JPH0529147A - Laminated chip transformer - Google Patents

Laminated chip transformer

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JPH0529147A
JPH0529147A JP3208484A JP20848491A JPH0529147A JP H0529147 A JPH0529147 A JP H0529147A JP 3208484 A JP3208484 A JP 3208484A JP 20848491 A JP20848491 A JP 20848491A JP H0529147 A JPH0529147 A JP H0529147A
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coil
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coil element
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Shigeaki Nochisoto
外茂明 後
Nobuhito Ooshima
序人 大島
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To improve electromagnetic coupling coefficient of a first coil element and a second coil element by setting coil electrodes formed to insulating layers to almost equal coil diameter and setting width of coil electrodes of external layer to the width narrower than the coil electrodes of internal layer in order to reduce migration of magnetic flux at the external layer into the area between the electrodes. CONSTITUTION:A first coil element CL1 is formed by alternately laminating an insulating layer of a first class and an insulating layer of a second class and then connecting coil electrodes 6A to 6D of the insulating layer of the first class via through hole connectors provided on the insulating layer of the second class. Moreover, a second coil element CL2 is formed by connecting the coil electrodes 7A to 7C of the insulating layer of the second class via through holes provided on the insulating layer of the first class. The coil electrodes 6A to 6D, 7A to 7C formed on the insulating layers of the first and second classes are set to almost equal diameter respectively and the width of coil electrodes 6A, 7C of the external layer is set narrower than the width of the coil electrodes 6C, 7B of the internal layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、各種トランスやコモン
モードチョークコイル、バラン等として用いることので
きる積層チップトランスに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminated chip transformer which can be used as various transformers, common mode choke coils, baluns and the like.

【0002】[0002]

【背景技術】本発明の出願人は、積層チップトランスの
線輪電極間の浮遊容量を軽減させるため、次のような構
造の積層チップトランスを提案している。
BACKGROUND OF THE INVENTION The applicant of the present invention has proposed a laminated chip transformer having the following structure in order to reduce the stray capacitance between the ring electrodes of the laminated chip transformer.

【0003】この積層チップトランスは、導体膜によっ
て1ターン未満の線輪電極が形成された第一種の複数枚
の絶縁層と第二種の複数枚の絶縁層を交互に積層し、第
二種の絶縁層に設けたスル−ホ−ル接続子を介して第一
種の各絶縁層の線輪電極同士を接続させて第一のコイル
素子を形成し、第一種の絶縁層に設けたスル−ホ−ル接
続子を介して第二種の各絶縁層の線輪電極同士を接続さ
せて第二のコイル素子を形成したものである(図4参
照)。
In this multilayer chip transformer, a plurality of insulating layers of a first type and a plurality of insulating layers of a second type in which a winding electrode of less than one turn is formed by a conductor film are alternately laminated to form a second layer. The first coil element is formed by connecting the ring electrodes of the first type of insulating layers to each other through the through-hole connector provided in the first type of insulating layer, and is provided in the first type of insulating layer. The second coil element is formed by connecting the ring-shaped electrodes of the second-type insulating layers via the through-hole connector (see FIG. 4).

【0004】図15は、このようにして製作された積層
チップトランス101の概略断面図であって、第一種の
線輪電極102A,102B,102Cと第二種の線輪
電極103A,103B,103Cとは、それぞれ略等
しい巻径で交互に積層されており、第一のコイル素子1
04と第二のコイル素子105とが交互に巻かれてい
る。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of the multilayer chip transformer 101 manufactured in this way. The first type coil electrodes 102A, 102B, 102C and the second coil electrodes 103A, 103B, 103C and the first coil element 1 are alternately laminated with winding diameters that are substantially equal to each other.
04 and the second coil element 105 are wound alternately.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記積
層チップトランス101にあっては、図15に示すよう
に、各層の線輪電極102A〜102C,103A〜1
03Cの幅が一定となっていた。このため、外層部の線
輪電極(例えば、102C,103A)の近傍におい
て、磁束φの電極間への回り込みが大きくなり、両コイ
ル素子104,105間の電磁結合係数を低下させる大
きな原因となっていた。
However, in the multilayer chip transformer 101, as shown in FIG. 15, the ring-shaped electrodes 102A to 102C and 103A to 1 of the respective layers are provided.
The width of 03C was constant. For this reason, in the vicinity of the wire ring electrodes (for example, 102C and 103A) of the outer layer portion, the wraparound of the magnetic flux φ between the electrodes becomes large, which is a major cause of lowering the electromagnetic coupling coefficient between the coil elements 104 and 105. Was there.

【0006】本発明は、叙上の従来例の欠点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、積層チッ
プトランスの外層部における磁束の電極間回り込みを低
減させることにより、第一のコイル素子と第二のコイル
素子の電磁結合係数を向上させることにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the conventional example. An object of the present invention is to reduce the magnetic flux wraparound between electrodes in the outer layer portion of the multilayer chip transformer. To improve the electromagnetic coupling coefficient between the coil element and the second coil element.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の積層チップトラ
ンスは、導体膜によって1ターン未満の線輪電極が形成
された第一種及び第二種の各複数枚の絶縁層を積層し、
第一種の各絶縁層の線輪電極同士を接続して第一のコイ
ル素子を形成し、第二種の各絶縁層の線輪電極同士を接
続して第二のコイル素子を形成した積層チップトランス
において、コイル素子の入出力部が形成された絶縁層を
除いて第一種の絶縁層と第二種の絶縁層を交互に積層
し、第二種の絶縁層に設けたスルーホール接続子を介し
て第一種の絶縁層の線輪電極同士を接続させて第一のコ
イル素子を形成し、第一種の絶縁層に設けたスルーホー
ル接続子を介して第二種の絶縁層の線輪電極同士を接続
させて第二のコイル素子を形成し、第一種及び第二種の
各絶縁層に形成された線輪電極をそれぞれほぼ等しい巻
径とすると共に、外層部の線輪電極の幅を内層部の線輪
電極の幅よりも幅狭となるようにしたことを特徴として
いる。
A multilayer chip transformer of the present invention comprises a plurality of insulating layers of a first type and a second type each having a winding electrode of less than one turn formed by a conductive film.
A stack in which the coil electrodes of each type 1 insulating layer are connected to each other to form a first coil element, and the coil electrodes of each type 2 insulating layer are connected to each other to form a second coil element In the chip transformer, except for the insulating layer where the input / output part of the coil element is formed, the first type insulating layer and the second type insulating layer are alternately laminated, and the through hole connection is provided in the second type insulating layer. A second type insulating layer through a through-hole connector provided in the first type insulating layer by connecting the ring-shaped electrodes of the first type insulating layer to each other via a child. Wire coil electrodes are connected to each other to form a second coil element, and the coil electrodes formed on the first and second insulating layers have substantially the same winding diameter, and the wire of the outer layer portion is It is characterized in that the width of the wheel electrode is made narrower than the width of the wire wheel electrode in the inner layer portion.

【0008】[0008]

【作用】本発明にあっては、第一のコイル素子と第二の
コイル素子が交互に巻かれているので、各コイル素子の
線輪電極間の距離が絶縁層の厚みの2倍となり、線輪電
極間に発生するストレー容量を小さくできる。また、両
コイル素子が交互に配置されているので、相互誘導係数
も大きくなる。
In the present invention, since the first coil element and the second coil element are alternately wound, the distance between the coil electrodes of each coil element is twice the thickness of the insulating layer, The stray capacitance generated between the ring electrodes can be reduced. Further, since both coil elements are arranged alternately, the mutual induction coefficient also becomes large.

【0009】しかも、本発明にあっては、外層部の線輪
電極の幅を内層部の線輪電極の幅よりも狭くすることに
より、外層部における磁束の電極間回り込みを抑制する
ことができた。この結果、第一のコイル素子と第二のコ
イル素子間における結合係数を向上させることができ、
トランスとしての伝達特性を良好にすることができる。
Further, in the present invention, the width of the wire ring electrode of the outer layer portion is made narrower than the width of the wire ring electrode of the inner layer portion, so that it is possible to suppress the inter-electrode wraparound of the magnetic flux in the outer layer portion. It was As a result, the coupling coefficient between the first coil element and the second coil element can be improved,
The transfer characteristics as a transformer can be improved.

【0010】[0010]

【実施例】図1、図2及び図4に示すものは本発明の一
実施例による積層チップトランス1であって、図3のよ
うな等価回路を持ち、パルストランスやコモンモードチ
ョークコイルとして用いられるものである。この積層チ
ップトランス1は、第一のコイル素子CL1を構成する
4層のセラミック絶縁層2A,2B,2C,2Dと第二
のコイル素子CL2を構成する3層のセラミック絶縁層
3A,3B,3Cとを交互に積層し、その積層体17の
上下両面にさらに保護基板5,4を積層したものであ
る。下から第1層(以下、下層から順に数えることとす
る。)の絶縁層2Aの表面には、導電ペーストを一定幅
に印刷することによって第一のコイル素子CL1の一部
を構成する略3/8ターンの線輪電極6Aが配線されて
おり、線輪電極6Aの一端は外部引出し電極8となり、
他端には平端子9aが設けられている。第2層の絶縁層
2Bの表面には、第一のコイル素子CL1の一部を構成
する略3/4ターンの線輪電極6Bが配線されており、
線輪電極6Bの一端には下層の平端子9aと対向させて
スルーホール構造のスルーホール端子9cが設けられ、
他端には平端子10aが設けられている。ここで、スル
ーホール端子9cとは、絶縁層2Bに貫通させたスルー
ホール孔の上面周囲及びスルーホール孔内周及びスルー
ホール孔の下面周囲に導電ペーストを印刷及び焼き付け
したものであり、スルーホール端子9cの部分で絶縁層
2Bの表裏両面を導通させることができる。第3層の絶
縁層3Aの表面には、導電ペーストを印刷することによ
って第二のコイル素子CL2の一部を構成する略3/4
ターンの線輪電極7Aが配線されており、線輪電極7A
の一端は外部引出し電極11となり、他端には平端子1
2aが設けられている。さらに、第3層の絶縁層3Aに
は、下層の平端子10aと対応させてスルーホール構造
のスルーホール接続子10bが設けられている。このス
ルーホール接続子10bも前記スルーホール端子9cと
同様な構造を有し、絶縁層3Aの表裏両面を導通させる
ことができるものである。第4層の絶縁層2Cの表面に
は、第一のコイル素子CL1の一部を構成する略3/4
ターンの線輪電極6Cが配線されており、線輪電極6C
の一端には下層のスルーホール接続子10bと対向させ
てスルーホール構造のスルーホール端子10cが設けら
れ、他端には平端子13aが設けられている。さらに、
絶縁層2Cには下層の平端子12aと対向させてスルー
ホール接続子12bが設けられている。また、第5層の
絶縁層3Bの表面には、導体膜により第二のコイル素子
CL2の一部を構成する略3/4ターンの線輪電極7B
が配線されており、線輪電極7Bの一端には下層のスル
ーホール接続子12bと対向させてスルーホール端子1
2cが設けられ、他端には平端子14aが設けられてい
る。さらに、絶縁層3Bには下層の平端子13aと対向
させてスルーホール接続子13bが設けられている。第
6層の絶縁層2Dの表面には、第一のコイル素子CL1
の一部を構成する略1ターンの線輪電極6Dが設けられ
ており、線輪電極6Dの一端には下層のスルーホール接
続子13bと対向させてスルーホール端子13cが設け
られており、他端は外部引出し電極15となっており、
さらに下層の平端子14aと対向させてスルーホール接
続子14bが設けられている。また、第7層の絶縁層3
Cの表面には、第二のコイル素子CL2を構成する略3
/4ターンの線輪電極7Cが設けられており、線輪電極
7Cの一端には下層のスルーホール接続子14bと対向
させてスルーホール端子14cが設けられており、他端
は外部引出し電極16となっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A multilayer chip transformer 1 according to an embodiment of the present invention shown in FIGS. 1, 2 and 4 has an equivalent circuit as shown in FIG. 3 and is used as a pulse transformer or a common mode choke coil. It is what is done. The multilayer chip transformer 1 has four layers of ceramic insulating layers 2A, 2B, 2C and 2D that form a first coil element CL1 and three layers of ceramic insulating layers 3A, 3B and 3C that form a second coil element CL2. Are alternately laminated, and protective substrates 5 and 4 are further laminated on the upper and lower surfaces of the laminated body 17. On the surface of the insulating layer 2A of the first layer from the bottom (hereinafter, the layers are sequentially counted from the bottom layer), the conductive paste is printed in a constant width to form a part of the first coil element CL1. / 8-turn wire ring electrode 6A is wired, and one end of the wire ring electrode 6A becomes the external extraction electrode 8,
A flat terminal 9a is provided at the other end. On the surface of the second insulating layer 2B, a wire electrode 6B of about 3/4 turn forming a part of the first coil element CL1 is wired.
A through hole terminal 9c having a through hole structure is provided at one end of the coil electrode 6B so as to face the lower flat terminal 9a.
A flat terminal 10a is provided at the other end. Here, the through hole terminals 9c are printed and baked conductive paste around the upper surface of the through hole penetrating the insulating layer 2B, the inner circumference of the through hole hole and the lower surface of the through hole hole. Both the front and back surfaces of the insulating layer 2B can be electrically connected at the terminal 9c. A conductive paste is printed on the surface of the third insulating layer 3A to form a part of the second coil element CL2.
The wire electrode 7A of the turn is wired, and the wire electrode 7A
One end of is the external extraction electrode 11 and the other end is the flat terminal 1.
2a is provided. Further, the third insulating layer 3A is provided with a through-hole connector 10b having a through-hole structure corresponding to the flat terminal 10a in the lower layer. This through-hole connector 10b also has a structure similar to that of the through-hole terminal 9c, and is capable of conducting both front and back surfaces of the insulating layer 3A. On the surface of the fourth insulating layer 2C, approximately 3/4 which constitutes a part of the first coil element CL1.
The wheel electrode 6C of the turn is wired, and the wheel electrode 6C is
A through-hole terminal 10c having a through-hole structure is provided at one end facing the lower-layer through-hole connector 10b, and a flat terminal 13a is provided at the other end. further,
The insulating layer 2C is provided with a through-hole connector 12b facing the lower flat terminal 12a. Further, on the surface of the fifth insulating layer 3B, a coil electrode 7B having substantially 3/4 turns, which constitutes a part of the second coil element CL2 by the conductor film.
Are wired, and the through-hole terminal 1 is provided at one end of the ring electrode 7B so as to face the through-hole connector 12b in the lower layer.
2c is provided, and the flat terminal 14a is provided at the other end. Further, the insulating layer 3B is provided with a through hole connector 13b facing the lower flat terminal 13a. The first coil element CL1 is formed on the surface of the sixth insulating layer 2D.
Is provided with substantially one turn of the ring electrode 6D, and one end of the ring electrode 6D is provided with a through hole terminal 13c so as to face the lower layer through hole connector 13b. The end is the external extraction electrode 15,
Further, a through hole connector 14b is provided facing the lower flat terminal 14a. In addition, the seventh insulating layer 3
On the surface of C, approximately 3 forming the second coil element CL2 is formed.
A / 4 turn wire ring electrode 7C is provided, a through hole terminal 14c is provided at one end of the wire ring electrode 7C so as to face the lower layer through hole connector 14b, and the other end is connected to the external extraction electrode 16C. Has become.

【0011】さらに、上記各線輪電極6A〜6D,7A
〜7Cは、内層部に位置するものほど電極幅が広くなる
ようにしてある。例えば、線輪電極6A,6B,6Cの
電極幅は最も狭く、線輪電極6C,7Bの電極幅が最も
広く、線輪電極7A,6Dの電極幅が中間の幅となって
いる。
Further, each of the above-mentioned coil electrodes 6A to 6D, 7A.
7C are designed such that the electrode width increases toward the inner layer portion. For example, the electrode widths of the ring electrodes 6A, 6B, 6C are the narrowest, the electrode widths of the coil electrodes 6C, 7B are the widest, and the electrode widths of the coil electrodes 7A, 6D are intermediate widths.

【0012】しかして、上記保護基板4及び絶縁層2
A,2B,3A,2C,3B,2D,3C及び保護基板
5をグリーンシートの状態で下から順次積層し、互いに
圧着させた後、焼成する。この結果、保護基板4,5及
び各絶縁層2A〜2D,3A〜3Cは焼結して接合され
た積層体17となり、積層体17内の各層間に導体膜が
埋め込まれる。しかも、スルーホール接続子12bとス
ルーホール端子12cを介して線輪電極7Aと7Bが接
続され、スルーホール接続子14bとスルーホール端子
14cを介して線輪電極7Bと7Cが接続され、外部引
出し電極11及び16間に第二のコイル素子CL2が構
成され、同様にスルーホール端子9cを介して線輪電極
6Aと6Bが接続され、スルーホール接続子10bとス
ルーホール端子10cを介して線輪電極6Bと6Cが接
続され、スルーホール接続子13bとスルーホール端子
13cを介して線輪電極6Cと6Dが接続され、外部引
出し電極8及び15間に第一のコイル素子CL1が形成
される。この後、図2に示すように、外部引出し電極
8,15及び11,16の露出している箇所に導電ペー
ストを印刷及び焼き付けして外部電極18,19,2
0,21が形成される。この結果、図3のような等価回
路を持つ積層チップトランス1が構成される。
Therefore, the protective substrate 4 and the insulating layer 2 are
A, 2B, 3A, 2C, 3B, 2D, 3C and the protective substrate 5 are sequentially laminated from the bottom in a state of a green sheet, and they are pressure-bonded to each other and then fired. As a result, the protective substrates 4 and 5 and the insulating layers 2A to 2D and 3A to 3C are sintered and joined to form a laminated body 17, and a conductor film is embedded in each layer in the laminated body 17. Moreover, the ring-shaped electrodes 7A and 7B are connected via the through-hole connector 12b and the through-hole terminal 12c, and the line-shaped electrodes 7B and 7C are connected via the through-hole connector 14b and the through-hole terminal 14c. The second coil element CL2 is formed between the electrodes 11 and 16, and similarly the coil electrodes 6A and 6B are connected via the through hole terminal 9c, and the coil is connected via the through hole connector 10b and the through hole terminal 10c. The electrodes 6B and 6C are connected, the ring electrodes 6C and 6D are connected via the through hole connector 13b and the through hole terminal 13c, and the first coil element CL1 is formed between the external extraction electrodes 8 and 15. Thereafter, as shown in FIG. 2, a conductive paste is printed and baked on the exposed portions of the external extraction electrodes 8, 15 and 11, 16 to form the external electrodes 18, 19, 2.
0, 21 are formed. As a result, the multilayer chip transformer 1 having an equivalent circuit as shown in FIG. 3 is constructed.

【0013】このようにして製作された積層チップトラ
ンス1においては、第一のコイル素子CL1と第二のコ
イル素子CL2が交互に配置されているので、各コイル
素子CL1,CL2の線輪電極間の距離が絶縁層の厚み
の2倍となり、このため線輪電極間に発生するストレー
容量が小さくなる。また、第一のコイル素子CL1と第
二のコイル素子CL2が交互に配置されているので、両
コイル素子CL1,CL2間の相互誘導係数も大きくな
る。
In the multilayer chip transformer 1 thus manufactured, the first coil element CL1 and the second coil element CL2 are alternately arranged. Therefore, between the coil electrodes of the coil elements CL1 and CL2. Is twice the thickness of the insulating layer, which reduces the stray capacitance generated between the ring electrodes. Further, since the first coil element CL1 and the second coil element CL2 are alternately arranged, the mutual induction coefficient between the two coil elements CL1 and CL2 also becomes large.

【0014】図1は上記のようにして製作された積層チ
ップトランス1の断面図を模式的に表わしたものであ
り、3層の線輪導体6A(6B),6C,6Dからなる
第一のコイル素子CL1と3層の線輪導体7A,7B,
7Cからなる第二のコイル素子CL2が積層体17内に
構成されており、第一のコイル素子CL1を構成する線
輪導体6A(6B)〜6Dと第二のコイル素子CL2を
構成する線輪導体7A〜7Cとは、交互に配置されてい
る。ここで、最外層の線輪電極6A(6B),7Cの幅
は最も狭くなっており、その内側の層の線輪電極6D,
7Aの幅は少し広くなっており、その内側の層の線輪電
極6C,7Bの幅は最も広くなっている。このように、
外側の層の線輪電極6A(6B),7Cの幅を狭くして
おくことにより、外層部での磁束φの電極間回り込みを
大幅に低減させ、両コイル素子CL1,CL2間の電磁
結合係数kを向上させることができた。
FIG. 1 schematically shows a cross-sectional view of the multilayer chip transformer 1 manufactured as described above, which is composed of three layers of conductors 6A (6B), 6C and 6D. The coil element CL1 and the three-layer coil conductors 7A, 7B,
The second coil element CL2 composed of 7C is formed in the laminated body 17, and the wire loop conductors 6A (6B) to 6D forming the first coil element CL1 and the wire ring forming the second coil element CL2. The conductors 7A to 7C are arranged alternately. Here, the outermost layer of the ring-shaped electrodes 6A (6B), 7C has the narrowest width, and the innermost layer of the ring-shaped electrodes 6D, 6C,
The width of 7A is slightly wider, and the widths of the ring-shaped electrodes 6C and 7B in the inner layer are the widest. in this way,
By narrowing the widths of the ring-shaped electrodes 6A (6B) and 7C in the outer layer, the wraparound between the electrodes of the magnetic flux φ in the outer layer portion is significantly reduced, and the electromagnetic coupling coefficient between the coil elements CL1 and CL2 is reduced. It was possible to improve k.

【0015】つぎに、上記のように外層部の線輪電極の
幅を内層部の線輪電極の幅よりも小さくした時の効果を
FEM(有限要素法)シュミレーションにより調べた。
図5は、2層の線輪導体31A,31Bからなる第一の
コイル素子CL1と2層の線輪導体32A,32Bから
なる第二のコイル素子CL2を有する積層チップトラン
ス33であって、この積層チップトランス33の外層側
の線輪電極(以下,外層電極という。)31A,32B
の幅W1と、内層側の線輪電極(以下、内層電極とい
う。)31B,32Aの幅W2とを種々に変化させ、各
場合における第一のコイル素子CL1の自己インダクタ
ンスL1、第二のコイル素子CL2の自己インダクタン
スL2、両コイル素子CL1,CL2間の相互インダク
タンスM、電磁結合係数kを求めた。
Next, the effect obtained when the width of the wire ring electrode in the outer layer portion was made smaller than the width of the wire ring electrode in the inner layer portion as described above was examined by FEM (finite element method) simulation.
FIG. 5 shows a multilayer chip transformer 33 having a first coil element CL1 composed of two-layer coil conductors 31A and 31B and a second coil element CL2 composed of two-layer coil conductors 32A and 32B. The outer ring side coil electrodes (hereinafter referred to as outer layer electrodes) 31A, 32B of the multilayer chip transformer 33.
Of the first coil element CL1 and the second coil of the first coil element CL1 in each case by variously changing the width W1 of the first coil element CL1 and the width W2 of the inner-layer-side wire ring electrodes (hereinafter, referred to as inner layer electrodes) 31B and 32A. The self-inductance L2 of the element CL2, the mutual inductance M between the coil elements CL1 and CL2, and the electromagnetic coupling coefficient k were obtained.

【0016】図6(a)は、内層電極31B,32Aの
幅W2の幅を1900μm、外層電極31A,32Bの
幅W1を300μmとした(電極幅比r=内層電極幅W
2/外層電極幅W1=6.33)積層チップトランス
(サンプルS1)内における磁界のようすをFEMシュ
ミレーションにより求めたものであり、図6(b)はそ
れを簡略に表わしたものである。この場合には、第一及
び第二のコイル素子CL1,CL2の自己インダクタン
スは、 L1=L2=0.1287×10-6H 相互インダクタンスは、 M=0.1199×10-6H 電磁結合係数は、 k=93.15% であった。
In FIG. 6A, the width W2 of the inner layer electrodes 31B and 32A is 1900 μm and the width W1 of the outer layer electrodes 31A and 32B is 300 μm (electrode width ratio r = inner layer electrode width W).
2 / outer layer electrode width W1 = 6.33) The magnetic field in the laminated chip transformer (sample S1) was obtained by FEM simulation, and FIG. 6 (b) is a simplified representation thereof. In this case, the self-inductance of the first and second coil elements CL1 and CL2 is L1 = L2 = 0.12887 × 10 −6 H Mutual inductance is M = 0.1199 × 10 −6 H Electromagnetic coupling coefficient Was k = 93.15%.

【0017】また、図7(a)は、内層電極31B,3
2Aの幅W2を1450μm、外層電極31A,32B
の幅W1を300μmとした(電極幅比r=4.83)
積層チップトランス(サンプルS2)内における磁界の
ようすをFEMシュミレーションにより求めたものであ
り、図7(b)はそれを簡略に表わしたものである。こ
の場合には、第一及び第二のコイル素子CL1,CL2
の自己インダクタンスは、 L1=L2=0.9130×10-7H 相互インダクタンスは、 M=0.8509×10-7H 電磁結合係数は、 k=93.19% であった。
Further, FIG. 7A shows the inner layer electrodes 31B and 3B.
Width W2 of 2A is 1450 μm, outer layer electrodes 31A, 32B
Width W1 was set to 300 μm (electrode width ratio r = 4.83)
The state of the magnetic field in the laminated chip transformer (sample S2) was obtained by FEM simulation, and FIG. 7B is a simplified representation thereof. In this case, the first and second coil elements CL1, CL2
, L1 = L2 = 0.9130 × 10 −7 H Mutual inductance, M = 0.8509 × 10 −7 H Electromagnetic coupling coefficient k = 93.19%.

【0018】また、図8(a)は、内層電極31B,3
2Aの幅W2を950μm、外層電極31A,32Bの
幅W1を300μmとした(電極幅比r=3.17)積
層チップトランス(サンプルS3)内における磁界のよ
うすをFEMシュミレーションにより求めたものであ
り、図8(b)はそれを簡略に表わしたものである。こ
の場合には、第一及び第二のコイル素子CL1,CL2
の自己インダクタンスは、 L1=L2=0.5360×10-7H 相互インダクタンスは、 M=0.4976×10-7H 電磁結合係数は、 k=92.83% であった。
Further, FIG. 8A shows the inner layer electrodes 31B and 3B.
The width W2 of 2 A is 950 μm, the width W1 of the outer layer electrodes 31A and 32B is 300 μm (electrode width ratio r = 3.17), and the magnetic field in the laminated chip transformer (sample S3) is obtained by FEM simulation. , FIG. 8 (b) is a simplified representation thereof. In this case, the first and second coil elements CL1, CL2
The self-inductance of L1 = L2 = 0.5360 × 10 −7 H Mutual inductance was M = 0.4976 × 10 −7 H The electromagnetic coupling coefficient was k = 92.83%.

【0019】さらに、図9(a)は、内層電極31B,
32Aの幅W2を650μm、外層電極31A,32B
の幅W1を300μmとした(電極幅比=2.17)積
層チップトランス(サンプルS4)内における磁界のよ
うすをFEMシュミレーションにより求めたものであ
り、図9(b)はそれを簡略に表わしたものである。こ
の場合には、第一のコイル素子CL1の自己インダクタ
ンスは、 L1=0.3290×10-7H 第二のコイル素子CL2の自己インダクタンスは、 L2=0.3291×10-7H 相互インダクタンスは、 M=0.3038×10-7H 電磁結合係数は、 k=92.33% であった。
Further, FIG. 9A shows the inner layer electrodes 31B,
Width W2 of 32A is 650 μm, outer layer electrodes 31A and 32B
Of the magnetic field in the laminated chip transformer (sample S4) having the width W1 of 300 μm (electrode width ratio = 2.17) was obtained by FEM simulation, and FIG. 9B shows it in a simplified manner. It is a thing. In this case, the self-inductance of the first coil element CL1 is L1 = 0.3290 × 10 −7 H, the self-inductance of the second coil element CL2 is L2 = 0.3291 × 10 −7 H, and the mutual inductance is , M = 0.03038 × 10 −7 H The electromagnetic coupling coefficient was k = 92.33%.

【0020】このサンプルS1〜S4(本発明の実施
例)に示すように電極幅比rが1よりも大きな場合に
は、図6(b)〜図9(b)から分かるように外層電極
31A,32Bの付近における磁束φの電極回り込みは
見られない。
When the electrode width ratio r is larger than 1 as shown in the samples S1 to S4 (embodiments of the present invention), the outer layer electrode 31A can be seen from FIGS. 6 (b) to 9 (b). , 32B, no magnetic flux φ wraps around the electrode.

【0021】一方、図10(a)は、内層電極31B,
32Aの幅W2を300μm、外層電極31A,32B
の幅W1を300μmとした(電極幅比r=1.00)
積層チップトランス(サンプルS5)内における磁界の
ようすをFEMシュミレーションにより求めたものであ
り、図10(b)はそれを簡略に表わしたものである。
この場合には、第一及び第二のコイル素子CL1,CL
2の自己インダクタンスは、 L1=L2=0.1605×10-7H 相互インダクタンスは、 M=0.1421×10-7H 電磁結合係数は、 k=88.53% であった。
On the other hand, FIG. 10A shows the inner layer electrodes 31B,
Width W2 of 32A is 300 μm, outer layer electrodes 31A and 32B
Has a width W1 of 300 μm (electrode width ratio r = 1.00)
The magnetic field in the laminated chip transformer (sample S5) was obtained by FEM simulation, and FIG. 10 (b) is a simplified representation thereof.
In this case, the first and second coil elements CL1, CL
The self-inductance of No. 2 was: L1 = L2 = 0.1605 × 10 −7 H Mutual inductance, M = 0.1421 × 10 −7 H The electromagnetic coupling coefficient was k = 88.53%.

【0022】また、図11(a)は、内層電極31B,
32Aの幅W2を300μm、外層電極31A,32B
の幅W1を650μmとした(電極幅比r=0.46
2)積層チップトランス(サンプルS6)内における磁
界のようすをFEMシュミレーションにより求めたもの
であり、図11(b)はそれを簡略に表わしたものであ
る。この場合には、第一のコイル素子CL1の自己イン
ダクタンスは、 L1=0.3277×10-7H 第二のコイル素子CL2の自己インダクタンスは、 L2=0.3276×10-7H 相互インダクタンスは、 M=0.2767×10-7H 電磁結合係数は、 k=84.45% であった。
Further, FIG. 11A shows the inner layer electrodes 31B,
Width W2 of 32A is 300 μm, outer layer electrodes 31A and 32B
Width W1 of 650 μm (electrode width ratio r = 0.46)
2) The state of the magnetic field in the laminated chip transformer (sample S6) was obtained by FEM simulation, and FIG. 11 (b) is a simplified representation thereof. In this case, the self-inductance of the first coil element CL1 is: L1 = 0.3277 × 10 −7 H The self-inductance of the second coil element CL2 is: L2 = 0.3276 × 10 −7 H Mutual inductance is , M = 0.26767 × 10 −7 H The electromagnetic coupling coefficient was k = 84.45%.

【0023】また、図12(a)は、内層電極31B,
32Aの幅W2を300μm、外層電極31A,32B
の幅W1を950μmとした(電極幅比r=0.31
6)積層チップトランス(サンプルS7)内における磁
界のようすをFEMシュミレーションにより求めたもの
であり、図12(b)はそれを簡略に表わしたものであ
る。この場合には、第一及び第二のコイル素子CL1,
CL2の自己インダクタンスは、 L1=L2=0.5323×10-7H 相互インダクタンスは、 M=0.4344×10-7H 電磁結合係数は、 k=81.61% であった。
Further, FIG. 12A shows the inner layer electrodes 31B,
Width W2 of 32A is 300 μm, outer layer electrodes 31A and 32B
Has a width W1 of 950 μm (electrode width ratio r = 0.31
6) The state of the magnetic field in the laminated chip transformer (sample S7) was obtained by FEM simulation, and FIG. 12 (b) is a simplified representation thereof. In this case, the first and second coil elements CL1,
The self-inductance of CL2 was L1 = L2 = 0.5323 × 10 −7 H mutual inductance, M = 0.4344 × 10 −7 H, and the electromagnetic coupling coefficient was k = 81.61%.

【0024】さらに、図13(a)は、内層電極31
B,32Aの幅W2を300μm、外層電極31A,3
2Bの幅W1を1900μmとした(電極幅比r=0.
158)積層チップトランス(サンプルS8)内におけ
る磁界のようすをFEMシュミレーションにより求めた
ものであり、図13(b)はそれを簡略に表わしたもの
である。この場合には、第一及び第二のコイル素子CL
1,CL2の自己インダクタンスは、 L1=L2=0.1271×10-6H 相互インダクタンスは、 M=0.9994×10-7H 電磁結合係数は、 k=78.61% であった。
Further, FIG. 13A shows an inner layer electrode 31.
The width W2 of B and 32A is 300 μm, and the outer layer electrodes 31A and 3A are
The width W1 of 2B is set to 1900 μm (electrode width ratio r = 0.
158) The state of the magnetic field in the laminated chip transformer (sample S8) was obtained by FEM simulation, and FIG. 13 (b) is a simplified representation thereof. In this case, the first and second coil elements CL
The self-inductance of 1, CL2 was L1 = L2 = 0.1271 × 10 −6 H Mutual inductance, M = 0.994 × 10 −7 H The electromagnetic coupling coefficient was k = 78.61%.

【0025】このサンプルS5〜S8(比較例)に示す
ように電極幅比が1以下(r≦1)の場合には、図10
(b)〜図13(b)から分かるように外層電極31
A,32Bの付近における磁束φの電極回り込みが発生
している。
When the electrode width ratio is 1 or less (r≤1) as shown in the samples S5 to S8 (comparative example), FIG.
As can be seen from FIGS. 13B to 13B, the outer layer electrode 31
The magnetic flux φ wraps around the electrodes near A and 32B.

【0026】上記各サンプルS1〜S8の内層電極幅W
2、外層電極幅W1、電極幅比r及び電磁結合係数kを
次の表1にまとめて示す。
Inner layer electrode width W of each of the samples S1 to S8
2, the outer layer electrode width W1, the electrode width ratio r, and the electromagnetic coupling coefficient k are collectively shown in Table 1 below.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】また、図14は、サンプルS1〜S8によ
って求められた電磁結合係数kと電極幅比rとの関係を
図示するものである。
Further, FIG. 14 illustrates the relationship between the electromagnetic coupling coefficient k and the electrode width ratio r obtained by the samples S1 to S8.

【0029】以上により、電極幅比rが1よりも大きい
場合には、外層電極の付近における磁束の電極間回り込
みを抑制することができ、また、電極幅比rが大きくな
るほど第一のコイル素子CL1と第二のコイル素子CL
2との電磁結合係数kを大きくできることが示された。
As described above, when the electrode width ratio r is greater than 1, it is possible to suppress the inter-electrode wraparound of the magnetic flux in the vicinity of the outer layer electrode, and the larger the electrode width ratio r, the first coil element. CL1 and the second coil element CL
It was shown that the electromagnetic coupling coefficient k with 2 can be increased.

【0030】また、上記サンプルでは、各コイル素子を
2層構成としたが、さらに電極層数(または、ターン
数)を増加させても同様の結果が得られる。
In the above sample, each coil element has a two-layer structure, but the same result can be obtained by further increasing the number of electrode layers (or the number of turns).

【0031】なお、上記実施例では、パルストランスや
コモンモードチョークコイルの場合について説明した
が、本発明は、第一のコイル素子の一端と第二のコイル
素子の一端とが共通接続された3端子型の2分配トラン
ス等であってもよい。
In the above embodiment, the case of the pulse transformer or the common mode choke coil was explained, but in the present invention, one end of the first coil element and one end of the second coil element are commonly connected. It may be a terminal type two-distribution transformer or the like.

【0032】[0032]

【発明の効果】本発明によれば、線輪電極間に発生する
ストレー容量を小さくでき、また、両コイル素子間の相
互誘導係数も大きくなる。
According to the present invention, the stray capacitance generated between the coil electrodes can be reduced, and the mutual induction coefficient between both coil elements can be increased.

【0033】しかも、本発明によれば、外層部の線輪電
極の幅を内層部の線輪電極の幅よりも狭くすることによ
り、外層部における磁束の電極間回り込みを抑制するこ
とができた。この結果、第一のコイル素子と第二のコイ
ル素子間における電磁結合係数を向上させることがで
き、トランスとしての電力変換効率を向上させ、伝達特
性を良好にすることができる。
Further, according to the present invention, by making the width of the wire ring electrode of the outer layer portion narrower than the width of the wire ring electrode of the inner layer portion, it is possible to suppress the magnetic flux wraparound between the electrodes in the outer layer portion. .. As a result, the electromagnetic coupling coefficient between the first coil element and the second coil element can be improved, the power conversion efficiency of the transformer can be improved, and the transfer characteristic can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例による積層チップトランスを
示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing a laminated chip transformer according to an embodiment of the present invention.

【図2】同上の実施例の斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the above embodiment.

【図3】同上の実施例の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the above embodiment.

【図4】同上の実施例における各絶縁層の積層前の状態
を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a state before laminating each insulating layer in the above-mentioned embodiment.

【図5】サンプルS1〜S8の構造とその内層電極幅と
外層電極幅を示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the structures of Samples S1 to S8 and their inner layer electrode widths and outer layer electrode widths.

【図6】(a)(b)はサンプル1(実施例)内におけ
る磁界の様子を示す図である。
6 (a) and 6 (b) are diagrams showing a state of a magnetic field in Sample 1 (Example).

【図7】(a)(b)はサンプル2(実施例)内におけ
る磁界の様子を示す図である。
7 (a) and 7 (b) are diagrams showing a state of a magnetic field in Sample 2 (Example).

【図8】(a)(b)はサンプル3(実施例)内におけ
る磁界の様子を示す図である。
8A and 8B are diagrams showing the state of a magnetic field in Sample 3 (Example).

【図9】(a)(b)はサンプル4(実施例)内におけ
る磁界の様子を示す図である。
9 (a) and 9 (b) are diagrams showing a magnetic field in Sample 4 (Example).

【図10】(a)(b)はサンプル5(比較例)内にお
ける磁界の様子を示す図である。
10A and 10B are diagrams showing the state of a magnetic field in sample 5 (comparative example).

【図11】(a)(b)はサンプル6(比較例)内にお
ける磁界の様子を示す図である。
11 (a) and 11 (b) are diagrams showing a magnetic field in Sample 6 (Comparative Example).

【図12】(a)(b)はサンプル7(比較例)内にお
ける磁界の様子を示す図である。
12 (a) and 12 (b) are diagrams showing a magnetic field in Sample 7 (Comparative Example).

【図13】(a)(b)はサンプル8(比較例)内にお
ける磁界の様子を示す図である。
13 (a) and 13 (b) are diagrams showing a magnetic field in Sample 8 (Comparative Example).

【図14】同上の各サンプルS1〜S8から得られた電
極幅比と電磁結合係数との関係を示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the electrode width ratio and the electromagnetic coupling coefficient obtained from each of the above samples S1 to S8.

【図15】従来例による積層チップトランスの概略断面
図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view of a layered chip transformer according to a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2A〜2D 絶縁層 3A〜3C 絶縁層 6A〜6D 第一のコイル素子を構成する線輪電極 7A〜7C 第二のコイル素子を構成する線輪電極 10b,12b,13b,14b スルーホール接続子 CL1 第一のコイル素子 CL2 第二のコイル素子 2A to 2D Insulating layer 3A to 3C Insulating layer 6A to 6D Wire ring electrodes 7A to 7C forming first coil element Wire ring electrodes 10b, 12b, 13b, 14b forming second coil element Through hole connector CL1 First coil element CL2 Second coil element

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 導体膜によって1ターン未満の線輪電極
が形成された第一種及び第二種の各複数枚の絶縁層を積
層し、第一種の各絶縁層の線輪電極同士を接続して第一
のコイル素子を形成し、第二種の各絶縁層の線輪電極同
士を接続して第二のコイル素子を形成した積層チップト
ランスにおいて、 コイル素子の入出力部が形成された絶縁層を除いて第一
種の絶縁層と第二種の絶縁層を交互に積層し、第二種の
絶縁層に設けたスルーホール接続子を介して第一種の絶
縁層の線輪電極同士を接続させて第一のコイル素子を形
成し、第一種の絶縁層に設けたスルーホール接続子を介
して第二種の絶縁層の線輪電極同士を接続させて第二の
コイル素子を形成し、第一種及び第二種の各絶縁層に形
成された線輪電極をそれぞれほぼ等しい巻径とすると共
に、外層部の線輪電極の幅を内層部の線輪電極の幅より
も幅狭となるようにしたことを特徴とする積層チップト
ランス。
Claim: What is claimed is: 1. A plurality of insulating layers of the first type and the second type each having a winding electrode of less than one turn formed by a conductive film are laminated to form an insulating layer of the first type. In the multilayer chip transformer in which the first coil element is formed by connecting the wire ring electrodes to each other and the second coil element is formed by connecting the wire ring electrodes of the second type insulating layers, Except for the insulating layer in which the input / output section is formed, the first type insulating layer and the second type insulating layer are alternately laminated, and the first type via the through-hole connector provided in the second type insulating layer. Connecting the ring electrodes of the insulating layer to form the first coil element, and connecting the ring electrodes of the second type of insulating layer to each other through the through-hole connector provided in the first type of insulating layer. To form the second coil element, and the coil electrodes formed on the first and second types of insulating layers are approximately equal to each other. With the have winding diameter, multilayer chip transformer, characterized in that set to be the width of the line wheels electrodes of the outer layer portions narrower than the width of the line wheels electrode of the inner layer portion.
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