JPH05309316A - ラングミュア・ブロジェット膜の作製方法 - Google Patents
ラングミュア・ブロジェット膜の作製方法Info
- Publication number
- JPH05309316A JPH05309316A JP4119184A JP11918492A JPH05309316A JP H05309316 A JPH05309316 A JP H05309316A JP 4119184 A JP4119184 A JP 4119184A JP 11918492 A JP11918492 A JP 11918492A JP H05309316 A JPH05309316 A JP H05309316A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- contact angle
- type
- cumulative
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、基板に対する水の接触角を制御する
とともに、ＬＢ膜の累積型を制御できることを主要な目
的とする。 【構成】気水界面上に両親媒性化合物の単分子膜を形成
させ、基板に移しとることによって累積膜を得るラング
ミュア・ブロジェット膜の作製方法において、前記基板
の水に対する接触角が所定の接触角になるとともに、基
板に対する単分子膜の累積型が所定の累積型となるよう
にシラン処理剤を選択して前記基板に種々のシラン処理
を施した後、前記単分子膜を基板に移しとって累積膜を
得ることを特徴とするラングミュア・ブロジェット膜の
作製方法。
とともに、ＬＢ膜の累積型を制御できることを主要な目
的とする。 【構成】気水界面上に両親媒性化合物の単分子膜を形成
させ、基板に移しとることによって累積膜を得るラング
ミュア・ブロジェット膜の作製方法において、前記基板
の水に対する接触角が所定の接触角になるとともに、基
板に対する単分子膜の累積型が所定の累積型となるよう
にシラン処理剤を選択して前記基板に種々のシラン処理
を施した後、前記単分子膜を基板に移しとって累積膜を
得ることを特徴とするラングミュア・ブロジェット膜の
作製方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ラングミュア・ブロジ
ェット膜の作製方法に関する。
ェット膜の作製方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近時、ラングミュア・ブロジェット膜
（以下、ＬＢ膜と呼ぶ）の作製技術が発展し、種々の薄
膜設計が可能となってきている。ＬＢ膜は均一で、か
つ、単分子単位での膜厚の制御が可能であることがその
最大の特徴で、分子素子のようなデバイス、センサー
等、その応用範囲は広く、多くの研究が進められてい
る。ＬＢ膜作製技術については、岡田正和也編「分子設
計技術」（株サイエンスフォーラム刊）、89ないし101
頁に詳しく説明されており、ＬＢ膜構成物質としては両
親媒性物質が用いられている。
（以下、ＬＢ膜と呼ぶ）の作製技術が発展し、種々の薄
膜設計が可能となってきている。ＬＢ膜は均一で、か
つ、単分子単位での膜厚の制御が可能であることがその
最大の特徴で、分子素子のようなデバイス、センサー
等、その応用範囲は広く、多くの研究が進められてい
る。ＬＢ膜作製技術については、岡田正和也編「分子設
計技術」（株サイエンスフォーラム刊）、89ないし101
頁に詳しく説明されており、ＬＢ膜構成物質としては両
親媒性物質が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、その超
薄膜の特性を利用するにはＬＢ膜構成物質自体の特性も
非常に重要であり、ＬＢ膜構成物質を変えてしまうとＬ
Ｂ膜の特性も変化してしまう可能性が高いため、その両
親媒性物質特有の性質を利用するために使用できる種類
は限られてしまう。また、一般的に、Ｘ，Ｙ，Ｚ型に分
類される累積型は両親媒性物質の種類，累積時の表面圧
によって決まるといわれており、同一物質を同一圧力で
累積し、しかも累積型を制御するに関しては考慮されな
かった。
薄膜の特性を利用するにはＬＢ膜構成物質自体の特性も
非常に重要であり、ＬＢ膜構成物質を変えてしまうとＬ
Ｂ膜の特性も変化してしまう可能性が高いため、その両
親媒性物質特有の性質を利用するために使用できる種類
は限られてしまう。また、一般的に、Ｘ，Ｙ，Ｚ型に分
類される累積型は両親媒性物質の種類，累積時の表面圧
によって決まるといわれており、同一物質を同一圧力で
累積し、しかも累積型を制御するに関しては考慮されな
かった。
【０００４】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、累積性を制御し、両親媒性物質の活性を生かしたラ
ングミュア・ブロジェット膜の作製方法を提供すること
を目的とする。
で、累積性を制御し、両親媒性物質の活性を生かしたラ
ングミュア・ブロジェット膜の作製方法を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、気水界面上に
両親媒性化合物の単分子膜を形成させ、基板に移しとる
ことによって累積膜を得るラングミュア・ブロジェット
膜の作製方法において、前記基板の水に対する接触角が
所定の接触角になるとともに、基板に対する単分子膜の
累積型が所定の累積型となるようにシラン処理剤を選択
して前記基板に種々のシラン処理を施した後、前記単分
子膜を基板に移しとって累積膜を得るようにしたもので
ある。
両親媒性化合物の単分子膜を形成させ、基板に移しとる
ことによって累積膜を得るラングミュア・ブロジェット
膜の作製方法において、前記基板の水に対する接触角が
所定の接触角になるとともに、基板に対する単分子膜の
累積型が所定の累積型となるようにシラン処理剤を選択
して前記基板に種々のシラン処理を施した後、前記単分
子膜を基板に移しとって累積膜を得るようにしたもので
ある。
【０００６】
【作用】本発明によれば、ＬＢ膜の累積性が制御可能に
なる。
なる。
【０００７】気水界面上に展開した両親媒性化合物を基
板に累積するとき累積性は基板との相互作用が大きく影
響を及ぼすと考えらている。ここで、相互作用とは親
水，疎水性の親和力や、化学的吸着、又は物理的なアン
カリング等である。そこで、累積性を制御するためには
基板の表面状態を制御するか、両親媒性化合物の種類を
変えるか又は両方を同時に行うかをしなければならな
い。しかし、両親媒性化合物の種類を変えるとＬＢ膜の
性質まで大きく変わってしまう可能性が高く、ＬＢ膜構
成物特有の機能を利用したい場合、膜材料を変えること
はできない。そこで、基板の表面状態を制御することに
よってＬＢ膜構成物質特有の機能を維持しながら、累積
性を制御する。
板に累積するとき累積性は基板との相互作用が大きく影
響を及ぼすと考えらている。ここで、相互作用とは親
水，疎水性の親和力や、化学的吸着、又は物理的なアン
カリング等である。そこで、累積性を制御するためには
基板の表面状態を制御するか、両親媒性化合物の種類を
変えるか又は両方を同時に行うかをしなければならな
い。しかし、両親媒性化合物の種類を変えるとＬＢ膜の
性質まで大きく変わってしまう可能性が高く、ＬＢ膜構
成物特有の機能を利用したい場合、膜材料を変えること
はできない。そこで、基板の表面状態を制御することに
よってＬＢ膜構成物質特有の機能を維持しながら、累積
性を制御する。
【０００８】そのための具体的な方法として本発明者ら
はシラン化合物でガラス基板の表面を化学集成し、表面
状態を変えることを考えた。シラン化合物は例えば下記
「化１」の構造で、Ｒはクロル基，メトキシ基，エトキ
シ基等の加水分解可能な基を表し、Ｘは基板の最表面状
態を変化させる基を表している。
はシラン化合物でガラス基板の表面を化学集成し、表面
状態を変えることを考えた。シラン化合物は例えば下記
「化１」の構造で、Ｒはクロル基，メトキシ基，エトキ
シ基等の加水分解可能な基を表し、Ｘは基板の最表面状
態を変化させる基を表している。
【０００９】
【化１】
【００１０】上記「化１」中のＲで表されている加水分
解可能な基はガラス基板の表面にある水酸基と加水分解
反応し、図１に示すような共有結合で、基板に強固に固
定される。上述した説明ではＲが３つ，Ｘが１つである
がＲが２つ，Ｘが２つ、またはＲが１つ，Ｘが３つの場
合でも同様の反応が生じる。
解可能な基はガラス基板の表面にある水酸基と加水分解
反応し、図１に示すような共有結合で、基板に強固に固
定される。上述した説明ではＲが３つ，Ｘが１つである
がＲが２つ，Ｘが２つ、またはＲが１つ，Ｘが３つの場
合でも同様の反応が生じる。
【００１１】Ｘはアルキル基，アリール基，ビニル基，
フェニル基，アミノ基，エポキシ基，メルカプト基等が
含まれるが、ＬＢ膜の累積性を制御するためにはどの官
能基でもよいのではなく、目的とする累積性を実現させ
るには官能基の選択は非常に重要な要因となる。
フェニル基，アミノ基，エポキシ基，メルカプト基等が
含まれるが、ＬＢ膜の累積性を制御するためにはどの官
能基でもよいのではなく、目的とする累積性を実現させ
るには官能基の選択は非常に重要な要因となる。
【００１２】本発明で利用するＬＢ膜構成物質は両親媒
性物質、電位感受性色素、及び物質選択能を有する分子
からなる。ここで、電位感受性色素、物質選択能を有す
る分子が両親媒性物質としての性質を有していてもよ
い。両親媒性物質はジアルキルリン酸であるが、ジアル
キルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム塩、直鎖脂
肪酸等でも効果ある。また、電位感受性色素と物質選択
能を有する分子を入れず、ジアルキルリン酸単独でＬＢ
膜を構成してもよい。
性物質、電位感受性色素、及び物質選択能を有する分子
からなる。ここで、電位感受性色素、物質選択能を有す
る分子が両親媒性物質としての性質を有していてもよ
い。両親媒性物質はジアルキルリン酸であるが、ジアル
キルアンモニウム、ジアルキルアンモニウム塩、直鎖脂
肪酸等でも効果ある。また、電位感受性色素と物質選択
能を有する分子を入れず、ジアルキルリン酸単独でＬＢ
膜を構成してもよい。
【００１３】ガラス基板のシラン処理方法はシラン化合
物をトルエン、ベンゼン、ヘキサン等の単独又は混合し
た有機溶媒に溶解させ、良く洗浄し、ゴミ、油脂等の汚
れを取り除いたガラスを溶液中に浸す。所定時間浸した
後、余分のシラン化合物を取り除くために同様の有機溶
媒で洗浄し、反応を完了させるために加熱処理をする。
物をトルエン、ベンゼン、ヘキサン等の単独又は混合し
た有機溶媒に溶解させ、良く洗浄し、ゴミ、油脂等の汚
れを取り除いたガラスを溶液中に浸す。所定時間浸した
後、余分のシラン化合物を取り除くために同様の有機溶
媒で洗浄し、反応を完了させるために加熱処理をする。
【００１４】シラン化合物で表面処理をした基板を評価
するときにその基板の接触角を測定することは浸水，疎
水性が定量できることから重要である。接触角の評価は
水平においた基板に純水を滴下し、水滴と基板との境界
をなす角度を求める滴下法を用いて行なった。
するときにその基板の接触角を測定することは浸水，疎
水性が定量できることから重要である。接触角の評価は
水平においた基板に純水を滴下し、水滴と基板との境界
をなす角度を求める滴下法を用いて行なった。
【００１５】本発明によれば、ＬＢ膜累積基板をシラン
化合物で表面処理することにより、同一の両親媒性物質
よりなるＬＢ膜の累積性を累積圧を変えることなく制御
することができる。また、ＬＢ膜構成物質事態の機能性
を活かしたＬＢ膜を作製することが可能となる。
化合物で表面処理することにより、同一の両親媒性物質
よりなるＬＢ膜の累積性を累積圧を変えることなく制御
することができる。また、ＬＢ膜構成物質事態の機能性
を活かしたＬＢ膜を作製することが可能となる。
【００１６】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 （実施例１）メチルトリクロロシランをトルエン中に１
vol％の濃度になる様に調整し、この溶液中に、洗浄
し、汚れを取り除いたガラス基板を浸漬させた。12時間
後基板を取りだし、トルエン中で２回、更にクロロホル
ム中で２回洗浄し、乾燥器で乾燥させ、ＬＢ膜累積基板
とした。この基板の接触角を測定したところ、９５．３
°であった。
vol％の濃度になる様に調整し、この溶液中に、洗浄
し、汚れを取り除いたガラス基板を浸漬させた。12時間
後基板を取りだし、トルエン中で２回、更にクロロホル
ム中で２回洗浄し、乾燥器で乾燥させ、ＬＢ膜累積基板
とした。この基板の接触角を測定したところ、９５．３
°であった。
【００１７】ＬＢ膜はジドデシルリン酸、オクタデシル
ローダミンＢ、バリノマイシンを各々８８，２，１０の
モル比に調整し、クロロホルムに溶解し、トラフに入れ
た水面上に展開し、１７ｍＮ／ｍの表面圧で４層累積し
た。ビニルトリクロロシランで処理した基板を用いてＬ
Ｂ膜を累積すると、Ｙ型の累積になることが分かる。
ローダミンＢ、バリノマイシンを各々８８，２，１０の
モル比に調整し、クロロホルムに溶解し、トラフに入れ
た水面上に展開し、１７ｍＮ／ｍの表面圧で４層累積し
た。ビニルトリクロロシランで処理した基板を用いてＬ
Ｂ膜を累積すると、Ｙ型の累積になることが分かる。
【００１８】（実施例２）ビニルトリクロロシランをト
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９２°であった。更に、実施例１の
同一の条件でＬＢ膜を累積した。メチルトリクロロシラ
ンで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｙ型の
累積になることが分かる。
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９２°であった。更に、実施例１の
同一の条件でＬＢ膜を累積した。メチルトリクロロシラ
ンで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｙ型の
累積になることが分かる。
【００１９】（実施例３）エチルトリクロロシランをト
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９２．９°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。エチルトリクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｙ
型の累積になることが分かる。
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９２．９°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。エチルトリクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｙ
型の累積になることが分かる。
【００２０】（実施例４）フェニルトリクロロシランを
トルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実
施例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触
角を測定したところ、８５．６°であった。更に、実施
例１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。フェニルトリク
ロロシランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積する
と、Ｙ型の累積になることが分かる。
トルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実
施例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触
角を測定したところ、８５．６°であった。更に、実施
例１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。フェニルトリク
ロロシランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積する
と、Ｙ型の累積になることが分かる。
【００２１】（実施例５）オクタデシルトリクロロシラ
ンをトルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整
し、実施例１と同様の操作で処理を行なった。この基板
の接触角を測定したところ、１２８．８°であった。
ンをトルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整
し、実施例１と同様の操作で処理を行なった。この基板
の接触角を測定したところ、１２８．８°であった。
【００２２】更に、実施例１の同一の条件でＬＢ膜を累
積した。オクダデシルトリクロロシランで処理した基板
を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ型の累積になることが
分かる。
積した。オクダデシルトリクロロシランで処理した基板
を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ型の累積になることが
分かる。
【００２３】（実施例６）トリメチルクロロシランをト
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９２．７°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。トリメチルクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ
型の累積になることが分かる。
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９２．７°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。トリメチルクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ
型の累積になることが分かる。
【００２４】（実施例７）オクチルトリクロシランをト
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、１１３．２°であった。更に、実施
例１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。オクチルトリク
ロロシランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積する
と、Ｘ型の累積になることが分かる。
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、１１３．２°であった。更に、実施
例１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。オクチルトリク
ロロシランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積する
と、Ｘ型の累積になることが分かる。
【００２５】（実施例８）ブチルトリクロロシランをト
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９７．６°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。ブチルトリクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ
型の累積になることが分かる。
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９７．６°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。ブチルトリクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ
型の累積になることが分かる。
【００２６】（実施例９）ジメチルジクロロシランをト
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９４．８°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。ジメチルジクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ
型の累積になることが分かる。
ルエン中に２．５ vol％の濃度になる様に調整し、実施
例１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角
を測定したところ、９４．８°であった。更に、実施例
１の同一の条件でＬＢ膜を累積した。ジメチルジクロロ
シランで処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｘ
型の累積になることが分かる。
【００２７】（実施例10）ビニルトリクロロシランをト
ルエン中に１ vol％の濃度になる様に調整し、基板の浸
漬時間を１２時間から１０秒間に変えた以外は、実施例
１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角を
測定したところ、６１°であった。更に、実施例１の同
一の条件でＬＢ膜を累積した。ビニルトリクロロシラン
で処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｚ型の累
積になることが分かる。
ルエン中に１ vol％の濃度になる様に調整し、基板の浸
漬時間を１２時間から１０秒間に変えた以外は、実施例
１と同様の操作で処理を行なった。この基板の接触角を
測定したところ、６１°であった。更に、実施例１の同
一の条件でＬＢ膜を累積した。ビニルトリクロロシラン
で処理した基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｚ型の累
積になることが分かる。
【００２８】（比較例）シランを処理を行なわず、洗浄
し、汚れを取り除いたガラス基板をＬＢ膜累積基板とし
た。この基板の接触角を測定したところ、７．５°であ
った。
し、汚れを取り除いたガラス基板をＬＢ膜累積基板とし
た。この基板の接触角を測定したところ、７．５°であ
った。
【００２９】ＬＢ膜はジドデシルリン酸、オクタデシル
ローダミンＢ、バリノマイシンを各々８８，２，１０の
モル比に調整し、クロロホルムに溶解し、トラフに入れ
た水面上に展開し、１７ｍＮ／ｍの表面圧で４層累積し
た。シラン処理を行なわず、洗浄し、汚れを取り除いた
ガラス基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｚ型の累積に
なることが分かる。図２は以上の実施例及び比較例の結
果をまとめたグラフである。このグラフから次のような
ことが分かる。
ローダミンＢ、バリノマイシンを各々８８，２，１０の
モル比に調整し、クロロホルムに溶解し、トラフに入れ
た水面上に展開し、１７ｍＮ／ｍの表面圧で４層累積し
た。シラン処理を行なわず、洗浄し、汚れを取り除いた
ガラス基板を用いてＬＢ膜を累積すると、Ｚ型の累積に
なることが分かる。図２は以上の実施例及び比較例の結
果をまとめたグラフである。このグラフから次のような
ことが分かる。
【００３０】シラン処理剤をモノフェニルシランである
フェニルトリクロロシラン（実施例４）としたときは、
水に対する接触角が８０度以上９０度未満（８５．６
度）であり、Ｙ型の累積膜が得られた。
フェニルトリクロロシラン（実施例４）としたときは、
水に対する接触角が８０度以上９０度未満（８５．６
度）であり、Ｙ型の累積膜が得られた。
【００３１】また、シラン処理剤を炭素数が８以上のモ
ノアルキルシランであるオクタデシルトリクロロシラン
（実施例５）及び、オクチルトリクロロシラン（実施例
７）としたときは、水に対する接触角が１００度以上
（それぞれ、１２８．８度、１１３．２度）であり、Ｘ
型の累積膜が得られた。
ノアルキルシランであるオクタデシルトリクロロシラン
（実施例５）及び、オクチルトリクロロシラン（実施例
７）としたときは、水に対する接触角が１００度以上
（それぞれ、１２８．８度、１１３．２度）であり、Ｘ
型の累積膜が得られた。
【００３２】さらに、接触角が９０度以上１００度未満
となるシラン処理剤の場合には、炭素数が２のモノビニ
ルシランであるビニルトリクロロシラン（実施例１：接
触角９５．３度）、炭素数が１〜３のモノアルキルシラ
ンであるメチルトリクロロシラン（実施例２：接触角９
２度）、エチルトリクロロシラン（実施例３：接触角９
２．９度）を選択したときはいずれもＹ型の累積膜が得
られ、炭素数が４以上のモノアルキルシランであるブチ
ルトリクロロシラン（実施例８：接触角９７．６度）、
炭素数が１以上のジアルキルシランであるジメチルジク
ロロシラン（実施例９：接触角９４．８度）、炭素数が
１以上のトリアルキルシランであるトリメチルクロロシ
ラン（実施例６：接触角９２．７度）を選択したときは
Ｘ型の累積膜を得られた。
となるシラン処理剤の場合には、炭素数が２のモノビニ
ルシランであるビニルトリクロロシラン（実施例１：接
触角９５．３度）、炭素数が１〜３のモノアルキルシラ
ンであるメチルトリクロロシラン（実施例２：接触角９
２度）、エチルトリクロロシラン（実施例３：接触角９
２．９度）を選択したときはいずれもＹ型の累積膜が得
られ、炭素数が４以上のモノアルキルシランであるブチ
ルトリクロロシラン（実施例８：接触角９７．６度）、
炭素数が１以上のジアルキルシランであるジメチルジク
ロロシラン（実施例９：接触角９４．８度）、炭素数が
１以上のトリアルキルシランであるトリメチルクロロシ
ラン（実施例６：接触角９２．７度）を選択したときは
Ｘ型の累積膜を得られた。
【００３３】なお、上記実施例では、シラン処理剤に浸
漬させる時間を全て１２時間としているが、この浸漬さ
せる時間は１２時間に限定されるものではなく、基板に
対するシラン処理剤に対する反応が飽和する定常状態に
達する時間であればよい。
漬させる時間を全て１２時間としているが、この浸漬さ
せる時間は１２時間に限定されるものではなく、基板に
対するシラン処理剤に対する反応が飽和する定常状態に
達する時間であればよい。
【００３４】また、実施例１と同様のビニルトリクロロ
シランを用いてシラン処理の時間を１０秒間と短くして
未定常状態としたとき（実施例１０）は、接触角が６１
度と小さく、Ｚ型の累積膜となった。また、シラン処理
を施さない場合（比較例）では、接触角が７．５度と最
も小さく、Ｚ型の累積膜となった。
シランを用いてシラン処理の時間を１０秒間と短くして
未定常状態としたとき（実施例１０）は、接触角が６１
度と小さく、Ｚ型の累積膜となった。また、シラン処理
を施さない場合（比較例）では、接触角が７．５度と最
も小さく、Ｚ型の累積膜となった。
【００３５】このように、基板をシラン処理剤により、
ほぼ定常状態に達するように処理すると、基板の水に対
する接触角によって、または、この接触角とシラン処理
剤の種類によって、得られる累積型がＸ型又はＹ型に決
まることがわかる。
ほぼ定常状態に達するように処理すると、基板の水に対
する接触角によって、または、この接触角とシラン処理
剤の種類によって、得られる累積型がＸ型又はＹ型に決
まることがわかる。
【００３６】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明によれば、ＬＢ
膜累積基板に対しシラン化合物で表面処理を施したこと
により、この基板に対する水の接触角を制御するととも
に、ＬＢ膜の累積型を制御することができる。
膜累積基板に対しシラン化合物で表面処理を施したこと
により、この基板に対する水の接触角を制御するととも
に、ＬＢ膜の累積型を制御することができる。
【図１】加水分解可能な基とガラス基板の表面にある水
酸基と加水分解反応を示す説明図。
酸基と加水分解反応を示す説明図。
【図２】本発明方法に係る基板の接触角の特性図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下村 政嗣 東京都小金井市中町２−24−48−103
Claims (1)
- 【請求項１】 気水界面上に両親媒性化合物の単分子膜
を形成させ、基板に移しとることによって累積膜を得る
ラングミュア・ブロジェット膜の作製方法において、前
記基板の水に対する接触角が所定の接触角になるととも
に、基板に対する単分子膜の累積型が所定の累積型とな
るようにシラン処理剤を選択して前記基板に種々のシラ
ン処理を施した後、前記単分子膜を基板に移しとって累
積膜を得ることを特徴とするラングミュア・ブロジェッ
ト膜の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4119184A JPH05309316A (ja) | 1992-05-12 | 1992-05-12 | ラングミュア・ブロジェット膜の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4119184A JPH05309316A (ja) | 1992-05-12 | 1992-05-12 | ラングミュア・ブロジェット膜の作製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05309316A true JPH05309316A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=14754995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4119184A Withdrawn JPH05309316A (ja) | 1992-05-12 | 1992-05-12 | ラングミュア・ブロジェット膜の作製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05309316A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007523959A (ja) * | 2003-06-23 | 2007-08-23 | チューリッヒ大学 | 超疎水性コーティング |
-
1992
- 1992-05-12 JP JP4119184A patent/JPH05309316A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007523959A (ja) * | 2003-06-23 | 2007-08-23 | チューリッヒ大学 | 超疎水性コーティング |
| JP2013256672A (ja) * | 2003-06-23 | 2013-12-26 | Univ Zuerich | 超疎水性コーティング |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Decher et al. | Buildup of ultrathin multilayer films by a self‐assembly process: II. Consecutive adsorption of anionic and cationic bipolar amphiphiles and polyelectrolytes on charged surfaces | |
| US5578340A (en) | Medical member and method of manufacturing the same | |
| US5071709A (en) | Glazing provided with an anti-frost layer | |
| JPH0763670B2 (ja) | 有機コーティング膜の製造方法 | |
| JP2877616B2 (ja) | 親水撥油処理剤 | |
| JPH04367210A (ja) | コンデンサ及びその製造方法 | |
| JPH08504971A (ja) | ２−成分蒸気付着プロモータ及びその使用方法 | |
| JPH05309316A (ja) | ラングミュア・ブロジェット膜の作製方法 | |
| EP2719720B1 (de) | Verfahren zur Modifizierung der Oberfläche eines Elastomerproduktes | |
| US5770266A (en) | Functional laminated chemically absorbed films and methods of manufacturing the same | |
| EP0498338B1 (en) | Magnetic recording medium and method of manufacturing the same | |
| JPH0643129A (ja) | 湿度センサー | |
| JPH0647859A (ja) | 潤滑膜およびその製造方法 | |
| JP3557245B2 (ja) | 感湿素子及びその製造方法 | |
| JPH02307572A (ja) | 均斉薄膜の形成方法 | |
| US20080318068A1 (en) | Method for the production of a mineral substrate with modified surface and substrate thus obtained | |
| JP2500178B2 (ja) | 基材表面の撥水撥油処理方法 | |
| JP3404769B2 (ja) | 有機膜の製造方法 | |
| CN100406914C (zh) | 人工晶状体的钝化方法 | |
| KR19980042570A (ko) | 마이크로기계를 위한 단층 윤활제 | |
| JP2987428B2 (ja) | 金表面に対する非対称型ジスルフィド化合物の吸着 | |
| KR102440764B1 (ko) | 습도 및 pH 민감형 항균 나노 캡슐 및 그 제조방법 | |
| JP2721724B2 (ja) | 光学記録媒体 | |
| Honeybourne et al. | Ordered Langmuir-Blodgett multilayers of a new porphin free base with a purpose-built enlarged hydrophobic edge | |
| JPH08224536A (ja) | 撥水撥油性基材 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990803 |