JPH05301885A - α−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法 - Google Patents
α−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法Info
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- JPH05301885A JPH05301885A JP3155093A JP15509391A JPH05301885A JP H05301885 A JPH05301885 A JP H05301885A JP 3155093 A JP3155093 A JP 3155093A JP 15509391 A JP15509391 A JP 15509391A JP H05301885 A JPH05301885 A JP H05301885A
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Abstract
ートを出発原料として使用し、所定の化学反応を行わせ
ることによって、目的とするα−(置換フェニル)−D
−グルコピラノシドを選択的に高収率で製造すること。 【構成】 グルコースペンタアセテートと置換フェノー
ル類とを、塩化第二錫の存在下、ハロゲン化炭化水素溶
媒中で反応させることを特徴とするテトラアセチル−α
−(置換フェニル)−D−グルコピラノシド誘導体の製
造方法。 【効果】 本発明の方法によれば、目的とするα−(2
−クロロ−4−ニトロフェニル)−D−グルコピラノシ
ド又はα−(4−ニトロフェニル)−D−グルコピラノ
シド等を選択的に高収率で、かつ工業的に有利に製造す
ることができる。
Description
−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法の改良に関す
る。
類、オリゴ糖類は、生体内において重要な役割を果たし
ていることが良く知られており、その作用機構を解明す
るために様々な種類の糖類誘導体を人工的に製造するこ
とが試みられている。このため、例えば縮合を形成する
グリコシド結合の位置を自由に選択でき、且つ反応工程
の簡便なグリコシル化反応の確立が急務となっている。
の方法が提案されている。例えば、糖をアシル化した
後、核置換フェノールとをルイス酸の存在下に反応させ
る方法が知られている(特開昭62-289595 号公報) 。
317(1971) には、フェノール類のグリコシル化触媒とし
て塩化第二錫を用いる方法が知られている。更に、触媒
としてヘテロポリ酸を使用し、糖類のo−グルコシド
化、s−グルコシド化、アセタール化、エーテル化、エ
ステル化、エーテル交換及びエステル交換反応を行なっ
てグリコシドを製造する方法が知られている (特開昭63
-84637号公報) 。
ら知られている方法は、本発明の目的とするα−(置換
フェニル)−D−グルコピラノシド誘導体の製造に適用
しても、その前駆体であるアセチル化物の収率が低く、
その取り出し(分離)も煩雑である等、いずれも工業的
製造方法としては、充分なものとは言えない。
グルコシドを選択的に高収率で、かつ工業的に有利に製
造する方法を提供することにある。
ンタアセテートと置換フェノール類とを、塩化第二錫の
存在下、ハロゲン化炭化水素溶媒中で反応させることを
特徴とするテトラアセチル−α−(置換フェニル)−D
−グルコピラノシド誘導体の製造方法である。
ートと置換フェノール類とを、塩化第二錫の存在下、ハ
ロゲン化炭化水素溶媒中で反応させてテトラアセチル−
α−(置換フェニル)−D−グルコピラノシドを得、次
いで脱アセチル化することを特徴とするα−(置換フェ
ニル)−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法であ
る。
ーグルコースペンタアセテートを出発原料として使用
し、所定の化学反応を行わせることによって、目的とす
るα−(置換フェニル)−D−グルコピラノシド誘導体
を選択的に高収率で製造することにあり、本発明の方法
は、目的物の取り出し(分離)操作が容易であり、工業
的製造方法として特に優れたものである。
類としては、具体的には2−クロル−4−ニトロフェノ
ール、4−ニトロフェノール、2−クロルフェノール、
4−メチルフェノールなどが挙げられるが、特に2−ク
ロル−4−ニトロフェノール又は4−ニトロフェノール
を用いる場合のα−体のD−グルコピラノシドの選択的
製造方法として工業的価値の高い方法である。
水素溶媒としては、具体的には、四塩化炭素、ジクロロ
メタン、ジクロロエタン、クロロホルム、トリクロロエ
タン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン等のハ
ロゲン脂肪族化炭化水素、o−、m−、p−クロロベン
ゼン、トリクロロベン等の芳香族ハロゲン化炭化水素が
挙げられる。特に好ましくはハロゲン脂肪族化炭化水素
であり、これらを単独又は混合物の形で使用することが
できる。
テートと置換フェノール類との反応温度は、通常室温〜
100℃、好ましくは40〜70℃、さらに好ましくは
40〜60℃である。また、反応時間は、通常1〜10
時間、好ましくは2〜5時間である。
トと2−クロル−4−ニトロフェノール又は4−ニトロ
フェノール等の置換フェノール類との反応モル比は、グ
ルコースペンタアセテート1モルに対して置換フェノー
ル類が1〜2モルである。
が適用され、例えば、次のような方法で容易に実施され
る。反応生成物を、ベンゼン、トルエン等の有機溶剤に
加えて希釈し、氷水に注加し、分液、水洗、アルカリ洗
浄、無水芒硝等により乾燥し、活性炭を加えて濾過す
る。次に有機溶剤を溜去し、アルコール等を加えて溶解
後、冷却して、結晶を析出させ、濾過、メタノール洗浄
し、乾燥する。
ル−α−(置換フェニル)−D−グルコピラノシドは、
上記の方法によって単離し、或いは単離せずに次の脱ア
セチル化反応を行うことができる。
セチル化方法が適用される。例えばテトラアセチル−α
−(2−クロロ−4−ニトロフェニル)−D−グルコピ
ラノシドを、メタノール、エタノール等のアルコール類
に溶解又は懸濁させ、アルカリ(例えばナトリウムメト
キサイド溶液)を添加し、攪拌することによって容易に
行われる。該脱アセチル化反応はTLCにより追跡でき
る。
中和し、ロータリーエバポレーター等によりメタノール
を濃縮し、結晶化・析出させる。この結晶化は、適当な
有機溶媒(例えばイソプロピルアルコール)を用いて行
われる。
(2−クロロ−4−ニトロフェニル)−D−グルコピラ
ノシド又はα−(4−ニトロフェニル)−D−グルコピ
ラノシド等を選択的に高収率で、かつ工業的に有利に製
造することができる。
説明する。
クロル−4−ニトロフェノール69g(0.4 モル)にジク
ロロメタン 80 mlを加え攪拌し、塩化第二スズ109g
(0.42モル) を1時間を要して滴下した。滴下終了後、
緩やかに昇温し、3時間還流(55℃〜59℃)を行った。
ベンゼン500 mlを加えて稀釈し、冷却して後氷水中に
注加、分液、水洗の後、稀炭酸ナトリウム水溶液で数回
洗い、更に水洗いの後、無水芒硝にて乾燥し、活性炭を
加えて濾過して後、減圧にて溶媒を蒸発した。
を加えて加熱溶解の後、静置、冷却すると二層に分れ
る。上層のイソプロピルアルコール液を除き、下層のア
メ状物にメタノールを加え、加熱溶解後、放冷、養生の
後析出結晶を濾過、冷メタノールで洗い、乾燥し、テト
ラアセチル−α−(2−クロロ−4−ニトロ−フェニ
ル)−D−グルコピラノシド 37.8gを得た。尚濾液を減
圧蒸発の後、イソプロピルアルコールによる精製を行い
メタノール液を冷却して、目的物を得た。 収率25%;融点125.5 〜126 ℃ 、施光度は次のとおり
であった。
−クロロ−4−ニトロ−フェニル)−D−グルコピラノ
シド10.0gを、500 mlの脱水メタノールに溶解し、攪
拌しながら 0.5N ナトリウムメトキシド0.2 mlを添加
して5時間反応し、脱アセチル化を行った。α−(2−
クロロ−4−ニトロ−フェニル)−D−グルコピラノシ
ド 5.6gを得た。本物質がα配位であることは、α−グ
ルコシターゼ及びβ−グルコシターゼを反応させること
により確認した。
ル−4−ニトロフェノール75g(0.43モル)にクロロホル
ム 75 mlを加え、攪拌しながら塩化第二スズ120g(0.
46モル) を15〜20°に保ち、滴下した。後緩やかに昇温
し、1時間後50℃とし、50〜55℃に4時間保ち、更に55
〜60℃に 0.5時間保った。次いでトルエン 500mlを加
えて稀釈、氷・食塩水中に注加、分液し、有機層を食塩
水で洗って後、3%炭酸ソーダ水溶液で数回洗い、食塩水
で洗って後、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下、溶媒
を除去後、実施例1と同様に後処理して、テトラアセチ
ル−α−(2−クロロ−4−ニトロフェニル)−D−グ
ルコピラノシド 25.5gを得た。
−4−ニトロ−フェニル)−D−グルコピラノシド 10
gを、脱水メタノールに溶解し、ナトリウムメトキシド
を用いて実施例1と同様にして脱アセチル化することに
より、実施例1と同様の目的とするα−(2−クロロ−
4−ニトロフェニル)−D−グルコピラノシド 5.9gを
得た。
ニトロフェノール46g(0.33モル)にジクロロメタン 8
0 mlを加え攪拌し、塩化第二スズ 81g (0.34モル) を
1時間を要して滴下した。滴下終了後、緩やかに昇温
し、3時間還流(55℃〜59℃)を行った。ベンゼン500
mlを加えて稀釈し、冷却して後氷水中に注加、分液、
水洗の後、稀炭酸ナトリウム水溶液で数回洗い、更に水
洗いの後、無水芒硝にて乾燥し、活性炭を加えて濾過し
て後、減圧にて溶媒を蒸発した。残ったアメ状物にメタ
ノールを加え、溶解後、冷却し、析出結晶を濾過、冷メ
タノールで洗い、乾燥し、テトラアセチル−α−(4−
ニトロ−フェニル)−D−グルコピラノシド 69 gを得
た。収率 49 %;融点 110〜114 ℃ 、施光度は次のと
おりであった。
−ニトロ−フェニル)−D−グルコピラノシド10.0g
を、ベンゼン10ml、メタノール10mlに溶解し、攪拌
しながら 0.5N ナトリウムメトキシド 0.2mlを添加
し、脱アセチル化を行い、水から再結晶してα−(4−
ニトロ−フェニル)−D−グルコピラノシド 4.5gを得
た( 収率 70 %) 。本物質がα配位であることは、α−
グルコシターゼ及びβ−グルコシターゼを反応させるこ
とにより確認した。
Claims (8)
- 【請求項1】 グルコースペンタアセテートと置換フェ
ノール類とを、塩化第二錫の存在下、ハロゲン化炭化水
素溶媒中で反応させることを特徴とするテトラアセチル
−α−(置換フェニル)−D−グルコピラノシド誘導体
の製造方法。 - 【請求項2】 ハロゲン化炭化水素が、四塩化炭素、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン
から選ばれる請求項1に記載ののテトラアセチル−α−
(置換フェニル)−D−グルコピラノシド誘導体の製造
方法。 - 【請求項3】 反応温度が40〜100℃である請求項
1又は請求項2のいずれかに記載のテトラアセチル−α
−(置換フェニル)−D−グルコピラノシド誘導体の製
造方法。 - 【請求項4】 置換フェノール類が、2−クロル−4−
ニトロフェノール又は4−ニトロフェノールである請求
項1〜請求項3のいずれかに記載のテトラアセチル−α
−(置換フェニル)−D−グルコピラノシド誘導体の製
造方法。 - 【請求項5】 グルコースペンタアセテートと置換フェ
ノール類とを、塩化第二錫の存在下、ハロゲン化炭化水
素溶媒中で反応させてテトラアセチル−α−(置換フェ
ニル)−D−グルコピラノシドを得、次いで脱アセチル
化することを特徴とするα−(置換フェニル)−D−グ
ルコピラノシド誘導体の製造方法。 - 【請求項6】 ハロゲン化炭化水素が、四塩化炭素、ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、トリク
ロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン
から選ばれる請求項5に記載のα−(置換フェニル)−
D−グルコピラノシド誘導体の製造方法。 - 【請求項7】 グルコースペンタアセテートと置換フェ
ノール類との反応温度が40〜100℃である請求項5
又は請求項6のいずれかに記載のα−(置換フェニル)
−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法。 - 【請求項8】 置換フェノール類が、2−クロル−4−
ニトロフェノール又は4−ニトロフェノールである請求
項5〜請求項7のいずれかに記載のα−(置換フェニ
ル)−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法。 【0001】
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03155093A JP3101002B2 (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | α−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH05301885A true JPH05301885A (ja) | 1993-11-16 |
JP3101002B2 JP3101002B2 (ja) | 2000-10-23 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03155093A Expired - Fee Related JP3101002B2 (ja) | 1991-05-30 | 1991-05-30 | α−D−グルコピラノシド誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP3101002B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001292793A (ja) * | 2000-04-13 | 2001-10-23 | Nippon Shokuhin Kako Co Ltd | パラニトロフェニル−β−プリメベロシド結晶の製造方法 |
WO2024058023A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | 株式会社レゾナック | 保護されたグリコシド誘導体の製造方法 |
WO2024058024A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | 株式会社レゾナック | グリコシドの製造方法 |
-
1991
- 1991-05-30 JP JP03155093A patent/JP3101002B2/ja not_active Expired - Fee Related
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WO2024058023A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | 株式会社レゾナック | 保護されたグリコシド誘導体の製造方法 |
WO2024058024A1 (ja) * | 2022-09-16 | 2024-03-21 | 株式会社レゾナック | グリコシドの製造方法 |
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---|---|
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