JPH05297382A - カラー液晶表示装置 - Google Patents
カラー液晶表示装置Info
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- JPH05297382A JPH05297382A JP4126781A JP12678192A JPH05297382A JP H05297382 A JPH05297382 A JP H05297382A JP 4126781 A JP4126781 A JP 4126781A JP 12678192 A JP12678192 A JP 12678192A JP H05297382 A JPH05297382 A JP H05297382A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高分子分散型のカラー液晶表示装置におい
て、液晶表示素子の画面全体の透過率のバラツキを小さ
くすると共に、コントラストを向上させる。 【構成】 厚さ１mm大きさ２６０×２００mmのガラス基
板１上に６４０×４００のマトリクス状に逆スタガ型Ｔ
ＦＴを設け、黒色有機膜でストライプ状に高さ１０μ
ｍ、幅２０μｍのスペーサー９を設ける。対向基板２
は、厚さ０．８mm大きさ２２０×１４０mmのＩＴＯ付ガ
ラス基板でＲＧＢのカラーフィルター１０ａ、１０ｂ、
１０ｃをストライプ状に設けてあり、その全面に多孔質
高分子４と液晶５とを共通溶媒に溶解したものを塗布し
て乾燥させて液晶高分子複合層３を形成した後、ＴＦＴ
基板と貼りあわせる。この時の基板間隔はスペーサー９
によって１０μｍに保持する。
て、液晶表示素子の画面全体の透過率のバラツキを小さ
くすると共に、コントラストを向上させる。 【構成】 厚さ１mm大きさ２６０×２００mmのガラス基
板１上に６４０×４００のマトリクス状に逆スタガ型Ｔ
ＦＴを設け、黒色有機膜でストライプ状に高さ１０μ
ｍ、幅２０μｍのスペーサー９を設ける。対向基板２
は、厚さ０．８mm大きさ２２０×１４０mmのＩＴＯ付ガ
ラス基板でＲＧＢのカラーフィルター１０ａ、１０ｂ、
１０ｃをストライプ状に設けてあり、その全面に多孔質
高分子４と液晶５とを共通溶媒に溶解したものを塗布し
て乾燥させて液晶高分子複合層３を形成した後、ＴＦＴ
基板と貼りあわせる。この時の基板間隔はスペーサー９
によって１０μｍに保持する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はカラーの液晶表示装置に
係り、詳細には、高分子分散型液晶と薄膜トランジスタ
等のスイッチング素子により液晶を駆動するカラー液晶
表示装置に関する。
係り、詳細には、高分子分散型液晶と薄膜トランジスタ
等のスイッチング素子により液晶を駆動するカラー液晶
表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】パーソナルコンピュータ、ワードプロセ
ッサ、ファクシミリ装置、ＤＴＰ（デスク・トップ・パ
ブリッシング）等のＯＡ機器が例えばオフィスや工場に
おいて広く普及しており、これら各種ＯＡ機器では表示
装置を備えたものが多い。これらＯＡ機器の表示装置
や、家電製品、ディジタル時計の表示装置などでは、低
電圧動作、低電力消費、薄型・計量等の利点から、液晶
表示装置を使用したものが多く存在している。このよう
なカラー液晶表示装置で、電圧による液晶のネマチック
相の複屈折変化を利用するツイストネマチック、スーパ
ーツイストネマチック方式のが多く使用されている。ツ
イストネマチック液晶表示装置では、あらかじめ表面に
配向層を設け、綿、ナイロン、テトロン製のラビング布
などで配向処理を施した上下の基板の周辺をシールし配
向処理面を内側にして貼りあわせた空セルを作製し、そ
の注入口から液晶を注入している。そして、一般に液晶
表示素子の基板間隔を保持するために、球形あるいは棒
状のプラスチックまたはガラス製のスペーサーを配向処
理した後の基板上に散布したり、非画素部に数μｍの突
起を設けるようにしいてる。
ッサ、ファクシミリ装置、ＤＴＰ（デスク・トップ・パ
ブリッシング）等のＯＡ機器が例えばオフィスや工場に
おいて広く普及しており、これら各種ＯＡ機器では表示
装置を備えたものが多い。これらＯＡ機器の表示装置
や、家電製品、ディジタル時計の表示装置などでは、低
電圧動作、低電力消費、薄型・計量等の利点から、液晶
表示装置を使用したものが多く存在している。このよう
なカラー液晶表示装置で、電圧による液晶のネマチック
相の複屈折変化を利用するツイストネマチック、スーパ
ーツイストネマチック方式のが多く使用されている。ツ
イストネマチック液晶表示装置では、あらかじめ表面に
配向層を設け、綿、ナイロン、テトロン製のラビング布
などで配向処理を施した上下の基板の周辺をシールし配
向処理面を内側にして貼りあわせた空セルを作製し、そ
の注入口から液晶を注入している。そして、一般に液晶
表示素子の基板間隔を保持するために、球形あるいは棒
状のプラスチックまたはガラス製のスペーサーを配向処
理した後の基板上に散布したり、非画素部に数μｍの突
起を設けるようにしいてる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のツイ
ストネマチック、スーパーツィストネマチック方式のカ
ラー液晶表示装置では、２枚の偏光板を組み合わせて使
用するため表示が暗くなり、また、視野角も小さくなる
というという問題がある。また、あらかじめ表面に配向
層を設ける等の各工程を要するため各工程専用の設備を
要する。更に、液晶表示素子の基板を貼りあわせるラビ
ング処理を必要とするため、基板間隔を保持する突起を
設けた場合、この突起がラビングによって剥がれたり、
画素の一部がラビングされないなどの問題があった。
ストネマチック、スーパーツィストネマチック方式のカ
ラー液晶表示装置では、２枚の偏光板を組み合わせて使
用するため表示が暗くなり、また、視野角も小さくなる
というという問題がある。また、あらかじめ表面に配向
層を設ける等の各工程を要するため各工程専用の設備を
要する。更に、液晶表示素子の基板を貼りあわせるラビ
ング処理を必要とするため、基板間隔を保持する突起を
設けた場合、この突起がラビングによって剥がれたり、
画素の一部がラビングされないなどの問題があった。
【０００４】そこで、最近、電極付き基板間に液晶を分
散させた高分子層を挟持し、電圧印加により光の透過、
散乱状態を制御する調光装置などが製造されるようにな
ってきている。この高分子分散型液晶表示装置ではラビ
ングなどの基板の配向処理を必要とせず、高分子中に分
散した液晶の光散乱をともなった電気光学効果を利用す
るため、偏光板を使わない明るく大面積のディスプレイ
が構成できる。そこで、本発明の目的は、高分子分散型
のカラー液晶表示装置において、液晶表示素子の画面全
体の透過率のバラツキを小さくすると共に、コントラス
トを向上させたカラー液晶表示装置を提供することを目
的とする。
散させた高分子層を挟持し、電圧印加により光の透過、
散乱状態を制御する調光装置などが製造されるようにな
ってきている。この高分子分散型液晶表示装置ではラビ
ングなどの基板の配向処理を必要とせず、高分子中に分
散した液晶の光散乱をともなった電気光学効果を利用す
るため、偏光板を使わない明るく大面積のディスプレイ
が構成できる。そこで、本発明の目的は、高分子分散型
のカラー液晶表示装置において、液晶表示素子の画面全
体の透過率のバラツキを小さくすると共に、コントラス
トを向上させたカラー液晶表示装置を提供することを目
的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明で
は、画素に対応する電極と各画素ごとに電圧を印加する
スイッチング素子が配置された第１基板と、電極付き第
２基板の少なくとも一方が透明基板および透明電極で形
成され、それぞれの電極を内側に対向配置した１対の前
記基板間に、液晶を分散した網目状の高分子層を設け、
スイッチング素子のオン、オフにより液晶を含む高分子
層に電圧を印加し光の透過状態を制御する高分子分散型
液晶表示装置において、前記第１と第２基板間隔を前記
スイッチング素子と対向する第２基板との間の非画素部
に形成されたスペーサーによって定め、前記スペーサー
を遮光部とすることによって、前記目的を達成する。請
求項２記載の発明では、請求項１記載のカラー液晶表示
装置において、スペーサーを下基板側に形成し、スペー
サーの断面形状が上基板側に接する面が下基板に接する
面より細い台形状とする。請求項３記載の発明では、請
求項１記載のカラー液晶表示装置において、スペーサー
を黒色有機膜または光吸収性の無期絶縁膜で構成する。
請求項４記載の発明では、請求項１記載のカラー液晶表
示装置において、第１基板および第２基板を共に透明基
板で構成し、カラーフィルターの各色の透過波長に対し
て線スペクトルに近い分光放射特性をもつ光源をバック
ライトとして配置する。
は、画素に対応する電極と各画素ごとに電圧を印加する
スイッチング素子が配置された第１基板と、電極付き第
２基板の少なくとも一方が透明基板および透明電極で形
成され、それぞれの電極を内側に対向配置した１対の前
記基板間に、液晶を分散した網目状の高分子層を設け、
スイッチング素子のオン、オフにより液晶を含む高分子
層に電圧を印加し光の透過状態を制御する高分子分散型
液晶表示装置において、前記第１と第２基板間隔を前記
スイッチング素子と対向する第２基板との間の非画素部
に形成されたスペーサーによって定め、前記スペーサー
を遮光部とすることによって、前記目的を達成する。請
求項２記載の発明では、請求項１記載のカラー液晶表示
装置において、スペーサーを下基板側に形成し、スペー
サーの断面形状が上基板側に接する面が下基板に接する
面より細い台形状とする。請求項３記載の発明では、請
求項１記載のカラー液晶表示装置において、スペーサー
を黒色有機膜または光吸収性の無期絶縁膜で構成する。
請求項４記載の発明では、請求項１記載のカラー液晶表
示装置において、第１基板および第２基板を共に透明基
板で構成し、カラーフィルターの各色の透過波長に対し
て線スペクトルに近い分光放射特性をもつ光源をバック
ライトとして配置する。
【０００６】ようするに、本発明では、高分子分散型の
カラー液晶表示装置においてセルギャップを均一に保持
するためのスペーサーを一方の基板上に設けることによ
り液晶表示素子の画面全体の透過率のバラツキを小さく
し、前記スペーサーを遮光層としても機能させることに
よりコントラストを向上させる。
カラー液晶表示装置においてセルギャップを均一に保持
するためのスペーサーを一方の基板上に設けることによ
り液晶表示素子の画面全体の透過率のバラツキを小さく
し、前記スペーサーを遮光層としても機能させることに
よりコントラストを向上させる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明のカラー液晶表示装置における
一実施例を図１ないし図４を参照して詳細に説明する。
図１は、透過型カラー液晶表示装置の断面を表したもの
である。この図に示すように、透過型カラー液晶表示装
置は、下基板１、上基板２を備えている。そして、両基
板１、２の間には、多孔質高分子４と液晶５で構成され
た液晶高分子複合層３、透明電極６、画素電極７、マト
リクス状に配置されたスイッチング素子８、絶縁性で液
晶層の厚みを制御し、ＴＦＴに対する光遮蔽効果をもつ
光吸収性のスペーサー９、および、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の光を主として透過する分光透過特性
を有するカラーフィルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃがそ
れぞれ配置されている。そして、下基板１の外側（図面
下側）には、拡散板１１を挟んでバックライト１２が配
置されている。
一実施例を図１ないし図４を参照して詳細に説明する。
図１は、透過型カラー液晶表示装置の断面を表したもの
である。この図に示すように、透過型カラー液晶表示装
置は、下基板１、上基板２を備えている。そして、両基
板１、２の間には、多孔質高分子４と液晶５で構成され
た液晶高分子複合層３、透明電極６、画素電極７、マト
リクス状に配置されたスイッチング素子８、絶縁性で液
晶層の厚みを制御し、ＴＦＴに対する光遮蔽効果をもつ
光吸収性のスペーサー９、および、赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、青（Ｂ）の光を主として透過する分光透過特性
を有するカラーフィルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃがそ
れぞれ配置されている。そして、下基板１の外側（図面
下側）には、拡散板１１を挟んでバックライト１２が配
置されている。
【０００８】上基板２としては、Ｉｎ2 Ｏ3 、Ｓｎ
Ｏ2 、ＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）などの透明電極
６を蒸着法、スパッタ法、スプレイ法などで設けた厚さ
０．３mmから２．０mmのガラス基板、あるいは厚さ３０
μｍから３００μｍのプラスチックフィルムが使用され
る。これらは透明なものであれば良くプラスチック基板
としてはポリエステル、ポリアリレート、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリカーボネイトなどを使用することが可能であ
る。一方、下基板１は、上基板２と同じく透明なガラ
ス、あるいはプラスチック基板が使用される。
Ｏ2 、ＩＴＯ（Ｉｎ2 Ｏ3 −ＳｎＯ2 ）などの透明電極
６を蒸着法、スパッタ法、スプレイ法などで設けた厚さ
０．３mmから２．０mmのガラス基板、あるいは厚さ３０
μｍから３００μｍのプラスチックフィルムが使用され
る。これらは透明なものであれば良くプラスチック基板
としてはポリエステル、ポリアリレート、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリカーボネイトなどを使用することが可能であ
る。一方、下基板１は、上基板２と同じく透明なガラ
ス、あるいはプラスチック基板が使用される。
【０００９】各画素に電圧を印加するスイッチング素子
８は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；thin film transisto
r）やバリスタ、ダイオードなどが使用される。カラー
フィルター１０の形成方法は、特に制限されるものでは
ないが、染色法、顔料分散法、電着法、スクリーン印
刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、凹版印刷など各種
印刷法で形成される。
８は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ；thin film transisto
r）やバリスタ、ダイオードなどが使用される。カラー
フィルター１０の形成方法は、特に制限されるものでは
ないが、染色法、顔料分散法、電着法、スクリーン印
刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、凹版印刷など各種
印刷法で形成される。
【００１０】液晶高分子複合層３は、液晶５が多孔質高
分子４中に分散した構造となっており、各画素のスイッ
チング素子のオン、オフによって液晶５の配向状態が変
化し、これによって光の透過状態が制御される。液晶高
分子複合層３を通過する光透過量は液晶高分子複合層３
に印加される電圧によって変化するので、信号電圧によ
って光透過量が制御される。この液晶５に２色性色素を
混ぜることによって、表示を着色したり、白黒化したり
することも可能である。
分子４中に分散した構造となっており、各画素のスイッ
チング素子のオン、オフによって液晶５の配向状態が変
化し、これによって光の透過状態が制御される。液晶高
分子複合層３を通過する光透過量は液晶高分子複合層３
に印加される電圧によって変化するので、信号電圧によ
って光透過量が制御される。この液晶５に２色性色素を
混ぜることによって、表示を着色したり、白黒化したり
することも可能である。
【００１１】液晶高分子複合層３中の構造はドロップレ
ット状の液晶５が高分子層中に分散したものや、高分子
のスポンジ状３次元網目構造内に液晶５の連続層を形成
しているものがあり、液晶高分子複合層３の作成にはい
くつかの方法がある、高分子と液晶５を共通溶媒に溶解
し基板上にキャストするキャスト法、高分子多孔質膜の
空隙中に液晶５を含浸させる含浸法、高分子の水溶液に
乳化、分散させてキャストするキャスト法、液晶５と重
合性モノマの混合溶液からモノマを重合させる重合法な
どである。液晶高分子複合層３の厚さは５から３０μｍ
程度、印加電圧の低減、コントラストなどを考慮する
と、１０から２０μｍが適当である。
ット状の液晶５が高分子層中に分散したものや、高分子
のスポンジ状３次元網目構造内に液晶５の連続層を形成
しているものがあり、液晶高分子複合層３の作成にはい
くつかの方法がある、高分子と液晶５を共通溶媒に溶解
し基板上にキャストするキャスト法、高分子多孔質膜の
空隙中に液晶５を含浸させる含浸法、高分子の水溶液に
乳化、分散させてキャストするキャスト法、液晶５と重
合性モノマの混合溶液からモノマを重合させる重合法な
どである。液晶高分子複合層３の厚さは５から３０μｍ
程度、印加電圧の低減、コントラストなどを考慮する
と、１０から２０μｍが適当である。
【００１２】スペーサー９は、以下のようにして形成す
る。すなわち、スイッチング素子８が配置されている下
基板１、あるいは透明電極６が配置されている上基板２
のいずれか一方の全面に、黒色顔料を含ませることによ
って感光性をもたせた樹脂を塗布する。そして、少なく
ともゲートラインとＴＦＴを含む画素間のライン状の部
分には黒色樹脂が残るように露光現像し５μｍから３０
μｍの基板間隔を保持するように形成する。また、スペ
ーサー９は、光吸収性の無機絶縁膜をフォトリソ法によ
って所望の形状に形成するようにしてもよい。スペーサ
ー９を印刷法で形成する場合の印刷方法はスクリーン印
刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、凹版印刷など各種
印刷法を用いることができる。バックライト１２は、カ
ラーフィルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃの各色の透過波
長に対して線スペクトルに近い分光放射特性をもつ光源
が使用されている。
る。すなわち、スイッチング素子８が配置されている下
基板１、あるいは透明電極６が配置されている上基板２
のいずれか一方の全面に、黒色顔料を含ませることによ
って感光性をもたせた樹脂を塗布する。そして、少なく
ともゲートラインとＴＦＴを含む画素間のライン状の部
分には黒色樹脂が残るように露光現像し５μｍから３０
μｍの基板間隔を保持するように形成する。また、スペ
ーサー９は、光吸収性の無機絶縁膜をフォトリソ法によ
って所望の形状に形成するようにしてもよい。スペーサ
ー９を印刷法で形成する場合の印刷方法はスクリーン印
刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、凹版印刷など各種
印刷法を用いることができる。バックライト１２は、カ
ラーフィルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃの各色の透過波
長に対して線スペクトルに近い分光放射特性をもつ光源
が使用されている。
【００１３】次に、このように構成された実施例の製造
について説明する。厚さ１mm大きさ２６０×２００mmの
ガラス基板１上に６４０×４００のマトリクス状に逆ス
タガ型ＴＦＴを設け、黒色有機膜でストライプ状に高さ
１０μｍ、幅２０μｍのスペーサー９を設けた。ここ
で、１画素の大きさは９０μｍ×３００μｍである。
について説明する。厚さ１mm大きさ２６０×２００mmの
ガラス基板１上に６４０×４００のマトリクス状に逆ス
タガ型ＴＦＴを設け、黒色有機膜でストライプ状に高さ
１０μｍ、幅２０μｍのスペーサー９を設けた。ここ
で、１画素の大きさは９０μｍ×３００μｍである。
【００１４】対向基板２は、厚さ０．８mm大きさ２２０
×１４０mmのＩＴＯ付ガラス基板でＲＧＢのカラーフィ
ルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃをストライプ状に設けて
あり、その全面に多孔質高分子４と液晶５とを共通溶媒
に溶解したものを塗布して乾燥させて液晶高分子複合層
３を形成した後、ＴＦＴ基板と貼りあわせる。この時の
基板間隔はスペーサー９によって１０μｍに保持され
た。スポンジ状網目構造をつくる多孔質高分子４として
ポリメチルメタクリレート３０重量％、ネマチック液晶
はメルク社のＺＬＩ−１１３２を７０重量％用いて、ト
ルエンに溶解して塗布した。このカラー液晶表示装置は
フルカラー表示可能でコントラストが高かった。また、
バックライト１２として冷陰極蛍光ランプを使用したと
ころ、コントラストが高く、色再現範囲が広く、明るい
表示が可能であった。
×１４０mmのＩＴＯ付ガラス基板でＲＧＢのカラーフィ
ルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃをストライプ状に設けて
あり、その全面に多孔質高分子４と液晶５とを共通溶媒
に溶解したものを塗布して乾燥させて液晶高分子複合層
３を形成した後、ＴＦＴ基板と貼りあわせる。この時の
基板間隔はスペーサー９によって１０μｍに保持され
た。スポンジ状網目構造をつくる多孔質高分子４として
ポリメチルメタクリレート３０重量％、ネマチック液晶
はメルク社のＺＬＩ−１１３２を７０重量％用いて、ト
ルエンに溶解して塗布した。このカラー液晶表示装置は
フルカラー表示可能でコントラストが高かった。また、
バックライト１２として冷陰極蛍光ランプを使用したと
ころ、コントラストが高く、色再現範囲が広く、明るい
表示が可能であった。
【００１５】このように、本実施例では、基板状の非画
素部にスペーサー９を設けたことにより光漏れを防ぐこ
とができる。また、スペーサー９として黒色有機膜また
は無機絶縁膜を用いることによって、表示コントラスト
を向上させることができた。更に、赤、緑、青の３種類
のカラーフィルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃを用いるこ
とによって、フルカラー表示が可能である。また基板
１、２に透明な基板を用いて、フィルターの特性に合わ
せたバックライト１２を備えることにより、色再現範囲
が広く、明るい筋が可能であった。
素部にスペーサー９を設けたことにより光漏れを防ぐこ
とができる。また、スペーサー９として黒色有機膜また
は無機絶縁膜を用いることによって、表示コントラスト
を向上させることができた。更に、赤、緑、青の３種類
のカラーフィルター１０ａ、１０ｂ、１０ｃを用いるこ
とによって、フルカラー表示が可能である。また基板
１、２に透明な基板を用いて、フィルターの特性に合わ
せたバックライト１２を備えることにより、色再現範囲
が広く、明るい筋が可能であった。
【００１６】次に、第２の実施例について説明する。図
２は、第２の実施例のカラー液晶表示装置の断面を表し
たものである。この実施例では、反射型のカラー液晶表
示装置について説明する。反射型液晶表示装置の場合、
下基板１上の電極を金属の反射電極とし、また、下基板
１自体を不透明な基板に金属を蒸着あるいはスパッタリ
ングしたものや金属基板としても良い。ここで用いる金
属としては、銀、白金、アルミニウム、などの反射率の
高い金属あるいはそれらの合金等が使用される。そし
て、この実施例では、スペーサー９の断面形状を台形に
し、下基板１に接する面の幅を２０μｍ、上基板２に接
する側を１０μｍとした。
２は、第２の実施例のカラー液晶表示装置の断面を表し
たものである。この実施例では、反射型のカラー液晶表
示装置について説明する。反射型液晶表示装置の場合、
下基板１上の電極を金属の反射電極とし、また、下基板
１自体を不透明な基板に金属を蒸着あるいはスパッタリ
ングしたものや金属基板としても良い。ここで用いる金
属としては、銀、白金、アルミニウム、などの反射率の
高い金属あるいはそれらの合金等が使用される。そし
て、この実施例では、スペーサー９の断面形状を台形に
し、下基板１に接する面の幅を２０μｍ、上基板２に接
する側を１０μｍとした。
【００１７】このように、スペーサー９の断面形状を台
形としたところ、実質的な開口率が向上し、画面を斜め
方向から見ても明るさ、コントラストが角度によってあ
まり低下しなかった。また、スペーサー９部を小さくす
ることによって、視野角が広くなる。
形としたところ、実質的な開口率が向上し、画面を斜め
方向から見ても明るさ、コントラストが角度によってあ
まり低下しなかった。また、スペーサー９部を小さくす
ることによって、視野角が広くなる。
【００１８】次に、第３の実施例について説明する。図
３は、第３の実施例における反射型カラー液晶表示装置
の断面を表したものである。この第３の実施例では、図
３に示すように、画素電極７の図面下側で、下基板１の
内側の全面に金属の反射膜１３が配置されると共に、画
素電極７と反射層１３の短絡を防止する絶縁層１４を備
えている。すなわち、反射型カラー液晶表示装置におい
て、ＴＦＴ基板の下地に全面にＡｌ（アルミニウム）の
蒸着膜を厚さ７００Å設け反射膜として設け、その上に
絶縁層１４としてＳｉＯ2 をスパッタリングで１０００
Å設けたところバックライト不用の軽く、薄いカラー液
晶表示装置であった。なお、この第３の実施例では、下
基板１の全面に反射膜を配置したが、不透明であっても
良い下基板の内面のうち少なくとも画素電極を含む部分
に反射膜が配置されていればよい。この第３の実施例で
は、画素電極７の下に反射膜を設けた素子構成を簡素化
した、反射型液晶表示装置となる。
３は、第３の実施例における反射型カラー液晶表示装置
の断面を表したものである。この第３の実施例では、図
３に示すように、画素電極７の図面下側で、下基板１の
内側の全面に金属の反射膜１３が配置されると共に、画
素電極７と反射層１３の短絡を防止する絶縁層１４を備
えている。すなわち、反射型カラー液晶表示装置におい
て、ＴＦＴ基板の下地に全面にＡｌ（アルミニウム）の
蒸着膜を厚さ７００Å設け反射膜として設け、その上に
絶縁層１４としてＳｉＯ2 をスパッタリングで１０００
Å設けたところバックライト不用の軽く、薄いカラー液
晶表示装置であった。なお、この第３の実施例では、下
基板１の全面に反射膜を配置したが、不透明であっても
良い下基板の内面のうち少なくとも画素電極を含む部分
に反射膜が配置されていればよい。この第３の実施例で
は、画素電極７の下に反射膜を設けた素子構成を簡素化
した、反射型液晶表示装置となる。
【００１９】次に第４の実施例について説明する。図４
は、第４の実施例における透過型カラー液晶表示装置の
断面を表したものである。この第４の実施例では、図４
に示すように、透明な下基板１の少なくとも画素電極部
を除いた部分に反射膜１３を設することによりカラー液
晶表示装置を構成している。すなわち、図１に示した反
射型カラー液晶表示装置において、透明なＴＦＴ基板１
の下地の画素電極７を除いた部分にＡｌの蒸着膜で反射
層１３を設けたところ、第１の実施例では遮光層によっ
て吸収されていた光が反射層１３で反射されるためバッ
クライト１２の出す光の利用率が高くなり、画面が明る
くなった。このように、遮光層の下に反射層１３を設け
たことにより、遮光層で吸収されていた光を反射しバッ
クライト１２の光を効率良く利用することができる。
は、第４の実施例における透過型カラー液晶表示装置の
断面を表したものである。この第４の実施例では、図４
に示すように、透明な下基板１の少なくとも画素電極部
を除いた部分に反射膜１３を設することによりカラー液
晶表示装置を構成している。すなわち、図１に示した反
射型カラー液晶表示装置において、透明なＴＦＴ基板１
の下地の画素電極７を除いた部分にＡｌの蒸着膜で反射
層１３を設けたところ、第１の実施例では遮光層によっ
て吸収されていた光が反射層１３で反射されるためバッ
クライト１２の出す光の利用率が高くなり、画面が明る
くなった。このように、遮光層の下に反射層１３を設け
たことにより、遮光層で吸収されていた光を反射しバッ
クライト１２の光を効率良く利用することができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のカラー液
晶表示装置によれば、高分子分散型のカラー液晶表示装
置においてセルギャップを均一に保持するためのスペー
サーを一方の基板上に設けることにより液晶表示素子の
画面全体の透過率のバラツキを小さくすると共に、スペ
ーサーが遮光層としても機能することよってコントラス
トが向上する。
晶表示装置によれば、高分子分散型のカラー液晶表示装
置においてセルギャップを均一に保持するためのスペー
サーを一方の基板上に設けることにより液晶表示素子の
画面全体の透過率のバラツキを小さくすると共に、スペ
ーサーが遮光層としても機能することよってコントラス
トが向上する。
【図１】本発明の第１の実施例における透過型カラー液
晶表示装置の内部構造を示す断面図である。
晶表示装置の内部構造を示す断面図である。
【図２】本発明の第２の実施例における反射型カラー液
晶表示装置の断面図である。
晶表示装置の断面図である。
【図３】本発明の第３の実施例における反射型カラー液
晶表示装置の断面図である。
晶表示装置の断面図である。
【図４】本発明の第４の実施例における透過型カラー液
晶表示装置の断面図である。
晶表示装置の断面図である。
１ 下基板 ２ 上透明基板 ３ 液晶高分子複合層 ４ 多孔質高分子 ５ 液晶 ６ 透明電極 ７ 画素電極 ８ スイッチング素子 ９ スペーサー １０ａ Ｒカラーフィルター １０ｂ Ｇカラーフィルター １０ｃ Ｂカラーフィルター １１ 拡散板 １２ バックライト １３ 反射層 １４ 絶縁層
Claims (4)
- 【請求項１】 画素に対応する電極と各画素ごとに電圧
を印加するスイッチング素子が配置された第１基板と、
電極付き第２基板の少なくとも一方が透明基板および透
明電極で形成され、それぞれの電極を内側に対向配置し
た１対の前記基板間に、液晶を分散した網目状の高分子
層を設け、スイッチング素子のオン、オフにより液晶を
含む高分子層に電圧を印加し光の透過状態を制御する高
分子分散型液晶表示装置において、 前記第１と第２基板間隔を前記スイッチング素子と対向
する第２基板との間の非画素部に形成されたスペーサー
によって定め、前記スペーサーを遮光部としたことを特
徴とするカラー液晶表示装置。 - 【請求項２】 スペーサーを下基板側に形成し、スペー
サーの断面形状が上基板側に接する面が下基板に接する
面より細い台形状としたことを特徴とする請求項１記載
のカラー液晶表示装置。 - 【請求項３】 スペーサーが黒色有機膜または光吸収性
の無期絶縁膜であるとこを特徴とする請求項１記載のカ
ラー液晶表示装置。 - 【請求項４】 第１基板および第２基板を共に透明基板
で構成し、 カラーフィルターの各色の透過波長に対して線スペクト
ルに近い分光放射特性をもつ光源をバックライトとして
配置したことを特徴とする請求項１記載のカラー液晶表
示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4126781A JPH05297382A (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | カラー液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4126781A JPH05297382A (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | カラー液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05297382A true JPH05297382A (ja) | 1993-11-12 |
Family
ID=14943780
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4126781A Pending JPH05297382A (ja) | 1992-04-20 | 1992-04-20 | カラー液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05297382A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0763764A2 (en) * | 1995-09-14 | 1997-03-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
| WO1998052096A1 (en) * | 1997-05-09 | 1998-11-19 | Central Research Laboratories Limited | Lcd device |
| KR100502806B1 (ko) * | 1998-04-17 | 2005-11-22 | 삼성전자주식회사 | 액정표시장치및그제조방법 |
| US7038754B2 (en) | 1996-01-26 | 2006-05-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal electro-optical device |
| KR100689948B1 (ko) * | 1999-01-13 | 2007-03-08 | 소니 가부시끼 가이샤 | 액정 패널, 액정 패널 제조 방법, 액정 표시 장치, 및액정 프로젝터 |
| JP2011170278A (ja) * | 2010-02-22 | 2011-09-01 | Lintec Corp | 光散乱型液晶シート、液晶表示シート、及び液晶表示装置 |
| US11506942B2 (en) | 2020-09-25 | 2022-11-22 | Seiko Epson Corporation | Electro-optical device and electronic apparatus |
-
1992
- 1992-04-20 JP JP4126781A patent/JPH05297382A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0763764A3 (en) * | 1995-09-14 | 1998-03-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
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| US7038754B2 (en) | 1996-01-26 | 2006-05-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal electro-optical device |
| US7136128B2 (en) | 1996-01-26 | 2006-11-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal electro-optical device |
| US8199300B2 (en) | 1996-01-26 | 2012-06-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal device utilizing electric field parallel to substrate |
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