JPH05303068A - Device and method for inspecting display substrate - Google Patents

Device and method for inspecting display substrate

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Publication number
JPH05303068A
JPH05303068A JP10806492A JP10806492A JPH05303068A JP H05303068 A JPH05303068 A JP H05303068A JP 10806492 A JP10806492 A JP 10806492A JP 10806492 A JP10806492 A JP 10806492A JP H05303068 A JPH05303068 A JP H05303068A
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JP
Japan
Prior art keywords
display substrate
inspection
light
liquid crystal
inspection element
Prior art date
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Pending
Application number
JP10806492A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Mimori
健一 三森
Hiroyuki Hebiguchi
広行 蛇口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
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Publication of JPH05303068A publication Critical patent/JPH05303068A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide the inspection device and its method which can detect surely and quickly a defective part before a display substrate is assembled on a liquid crystal display panel. CONSTITUTION:The device is constituted by providing an inspecting element 4 which is arranged opposingly in the upper part of a display substrate A, and whose optical quality is varied, when an electric field is applied, a light source 1 for irradiating the inspecting element 4 with light, a photodetector 2 for catching the light which irradiates the inspecting element 4 and is emitted from the inspecting element 4, a power source 10 for applying a voltage to between a picture element electrode 9 and the inspecting element 4 on the display substrate A, and a measuring means for measuring a variation of the light caught by the photodetector 2. In such a way, before assembling a liquid crystal panel, the number of defects and the kind of the detect can be grasped easily.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、液晶表示パネル用な
どとして用いられるディスプレイ基板に生じる欠陥を検
査するための検査装置及びその検査装置を用いた検査方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection device for inspecting defects occurring in a display substrate used for a liquid crystal display panel or the like, and an inspection method using the inspection device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルを液晶デレビなどに適す
るように大画面化し、かつ高密度化する上では、行列状
に配置された画素ごとに設けられた画素電極と、各画素
電極に共通に設けられたゲート配線とソース配線及び薄
膜トランジスタとを具備してなるディスプレイ基板を利
用したアクティブマトリックス方式のものが有利であ
り、現在比較的小型のものから実用化が進みつつある。
通常、この種の液晶表示パネルにあっては、ディスプレ
イ基板を製造後、ディスプレイ基板上にスペーサを介し
て、透明基板などを配置し、ディスプレイ基板と透明基
板との間に形成された空隙に液晶を封入することで液晶
表示パネルを製造している。
2. Description of the Related Art In order to increase the screen size and density of a liquid crystal display panel suitable for liquid crystal display, a pixel electrode provided for each pixel arranged in rows and columns and a pixel electrode common to each pixel electrode are commonly used. An active matrix type using a display substrate provided with the provided gate wirings, source wirings and thin film transistors is advantageous, and at present, relatively small ones are being put to practical use.
Usually, in this type of liquid crystal display panel, after the display substrate is manufactured, a transparent substrate or the like is arranged on the display substrate via a spacer, and the liquid crystal is placed in a gap formed between the display substrate and the transparent substrate. A liquid crystal display panel is manufactured by encapsulating.

【0003】このような背景のもとで、現在生産されて
いる液晶テレビにおいては、画素数が25〜50万個に
及ぶものが多く、一部では画素数100万個以上のもの
も登場している。
Under such a background, most of liquid crystal televisions currently produced have a pixel number of 250,000 to 500,000, and some have a pixel number of 1 million or more. ing.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、このように
多数の画素とそれに対応した多数の配線を基板上に形成
するには、ダストを極度に少なく調整したクリーンルー
ムにおいて、種々の成膜プロセスを行なって形成してい
るのであるが、画素や配線幅が極端に小さくなってくる
と、製造雰囲気中に含まれるわずかなマイクロダストの
存在が、画素電極や配線などの断線欠陥や短絡欠陥に直
結するようになる。これらの欠陥は現在のところディス
プレイ基板において、数個〜10個程度までは所用され
ているが、欠陥数がそれ以上であると製品不良としてい
るのが現状である。
By the way, in order to form a large number of pixels and a large number of wirings corresponding thereto on a substrate, various film forming processes are carried out in a clean room in which dust is adjusted to be extremely small. However, when the pixel and wiring widths become extremely small, the presence of a small amount of microdust contained in the manufacturing atmosphere directly leads to disconnection defects and short circuit defects in pixel electrodes and wiring. Like These defects are currently used in the display substrate up to several to ten, but the present situation is that if the number of defects is more than that, the product is defective.

【0005】ところが、現状の製造技術では、これらの
欠陥数を許容限度以下に少なくすることが極めて困難で
あるがために、画素数の大きな液晶表示パネルにあって
は、不良率が著しく高く、これが大型液晶表示パネルの
高価格の原因となっている。さらに、従来においては、
ディスプレイ基板を用いて液晶表示パネルを製造する場
合は、ディスプレイ基板の生産ライン内での検査は行な
わず、次の製造工程に移行し、製造完了後の液晶表示パ
ネルに通電して目視で各画素が実際に作動するかどうか
を調べており、不良品は廃棄処分されるため、これが液
晶表示パネルの歩留まりが非常に悪い結果の大きな原因
となっている。
However, with the current manufacturing technology, it is extremely difficult to reduce the number of defects below the allowable limit. Therefore, in a liquid crystal display panel having a large number of pixels, the defective rate is extremely high, This causes the high price of large liquid crystal display panels. Furthermore, in the past,
When manufacturing a liquid crystal display panel using a display substrate, the inspection is not performed in the production line of the display substrate, the next manufacturing process is performed, and the liquid crystal display panel after the manufacturing is completed is energized to visually check each pixel. Has been investigated to see if it actually works, and defective products are discarded, which is a major cause of the very poor yield of liquid crystal display panels.

【0006】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、ディスプレイ基板が液晶表示パネルに組立ら
れる前に、その欠陥箇所を確実かつ迅速に発見すること
ができ、欠陥数と欠陥の種類の把握を容易に行なうこと
ができる検査装置及びその方法を提供することを目的と
する。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and it is possible to surely and quickly find a defective portion of a display substrate before it is assembled into a liquid crystal display panel. It is an object of the present invention to provide an inspection device and a method therefor capable of easily grasping.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載のディス
プレイ基板の検査装置は、上記課題を解決するために、
基板上に形成された複数の画素電極を有するディスプレ
イ基板を検査する装置において、前記ディスプレイ基板
の上部に対向配置され、電場を印加すると光学的性質が
変化する検査素子と、前記検査素子に光を照射する光源
と、前記検査素子に照射されて、検査素子から出された
光を捕らえる受光器と、前記ディスプレイ基板上の前記
画素電極と前記検査素子との間に電圧を印加する電源
と、前記受光器が捕らえた光の変化を測定する計測手段
を具備してなることを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a display board inspection apparatus, which is configured to solve the above-mentioned problems.
In an apparatus for inspecting a display substrate having a plurality of pixel electrodes formed on a substrate, an inspection element, which is arranged facing the upper portion of the display substrate and whose optical properties change when an electric field is applied, and light is emitted to the inspection element. A light source for irradiating, a light receiver for irradiating the inspection element to capture light emitted from the inspection element, a power supply for applying a voltage between the pixel electrode on the display substrate and the inspection element, and It is characterized in that it comprises a measuring means for measuring a change in the light captured by the light receiver.

【0008】請求項2に記載のディスプレイ基板の検査
装置は、上記課題を解決するために、請求項1の検査素
子が高分子分散型液晶であることを特徴とするものであ
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a display substrate inspecting apparatus, wherein the inspecting element according to the first aspect is a polymer-dispersed liquid crystal in order to solve the above problems.

【0009】請求項3に記載のディスプレイ基板の検査
装置は、上記課題を解決するために、基板上に形成され
た複数の画素電極を有するディスプレイ基板を検査する
装置において、電場を印加すると光学的性質が変化する
エレクトロルミネセンス素子からなる検査素子と、この
検査素子から出された光を捕らえる受光器と、前記ディ
スプレイ基板上の前記画素電極と前記検査素子との間に
電圧を印加する電源と、前記受光器が捕らえた光の変化
を測定する計測手段とを具備してなることを特徴とする
ものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the display substrate inspection apparatus according to a third aspect of the present invention is an apparatus for inspecting a display substrate having a plurality of pixel electrodes formed on the substrate. An inspection element composed of an electroluminescent element whose properties change, a light receiver for capturing light emitted from the inspection element, and a power supply for applying a voltage between the pixel electrode on the display substrate and the inspection element. And a measuring means for measuring a change in the light captured by the light receiver.

【0010】請求項4に記載のディスプレイ基板の検査
方法は、上記課題を解決するために、基板上に形成され
た複数の画素電極を具備してなるディスプレイ基板の検
査方法において、電場を印加すると光学的性質が変化す
る検査素子を前記ディスプレイ基板上部に配置し、前記
ディスプレイ基板の前記画素電極と前記検査素子間に電
圧を印加して、前記検査素子に電場を作用させ、前記検
査素子の光学的性質の部分的変化を検出することにより
ディスプレイ基板の画素電極の良不良を検出することを
特徴とするものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a display substrate inspecting method, wherein, in order to solve the above problems, an electric field is applied in the display substrate inspecting method including a plurality of pixel electrodes formed on the substrate. An inspection element whose optical property is changed is disposed on the upper part of the display substrate, a voltage is applied between the pixel electrode of the display substrate and the inspection element, an electric field is applied to the inspection element, and the inspection element optical It is characterized in that the quality of the pixel electrode on the display substrate is detected by detecting a partial change in the physical property.

【0011】請求項5に記載のディスプレイ基板の検査
方法は、上記課題を解決するために、請求項4の検査素
子が高分子分散型液晶であることを特徴とするものであ
る。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a display substrate inspecting method, wherein the inspecting element according to the fourth aspect is a polymer dispersed liquid crystal.

【0012】請求項6に記載のディスプレイ基板の検査
方法は、上記課題を解決するために、請求項4の検査素
子がエレクトロルミネセンス素子であることを特徴とす
るものである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for inspecting a display substrate, wherein the inspection element according to the fourth aspect is an electroluminescence element in order to solve the above problems.

【0013】[0013]

【作用】検査素子は、電場を印加すると光学的性質が変
化するものである。従って、この検査素子をディスプレ
イ基板上に配置して、ディスプレイ基板上の画素電極と
検査素子上部の薄膜透明電極間に通電すると、各画素電
極が発生させる電場によって検査素子の光学的性質が変
化する。
The function of the inspection element is changed when an electric field is applied. Therefore, when this inspection element is placed on the display substrate and electricity is applied between the pixel electrode on the display substrate and the thin film transparent electrode on the inspection element, the optical property of the inspection element is changed by the electric field generated by each pixel electrode. ..

【0014】よって、ディスプレイ基板上の画素電極あ
るいはその他の部分に断線が生じていると、通電しても
画素電極の一部が作動しなくなり、作動しない画素電極
上の検査素子には光学的変化が生じない。また、短絡欠
陥がある場合には、本来作動するべきでない画素電極に
相当する検査素子が作動するというような正常な画素電
極では生じない異常現象が生じる。よって、このように
検査素子の光学的変化を受光器で検出することでディス
プレイ基板の欠陥を一括して速く発見することができ
る。
Therefore, if a disconnection occurs in the pixel electrode or other portion on the display substrate, a part of the pixel electrode does not operate even when power is supplied, and the inspection element on the pixel electrode that does not operate is optically changed. Does not occur. Further, when there is a short-circuit defect, an abnormal phenomenon that does not occur in a normal pixel electrode occurs such that an inspection element corresponding to a pixel electrode that should not originally operate operates. Therefore, by detecting the optical change of the inspection element by the light receiver in this way, the defects of the display substrate can be found collectively and quickly.

【0015】ここで、前記検査素子として、特に、高分
子分散型液晶を用いた場合、前記高分子分散型液晶は、
例えばPDLC(Polymar Disperged
LC)と呼ばれるネマティク液晶を屈折率の異なる高
分子中に分散し、透過−散乱効果を持たせたものであっ
て、電界を印加すると液晶分子が揃い透過状態となる。
つまり、電圧を変化させると、透過光量が直線的に変化
する領域を持ち、この線系性を利用して、電圧の変化を
透過光量の変化として容易に捕らえることができる。ま
た、前記高分子分散型液晶に光を照射して、その反射光
又は透過光を受光器で捕らえ、反射光又は透過光の変化
量を相当電圧に変換することで、ディスプレイ基板の画
素電極の欠陥を相当電圧の変化として把握することがで
きる。
Here, in particular, when a polymer dispersed liquid crystal is used as the inspection element, the polymer dispersed liquid crystal is
For example, PDLC (Polymer Dispersed)
A nematic liquid crystal called LC) is dispersed in polymers having different refractive indices to have a transmission-scattering effect. When an electric field is applied, liquid crystal molecules are aligned and in a transmissive state.
In other words, there is a region where the amount of transmitted light changes linearly when the voltage is changed, and by utilizing this linearity, it is possible to easily capture the change in voltage as the change in the amount of transmitted light. Further, by irradiating the polymer-dispersed liquid crystal with light, the reflected light or transmitted light is captured by a light receiver, and the change amount of the reflected light or transmitted light is converted into an equivalent voltage, thereby The defect can be recognized as a change in the equivalent voltage.

【0016】よって、高分子分散型液晶の有する前記の
ような性質は、微細な配線や画素電極を有するディスプ
レイ基板の検査に好適である。
Therefore, the above-mentioned properties of the polymer-dispersed liquid crystal are suitable for inspection of a display substrate having fine wiring and pixel electrodes.

【0017】さらに、検査素子として、エレクトロルミ
ネセンス素子(以下EL素子と称す)を用いた場合、前
記EL素子は、両電極間に通常50〜200Vで、数H
zから数kHzの交流電圧を印加することにより、EL
発光層内の活性種イオンを励起して発光するようになっ
ている。このEL素子の基本的動作原理としては、蛍光
体材料に104〜106V/cm程度の高電界が印加され
た時、材料中の電子が加速され、これが蛍光体中に存在
する発光中心を衝突励起し、励起された発光中心が基底
状態に戻る時に生じる発光がELであると理解されてい
る。従って、この発光を利用してディスプレイ基板の画
素電極の欠陥を把握することができる。
Further, when an electroluminescence element (hereinafter referred to as an EL element) is used as the inspection element, the EL element usually has a voltage of 50 to 200 V between both electrodes and several H.
By applying an alternating voltage of several kHz from z, EL
The active species ions in the light emitting layer are excited to emit light. The basic operation principle of this EL element is that when a high electric field of about 10 4 to 10 6 V / cm is applied to the phosphor material, the electrons in the material are accelerated, and this is the luminescence center present in the phosphor. It is understood that EL is the luminescence that occurs when the excited luminescence center returns to the ground state by collision-exciting. Therefore, the defect of the pixel electrode of the display substrate can be grasped by utilizing this light emission.

【0018】[0018]

【実施例】以下に、本実施例のディスプレイ基板の検査
装置について図面を参照しつつ、詳細に説明する。 (実施例1)図1は、実施例1に係わる検査装置の主要
部の概略構成を示すもので、光源1と、この光源1によ
って、検出光が入射される検査素子から反射光を受ける
受光器2と、この受光器2に接続された画像処理コンピ
ュータ3を具備し、検査素子4の対向面には、ディスプ
レイ基板Aを配置できるようになっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A display substrate inspection apparatus of this embodiment will be described in detail below with reference to the drawings. (Embodiment 1) FIG. 1 shows a schematic structure of a main part of an inspection apparatus according to Embodiment 1. The light source 1 and a light receiving device for receiving reflected light from an inspection element on which detection light is incident are received. It is equipped with a device 2 and an image processing computer 3 connected to the light receiver 2, and a display substrate A can be arranged on the opposite surface of the inspection element 4.

【0019】図中符号10は、検査素子4上面の薄膜透
明電極5とディスプレイ基板Aとの間に電圧を印加する
ための電圧印加装置であって、スイッチと電源部とを備
えているもので、図1に示すように、検査素子4の上面
の薄膜透明電極5とディスプレイ基板A上の全画素電極
9にゲート配線16及びソース配線15から電圧を印加
できるようになっている。そして、本電圧印加装置10
は、ソース配線15とゲート配線16のそれぞれ別個に
パルス電圧を印加でき、そのパルス電圧、バルス幅、周
期は変化させることができるものである。
In the figure, reference numeral 10 is a voltage application device for applying a voltage between the thin film transparent electrode 5 on the upper surface of the inspection element 4 and the display substrate A, which is provided with a switch and a power supply section. As shown in FIG. 1, a voltage can be applied from the gate wiring 16 and the source wiring 15 to the thin film transparent electrode 5 on the upper surface of the inspection element 4 and all the pixel electrodes 9 on the display substrate A. The voltage applying device 10
The pulse voltage can be applied to the source wiring 15 and the gate wiring 16 separately, and the pulse voltage, pulse width, and cycle can be changed.

【0020】本実施例1で検査されるディスプレイ基板
Aは、液晶表示パネル用に使用される公知のもので、例
えば図9に示すように、データ信号を流すための多数の
ソース配線15と、走査信号を流すための多数のゲート
配線16とが整列状態で基板上に形成され、それらの間
に画素電極9が形成され、各画素電極9がスイッチング
素子(薄膜トランジスタ)17を介して、ソース配線1
5とゲート配線16とに接続され、前記各ソース配線は
信号供給回路12に、前記各ゲート配線16は走査回路
13に接続された構成からなっているものである。
The display substrate A to be inspected in the first embodiment is a known one used for a liquid crystal display panel. For example, as shown in FIG. 9, a large number of source wirings 15 for flowing data signals, A large number of gate wirings 16 for flowing a scanning signal are formed in alignment with each other on a substrate, pixel electrodes 9 are formed between them, and each pixel electrode 9 is connected via a switching element (thin film transistor) 17 to a source wiring. 1
5 is connected to the gate wiring 16, each source wiring is connected to the signal supply circuit 12, and each gate wiring 16 is connected to the scanning circuit 13.

【0021】なお、ディスプレイ基板の配線構造と画素
電極9構造とスイッチング素子17の構造は、いずれも
種々の構造が知られているが、いずれの種類の構造であ
っても本発明の検査装置に適用することができるので、
ディスプレイ基板Aの構造は特別に問わないものであ
る。
Although various structures are known for the wiring structure of the display substrate, the structure of the pixel electrode 9 and the structure of the switching element 17, any type of structure is suitable for the inspection apparatus of the present invention. Can be applied,
The structure of the display substrate A is not particularly limited.

【0022】前記検査素子4は、これに電場を印加する
と光学的性質が変化する高分子分散型液晶等からなるも
のである。前記高分子分散型液晶は、図2に示すよう
に、液晶シート6の上面にAl蒸着膜などのような光反
射板7を形成し、液晶シート6上面に薄膜透明電極5は
貼着してなる高分子分散型液晶のシート状のものであ
る。そして、前記光反射板7は、前記液晶シート6のデ
ィスプレイ基板対向面に一様な状態で、全面に被膜され
ている。
The inspection element 4 is made of polymer-dispersed liquid crystal whose optical properties change when an electric field is applied to it. As shown in FIG. 2, the polymer dispersed liquid crystal has a light reflection plate 7 such as an Al vapor deposition film formed on the upper surface of a liquid crystal sheet 6, and a thin film transparent electrode 5 attached on the upper surface of the liquid crystal sheet 6. It is a sheet-shaped polymer dispersion type liquid crystal. The light reflection plate 7 is coated on the entire surface of the liquid crystal sheet 6 facing the display substrate in a uniform state.

【0023】前記検査素子4は、液晶シート6内につく
られる電界の大きさにより光の透過率が変化するもので
ある。従って、前記液晶シート6内に封入する液晶とし
ては、略球状の液晶を内包する高分子の球形の大きさを
調節し、電場のON・OFFで高分子と液晶の屈折率の
一致、不一致によって、透明・不透明を出現させる形式
や液晶分子の配列を制御することにより、光の透過・散
乱状態を出現させる形式の液晶などが好適である。つま
り、本発明で用いる検査素子4は、電界を印加すると光
の透過率や反射光の偏光量などのような光学的性質が一
定の割合で変化するものであれば、高分子分散型液晶に
限るものではない。
The inspection element 4 is such that the light transmittance changes depending on the magnitude of the electric field created in the liquid crystal sheet 6. Therefore, as the liquid crystal to be sealed in the liquid crystal sheet 6, the spherical size of the polymer enclosing the substantially spherical liquid crystal is adjusted, and when the electric field is turned on and off, the refractive index of the polymer and that of the liquid crystal are matched or mismatched. A liquid crystal or the like in which a transparent or opaque appearance or a format in which a light transmission or scattering state appears by controlling the arrangement of liquid crystal molecules is suitable. That is, the inspection element 4 used in the present invention is a polymer-dispersed liquid crystal as long as its optical properties such as light transmittance and polarization amount of reflected light change at a constant rate when an electric field is applied. It is not limited.

【0024】次に、上述したような構成からなる実施例
1のディスプレイ基板の検査装置を用いたディスプレイ
基板Aの検査方法について説明する。
Next, a method of inspecting the display substrate A using the display substrate inspecting apparatus of the first embodiment having the above-mentioned structure will be described.

【0025】まず、ディスプレイ基板Aの生産ラインに
おいては、薄膜作製工程、レジスト工程、露光工程、エ
ッチング工程、洗浄工程などの種々の工程を経て、基板
上にソース配線15とゲート配線16と画素電極9・・
・とスイッチング素子17を形成してディスプレイ基板
Aが製造される。
First, in the production line of the display substrate A, various processes such as a thin film forming process, a resist process, an exposure process, an etching process and a cleaning process are performed, and then the source wiring 15, the gate wiring 16 and the pixel electrode are formed on the substrate. 9 ...
The display substrate A is manufactured by forming the switching element 17 with.

【0026】そして、上記のように製造されたディスプ
レイ基板Aに検査素子4を接近させる。この際、前記デ
ィスプレイ基板Aと検査素子4との間には微小なエアー
ギャップ8を設け、前記ディスプレ基板Aと前記検査素
子4とを平行な状態に載置固定する。続いて、前記ディ
スプレイ基板Aの回路に電圧印加装置10の電極を接続
し電圧を印加する。この操作により検査素子4上面の薄
膜透明電極5とディスプレイ基板A上の画素電極9・・
・との間に電場が発生する。
Then, the inspection element 4 is brought close to the display substrate A manufactured as described above. At this time, a minute air gap 8 is provided between the display substrate A and the inspection element 4, and the display substrate A and the inspection element 4 are placed and fixed in a parallel state. Then, the electrodes of the voltage applying device 10 are connected to the circuit of the display substrate A to apply a voltage. By this operation, the thin film transparent electrode 5 on the upper surface of the inspection element 4 and the pixel electrode 9 on the display substrate A ...
・ An electric field is generated between and.

【0027】そして、前記検査素子4に、先に説明した
高分子分散型液晶等からなる液晶シート6を用いた場
合、上述したような電場が、前記液晶シート6に印加さ
れない状態では、図10に示すように液晶シート6内の
球形液晶分子は、無秩序な方向を向いて光を散乱させ
て、光を透過させない状態となっているが、電場が印加
された状態では、図11に示すように、球形中の液晶分
子が同一方向に向いて光を透過するようになる。
When the above-mentioned liquid crystal sheet 6 made of polymer-dispersed liquid crystal or the like is used as the inspection element 4, when the electric field as described above is not applied to the liquid crystal sheet 6, FIG. As shown in FIG. 11, the spherical liquid crystal molecules in the liquid crystal sheet 6 are oriented in a disordered direction to scatter light and not transmit light, but when an electric field is applied, as shown in FIG. In addition, the liquid crystal molecules in the sphere are oriented in the same direction and transmit light.

【0028】特に、前記液晶シート6に高分子分散型液
晶を用いた場合、電圧を変化させると、透過光量がほぼ
直線的に変化する領域を持ち、この部分の線形性を利用
して電圧の変化を透過光量の変化として捕らえることが
できる。更に、画素電極9・・・と検査素子4上部の薄
膜透明電極5との間には、この直線領域に対応する電圧
でバイアス電圧を印加している。
In particular, when a polymer dispersed liquid crystal is used for the liquid crystal sheet 6, there is a region where the amount of transmitted light changes substantially linearly when the voltage is changed, and the linearity of this portion is utilized to make the voltage The change can be captured as a change in the amount of transmitted light. Further, a bias voltage is applied between the pixel electrodes 9 ... And the thin film transparent electrode 5 above the inspection element 4 at a voltage corresponding to this linear region.

【0029】以上のように検査素子4に液晶シート6を
使用するならば、前記画素電極9・・・と液晶検査素子
4上面の薄膜透明電極5間に電圧を印加することにより
発生された電場を受けた検査素子4は、各画素電極9・
・・により電場が変化すれば光の透過量がそれに応じて
変化するようになる。
When the liquid crystal sheet 6 is used for the inspection element 4 as described above, an electric field generated by applying a voltage between the pixel electrodes 9 ... And the thin film transparent electrode 5 on the upper surface of the liquid crystal inspection element 4. The inspection element 4 that has received the
・ When the electric field changes due to, the amount of transmitted light will change accordingly.

【0030】また、光源1から検査素子4に照射すると
ともに、検査素子4を通過して光反射板7により反射さ
れて再び検査素子4を通過してきた光の強さを受光器2
によって計測する。そして、受光器2が受けた光を制御
部で演算して、相当電圧を算出する。従って、ディスプ
レイ基板Aの採否を決めるには、ある指定基準を設け、
例えば31万画素のディスプレイ基板Aにおいて、いく
つの欠陥までが所用されるか否かの値を決めておけば、
使用者が処理画像のデータからディスプレイ基板Aの採
否を判断できる。
In addition, the light intensity of the light radiated from the light source 1 to the inspection element 4 and transmitted through the inspection element 4 and reflected by the light reflecting plate 7 to pass through the inspection element 4 again is detected by the light receiver 2.
To measure. Then, the control section calculates the light received by the light receiver 2 to calculate the equivalent voltage. Therefore, in order to decide whether to adopt the display substrate A, a certain designated standard is set,
For example, in the display substrate A of 310,000 pixels, if the number of defects to be used is determined,
The user can determine whether or not the display substrate A is adopted from the data of the processed image.

【0031】ディスプレイ基板Aの欠陥数が許容範囲以
内であることが判明すれば、検査終了したディスプレイ
基板Aを次の生産ラインに移す。ここで、ディスプレイ
基板Aの欠陥数が許容範囲外になったものにあっては、
補修できるものは補修し、補修後に次の生産ラインに戻
すことができる。しかし、補修が困難と見なされたもの
は、廃棄処分とする。
If it is found that the number of defects of the display substrate A is within the allowable range, the inspection-completed display substrate A is transferred to the next production line. Here, in the case where the number of defects of the display substrate A is out of the allowable range,
Those that can be repaired can be repaired and returned to the next production line after repairing. However, if it is considered difficult to repair, it will be discarded.

【0032】以上説明したように、本発明は液晶表示パ
ネル組立前のディスプレイ基板Aの状態において、従来
の最終検査に近い状態を再現し、欠陥を検出するもので
あり、欠陥を修復するのにも液晶表示パネルを組立てる
前なので、比較的容易にできる上、不良基板を後の工程
に投入しなくても済むので、不要なコストアップがなく
なる。
As described above, the present invention reproduces a state close to the conventional final inspection in the state of the display substrate A before the liquid crystal display panel is assembled, and detects a defect, which is necessary for repairing the defect. Since it is before assembling the liquid crystal display panel, it can be relatively easily performed, and since it is not necessary to put a defective substrate in a subsequent process, unnecessary cost increase is eliminated.

【0033】また、本発明方法においては、上述したよ
うに液晶表示パネルの組立前に、各製造段階において、
その欠陥を容易に、かつ細かく検査することが可能なた
めに、従来の生産品における欠陥品個数に比較すると、
極端に欠陥製品の低減を図ることが可能である。
In the method of the present invention, as described above, before assembling the liquid crystal display panel, at each manufacturing stage,
Since it is possible to inspect the defect easily and finely, comparing with the number of defective products in the conventional production product,
It is possible to extremely reduce defective products.

【0034】また、本実施例1におけるディスプレイ基
板の検査方法は、容易でかつ低コストで実現可能であ
り、確実に各生産段階における欠陥箇所の排除を行なう
ことができるために、大型液晶表示パネルを低コストで
生産できる。
The display substrate inspection method according to the first embodiment can be implemented easily and at low cost, and the defective portion can be reliably eliminated at each production stage. Can be produced at low cost.

【0035】従って、上述したようなディスプレイ基板
Aについて検査を行なうならば、電気的にディスプレイ
基板Aの欠陥の位置と数を表示できるので、極めて簡単
にディスプレイ基板Aの検査を行なうことができる。ま
た、検査素子4からの反射光を相当電圧に一括変換して
欠陥を判定することもできるので、短時間で速く検査が
できる。
Therefore, if the display substrate A is inspected as described above, the position and number of defects of the display substrate A can be electrically displayed, so that the display substrate A can be inspected very easily. Further, since it is possible to collectively convert the reflected light from the inspection element 4 into an equivalent voltage and determine the defect, it is possible to perform the inspection quickly in a short time.

【0036】(実施例2)図3に示す実施例2のディス
プレイ基板の検査装置は、前記実施例1のディスプレイ
検査装置における検査素子4とディスプレイ基板Aとの
間にエアーギャップ8が形成されていない構成のもので
あり、かつ、液晶シート6の底面に設けられた反射板7
の表面が絶縁性の素材より形成され、前記液晶シート6
が、高分子分散型液晶と高分子ポリマーからなるバイン
ダーとの混合物で例えば、変形率10%以上の組成物か
らなるものである。なお、その他の構成は、上述した実
施例1と同様の構成からなっている。
(Embodiment 2) In the display substrate inspection apparatus of Embodiment 2 shown in FIG. 3, an air gap 8 is formed between the inspection element 4 and the display substrate A in the display inspection apparatus of Embodiment 1 described above. Reflector 7 which is not provided and is provided on the bottom surface of the liquid crystal sheet 6.
The surface of the liquid crystal sheet 6 is made of an insulating material.
Is a mixture of a polymer-dispersed liquid crystal and a binder made of a polymer, for example, a composition having a deformation rate of 10% or more. The rest of the configuration is similar to that of the first embodiment described above.

【0037】従って、ディスプレイ基板Aと検査素子4
との間にエアーギャップを形成せず、図4に示すように
密着させて前記ディスプレイ基板Aの検査を行なった場
合、前記液晶シート6が、高分子分散型液晶と高分子ポ
リマーからなるバインダーとの混合物で例えば、変形率
10%以上の組成物であり、フレキシブルな性質を要す
ることから、特に前記ディスプレイ基板Aと検査素子4
とが、密着しても画素電極9を損傷させることがなく、
微細な画素電極9から出された微細電場に応じて透過率
が微細に変化するために、分解能に優れ、より微細な画
素電極9・・・を有するディスプレイ基板Aの検査が可
能である。
Therefore, the display substrate A and the inspection element 4
When the display substrate A is inspected by closely contacting it as shown in FIG. 4 without forming an air gap between the liquid crystal sheet 6 and the binder, the liquid crystal sheet 6 contains a polymer dispersion type liquid crystal and a binder composed of a polymer. Is a composition having a deformation rate of 10% or more, and needs to have flexible properties. Therefore, in particular, the display substrate A and the inspection element 4 are used.
Does not damage the pixel electrode 9 even if they adhere to each other,
Since the transmittance changes minutely according to the minute electric field emitted from the minute pixel electrode 9, it is possible to inspect the display substrate A having excellent resolution and having the minute pixel electrode 9 ...

【0038】なお、前記反射板7の表面を絶縁性のもの
に限定したのは、本実施例2においては図4に示すよう
に、反射板7が前記検査素子4のディスプレイ基板対向
面側に一様な状態で全面に被膜されており、こうした状
態でディスプレイ基板Aと検査素子4を密着させた状態
で検査を行なうために、前記反射板7が金属製であると
欠陥箇所の近傍において、欠陥部位ではない箇所までも
が、前記欠陥箇所と接続関係になって短絡が発生してし
まうためである。
The reason why the surface of the reflection plate 7 is limited to the insulating one is that in the second embodiment, as shown in FIG. 4, the reflection plate 7 is placed on the surface of the inspection element 4 facing the display substrate. The entire surface is coated in a uniform state, and in order to perform an inspection in such a state that the display substrate A and the inspection element 4 are in close contact with each other, if the reflection plate 7 is made of metal, in the vicinity of the defective portion, This is because even a portion that is not a defective portion has a connection relationship with the defective portion and a short circuit occurs.

【0039】(実施例3)図5に示す実施例3のディス
プレイ基板の検査装置は、前記実施例2のディスプレイ
基板の検査装置において液晶シート6の底面に設けられ
た反射板7が、前記画素電極間の間隔より小さい形状の
反射体7a・・・を複数形成することによって構成され
たものである。なお、その他の構成は、上述した実施例
2のディスプレイ基板の検査装置と同様の構成からなる
ものである。
(Embodiment 3) In the display substrate inspection apparatus of Embodiment 3 shown in FIG. 5, the reflection plate 7 provided on the bottom surface of the liquid crystal sheet 6 in the display substrate inspection apparatus of Embodiment 2 has the pixel It is configured by forming a plurality of reflectors 7a having a shape smaller than the space between the electrodes. The rest of the configuration is similar to that of the display substrate inspection apparatus of the second embodiment described above.

【0040】液晶シート6の底面に設けられた反射板7
で、前記液晶シート6の全面を覆うように形成せず、図
6に示すように、ディスプレイ基板Aの画素電極9(大
きさ:100μm×100μm程度)間の間隔より小さい
反射体7a・・・を複数設けることにより、前記画素電
極9・・・間を前記反射体7a・・・によって橋渡しさ
れた状態になることを防止し、前記画素電極9・・・の
欠陥箇所と欠陥箇所でない部分の接続関係による欠陥箇
所以外での短絡を発生を回避する。よって、本実施例3
においては、上記のような構成を有することにより、前
記反射体7a・・・が金属製のものであっても、ディス
プレイ基板Aの的確な欠陥箇所の検査を行なうことが可
能である。
Reflector 7 provided on the bottom surface of the liquid crystal sheet 6.
Then, as shown in FIG. 6, the reflectors 7a which are smaller than the space between the pixel electrodes 9 (size: about 100 μm × 100 μm) of the display substrate A are not formed so as to cover the entire surface of the liquid crystal sheet 6. By providing a plurality of pixels, it is possible to prevent the pixel electrodes 9 ... from being bridged by the reflectors 7a .. Avoid short circuits other than defective parts due to connection relationships. Therefore, the third embodiment
With the above-mentioned configuration, even if the reflectors 7a ... Are made of metal, it is possible to accurately inspect a defective portion of the display substrate A.

【0041】そして、さらに前記実施例2において説明
したように、前記液晶シート6はフレキシブルな性質を
有する変形率10%以上の高分子分散型液晶と高分子ポ
リマーからなるものであることから、前記ディスプレイ
基板Aと検査素子4とを密着させても画素電極9・・・
を傷つけることがなく、微細な画素電極9・・・から出
された微細電場に応じて透過率が微細に変化するため
に、分解能に優れ、より微細な画素電極9・・・を有す
るディスプレイ基板Aの検査が可能である。
Further, as explained in the second embodiment, the liquid crystal sheet 6 is composed of a polymer dispersion type liquid crystal having a deformation rate of 10% or more having a flexible property and a polymer, so that Even if the display substrate A and the inspection element 4 are brought into close contact with each other, the pixel electrode 9 ...
The display substrate having finer pixel electrodes 9 has excellent resolution because the transmittance is finely changed according to the fine electric field generated from the fine pixel electrodes 9 ... A inspection is possible.

【0042】なお、上述した本実施例3の特徴である反
射体7a・・・は、図7及び図8に示す構成からなるデ
ィスプレイ検査装置のように、検査素子4とディスプレ
イ基板Aとの間にエアーギャップ8を形成した構成のデ
ィスプレイ基板の検査装置においても適用することがで
きる。
The reflector 7a, which is the feature of the third embodiment described above, is provided between the inspection element 4 and the display substrate A as in the display inspection apparatus having the configuration shown in FIGS. 7 and 8. It can also be applied to an inspection apparatus for a display substrate having a structure in which the air gap 8 is formed in the.

【0043】(実施例4)図12は、実施例4に係わる
検査装置の主要部の概略構成を示すものである。図12
に示す本実施例4のディスプレイ基板の検査装置は、検
査素子4に、特に透過型の高分子分散型液晶を使用し、
これに電圧を印加した時に発生した検出光を受ける受光
器2、及び、この受光器2に接続された画像処理コンピ
ュータ3を具備している。そして、前記検査素子4の対
向面にはディスプレイ基板Aが配置できるようになって
いる。
(Embodiment 4) FIG. 12 shows a schematic structure of a main part of an inspection apparatus according to Embodiment 4. 12
In the display substrate inspection apparatus of the present Example 4 shown in FIG. 4, a transmissive polymer dispersed liquid crystal is particularly used for the inspection element 4,
The light receiving device 2 receives the detection light generated when a voltage is applied to the light receiving device 2, and the image processing computer 3 connected to the light receiving device 2. The display substrate A can be arranged on the opposite surface of the inspection element 4.

【0044】従って、本実施例4のディスプレイ基板の
検査装置が、上述した実施例1〜実施例3のディスプレ
イ基板の検査装置と異なるところは、検査素子4に透過
型の高分子型液晶を使用し、図12に示すように、液晶
シート6に反射板7を形成せず、光源1をディスプレイ
基板Aの下面側に載置することによって、前記光源1に
より検出光が入射される検査素子4からの透過光を受け
る受光器2及び、この受光器2に接続された画像処理コ
ンピュータ3によって構成されているところである。
Therefore, the display board inspecting apparatus of the fourth embodiment differs from the display board inspecting apparatus of the first to third embodiments described above in that the inspection element 4 uses a transmissive polymer type liquid crystal. Then, as shown in FIG. 12, by placing the light source 1 on the lower surface side of the display substrate A without forming the reflection plate 7 on the liquid crystal sheet 6, the inspection element 4 on which the detection light is incident by the light source 1 is placed. The light receiving device 2 receives the transmitted light from the image receiving device 2 and the image processing computer 3 connected to the light receiving device 2.

【0045】従って、本実施例4のディスプレイ基板の
検査装置を用いたディスプレイ基板の検査方法は、ま
ず、ディスプレイ基板Aに検査素子4を接近させる。こ
の際、前記ディスプレイ基板Aと検査素子4との間には
微小なエアーギャップ8を設け、前記ディスプレ基板A
と前記検査素子4とを平行な状態に載置固定する。続い
て、前記ディスプレイ基板Aの回路に電圧印加装置10
の電極を接続し電圧を印加する。この操作により検査素
子4上面の薄膜透明電極5とディスプレイ基板A上の画
素電極9との間に電場が発生する。
Therefore, in the display substrate inspection method using the display substrate inspection device of the fourth embodiment, first, the inspection element 4 is brought close to the display substrate A. At this time, a minute air gap 8 is provided between the display substrate A and the inspection element 4, and the display substrate A is
And the inspection element 4 are placed and fixed in parallel with each other. Subsequently, the voltage applying device 10 is applied to the circuit of the display substrate A.
The electrodes are connected and a voltage is applied. By this operation, an electric field is generated between the thin film transparent electrode 5 on the upper surface of the inspection element 4 and the pixel electrode 9 on the display substrate A.

【0046】そして、前記検査素子4に、透過型の高分
子分散型液晶等からなる液晶シート6を用いた場合、上
述したような電場が、前記液晶シート6に印加されない
状態では、図10に示すように液晶シート6内の球形液
晶分子は、無秩序な方向を向いて光を散乱させて、光を
透過させない状態となっているが、電場が印加された状
態では、図11に示すように、球形中の液晶分子が同一
方向に向いて光を透過するようになる。
When a liquid crystal sheet 6 made of a transmissive polymer-dispersed liquid crystal or the like is used for the inspection element 4, the electric field as described above is not applied to the liquid crystal sheet 6, as shown in FIG. As shown in the figure, the spherical liquid crystal molecules in the liquid crystal sheet 6 are oriented in a disordered direction to scatter light and not transmit light, but when an electric field is applied, as shown in FIG. , The liquid crystal molecules in the sphere are oriented in the same direction and transmit light.

【0047】また、前記液晶シート6に透過型の高分子
分散型液晶を用いた場合、電圧を変化させると、光の透
過量が直線的に変化する領域を持ち、この線形領域を利
用して電圧の変化を透過光量の変化として捕らえること
ができる。更に、画素電極9・・・と検査素子4上部の
薄膜透明電極5との間には、この直線領域に対応する電
圧でバイアス電圧を印加している。
When a transmissive polymer dispersed liquid crystal is used for the liquid crystal sheet 6, there is a region where the amount of light transmission changes linearly when the voltage is changed. A change in voltage can be captured as a change in the amount of transmitted light. Further, a bias voltage is applied between the pixel electrodes 9 ... And the thin film transparent electrode 5 above the inspection element 4 at a voltage corresponding to this linear region.

【0048】以上のように検査素子4に液晶シート6を
使用するならば、前記画素電極9・・・と液晶検査素子
4上面の薄膜透明電極5間に電圧を印加することにより
発生された電場を受けた検査素子4は、各画素電極9・
・・により電場が変化すれば光の透過量がそれに応じて
変化するようになる。
When the liquid crystal sheet 6 is used for the inspection element 4 as described above, an electric field generated by applying a voltage between the pixel electrodes 9 ... And the thin film transparent electrode 5 on the upper surface of the liquid crystal inspection element 4. The inspection element 4 that has received the
・ When the electric field changes due to, the amount of transmitted light will change accordingly.

【0049】また、光源1からディスプレイ基板Aを通
して、検査素子4に光を照射し、前記検査素子4を透過
した光の強さを受光器2によって計測する。そして、受
光器2が受けた光を制御部で演算して相当電圧を算出す
る。従って、ディスプレイ基板Aの採否を決めるには、
上述した実施例1と同様に、ある指定基準を設け、例え
ば31万画素のディスプレイ基板Aにおいて、いくつの
欠陥まで所用されるか否かの値を決めておけば、使用者
が処理画像のデータからディスプレイ基板Aの採否を判
断できる。
Further, the inspection element 4 is irradiated with light from the light source 1 through the display substrate A, and the intensity of the light transmitted through the inspection element 4 is measured by the light receiver 2. Then, the light received by the light receiver 2 is calculated by the control unit to calculate an equivalent voltage. Therefore, to decide whether to adopt the display substrate A,
Similar to the first embodiment described above, if a certain reference is set and the value of how many defects are used in the display substrate A having 310,000 pixels is determined, the user can process the data of the processed image. It is possible to judge whether the display substrate A is adopted or not.

【0050】ディスプレイ基板Aの欠陥数が許容範囲以
内であることが判明すれば、検査終了したディスプレイ
基板Aを次の生産ラインに移す。ここで、ディスプレイ
基板Aの欠陥数が許容範囲外になったものにあっては、
補修できるものは補修し、補修後に次の生産ラインに戻
すことができる。しかし、補修が困難と見なされたもの
は、廃棄処分とする。
When it is determined that the number of defects of the display substrate A is within the allowable range, the inspection-completed display substrate A is transferred to the next production line. Here, in the case where the number of defects of the display substrate A is out of the allowable range,
Those that can be repaired can be repaired and returned to the next production line after repairing. However, if it is considered difficult to repair, it will be discarded.

【0051】従って、上述したような本実施例4のディ
スプレイ基板の検査装置によって、ディスプレイ基板A
の検査を行なうならば、電気的にディスプレイ基板Aの
欠陥の位置と数を表示できるので、極めて簡単にディス
プレイ基板Aの検査を行なうことができる。また、検査
素子4からの透過光を相当電圧に一括変換して欠陥を判
定することもできるので、短時間で速く検査ができる。
Therefore, the display board A is checked by the display board inspection apparatus of the fourth embodiment as described above.
If the inspection is performed, the position and the number of defects of the display substrate A can be electrically displayed, so that the inspection of the display substrate A can be performed very easily. Further, since it is possible to collectively convert the transmitted light from the inspection element 4 into an equivalent voltage and determine the defect, it is possible to perform the inspection quickly in a short time.

【0052】なお、上述した本実施例4においては、液
晶シート4とディスプレイ基板Aの画素電極9・・・の
間にエアーギャップ8を設けたが、図14、図15に示
すように前記液晶シート4とディスプレイ基板Aの画素
電極9・・・を密着させた構成のものでも、前記実施例
4のディスプレイ基板の検査装置と同様の効果を得るこ
とができる。
Although the air gap 8 is provided between the liquid crystal sheet 4 and the pixel electrodes 9 of the display substrate A in the fourth embodiment described above, the liquid crystal is formed as shown in FIGS. 14 and 15. With the configuration in which the sheet 4 and the pixel electrodes 9 ... Of the display substrate A are brought into close contact with each other, the same effect as that of the display substrate inspection apparatus of the fourth embodiment can be obtained.

【0053】(実施例5)図17は、実施例5に係わる
検査装置の主要部の概略構成を示すものである。図17
に示す本実施例5のディスプレイ基板の検査装置は、検
査素子4に薄膜EL素子25を使用し、これに電圧を印
加した時に発生した検出光を受ける受光器2、及び、こ
の受光器2に接続された画像処理コンピュータ3を具備
している。そして、前記検査素子4の対向面にはディス
プレイ基板Aが配置できるようになっている。
(Embodiment 5) FIG. 17 shows a schematic structure of a main part of an inspection apparatus according to Embodiment 5. FIG. 17
The display substrate inspection apparatus of the fifth embodiment shown in FIG. 5 uses the thin film EL element 25 as the inspection element 4, and receives the detection light generated when a voltage is applied to the light reception element 2 and the light reception element 2. It is equipped with a connected image processing computer 3. The display substrate A can be arranged on the opposite surface of the inspection element 4.

【0054】そして、図中符号10は、検査素子4上面
の薄膜透明電極20とディスプレイ基板Aとの間に一定
電圧を印加するための電圧印加装置であって、スイッチ
と電源部とを備えているもので、図17に示すように、
検査素子4のEL素子の薄膜透明電極20とディスプレ
イ基板A上の全画素電極9にゲート配線16及びソース
配線15から電圧を印加できるようになっている。そし
て、本電圧印加装置10は、ソース配線15とゲート配
線16のそれぞれ別個にパルス電圧を印加でき、そのパ
ルス電圧、バルス幅、周期は変化させることができるも
のである。
Reference numeral 10 in the drawing is a voltage applying device for applying a constant voltage between the thin film transparent electrode 20 on the upper surface of the inspection element 4 and the display substrate A, and includes a switch and a power supply section. As shown in FIG. 17,
A voltage can be applied from the gate wiring 16 and the source wiring 15 to the thin film transparent electrode 20 of the EL element of the inspection element 4 and all the pixel electrodes 9 on the display substrate A. The voltage applying device 10 can apply a pulse voltage to each of the source wiring 15 and the gate wiring 16, and can change the pulse voltage, the pulse width, and the period.

【0055】また、本実施例5で検査されるディスプレ
イ基板Aは、上記実施例1で説明した図9に示すディス
プレイ基板Aと同様の構成からなるものである。なお、
ディスプレイ基板の配線構造と画素電極9構造とスイッ
チング素子17の構造は、いずれも種々の構造が知られ
ているが、いずれの種類の構造であっても本発明の検査
装置に適用することができるので、ディスプレイ基板A
の構造は特別に問わないものである。
The display substrate A to be inspected in the fifth embodiment has the same structure as the display substrate A shown in FIG. 9 described in the first embodiment. In addition,
Various structures are known for the wiring structure of the display substrate, the structure of the pixel electrode 9 and the structure of the switching element 17, but any kind of structure can be applied to the inspection apparatus of the present invention. So display board A
The structure of is not particularly limited.

【0056】そこで、本実施例5の特徴である検査素子
4に使用した薄膜EL素子の構造及び原理について、以
下に説明する。薄膜EL素子は、図20に示すような2
重絶縁体構造からなっており、この薄膜EL素子25
は、透明電極20と、第一絶縁層21とEL発光層22
と、第二絶縁層23とからなる発光部25が、基板19
上に順次積層されたものである。そして、前記薄膜EL
素子の基本動作原理は、前記薄膜EL素子中の蛍光体材
料からなるEL発光層22に電圧が印加された時、材料
中の電子(あるいは正孔)が加速され、これが蛍光体中
に存在する発光中心を衝突励起し、励起された発光中心
が基底状態に戻る時に発光を生じる。この発光がELと
称されているものである。
Therefore, the structure and principle of the thin film EL element used for the inspection element 4 which is the feature of the fifth embodiment will be described below. The thin film EL device has a structure as shown in FIG.
This thin film EL element 25 is made of a heavy insulator structure.
Is the transparent electrode 20, the first insulating layer 21, and the EL light emitting layer 22.
And the second insulating layer 23,
They are sequentially stacked on top. And the thin film EL
The basic operation principle of the device is that when a voltage is applied to the EL light emitting layer 22 made of the phosphor material in the thin film EL device, electrons (or holes) in the material are accelerated and exist in the phosphor. The emission center is collisionally excited, and light is emitted when the excited emission center returns to the ground state. This light emission is called EL.

【0057】つまり、本実施例5のディスプレイAの検
査装置は、上述した薄膜EL素子の第二絶縁層23側
と、ディスプレイ基板Aの画素電極9側を平行載置し、
上述した薄膜EL素子の透明電極20とディスプレイ基
板Aの画素電極9・・・の間に数10Hzから、数kH
zの電圧が印加した時に発生する電界によって、前記構
成からなる薄膜EL素子中のEL発光層22内の活性種
イオンが励起され発光を生じるものである。従って、こ
の発光状態の異常により、ディスプレイ基板Aの画素電
極の欠陥を見知することがきる。
That is, in the inspection apparatus for the display A of the fifth embodiment, the second insulating layer 23 side of the above-mentioned thin film EL element and the pixel electrode 9 side of the display substrate A are placed in parallel,
Between the transparent electrode 20 of the thin film EL element and the pixel electrode 9 of the display substrate A ...
An electric field generated when a voltage of z is applied excites the active species ions in the EL light emitting layer 22 in the thin film EL element having the above structure to emit light. Therefore, it is possible to detect a defect in the pixel electrode of the display substrate A due to the abnormal light emitting state.

【0058】従って、本実施例5のディスプレイ基板の
検査装置は、検査素子4に上記構成からなる薄膜EL素
子を用いることにより、前記装置の薄膜化を図ることが
可能であり、さらに印加電圧の低減を図ることができ
る。なお、上述した実施例5のディスプレイ基板の検査
装置は、図17及び図18に示すように、ディスプレイ
基板Aの画素電極9と薄膜EL素子の第二絶縁層23と
の間にエアーギャップ8を設けた状態でも、ディスプレ
イ基板Aの画素電極9・・・の欠陥検査を行なうことが
できるが、図19に示すように、前記画素電極9・・・
と薄膜EL素子の第二絶縁層23を密着させた状態で
も、前記ディスプレイ基板Aの画素電極9・・・の欠陥
を見知することができる。
Therefore, in the display substrate inspecting apparatus of the fifth embodiment, by using the thin film EL element having the above structure as the inspecting element 4, it is possible to reduce the thickness of the apparatus and further reduce the applied voltage. Reduction can be achieved. In addition, in the display substrate inspection apparatus of the fifth embodiment described above, as shown in FIGS. 17 and 18, the air gap 8 is provided between the pixel electrode 9 of the display substrate A and the second insulating layer 23 of the thin film EL element. The defect inspection of the pixel electrodes 9 ... Of the display substrate A can be performed even in the provided state. However, as shown in FIG. 19, the pixel electrodes 9 ...
Even when the thin film EL element and the second insulating layer 23 of the thin film EL element are in close contact with each other, defects of the pixel electrodes 9 ... Of the display substrate A can be detected.

【0059】(実施例6)本実施例6のディスプレイ基
板の検査装置は、前記実施例5において検査素子4に薄
膜EL素子を使用した代わりに、厚膜EL素子を使用し
たものである。厚膜EL素子は、図21に示すような構
造からなっており、図中符号31は、厚膜EL素子の本
体である。この厚膜EL素子31は、透明電極27と、
EL発光層28と、絶縁層29とが、基板26上に順次
積層されたもので、透明電極27とディスプレイ基板A
の画素電極9・・・との間に通常数10Hzから、数k
Hzの電圧が印加されると、EL発光層28内の活性種
イオンが励起されて発光するものである。
(Embodiment 6) The display substrate inspection apparatus of this Embodiment 6 uses a thick film EL element instead of the thin film EL element as the inspection element 4 in Embodiment 5. The thick film EL element has a structure as shown in FIG. 21, and reference numeral 31 in the drawing is a body of the thick film EL element. The thick film EL element 31 includes a transparent electrode 27,
The EL light emitting layer 28 and the insulating layer 29 are sequentially laminated on the substrate 26. The transparent electrode 27 and the display substrate A
Between the pixel electrodes 9 ...
When a voltage of Hz is applied, active species ions in the EL light emitting layer 28 are excited to emit light.

【0060】つまり、本実施例6のディスプレイ基板A
の検査装置は、上述した実施例5における検査素子4に
使用した薄膜EL素子と同様に、厚膜EL素子の絶縁層
29側をディスプレイ基板A側の対向面に、透明電極2
6側を前記液晶ディスプレイ基板Aの対向面とは反対側
になるように平行に載置し、前記厚膜EL素子の透明電
極27とディスプレイ基板Aの画素電極9・・・との間
に、数10Hzから数kHzの電圧が印加された時に、
前記EL発光層28の活性種イオンが励起されて発光す
る。この発光状態の異常をディスプレイ基板Aの画素電
極の欠陥として把握することができる。
That is, the display substrate A according to the sixth embodiment.
In the inspection apparatus of No. 3, as in the thin film EL element used for the inspection element 4 in the above-described fifth embodiment, the insulating layer 29 side of the thick film EL element is placed on the opposing surface on the display substrate A side, and the transparent electrode 2
6 side is placed in parallel so as to be the opposite side to the facing surface of the liquid crystal display substrate A, and between the transparent electrode 27 of the thick film EL element and the pixel electrode 9 of the display substrate A. When a voltage of several tens Hz to several kHz is applied,
The active species ions of the EL light emitting layer 28 are excited to emit light. This abnormal light emitting state can be understood as a defect of the pixel electrode of the display substrate A.

【0061】本実施例6のディスプレイ基板の検査装置
の特徴である厚膜EL素子は、上述した実施例5の検査
素子4に使用した薄膜EL素子と異なり、EL発光層が
絶縁層で完全にシールされた構成ではなく、前記EL発
光層の片面のみに絶縁層を設けたものであって、外部か
らの湿気や直接流入する電流を完全に断つことが不可能
で、その寿命が前記薄膜EL素子に比較して短いもので
あるが、厚膜EL素子は、大版形成が低コストで実現可
能なことや、前記基板26をガラスのみでなくプラスチ
ックシートなどで形成することにより、フレキシブルな
大版形成が容易に、かつ低コストで製造可能であり、デ
ィスプレイ基板の検査などの連続使用を想定しない検査
部品としては充分に、その機能を発揮できる。なお、上
述した実施例2及び実施例3と同様な構成からなるディ
スプレイ基板の検査装置においても、その検査素子4に
上記実施例6と同様に厚膜EL素子を用いることができ
る。
The thick film EL element, which is a feature of the display substrate inspection apparatus of the sixth embodiment, is different from the thin film EL element used for the inspection element 4 of the above-described fifth embodiment in that the EL light emitting layer is completely an insulating layer. It is not a sealed structure, but an insulating layer is provided only on one surface of the EL light emitting layer, and it is impossible to completely cut off moisture from the outside or a current flowing in directly, and the life thereof is the thin film EL. Although it is shorter than the element, the thick film EL element can be formed in a large size at a low cost, and by forming the substrate 26 not only with glass but with a plastic sheet or the like, it is flexible and large. The plate can be easily formed at low cost, and its function can be sufficiently exerted as an inspection component that does not assume continuous use such as inspection of a display substrate. In the inspection device for the display substrate having the same configuration as in the second and third embodiments described above, the thick film EL element can be used as the inspection element 4 as in the sixth embodiment.

【0062】以下に、上記各実施例によるディスプレイ
基板検査装置の製造例について説明する。 (製造例1)本製造例1は、図1に示すディスプレイ基
板の検査装置と同様の構成からなるもので、ハロゲンラ
ンプからなる光源1と、この光源1によって検出光が入
射される検査素子4からの反射光を受けるCCD(電荷
結合素子)型カメラを用いた受光器2と、この受光器2
に接続された画像処理コンピュータ3を具備し、検査素
子4の対向面には、ディスプレイ基板Aを配置できるよ
うになっている。そして、前記検査素子4とディスプレ
イ基板Aとの間は、1.0〜30μm程度のエアーギャ
ップ8が形成されている。
Hereinafter, a manufacturing example of the display substrate inspection apparatus according to each of the above embodiments will be described. (Manufacturing Example 1) This Manufacturing Example 1 has the same configuration as the display substrate inspection apparatus shown in FIG. 1, and includes a light source 1 including a halogen lamp and an inspection element 4 on which detection light is incident by the light source 1. Receiver 2 using a CCD (charge-coupled device) type camera that receives reflected light from
The image processing computer 3 connected to the inspection element 4 is provided, and the display substrate A can be arranged on the opposite surface of the inspection element 4. An air gap 8 of about 1.0 to 30 μm is formed between the inspection element 4 and the display substrate A.

【0063】前記検査素子4は、高分子分散型液晶を紫
外線硬化樹脂(ノーランド社製NoA−65)からなる
バインダーに重量比1:1の割合で混合した厚さ10μ
m程度の液晶シート6である。そして、前記液晶シート
6の底面には厚さ0.2μm程度のAlからなる蒸着膜
の光反射板7を形成あるいは貼着してなるものであり、
前記液晶シート6の上面には、酸化インジウム・スズ
(ITO)からなる厚さ0.07μm程度の薄膜透明電
極が形成されている。
The inspection element 4 had a thickness of 10 μm in which a polymer dispersion type liquid crystal was mixed with a binder made of an ultraviolet curable resin (NoA-65 manufactured by Norland Co.) at a weight ratio of 1: 1.
The liquid crystal sheet 6 is about m. The liquid crystal sheet 6 has a bottom surface on which a light reflection plate 7 of a vapor deposition film made of Al having a thickness of about 0.2 μm is formed or attached.
A thin film transparent electrode made of indium tin oxide (ITO) and having a thickness of about 0.07 μm is formed on the upper surface of the liquid crystal sheet 6.

【0064】そこで、上記構成のように検査素子4に高
分子分散型液晶を用いたディスプレイ基板Aの検査装置
において、時間に対する光の透過率を測定し、その結果
を図16に示した。図16に示されているように、検査
素子4に高分子分散型液晶を使用した構成からなるディ
スプレイ基板は、スイッチのON−0FFで液晶が瞬時
に反応し、透明・不透明を自由に、瞬間的にコントロー
ルできることが判る。
Then, in the inspection device for the display substrate A using the polymer dispersion type liquid crystal for the inspection element 4 as in the above-mentioned constitution, the light transmittance with respect to time was measured, and the result is shown in FIG. As shown in FIG. 16, in the display substrate composed of the polymer dispersion type liquid crystal for the inspection element 4, the liquid crystal instantly reacts at ON-0FF of the switch, and the transparency / opacity can be freely set. You can see that you can control it.

【0065】(製造例2)本製造例2のディスプレイ基
板の検査装置が、前記製造例1と異なるところは、前記
検査素子4とディスプレイ基板Aとが、密着した状態で
載置され、かつ、前記検査素子4のディスプレイ基板A
の対向面に形成されている反射板が、前記検査素子4の
全面に一様に形成されるものではなく、前記ディスプレ
イ基板Aの画素電極9・・・間の間隔より小さい幅を有
する形状反射体7a・・・を複数設けた構成になってい
るところであり、図5に示すディスプレイ基板の検査装
置と同様の構成からなるものである。
(Manufacturing Example 2) The display substrate inspecting apparatus of this Manufacturing Example 2 is different from that of Manufacturing Example 1 in that the inspection element 4 and the display substrate A are placed in close contact with each other, and Display substrate A of the inspection element 4
Is not formed uniformly on the entire surface of the inspection element 4, and the shape reflection having a width smaller than the interval between the pixel electrodes 9 of the display substrate A. The configuration is such that a plurality of bodies 7a ... Is provided, and the configuration is similar to that of the display substrate inspection apparatus shown in FIG.

【0066】そして、前記検査素子4は、高分子分散型
液晶を紫外線硬化樹脂(ノーランド社製NoA−65)
からなるバインダーに重量比1:1の割合で混合したも
のに、ゴム質のイソプレンを混入させた、厚さ10μm
程度の液晶シートである。そして、前記液晶シート6の
底面には、厚さ0.2μm程度のAlからなる10μm×
10μm形状の蒸着膜の光反射体7aを被膜あるいは貼
着することによって、複数形成してなるものであり、前
記液晶シート6の上面には、酸化インジウム・スズ(I
TO)からなる厚さ0.07μm程度の薄膜透明電極5
が形成されている。
The inspection element 4 is made of a polymer-dispersed liquid crystal which is an ultraviolet curable resin (NoA-65 manufactured by Norland).
Rubber isoprene mixed into a mixture consisting of a binder consisting of 1: 1 by weight, with a thickness of 10 μm.
It is a liquid crystal sheet. The bottom surface of the liquid crystal sheet 6 is made of Al having a thickness of about 0.2 μm and is 10 μm ×
A plurality of light reflectors 7a each having a vapor deposition film of 10 μm in shape are formed by coating or adhering the light reflectors 7a. The upper surface of the liquid crystal sheet 6 is made of indium tin oxide (I).
TO) thin film transparent electrode 5 with a thickness of about 0.07 μm
Are formed.

【0067】上述したように液晶シート6の底面に設け
られた反射板を前記液晶シート6の全面に形成せず、デ
ィスプレイ基板Aの画素電極9・・・(大きさ:100
μm×100μm程度)間の間隔より小さい幅を有する形
状の反射体7a・・・を複数設けることによって、前記
反射体7a・・・が金属製であってもディスプレイ基板
Aと反射体7a・・・の密着による欠陥箇所と正常箇所
の接続関係を回避し、ディスプレイ基板Aの欠陥箇所を
確実に検査することができる。
As described above, the reflection plate provided on the bottom surface of the liquid crystal sheet 6 is not formed on the entire surface of the liquid crystal sheet 6, but the pixel electrodes 9 of the display substrate A (size: 100).
By providing a plurality of reflectors 7a having a width smaller than the distance between the display substrate A and the reflectors 7a ... The connection between the defective portion and the normal portion due to the close contact can be avoided, and the defective portion of the display substrate A can be inspected reliably.

【0068】そしてさらに、本製造例2のディスプレイ
基板の検査装置は、液晶検査素子4が、高分子分散型液
晶と紫外線硬化型樹脂に、ゴム質のイソプレンを混入し
たフレキシブルな検査素子4を使用することにより、前
記ディスプレイ基板Aと検査素子4との密着性が、特に
良好で微細な画素電極9・・・から出された微細電場に
応じて透過率が微細に変化するために、分解能に優れ、
より微細な画素電極9・・・を有するディスプレイ基板
Aの検査が可能である。さらに、前述したようにフレキ
シブルに検査素子4を使用することにより、ディスプレ
イ基板Aの薄膜トランジスタ(TFT)を傷つけること
なく、検査による欠陥品を生じることなく前記ディスプ
レイ基板の検査を行なうことができる。
Further, in the display substrate inspection apparatus of the second manufacturing example, the liquid crystal inspection element 4 uses a flexible inspection element 4 in which a polymer-dispersed liquid crystal and an ultraviolet curable resin are mixed with rubber-like isoprene. By doing so, the adhesiveness between the display substrate A and the inspection element 4 is particularly good, and the transmittance changes minutely according to the minute electric field generated from the minute pixel electrodes 9 ... Excellent,
The display substrate A having the finer pixel electrodes 9 ... Can be inspected. Further, as described above, by using the inspection element 4 flexibly, it is possible to inspect the display substrate without damaging the thin film transistor (TFT) of the display substrate A and producing no defective product due to the inspection.

【0069】(製造例3)製造例3のディスプレイ検査
装置は、図17に示すディスプレイ基板の検査装置と同
様の構成からなるもので、薄膜EL素子からなる検査素
子4と、この検査素子4からの出射光を受けるCCD型
カメラを用いた受光器2と、この受光器2に接続された
画像処理コンピュータ3を具備し、検査素子4の対向面
には、ディスプレイ基板Aを載置できるようになってい
る。そして、前記検査素子4とディスプレイ基板Aとの
間は、1.0〜30μm程度のエアーギャップが形成さ
れている。
(Manufacturing Example 3) The display inspecting apparatus of Manufacturing Example 3 has the same structure as that of the display substrate inspecting apparatus shown in FIG. It is equipped with a photodetector 2 using a CCD type camera that receives the emitted light of, and an image processing computer 3 connected to the photodetector 2, so that the display substrate A can be placed on the opposite surface of the inspection element 4. Is becoming An air gap of about 1.0 to 30 μm is formed between the inspection element 4 and the display substrate A.

【0070】本製造例3の特徴である前記液晶検査素子
4に使用した薄膜EL素子の構成を図20を参照しつつ
説明する。薄膜EL素子は、図20に示すように2重絶
縁構造からなるものであり、図中符号25は、薄膜EL
素子の本体である。この薄膜EL素子25は、酸化イン
ジウム・スズ(ITO)からなる厚さ0.1μm〜0.
2μm程度の透明電極20と、この上面に被膜された酸
化タンタル(Ta25)からなる厚さ0.2〜0.3μ
mの第一絶縁層21と、この第一絶縁層21の上面に形
成された硫化亜鉛(ZnS)中に、Mn等の付括剤を添
加して発光中心を形成した蛍光体からなる厚さ0.5μ
m〜1.0μmのEL発光層22と、前記EL発光層22
上面に被膜された前記第一絶縁層と同様の構成からなる
第二絶縁層23とから構成されてなる発光部25aがガ
ラスからなる透明基板19上に設けられたものである。
なお、上記薄膜EL素子25を形成する各層は、いずれ
も真空蒸着あるいはスパッタ法などにより形成された薄
膜である。
The structure of the thin film EL element used for the liquid crystal inspecting element 4, which is the feature of the third manufacturing example, will be described with reference to FIG. The thin film EL element has a double insulating structure as shown in FIG. 20, and reference numeral 25 in the figure denotes a thin film EL element.
It is the body of the device. The thin film EL element 25 is made of indium tin oxide (ITO) and has a thickness of 0.1 μm to 0.1 μm.
A transparent electrode 20 having a thickness of about 2 μm and a tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) film coated on the upper surface of the transparent electrode 20 having a thickness of 0.2 to 0.3 μm.
A thickness of a first insulating layer 21 of m and a phosphor in which a luminescent center is formed by adding a sizing agent such as Mn to zinc sulfide (ZnS) formed on the upper surface of the first insulating layer 21. 0.5μ
m to 1.0 μm EL light emitting layer 22 and the EL light emitting layer 22
A light emitting portion 25a composed of a second insulating layer 23 having the same structure as the first insulating layer coated on the upper surface is provided on a transparent substrate 19 made of glass.
Each of the layers forming the thin film EL element 25 is a thin film formed by vacuum deposition or sputtering.

【0071】そして、上記構成からなる薄膜EL素子2
5は、前記透明電極20とディスプレイ基板Aの画素電
極9・・・との間に通常数10Hzから、数kHzの電
圧が印加されると、前記EL発光層22内の活性種イオ
ンが励起されて発光するものである。
Then, the thin film EL element 2 having the above structure
5 is that when a voltage of several tens Hz to several kHz is applied between the transparent electrode 20 and the pixel electrode 9 of the display substrate A, active species ions in the EL light emitting layer 22 are excited. It emits light.

【0072】つまり、本製造例3のディスプレイ基板A
の検査装置は、上記のような構成からなる薄膜EL素子
の第二絶縁層23側をディスプレイ基板Aの対向面側
に、透明基板19側を前記ディスプレイ基板Aの対向面
とは反対側になるように平行に載置し、前記薄膜EL素
子25の前記透明電極20とディスプレイ基板Aとの間
に数10Hzから、数kHzの電圧が印加した時に、前
記EL発光層22内の活性種イオンが励起されて発光す
る。この発光状態の異常をディスプレイ基板の画素電極
9・・・の欠陥として把握することができる機構であ
る。
That is, the display substrate A of the third manufacturing example.
In the inspection apparatus, the second insulating layer 23 side of the thin film EL element having the above-described configuration is on the facing surface side of the display substrate A, and the transparent substrate 19 side is on the opposite side of the facing surface of the display substrate A. When the voltage of several tens Hz to several kHz is applied between the transparent electrode 20 of the thin film EL element 25 and the display substrate A, the active species ions in the EL light emitting layer 22 are It is excited to emit light. This is a mechanism by which this abnormal light emitting state can be recognized as a defect in the pixel electrode 9 ... Of the display substrate.

【0073】従って、上記構成からなる薄膜EL素子
を、上述したようなディスプレイ基板の検査装置の検査
素子4に用いることにより、前記装置の薄膜化を図るこ
とが可能であり、さらに印加電圧の低減を図ることがで
きる。なお、本製造例3においては、検査素子4とディ
スプレイ基板Aの画素電極9・・・の間にエアーギャッ
プ8を設けたが、エアーギャップ8を設けず、検査素子
4とディスプレイ基板Aの画素電極9・・・を密着させ
た構成のものでも、本製造例3と同様な効果を得ること
ができる。
Therefore, by using the thin film EL element having the above structure as the inspection element 4 of the inspection apparatus for the display substrate as described above, it is possible to make the apparatus thin and further reduce the applied voltage. Can be planned. In the third manufacturing example, the air gap 8 is provided between the inspection element 4 and the pixel electrode 9 ... Of the display substrate A, but the air gap 8 is not provided, and the inspection element 4 and the pixel of the display substrate A are not provided. Even if the electrodes 9 are brought into close contact with each other, the same effect as that of the third manufacturing example can be obtained.

【0074】(製造例4)またさらに、上述した製造例
3においては、その検査素子4に薄膜EL素子を用いた
が、本製造例4においては、以下の構成からなる厚膜E
L素子を用いてなるものである。
(Manufacturing Example 4) Further, in the above-described Manufacturing Example 3, a thin film EL element was used as the inspection element 4, but in this Manufacturing Example 4, the thick film E having the following structure was used.
It uses an L element.

【0075】本製造例4の特徴である前記検査素子4に
使用した厚膜EL素子の構成を図14を参照して説明す
る。厚膜EL素子は、図21に示すように酸化インジウ
ム・スズ(ITO)等からなる厚さ0.07μm程度の
透明電極27と、この上面に硫化亜鉛(ZnS)中に、
銅(Cu)、塩素(Cl)などの付括剤を添加した、厚
さ5〜10μmの蛍光体と、この蛍光体にイソシアノエ
チルセルロースからなるバインダーを混合した混合膜を
10μm〜20μmの厚さに形成したEL発光層28と、
前記厚膜EL素子28上面に被膜されたTiO2とイソ
シアノエチルセルロースからなるバインダーを混合した
絶縁層29とからなる発光部31aが、ガラスからなる
基板26の上面に設けられてなるものである。
The structure of the thick film EL element used for the inspection element 4, which is the feature of the fourth manufacturing example, will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 21, the thick film EL element includes a transparent electrode 27 made of indium tin oxide (ITO) or the like and having a thickness of about 0.07 μm, and zinc sulfide (ZnS) on the upper surface thereof.
A mixed film in which a phosphor having a thickness of 5 to 10 μm, to which a sizing agent such as copper (Cu) or chlorine (Cl) is added, and a binder made of isocyanoethylcellulose is mixed with the phosphor, is formed to have a thickness of 10 μm to 20 μm. The EL light emitting layer 28 formed in
A light emitting portion 31a made of TiO 2 coated on the upper surface of the thick film EL element 28 and an insulating layer 29 in which a binder made of isocyanoethyl cellulose is mixed is provided on the upper surface of a substrate 26 made of glass.

【0076】そして、上記構成からなる厚膜EL素子
は、前記透明電極27とディスプレイ基板Aの画素電極
9・・・との間に数10Hzから、数kHzの電圧が印
加されると、前記EL発光層28内の活性種イオンが励
起されて発光するものである。
In the thick film EL element having the above structure, when a voltage of several 10 Hz to several kHz is applied between the transparent electrode 27 and the pixel electrode 9 of the display substrate A. The active species ions in the light emitting layer 28 are excited to emit light.

【0077】つまり、本製造例4のディスプレイ基板の
検査装置は、上述した製造例3における検査素子4に使
用した薄膜EL素子と同様に、厚膜EL素子の絶縁層2
9側をディスプレイ基板Aの対向面側に、透明基板26
側を前記ディスプレイ基板Aの対向面とは反対側になる
ように平行に載置し、前記厚膜EL素子の前記透明電極
27とディスプレイ基板Aの画素電極9・・・との間
に、数10Hzから数kHzの電圧が印加した時に、前
記EL発光層28内の活性種イオンが励起されて発光す
る。この発光状態の異常をディスプレイ基板Aの画素電
極9・・・の欠陥として把握することができる機構であ
る。
That is, the display substrate inspecting apparatus of the fourth manufacturing example has the same insulating layer 2 of the thick film EL element as the thin film EL element used for the inspecting element 4 of the third manufacturing example.
With the 9 side facing the display substrate A, the transparent substrate 26
Is placed in parallel so that the side thereof is opposite to the facing surface of the display substrate A, and a few lines are placed between the transparent electrode 27 of the thick film EL element and the pixel electrode 9 of the display substrate A. When a voltage of 10 Hz to several kHz is applied, the active species ions in the EL light emitting layer 28 are excited to emit light. This is a mechanism by which this abnormal light emitting state can be recognized as a defect in the pixel electrode 9 ... Of the display substrate A.

【0078】なお、本製造例4の特徴である厚膜EL素
子は、上述した製造例3の検査素子4に使用した薄膜E
L素子と異なり、EL発光層が絶縁層で完全にシールさ
れた構成ではなく、外部からの湿気や直接流入する電流
を断つことが不可能で寿命が、前記薄膜EL素子に比較
して短いが、前記厚膜EL素子は、大版形成が低コスト
で実現可能な事や、前記基板26をガラスでなくプラス
チックシートなどで形成することにより、フレキシブル
な大版形成が容易に、かつ低コストで製造可能であり、
ディスプレイ基板の検査などの連続使用を想定しない検
査部品としては充分に、その機能を発揮できる。
The thick film EL element, which is a feature of this Production Example 4, is the thin film E used in the inspection element 4 of Production Example 3 described above.
Unlike the L element, the EL light emitting layer is not completely sealed with an insulating layer, and it is impossible to cut off moisture from the outside or a direct inflowing current and the life is shorter than that of the thin film EL element. In the thick film EL element, large plate formation can be realized at low cost, and by forming the substrate 26 with a plastic sheet or the like instead of glass, flexible large plate formation can be performed easily and at low cost. Can be manufactured,
As an inspection part that does not assume continuous use such as inspection of a display board, it can fully demonstrate its function.

【0079】[0079]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、検査素子
を検査すべきディスプレイ基板の上に設置し、ディスプ
レイ基板の画素電極と検査素子上面の薄膜透明電極に通
電して、検査素子の光学的性質を変え、その状態の検査
素子を通過した光の強度変化を受光器で捕らえて相当電
圧に変換することで、ディスプレイ基板の欠陥検出を行
なうことができるので、受光器の検出出力によって、デ
ィスプレイ基板の欠陥を電気的に検出することができ、
正確かつ迅速な検査ができる特徴がある。
As described above, according to the present invention, the inspection element is installed on the display substrate to be inspected, and the pixel electrode of the display substrate and the thin film transparent electrode on the upper surface of the inspection element are energized to detect the optical element of the inspection element. By changing the optical property and capturing the change in the intensity of the light passing through the inspection element in that state with the light receiver and converting it into an equivalent voltage, it is possible to detect the defect of the display substrate, so the detection output of the light receiver It is possible to electrically detect defects on the display board,
There is a feature that allows accurate and quick inspection.

【0080】また、検査素子として、高分子分散型液晶
からなる液晶シートを用いると液晶シートを透過する光
の透過率によって不良箇所を検出することができ、前記
液晶シートの代わりにEL素子を用いることによって、
発光の有無・程度によって、不良箇所を検出することが
可能である。
If a liquid crystal sheet made of polymer dispersed liquid crystal is used as an inspection element, a defective portion can be detected by the transmittance of light passing through the liquid crystal sheet, and an EL element is used instead of the liquid crystal sheet. By
It is possible to detect a defective portion depending on the presence / absence and the degree of light emission.

【0081】更に、前記検査装置に用いる検査素子とし
て液晶を封入した透明ケースの底部に、光反射体を設け
たものにあっては、光源から液晶に照射した光を光反射
体で反射させて受光器で受けることができるので、前記
検査装置用の検査素子として好適である。また、この液
晶を用いた検査素子ならば、微細な画素電極から出され
た微細電場に応じて透過率が微細に変化するので、分解
能に優れ、より微細な画素電極を有するディスプレイ基
板の検査に好適である。
Further, in the case where a light reflector is provided at the bottom of a transparent case in which liquid crystal is sealed as an inspection element used in the inspection device, the light emitted from the light source to the liquid crystal is reflected by the light reflector. Since it can be received by the light receiver, it is suitable as an inspection element for the inspection device. In addition, in the case of an inspection element using this liquid crystal, the transmittance changes minutely according to the minute electric field emitted from the minute pixel electrode, so it has excellent resolution and can be used for inspection of display substrates with finer pixel electrodes. It is suitable.

【0082】また、本発明方法においては、上述したよ
うに液晶表示パネルの組み立て前に、各製造段階におい
て、その欠陥を容易に、かつ細かく検査することが可能
なために、従来の生産品における欠陥品個数に比較する
と、極端に欠陥製品の低減を図ることが可能であり歩留
まりの向上が図れる。
Further, in the method of the present invention, defects can be easily and finely inspected in each manufacturing stage before assembling the liquid crystal display panel as described above, and therefore, in the conventional products. Compared with the number of defective products, the number of defective products can be extremely reduced and the yield can be improved.

【0083】また、本発明方法におけるディスプレイ基
板の検査方法は、容易でかつ低コストで実現可能であ
り、確実に各生産段階における欠陥箇所の排除を行なう
ことができるために、大型液晶表示パネルを低コストで
実現可能である。
Further, the method of inspecting the display substrate in the method of the present invention can be realized easily and at low cost, and it is possible to surely eliminate the defective portion at each production stage. It can be realized at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明における実施例1のディスプレ
イ基板の検査装置を示す概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a display board inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2は、図1の要部拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a main part of FIG.

【図3】図3は、本発明における実施例2のディスプレ
イ基板の検査装置を示す概略図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a display board inspection apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】図4は、図3の要部拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a main part of FIG.

【図5】図5は、本発明における実施例3のディスプレ
イ基板の検査装置を示す概略図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a display board inspection apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図6】図6は、図5の要部拡大図である。FIG. 6 is an enlarged view of a main part of FIG.

【図7】図7は、図1に示す実施例1のディスプレイ基
板の検査装置の変形例を示す概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing a modification of the display substrate inspection apparatus of the first embodiment shown in FIG.

【図8】図8は、図7の要部拡大図である。FIG. 8 is an enlarged view of a main part of FIG. 7.

【図9】図9は、前記図1〜図4の装置で検査するディ
スプレイ基板の一部拡大図である。
FIG. 9 is a partially enlarged view of a display board to be inspected by the apparatus shown in FIGS.

【図10】図10は、電場を印加していない状態の液晶
シートの断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view of a liquid crystal sheet in a state where no electric field is applied.

【図11】図11は、電場を印加した状態の液晶シート
の断面図である。
FIG. 11 is a cross-sectional view of a liquid crystal sheet with an electric field applied.

【図12】図12は、本発明における実施例4のディス
プレイ基板の検査装置を示す概略図である。
FIG. 12 is a schematic diagram showing a display board inspection apparatus according to a fourth embodiment of the present invention.

【図13】図13は、図12の要部拡大図である。FIG. 13 is an enlarged view of a main part of FIG.

【図14】図14は、実施例4ののディスプレイ基板の
検査装置の変形例を示す概略図である。
FIG. 14 is a schematic diagram showing a modified example of the display substrate inspection apparatus of the fourth embodiment.

【図15】図15は、図14の要部拡大図である。FIG. 15 is an enlarged view of a main part of FIG.

【図16】図16は、本発明による製造例1のディスプ
レイ基板の検査装置における検査素子に用いた高分子分
散型液晶の光透過特性を示す図である。
FIG. 16 is a diagram showing the light transmission characteristics of the polymer-dispersed liquid crystal used for the inspection element in the display substrate inspection apparatus of Production Example 1 according to the present invention.

【図17】図17は、本発明における実施例5のディス
プレイ基板の検査装置を示す概略図である。
FIG. 17 is a schematic diagram showing a display board inspection apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.

【図18】図18は、図17の要部拡大図である。FIG. 18 is an enlarged view of a main part of FIG.

【図19】図19は、実施例5のディスプレイ基板の検
査装置の変形例を説明するための図である。
FIG. 19 is a diagram for explaining a modified example of the display substrate inspection apparatus according to the fifth embodiment.

【図20】図20は、薄膜EL素子の構成を示す断面図
である。
FIG. 20 is a cross-sectional view showing the structure of a thin film EL element.

【図21】図21は、厚膜EL素子の構成を示す断面図
である。
FIG. 21 is a cross-sectional view showing a configuration of a thick film EL element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 光源 2 受光器 3 画像処理コンピュータ 4 検査素子 4a 基板 5 薄膜透明電極 6 液晶シート 7 反射板 7a 反射体 8 エアーギャップ 9 画素電極 10 電圧印加装置 11 固定台 12 信号供給回路 13 走査回路 15 ソース配線 16 ゲート配線 17 スイッチング素子 18 液晶 18a バインダー 19 基板 20 透明電極 21 第一絶縁層 22 EL発光層 23 第二絶縁層 25 薄膜EL素子 25a 発光部 26 基板 27 透明電極 28 EL発光層 29 絶縁層 31 厚膜EL素子 31a 発光部 A ディスブレイ基板 1 Light source 2 Light receiver 3 Image processing computer 4 Inspection element 4a Substrate 5 Thin film transparent electrode 6 Liquid crystal sheet 7 Reflector 7a Reflector 8 Air gap 9 Pixel electrode 10 Voltage application device 11 Fixed stand 12 Signal supply circuit 13 Scanning circuit 15 Source wiring 16 Gate Wiring 17 Switching Element 18 Liquid Crystal 18a Binder 19 Substrate 20 Transparent Electrode 21 First Insulating Layer 22 EL Light Emitting Layer 23 Second Insulating Layer 25 Thin Film EL Element 25a Light Emitting Part 26 Substrate 27 Transparent Electrode 28 EL Light Emitting Layer 29 Insulating Layer 31 Thickness Membrane EL element 31a Light emitting part A Display substrate

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に形成された複数の画素電極を有
するディスプレイ基板を検査する装置において、 前記ディスプレイ基板の上部に対向配置され、電場を印
加すると光学的性質が変化する検査素子と、前記検査素
子に光を照射する光源と、前記検査素子に照射されて、
検査素子から出された光を捕らえる受光器と、前記ディ
スプレイ基板上の前記画素電極と前記検査素子との間に
電圧を印加する電源と、前記受光器が捕らえた光の変化
を測定する計測手段を具備してなることを特徴とするデ
ィスプレイ基板の検査装置。
1. An apparatus for inspecting a display substrate having a plurality of pixel electrodes formed on a substrate, comprising: an inspection element which is disposed above the display substrate so as to face each other and whose optical properties change when an electric field is applied; A light source for irradiating the inspection element with light, and irradiating the inspection element,
A light receiver that captures the light emitted from the inspection element, a power supply that applies a voltage between the pixel electrode on the display substrate and the inspection element, and a measuring unit that measures the change in the light captured by the light receiver. An apparatus for inspecting a display substrate, comprising:
【請求項2】 請求項1の検査素子が高分子分散型液晶
であることを特徴とするディスプレイ基板の検査装置。
2. An inspection device for a display substrate, wherein the inspection element according to claim 1 is a polymer-dispersed liquid crystal.
【請求項3】 基板上に形成された複数の画素電極を有
するディスプレイ基板を検査する装置において、 電場を印加すると光学的性質が変化するエレクトロルミ
ネセンス素子からなる検査素子と、この検査素子から出
された光を捕らえる受光器と、前記ディスプレイ基板上
の前記画素電極と前記検査素子との間に電圧を印加する
電源と、前記受光器が捕らえた光の変化を測定する計測
手段とを具備してなることを特徴とするディスプレイ基
板の検査装置。
3. An apparatus for inspecting a display substrate having a plurality of pixel electrodes formed on the substrate, wherein an inspection element composed of an electroluminescence element whose optical properties change when an electric field is applied, and an inspection element formed from this inspection element. A light source that captures the captured light, a power supply that applies a voltage between the pixel electrode and the inspection element on the display substrate, and a measuring unit that measures a change in the light captured by the light receiver. An inspection device for a display board, which is characterized in that
【請求項4】 基板上に形成された複数の画素電極を具
備してなるディスプレイ基板の検査方法において、 電場を印加すると光学的性質が変化する検査素子を前記
ディスプレイ基板上部に配置し、前記ディスプレイ基板
の前記画素電極と前記検査素子間に電圧を印加して、前
記検査素子に電場を作用させ、前記検査素子の光学的性
質の部分的変化を検出することによりディスプレイ基板
の画素電極の良不良を検出することを特徴とするディス
プレイ基板の検査方法。
4. A method of inspecting a display substrate comprising a plurality of pixel electrodes formed on a substrate, wherein an inspection element whose optical property changes when an electric field is applied is arranged on the display substrate, A voltage is applied between the pixel electrode of the substrate and the inspection element, an electric field is applied to the inspection element, and a partial change in the optical property of the inspection element is detected to detect whether the pixel electrode of the display substrate is good or bad. A method for inspecting a display substrate, which comprises detecting
【請求項5】 請求項4の検査素子が高分子分散型液晶
であることを特徴とするディスプレイ基板の検査方法。
5. A method for inspecting a display substrate, wherein the inspection element according to claim 4 is a polymer-dispersed liquid crystal.
【請求項6】 請求項4の検査素子がエレクトロルミネ
センス素子であることを特徴とするディスプレイ基板の
検査方法。
6. The method of inspecting a display substrate according to claim 4, wherein the inspection element is an electroluminescence element.
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