JPH05295524A - 連続真空蒸着装置 - Google Patents

連続真空蒸着装置

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JPH05295524A
JPH05295524A JP12935892A JP12935892A JPH05295524A JP H05295524 A JPH05295524 A JP H05295524A JP 12935892 A JP12935892 A JP 12935892A JP 12935892 A JP12935892 A JP 12935892A JP H05295524 A JPH05295524 A JP H05295524A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
substrate
resist
vapor
roll
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP12935892A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Taguchi
俊夫 田口
Kenji Shinya
謙治 新屋
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 複雑な図柄の部分蒸着製品が連続走行で作
れ、マスキング用ベルトのメンテナンスや別工程でのパ
スタ加工を不要とし生産性の向上を図る。 【構成】 可撓性基板1を大気中から連続的に真空装置
A内に導き、真空状態の蒸着室2内に配置した蒸着材8
を収納した蒸着収納容器9とその外周に設けた蒸着加熱
装置10よりなる蒸着装置7の入側に設けた印刷ロール
本体31などよりなる印刷装置により先ず基板1上に水
又は水性レジストあるいは油性レジストによりパターン
をロール転写により印刷する。ついで蒸着装置7で蒸着
する。この際レジスト等が印刷されている部分は金属等
の蒸着を阻害し非蒸着部分を形成し、基板上の非印刷部
分は効率的に蒸着できる。蒸着作業の終了した基板は再
び大気中に導かれ大気中にて除去槽に浸漬されレジスト
を除去した後、コイル状に巻取られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高分子フィルム、紙、
金属薄板等の可撓性の走行基板に金属又はセラミックス
等の薄膜を連続的にかつ部分的に真空蒸着を行う設備に
関する。
【0002】
【従来の技術】紙、プラスチックフィルム、金属薄板等
の連続基板で、表面の一部分のみに金属等が蒸着されて
いる素材を製造する従来技術の1例を図4に示す。
【0003】図において101は可撓性の走行基板、1
02は蒸着室、103はデフレクタロール、104は冷
却ロール、105は巻取りロール、106は繰出しロー
ル、107は蒸着装置、108は蒸着材、109は蒸着
材収納容器、110は蒸着材加熱装置、111はエッジ
マスク、112はマスキングベルト、118は排気ポン
プユニットである。
【0004】このような設備において、走行基板101
は、蒸着室102内で繰出しロール106からデフレク
タロール103を介して冷却ロール104に送られ、冷
却ロール104上で蒸着装置107によって蒸着された
後、巻取りロール105に巻取られる。蒸着室102
は、真空ポンプユニット118により、蒸着に適した真
空度に保たれている。
【0005】一方、複数条のマスキングベルト112
は、デフレクタロール103を介して、エンドレスで走
行しており、冷却ロール104上で走行基板101に密
着してこれと等速で走行する。そして走行基板101の
表面のうちマスキングベルト112と密着していない
(つまり露出している)表面部分のみ、蒸着がおこなわ
れる。
【0006】また、複雑な図柄の部分蒸着フィルムを得
る場合には、いったんフィルム全面に蒸着した後、大気
に取出し、別工程で図柄部分の蒸着金属等を除去するパ
スタ加工を施していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで前述のような
従来の蒸着設備には、次に示すいくつかの解決すべき課
題があった。
【0008】(1)マスキングベルトの表面に蒸着用金
属等が付着するので、それを除去する必要があった。
【0009】(2)マスキング用のベルトの本数やベル
トの太さ、ベルト間隔を変えるには、真空容器を開放し
て調整しなければならなかった。
【0010】(3)微細な図柄および複雑な図柄を一工
程でつくることができなかった。
【0011】(4)高エネルギ密度のレーザ光線を照射
することにより、蒸着した薄膜を部分的に除去すること
も考えられるが、複雑な図柄をつくろうとすると、レー
ザ光を照射する部分での処理に時間がかかるため、やは
り連続走行では複雑な図柄をつくることができなかっ
た。
【0012】本発明は上記各課題を解決した新たな連続
真空蒸着装置を得ることを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の構成として本発明の連続真空蒸着装置は、可撓性基板
を大気中から連続的に真空槽内に搬送し、該真空槽内に
於て基板上に金属あるいはセラミックス等を連続的に蒸
着する連続真空蒸着装置において、前記真空槽内の蒸着
域の基板走行方向上流側に、基板上にレジストパターン
を印刷する手段を配設したことを特徴としている。
【0014】
【作用】上述のように構成した本発明の連続真空蒸着装
置は、高分子フィルム、紙、金属薄板などの可撓性基板
を大気中から、連続的に真空槽内に導き、真空槽内の蒸
着域の基板走行方向上流側においてまず該基板上に、水
又は水性レジスト又は油性レジストにより(以下、レジ
スト等という)パターンをロール転写などを用いて印刷
する。
【0015】ここで、水性レジストとしては、ポリビニ
ルアルコール、にかわ、でんぷん等がある。また油性レ
ジストとしては、印刷用インキ、グリス、鉱物油、食物
油等がある。
【0016】ついで、これらのレジスト等によるパター
ンを基板上に印刷した後、同印刷手段の下流側に配設し
た蒸着装置による蒸着域内において、ただちに該基板の
全面上に金属あるいはセラミックス等の蒸気を衝突させ
蒸着する。
【0017】この際基板上の前述のレジスト等が印刷さ
れている部分では、該レジスト等が蒸発中であり、その
表面の蒸気圧は、例えば20℃の水を用いた場合約18
Torrであり、金属又はセラミックス等の蒸気圧(1
〜10-4Torr)に比べて極めて大きいため、金属又
はセラミックス等の蒸着が阻害され、非蒸着部分が形成
される。
【0018】本発明者等が行った実験の一例として、レ
ジストとして鉱物油(グリス)を用いることにより、こ
れが達成できるという知見を得ている。
【0019】一方、基板上の非印刷部には、金属又はセ
ラミックス等の蒸着が連続的に効率良く行われる。
【0020】このようにして、該基板上には、所望のパ
ターンが形成される。
【0021】真空蒸着の終った基板は再び大気中に導か
れ、大気中にてレジスト等の除去槽内に浸漬させてレジ
ストを除去した後、コイル状に巻取られる。
【0022】
【実施例】以下図面により本発明の1実施例について説
明する。図1は本発明の1実施例装置の全体構成を示す
概略図、図2は同装置の蒸着室の拡大図、図3は図2の
A−A矢視図で基板上にレジストパターンを印刷する手
段の要部拡大図である。
【0023】図1において1は大気中より連続的に真空
槽内に搬送される可撓性の走行基板、2は真空状態に保
たれた蒸着室、3はデフレクタロール、4は蒸着室2内
に配置された冷却ロール、5は巻取りロール、6は繰出
しロール、7は蒸着室2内に配設した蒸着装置、8は蒸
着材、9は蒸着材収納容器、10は蒸着材加熱装置、1
1はエッジマスク、14はシール装置、15a,15
b,15c,15dはシールロール、16a,16b,
16c,16dは圧力室、17はチャンネル、18は排
気ポンプユニット、19はアンコイラ、20はコイラ、
21は押付けロール、22は切断機をそれぞれ示し、上
記符号1ないし22を付けられた部材によって、連続真
空蒸着装置Aが構成されている。
【0024】また、蒸着装置7の入側には、レジスト等
の印刷装置Bが設けられている。
【0025】このような印刷装置の1例を図2及び図3
に示す。図2及び図3において231は蒸着室202内
に配置された印刷用ロール本体、232は同ロール本体
の多孔質体円筒、233は同円筒の外周に配設したマス
キングプレート、234はロール本体231を軸支する
ための軸受、235はロータリージョイント、236は
ロール本体231の内部に穿設されたレジスト等の流
路、237は流量制御バルブ、238は流量計、239
はレジスト等のタンク、240はレジスト等である。
【0026】また、201は可撓性の走行基板、202
は蒸着室、204は冷却ロール、207は蒸着装置、2
08は蒸着材、209は蒸着材収納容器、210は蒸着
材加熱装置、211はエッジマスク、217はチャンネ
ルであり、図1に示したものと同一である。
【0027】そして蒸着室202内に配置された印刷用
ロール本体231は、蒸着装置207により形成される
蒸着域の基板走行方向上流側に配設されている。
【0028】つぎに本実施例装置の作動につき図1〜図
3により説明すると、走行基板1,201は、アンコイ
ラ19の1対の繰出しロール6の一方に取り付けられ、
デフレクタロール3を介してシール装置14へ送られ
る。
【0029】同シール装置14は、3本1組のシールロ
ール15a,15b,15c,…が複数組間隔を置いて
配設されることによって仕切られた圧力室16a,16
b,16c,…を有し、同圧力室16a,16b,16
c,…に接続された排気ポンプユニット18により、蒸
着室2,202に至るまで大気側から圧力勾配を発生さ
せ、蒸着室2,202を所定の真空度に保っている。
【0030】走行基板1,201は、上記シールロール
15a,15b,15c,…の3本ロールのうち、片側
(図では右側)2本のロール間隙間および圧力室16
a,16b,16c,…を次々と通過し、蒸着室2,2
02へ入る。
【0031】蒸着室内の蒸着装置7,207の入側には
印刷装置Bが設けられている。
【0032】レジスト等240は、蒸着室の外部に置か
れたタンク239に貯えられており、必要量(例えば、
レジスト等の印刷膜厚が1〜10μmとなる量)だけが
供給されるように、流量制御バルブ237で、流量が制
御される。また供給されるレジスト等の量は、流量計2
38で測定する。これにより、レジスト等240の蒸着
室2,202内での蒸発量を最小限におさえることがで
きるので、大型の排気ポンプユニット18をとりつける
ことが避けられる。
【0033】レジスト等240は、ロータリージョイン
ト235を介して、印刷用ロール本体231に送られ、
流路236を通って、パターンを形成させたい部分以外
をマスキングプレート233でカバーされた多孔質体円
筒232の内側へ導かれる。
【0034】印刷用ロール本体の多孔質体円筒232の
内部に供給されたレジスト等は該多孔質体円筒232の
マスキングプレートのない部分だけを外側にしみ出し基
板1,201上に転写される。
【0035】また軸受234で支承された印刷用ロール
本体231は走行基板1,201を挟んで周接する冷却
ロール4,204と同一速度で回転する。
【0036】基板上にレジストパターンを印刷する上記
手段を通過した可撓性走行基板1,201はその後、そ
の進行方向下流側に配設した蒸着装置7,207によっ
て、基板1,201上のレジスト等の非印刷部に金属等
の蒸着、印刷部に未蒸着の状態でパターンが形成された
後該基板は再びシールロール15a,15b,15c,
…の3本ロールのうち、反対側(図では左側)の2本の
ロール間隙間を逆に走行し、シール装置14から大気中
に搬出される。
【0037】大気中には、レジスト等を完全に除去する
ための除去槽41が置かれており、基板を該槽内に浸漬
させて、レジストを除去する。
【0038】除去液としては、水性レジストでは、水又
は3%NaOH水溶液などを用いる。又油性レジストで
は、トリクレン、パークロルエチレン、アセトンなどを
用いる。
【0039】除去槽41を出た連続基板はデフレクタロ
ール3を介して、コイラ20の1対のリール5の一方に
巻き取られる。
【0040】以上本発明の1実施例につき説明したが、
本発明は上記実施例装置に限定されるものでなく、本発
明の技術思想の範囲内において種々設計変更し得るもの
であり、何れも本発明の技術的範囲に属するものである
ことは言うまでもない。
【0041】
【発明の効果】以上述べたように本発明の連続真空蒸着
装置によれば、紙、プラスチックフィルム、金属薄板
等、可撓性の基板の表面に連続的に真空蒸着しつつ、複
雑な図柄の部分蒸着製品を得ることができる。
【0042】また、従来の装置で必要であったマスキン
グ用のベルトのメンテナンスや、別工程でのパスタ加工
が不要になり生産性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例に係る連続真空蒸着装置の全
体概略構成図である。
【図2】同装置の蒸着室内の要部拡大図である。
【図3】図2のA−A矢視図で印刷装置部の拡大図であ
る。
【図4】従来の真空蒸着設備の1例を示す構成図であ
る。
【符号の説明】
1,101,201 走行基板 2,102,202 蒸着室 3,103 デフレクタロール 4,104,204 冷却ロール 5,105 巻取りロール 6,106 繰出しロール 7,107,207 蒸着装置 8,108,208 蒸着材 9,109,209 蒸着材収納容器 10,110,210 蒸着材加熱装置 11,111,211 エッジマスク 112 マスキングベルト 14 シール装置 15a,15b,15c,15d シールロール 16a,16b,16c,16d 圧力室 17,217 チャンネル 18,118 排気ポンプユニット 19 アンコイラ 20 コイラ 21 押付けロール 22 切断機 31 印刷用ロール本体 232 多孔質体円筒 234 軸受 235 ロータリージョイント 236 レジスト等の流路 37,237 流量制御バルブ 38,238 流量計 39,239 レジスト等のタンク 40,240 レジスト等 41 レジスト除去槽

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 可撓性基板を大気中から連続的に真空槽
    内に搬送し、該真空槽内に於て基板上に金属あるいはセ
    ラミックス等を連続的に蒸着する連続真空蒸着装置にお
    いて、前記真空槽内の蒸着域の基板走行方向上流側に、
    基板上にレジストパターンを印刷する手段を配設したこ
    とを特徴とする連続真空蒸着装置。
JP12935892A 1992-04-23 1992-04-23 連続真空蒸着装置 Withdrawn JPH05295524A (ja)

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JP12935892A JPH05295524A (ja) 1992-04-23 1992-04-23 連続真空蒸着装置

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JPH05295524A true JPH05295524A (ja) 1993-11-09

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JP12935892A Withdrawn JPH05295524A (ja) 1992-04-23 1992-04-23 連続真空蒸着装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100362333B1 (ko) * 2000-05-26 2002-11-23 주식회사 켐트로닉 유기발광소자 제조용 박막 증착장치
KR100639935B1 (ko) * 1999-01-14 2006-10-31 어플라이드 매터리얼스 게엠베하 운트 컴퍼니 카게 띠형 기판의 가스처리 장치

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Effective date: 19990706