000Å望ましくは200〜2000Åであること
が好ましい。In order to form such a reflective metal thin film layer on the hologram layer, a metal or an alloy as described above is prepared, and the metal or alloy is prepared by a known method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method or an electroplating method. The method may be used to form a film on the hologram layer. The thickness of the reflective metal thin film layer is preferably 10 to 10,000 Å, more preferably 200 to 2,000 Å.
接着剤層5は、ホログラム転写シートをカード類あるい
は本の表紙、レコードジャケットなどに接着させる役割
を果している。接着剤層としては、アクリル系樹脂、ビ
ニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来接着剤層として
既知のものが広く使用できる。この接着剤層の膜厚は、
0.1〜50μm、望ましくは0.5〜10μmであることが好ま
しい。The adhesive layer 5 plays a role of adhering the hologram transfer sheet to cards, book covers, record jackets and the like. As the adhesive layer, those known as conventional adhesive layers such as acrylic resin, vinyl resin, polyester resin, urethane resin, amide resin, and epoxy resin can be widely used. The thickness of this adhesive layer is
The thickness is preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.5 to 10 μm.
剥離層6は、基材フイルム2とホログラム層3との間に
剥離性を与えしかも転写後の表面の印刷適正およびホロ
グラム層の保護などを与えるための役割を果している。
剥離層6としては、アクリル系樹脂、セルロース系樹
脂、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹
脂、オレフィン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂
などの従来剥離層としての既知のものが広く使用でき
る。この剥離層の膜厚は、0.05〜10μm、望ましくは0.
2〜2μmであることが好ましい。The peeling layer 6 plays a role of providing peelability between the base film 2 and the hologram layer 3, and also providing printability of the surface after transfer and protection of the hologram layer.
As the release layer 6, widely used is a known release layer such as an acrylic resin, a cellulose resin, a vinyl resin, a polyester resin, a urethane resin, an olefin resin, an amide resin, or an epoxy resin. it can. The thickness of the peeling layer is 0.05 to 10 μm, preferably 0.
It is preferably 2 to 2 μm.
なおホログラム層が上記の剥離層としての役割を果す場
合には、基本的には剥離層は不要である。When the hologram layer functions as the peeling layer, the peeling layer is basically unnecessary.
オーバープリント層7は、ホログラム層3と剥離層6と
の間に接着性を高め、しかもホログラムの耐久性を与え
る役割を果している。オーバープリント層としては、硬
化型アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、オレフィン
系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂などの従来オー
バープリント層として既知のものが広く使用できる。こ
のオーバープリント層の膜厚は、0.5〜10μm、望まし
くは0.2〜2μmであることが好ましい。The overprint layer 7 plays a role of enhancing the adhesiveness between the hologram layer 3 and the peeling layer 6 and further imparting the durability of the hologram. As the overprint layer, those known as conventional overprint layers such as curable acrylic resin, cellulose resin, vinyl resin, polyester resin, urethane resin, olefin resin, amide resin, and epoxy resin are used. Can be widely used. The thickness of the overprint layer is preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 0.2 to 2 μm.
アンカー層8は、反射性金属薄膜層4と接着剤層5との
間に接着性を高める役割を果している。アンカー層8と
しては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル系
樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル
系樹脂、などの従来アンカーそとして既知のものが広く
使用できる。このアンカー層の膜厚は、0.02〜10μm、
望ましくは0.2〜2μmであることが好ましい。The anchor layer 8 plays a role of enhancing the adhesiveness between the reflective metal thin film layer 4 and the adhesive layer 5. As the anchor layer 8, those known as conventional anchors such as vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin can be widely used. The thickness of this anchor layer is 0.02-10 μm,
It is preferably 0.2 to 2 μm.
次に、本発明に係るホログラム転写シートの製造方法に
ついて説明する。Next, a method for manufacturing the hologram transfer sheet according to the present invention will be described.
まず、基材フイルム2上に、必要に応じて剥離層6およ
びオーバープリント層7を介して熱成形性を有する紫外
線硬化樹脂、電子線硬化樹脂または熱硬化樹脂、好まし
くは熱成形性を有する紫外線硬化樹脂または熱成形性を
有する電子線硬化樹脂を設けてホログラム形成用フイル
ムを形成する。First, an ultraviolet curable resin, an electron beam curable resin or a thermosetting resin having a thermoformability, preferably an ultraviolet ray having a thermoformability, is formed on the substrate film 2 through the peeling layer 6 and the overprint layer 7, if necessary. A film for hologram formation is formed by providing a curable resin or an electron beam curable resin having thermoformability.
ホログラム層3を熱成形性の紫外線硬化樹脂または電子
線硬化樹脂で形成するには、基材フイルム上に紫外線硬
化樹脂または電子線硬化樹脂が設けられてなるホログラ
ム形成用フイルムとホログラム原版とを圧接させ、次い
で紫外線または電子線をこのフイルム上に照射して前記
樹脂を硬化させて、樹脂の表面に物体からの光の波面に
相当する凹凸を形成すればよい。In order to form the hologram layer 3 with a thermoformable ultraviolet curable resin or electron beam curable resin, the hologram forming film having the ultraviolet curable resin or electron beam curable resin provided on the base film and the hologram original plate are pressed together. Then, the film is irradiated with ultraviolet rays or electron beams to cure the resin, and unevenness corresponding to the wavefront of light from the object may be formed on the surface of the resin.
また、ホログラム層3を紫外線硬化樹脂または電子線硬
化樹脂で形成する場合には、従来用いられてきた種類の
紫外線硬化樹脂および電子線硬化樹脂は、一般に液体状
態にあるため、基材フイルム上に塗布した場合に著しく
べたつき、したがって基材フイルム上に従来の紫外線ま
たは電子線硬化樹脂を塗布してなるホログラム形成用フ
イルムは巻取って保管することができず、ホログラム原
版と接触する直前に基材フイルム上にいちいち紫外線硬
化樹脂を塗布してホログラム形成用フイルムを作成しな
ければならない。Moreover, when the hologram layer 3 is formed of an ultraviolet curable resin or an electron beam curable resin, the ultraviolet curable resin and the electron beam curable resin of the types conventionally used are generally in a liquid state, and therefore, are not formed on the base film. When applied, it is extremely sticky, and therefore the conventional film for forming a hologram formed by applying a conventional ultraviolet or electron beam curable resin on the base film cannot be wound up and stored. An ultraviolet curable resin must be applied on each film to form a hologram forming film.
したがって本発明においては、ホログラム層3を上記の
方法によっても作成しうるが、以下の方法によって作成
することが最も好ましい。Therefore, in the present invention, the hologram layer 3 can be formed by the above method, but the following method is most preferable.
すなわち基材フイルム上に熱成形性を有する紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂あるいは熱硬化樹脂が設けら
れてなるホログラム形成用フイルムと、表面に物体から
の光の波面に相当する干渉縞を凹凸模様に形成したホロ
グラム原版とを、前記フイルムの紫外線硬化樹脂または
電子線硬化樹脂がホログラム原版に接するようにして加
熱条件下で圧接させて前記樹脂に凹凸を形成し、原版と
フイルムとが密着した状態で紫外線または電子線をホロ
グラム形成用フイルムに照射するかあるいは熱を加える
ことにより、前記樹脂を硬化させてホログラム層3を作
成する。That is, a hologram forming film in which a thermosetting ultraviolet curable resin, electron beam curable resin or thermosetting resin is provided on a base film, and an interference fringe corresponding to the wavefront of light from an object is formed on the surface. With the hologram original plate formed in, the ultraviolet curing resin or electron beam curing resin of the film is pressed against the hologram original plate under heating conditions to form irregularities on the resin, and the original plate and the film are in close contact with each other. By irradiating the film for hologram formation with ultraviolet rays or electron beams, or by applying heat, the resin is cured to form the hologram layer 3.
この方法によれば、ホログラム層を形成している樹脂は
硬化されているので、ホログラム原版とホログラム形成
用フイルムとを複数回にわたって加熱、冷却をくり返す
必要がなく、したがってホログラム原版の凹凸の劣化が
減少できる。またホログラム原版とホログラム形成用フ
イルムとを加熱状態に保って圧接して該フイルム上に凹
凸を形成した後直ちに圧接状態を解除することができ、
したがって冷却工程が必ずしも必要ではなくなる。さら
にホログラム形成用フイルムを巻取って保存することが
でき、したがってホログラムの複製工程を簡素化できる
とともに大量生産が可能となる。According to this method, since the resin forming the hologram layer is cured, it is not necessary to repeatedly heat and cool the hologram original plate and the hologram forming film a plurality of times, and therefore the unevenness of the hologram original plate is deteriorated. Can be reduced. Further, it is possible to release the pressure contact state immediately after the hologram master and the hologram forming film are kept in a heated state and pressure-contacted to form irregularities on the film,
Therefore, the cooling step is not always necessary. Further, the hologram forming film can be wound and stored, and therefore, the hologram duplication process can be simplified and mass production becomes possible.
ホログラム原版とホログラム形成用フイルムとを加熱圧
接するに際しては、加熱ロールなどの加熱圧接手段を用
いることができ、この際加熱ロールの温度は、用いられ
べき樹脂の種類ベースフイルムの材料、厚み等によって
大きく変化するが、一般的には、100〜200℃であること
が適当である。また、ホログラム原版とホログラム形成
用フイルムとは0.1kg/cm2以上、望ましくは1kg/cm2以上
の圧力下に圧接することが好ましい。When heating and pressing the hologram original plate and the hologram forming film, a heating and pressing means such as a heating roll can be used.At this time, the temperature of the heating roll depends on the type of resin to be used, the material of the base film, the thickness, etc. Although it varies greatly, it is generally suitable that the temperature is 100 to 200 ° C. Further, it is preferable that the hologram original plate and the hologram forming film are pressed against each other under a pressure of 0.1 kg / cm 2 or more, preferably 1 kg / cm 2 or more.
この際に、紫外線または電子線を照射する場合には、そ
の照射強度はホログラム原版のホログラムの凹凸を成形
したフイルムを版より剥離した後に再度照射しても良
く、樹脂を十分に硬化させることが好ましい。紫外線、
電子線の照射量は、使用する樹脂に応じて適宜決めるこ
とが必要である。At this time, in the case of irradiating with an ultraviolet ray or an electron beam, the irradiation intensity may be irradiated again after peeling the film having the irregularities of the hologram of the hologram master plate peeled from the plate, and it is possible to sufficiently cure the resin. preferable. Ultraviolet rays,
The irradiation dose of the electron beam needs to be appropriately determined according to the resin used.
なお、熱成形性の紫外線または電子線硬化樹脂を用いて
ホログラムを成形する場合には、従来の一般の熱可塑性
樹脂を用いた場合と同様に加熱加圧下でホログラムの凹
凸を成形しその状態で冷却した後フイルムを剥離し、ホ
ログラムを複製しても良く、その後に紫外線または電子
線を照射し、樹脂を硬化させてもよい。In the case of forming a hologram using a thermoformable ultraviolet ray or electron beam curable resin, as in the case of using a conventional general thermoplastic resin, the hologram unevenness is formed under heat and pressure in that state. After cooling, the film may be peeled off to duplicate the hologram, and then the resin may be cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams.
次に、反射性金属薄膜層を被着させる。この反射性金属
薄膜層は、前述のごとく、イオンプレーティング法、真
空蒸着法などによってホログラム層上に設けることがで
きる。Next, a reflective metal thin film layer is applied. As described above, this reflective metal thin film layer can be provided on the hologram layer by the ion plating method, the vacuum deposition method or the like.
次いで、この反射性金属薄膜層上に、必要に応じてアン
カー層を設けた後に、接着剤層を塗布法などにより設け
ると、本発明に係るホログラム転写シートが得られる。Next, if necessary, an anchor layer is provided on the reflective metal thin film layer, and then an adhesive layer is provided by a coating method or the like to obtain the hologram transfer sheet according to the present invention.
本発明においては、特定の構成を有するホログラム転写
シートおよびその製造方法が提供されるので、以下のよ
うな効果が得られる。According to the present invention, a hologram transfer sheet having a specific structure and a method for manufacturing the same are provided, so that the following effects can be obtained.
(a) ホログラムをカード類、本の表紙、レコードジ
ャケットなどの表面に、熱転写法によって効率よく設け
ることが可能となる。(A) It becomes possible to efficiently provide the hologram on the surface of cards, book covers, record jackets, etc. by the thermal transfer method.
(b) ホログラムを特にカード類表面に設ける場合に
は、既存の設備がほぼそのままで利用しうる。(B) When a hologram is provided on the surface of cards in particular, existing equipment can be used as it is.
(c) ホログラム層の熱転写に際して、ホログラム層
は硬化された樹脂によって形成されているため、ホログ
ラムの微細な凹凸模様が消滅することがない。(C) During thermal transfer of the hologram layer, since the hologram layer is formed of a cured resin, the fine uneven pattern of the hologram does not disappear.
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
実施例1 基材としての厚み25μmのポリエチレンテレフタレート
フイルムに、剥離層としてアクリル系樹脂(アクリナー
ル#100、東栄化成製アクリル樹脂)を0.5μmの厚みに
塗布し、さらにこの上にホログラム形成用樹脂として、
トリメチロールプロパントリアクリレートを2μm塗布
してホログラム形成用フイルムを作製した。Example 1 A polyethylene terephthalate film having a thickness of 25 μm as a substrate was coated with an acrylic resin (Acrynal # 100, an acrylic resin manufactured by Toei Kasei Co., Ltd.) as a release layer to a thickness of 0.5 μm, and further as a hologram forming resin. ,
A film for hologram formation was prepared by applying 2 μm of trimethylolpropane triacrylate.
次に、このホログラム形成用フイルムの樹脂面にホログ
ラム原版として、ホログラムが凹凸形状で記録させてい
る金型を加圧密着させ、この状態でこれをフイルム面よ
り175kV,10Mradの強度の電子線下に5m/minの速さで通し
つつ電子線を照射してホログラム形成用樹脂を硬化させ
た。Next, on the resin surface of this hologram forming film, as a hologram master plate, a mold in which holograms are recorded in an uneven shape is pressed and brought into close contact, and in this state, this is irradiated with an electron beam of 175 kV, 10 Mrad from the film surface. The resin for hologram formation was cured by irradiating it with an electron beam while passing it at a speed of 5 m / min.
次にこのホログラムが形成された上記フイルムをホログ
ラム原版より剥離し凹凸が形成された面にアルミニウム
を800Åの厚みに真空蒸着し、さらにその上に接着剤層
として、アクリナール#3000(東栄化成製アクリル樹
脂)を3μmの厚みに塗布し転写シートを作製した。Next, the film on which this hologram was formed was peeled off from the hologram original plate, aluminum was vacuum-deposited to a thickness of 800 Å on the surface with the irregularities formed, and on top of that, acrinal # 3000 (A Toei Kasei acrylic Resin) was applied to a thickness of 3 μm to prepare a transfer sheet.
この様にして作製したホログラム転写シートを接着剤層
を下にして紙の上にのせ上方より170℃ 50kg/cm2の条
件で加熱加圧し、転写シートと紙とを剥離したところ、
紙にホログラムが転写された。The hologram transfer sheet produced in this manner was placed on the paper with the adhesive layer facing down and heated and pressed from above at 170 ° C. 50 kg / cm 2 to separate the transfer sheet from the paper,
The hologram was transferred to the paper.
実施例2 ホログラム形成用樹脂として、トリメチロールプロパン
トアクリレート100部に対し、増感材としてイルガキニ
アー184(チバガイギー社製)を4%加えたものを使用
した以外は、実施例1に記載した方法と同様にしてホロ
グラム形成用フイルムを作製し、ホログラム原版に加圧
密着した。Example 2 As the hologram forming resin, the method described in Example 1 was used, except that 100 parts of trimethylolpropanate acrylate and 4% of Irgaquinia 184 (manufactured by Ciba-Geigy) were added as a sensitizer. A hologram forming film was prepared in the same manner, and was brought into pressure contact with the hologram master plate.
次にフイルム面より、80W/cm水銀灯下10cmの位置を2m/m
inの速さで通して紫外線を照射し、ホログラム形成用樹
脂を硬化させた。Next, from the film surface, 2m / m at a position of 10cm under the 80W / cm mercury lamp.
The hologram forming resin was cured by irradiating it with ultraviolet rays at a speed of in.
さらに実施例1で示した方法と同様にアルミニウムの真
空蒸着、接着剤層を塗布しホログラム転写シートを作製
したところ、実施例1と同様に紙上にホログラムが転写
された。Further, in the same manner as in the method described in Example 1, vacuum evaporation of aluminum and application of an adhesive layer to prepare a hologram transfer sheet were performed, and as in Example 1, the hologram was transferred onto the paper.
実施例3 下記組成物を6時間還流させ、共重合を行った。Example 3 The following composition was refluxed for 6 hours for copolymerization.
メチルメタクリレート 284重量部 2−ヒドロキシエチル 130 〃 メタクリレート 酢酸エチル 1100 〃 α,α′−アゾビス 2 〃 イソブチロニトリル 次いで、得られた反応物に0.1重量部のパラメトキシフ
ェノールを加え反応を停止させた後、100重量部の2ヒ
ドロキシエチルアクリレートと2,4−トルエンジイソシ
アネートの1モル対1モル付加物を加えさらにジブチル
チンジラウリレートを5重量部加えて、乾燥空気を送り
ながら80℃で5時間反応させた。Methyl methacrylate 284 parts by weight 2-hydroxyethyl 130 〃 Methacrylate ethyl acetate 1100 〃 α, α'-azobis 2 〃 isobutyronitrile Then, 0.1 parts by weight of paramethoxyphenol was added to the obtained reaction product to stop the reaction. Then, 100 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate and 1 mol to 1 mol adduct of 2,4-toluene diisocyanate were added, and further 5 parts by weight of dibutyltin dilaurate was added, and the mixture was reacted at 80 ° C for 5 hours while sending dry air. Let
反応液を室温まで冷却した後15重量部の紫外線増感材
(イルガキニア184チバガイギー社製)を加え均一に溶
解させて、紫外線硬化可能な塗工材料を得た。After the reaction solution was cooled to room temperature, 15 parts by weight of an ultraviolet sensitizer (manufactured by Irgakinia 184 Ciba Geigy) was added and uniformly dissolved to obtain an ultraviolet curable coating material.
実施例1と同様に、ポリエチレンテレフタレートフイル
ム25μmに剥離層を設け、次いで上記で得られた材料を
乾燥した状態で厚み2.5μmの厚みになるように均一に
塗布してホログラム成形用フイルムとした。この塗工フ
イルムは常温ではベタつかず巻取状態で保管できる。In the same manner as in Example 1, a release layer was provided on 25 μm polyethylene terephthalate film, and then the material obtained above was uniformly applied in a dried state to a thickness of 2.5 μm to obtain a hologram forming film. This coated film is not sticky at room temperature and can be stored in a wound state.
次にこの塗工フイルムの樹脂面と、ホログラムが凹凸の
形状で記憶されている金型の凹凸面とを重ね合せ150℃2
0kg/cm2の圧力でニップロールを用いて加熱加圧し、金
型と塗工フイルムとを密着させた。Next, the resin surface of this coating film and the uneven surface of the mold in which the hologram is stored in the shape of unevenness are overlaid and the temperature is 150 ° C.
The mold and the coating film were brought into close contact with each other by applying heat and pressure with a nip roll at a pressure of 0 kg / cm 2 .
次にこれらを密着した状態でフイルム側より80W/cmの出
力を有する紫外線ランプの10cm下を1m/minの速度で通し
て紫外線を照射し塗工した樹脂を停止した。この後、前
記フイルムを金型より剥離した。次に実施例1と同様に
して転写シートを作製した。Then, in a state where these were in close contact with each other, 10 cm under an ultraviolet lamp having an output of 80 W / cm from the film side was passed at a speed of 1 m / min to irradiate ultraviolet rays to stop the coated resin. After that, the film was peeled from the mold. Then, a transfer sheet was prepared in the same manner as in Example 1.
本方法を用いることによりきわめて効率良く転写シート
を作製できた。By using this method, a transfer sheet could be produced extremely efficiently.
第1図および第2図は、本発明に係るホログラム転写シ
ートの断面図である。 1……ホログラム転写シート、2……基材フイルム、 3……ホログラム層、4……反射性金属薄膜層、5……
接着剤層。1 and 2 are cross-sectional views of the hologram transfer sheet according to the present invention. 1 ... Hologram transfer sheet, 2 ... Substrate film, 3 ... Hologram layer, 4 ... Reflective metal thin film layer, 5 ...
Adhesive layer.
Claims (3)
らの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形で形成されて
いるホログラム層、反射性金属蒸着層および感熱接着剤
層がこの順序で設けられているホログラム転写シートに
おいて、前記ホログラム層が硬化された紫外線硬化樹脂
または電子線硬化樹脂からなることを特徴とするホログ
ラム転写シート。1. A peeling layer, a hologram layer having interference fringes corresponding to the wavefront of light from an object formed on the surface of the substrate film in the form of concavities and convexities, a reflective metal vapor deposition layer and a heat-sensitive adhesive layer. A hologram transfer sheet provided in this order, wherein the hologram layer is made of a cured ultraviolet curable resin or electron beam curable resin.
ムの耐久性を与えるオーバープリント層が形成されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のホロ
グラム転写シート。2. The hologram transfer sheet according to claim 1, further comprising an overprint layer formed between the peeling layer and the hologram layer, the overprint layer providing durability of the hologram.
剥離層上に熱成形性を有し固体状の紫外線硬化樹脂また
は電子線硬化樹脂層が形成されたホログラム形成用フィ
ルムを準備した後、前記ホログラム形成用フィルムと、
表面に物体からの光の波面に相当する干渉縞が凹凸の形
で形成されているホログラム原版とを、前記樹脂が加熱
されている条件下で、前記ホログラム形成用フィルムの
前記樹脂が前記ホログラム原版に接するようにして圧接
させて、前記樹脂に凹凸を形成して、紫外線または電子
線を前記ホログラム形成用フィルムに照射して前記樹脂
を硬化させて、次に凹凸が形成された樹脂表面に反射性
金属薄膜を被着させ、次いでこの反射性金属薄膜層上に
感熱接着剤層を設けることを特徴とするホログラム転写
シートの製造方法。3. A hologram forming film having a release layer formed on a base film, and a solid ultraviolet-curable resin or electron beam curable resin layer having thermoformability formed on the release layer is prepared. After that, with the hologram forming film,
A hologram original plate on the surface of which interference fringes corresponding to the wavefront of light from an object are formed in the shape of irregularities, and under the condition that the resin is heated, the resin of the hologram forming film is the hologram original plate. To form a concavo-convex pattern on the resin, irradiate the hologram-forming film with ultraviolet rays or an electron beam to cure the resin, and then reflect the resin surface on which the concavo-convex pattern is formed. A method for producing a hologram transfer sheet, comprising depositing a thin metal film, and then providing a heat-sensitive adhesive layer on the reflective thin metal film layer.
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