JPH0529100A - 粒子加速器のビーム位置モニタ - Google Patents
粒子加速器のビーム位置モニタInfo
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- JPH0529100A JPH0529100A JP20397491A JP20397491A JPH0529100A JP H0529100 A JPH0529100 A JP H0529100A JP 20397491 A JP20397491 A JP 20397491A JP 20397491 A JP20397491 A JP 20397491A JP H0529100 A JPH0529100 A JP H0529100A
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- monitor
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- vacuum chamber
- beam position
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビーム位置モニタのモニタ端子が不具合にな
った場合の交換を容易にし、また加速器の位置基準に対
してビーム位置モニタを高精度に位置決めする。 【構成】 真空チェンバー２２の一区間を形成するよう
にモニタベース９０を挿入して接合し、このモニタベー
ス９０に４個のモニタ端子９６〜９９をそれぞれ着脱自
在に取り付ける。モニタ端子９６〜９９のいずれかが不
具合になったら、それだけをモニタベース９０から取り
外して交換することができる。また、モニタベースのア
ーム１０４〜１０７を直接ロッド１０７〜１１０を介し
て収束電磁石２３（位置基準）に連結することにより、
ビーム位置モニタ３０の位置精度が向上する。
った場合の交換を容易にし、また加速器の位置基準に対
してビーム位置モニタを高精度に位置決めする。 【構成】 真空チェンバー２２の一区間を形成するよう
にモニタベース９０を挿入して接合し、このモニタベー
ス９０に４個のモニタ端子９６〜９９をそれぞれ着脱自
在に取り付ける。モニタ端子９６〜９９のいずれかが不
具合になったら、それだけをモニタベース９０から取り
外して交換することができる。また、モニタベースのア
ーム１０４〜１０７を直接ロッド１０７〜１１０を介し
て収束電磁石２３（位置基準）に連結することにより、
ビーム位置モニタ３０の位置精度が向上する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電子シンクロトロン
等の粒子加速器において、真空チェンバー内の粒子ビー
ム位置を測定するビーム位置モニタに関する。
等の粒子加速器において、真空チェンバー内の粒子ビー
ム位置を測定するビーム位置モニタに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子シンクロトロンは、シンクロ
トロン放射光（ＳＯＲ）装置として、超々ＬＳＩ回路の
作成、医療分野における診断、分子解析、構造解析等様
々な分野への適用が期待されている。ＳＯＲ装置の概要
を図２に示す。電子発生装置（電子銃等）１０で発生し
た電子ビームは線型加速装置（ライナック）１２で光速
近くに加速され、入射部１４の偏向電磁石１６で偏向さ
れて、インフレクタ１８を介してシンクロトロン２０の
真空チェンバー２２（蓄積リング）内に入射される。真
空チェンバー２２に入射された電子ビームは高周波加速
空洞２１でエネルギを与えられながら収束電磁石２３で
収束され、偏向電磁石２４で偏向されて真空チェンバー
２２中を回り続ける。偏向電磁石２４で偏向される時に
発生するシンクロトロン放射光はビームチャンネル２６
を通して例えば露光装置２８に送られて超々ＬＳＩ回路
作成用の光源等として利用される。
トロン放射光（ＳＯＲ）装置として、超々ＬＳＩ回路の
作成、医療分野における診断、分子解析、構造解析等様
々な分野への適用が期待されている。ＳＯＲ装置の概要
を図２に示す。電子発生装置（電子銃等）１０で発生し
た電子ビームは線型加速装置（ライナック）１２で光速
近くに加速され、入射部１４の偏向電磁石１６で偏向さ
れて、インフレクタ１８を介してシンクロトロン２０の
真空チェンバー２２（蓄積リング）内に入射される。真
空チェンバー２２に入射された電子ビームは高周波加速
空洞２１でエネルギを与えられながら収束電磁石２３で
収束され、偏向電磁石２４で偏向されて真空チェンバー
２２中を回り続ける。偏向電磁石２４で偏向される時に
発生するシンクロトロン放射光はビームチャンネル２６
を通して例えば露光装置２８に送られて超々ＬＳＩ回路
作成用の光源等として利用される。
【０００３】真空チェンバー２２の各直線部には、電極
式ビーム位置モニタ３０が例えば２個ずつ全周で合計８
個設けられている。この電極式ビーム位置モニタ３０は
真空チェンバー２２内のビーム中心位置を検出するもの
で、その検出結果に応じて各種電磁石の励磁量を制御す
ることにより、電子ビームが真空チェンバー２２内の中
心軌道を通るようにして、真空チェンバー２２の内壁に
衝突することなく長時間周回できるようにしている。
式ビーム位置モニタ３０が例えば２個ずつ全周で合計８
個設けられている。この電極式ビーム位置モニタ３０は
真空チェンバー２２内のビーム中心位置を検出するもの
で、その検出結果に応じて各種電磁石の励磁量を制御す
ることにより、電子ビームが真空チェンバー２２内の中
心軌道を通るようにして、真空チェンバー２２の内壁に
衝突することなく長時間周回できるようにしている。
【０００４】電極式ビーム位置モニタの原理図を図３に
示す。これは、前記図２において真空チェンバー２２を
電極式ビーム位置モニタ３０の位置で輪切にした状態を
示すものである。真空チェンバー２２内には電子ビーム
３４（図はビーム中心位置を示す）が周回している。電
極式位置モニタ３０はボタン電極等で構成され、通常１
箇所に４個の電極３０ａ〜３０ｄをビーム３４の周囲に
配置して構成される。各電極３０ａ〜３０ｄにはビーム
３４の通過により起電力ａ〜ｄが誘起される。
示す。これは、前記図２において真空チェンバー２２を
電極式ビーム位置モニタ３０の位置で輪切にした状態を
示すものである。真空チェンバー２２内には電子ビーム
３４（図はビーム中心位置を示す）が周回している。電
極式位置モニタ３０はボタン電極等で構成され、通常１
箇所に４個の電極３０ａ〜３０ｄをビーム３４の周囲に
配置して構成される。各電極３０ａ〜３０ｄにはビーム
３４の通過により起電力ａ〜ｄが誘起される。
【０００５】ビーム位置演算回路３６はこれら検出信号
ａ〜ｄに基づきビーム位置を検出する。すなわち、水平
方向ビーム位置Ｐｈは例えば、 で求められる。また垂直方向ビーム位置Ｐｖは、 で求められる。
ａ〜ｄに基づきビーム位置を検出する。すなわち、水平
方向ビーム位置Ｐｈは例えば、 で求められる。また垂直方向ビーム位置Ｐｖは、 で求められる。
【０００６】従来におけるビーム位置モニタ３０の外観
図を図４に示す。また、図４のＡ−Ａ矢視断面図を図５
に示す。真空チェンバー２２の上下面に略々円形の穴３
８，４０を形成し、その内周面に座付加工を施し、略々
円形のモニタベース４２，４４をはめ込んで全周に溶接
４３，４５をして取り付けている。モニタベース４２，
４４には、左右２箇所ずつにモニタ端子装着用穴４６〜
４９が形成され、それぞれモニタ端子５１〜５４が挿入
されて、電子ビーム溶接またはろう付け５６〜５９によ
り取り付けられて、モニタベース４２，４４と一体構成
とされている。モニタ端子５１の先端には電極６１〜６
４が取り付けられ、真空チェンバー２２内に臨んでい
る。電極６１〜６４に誘起された信号は真空チェンバー
２２と絶縁された状態で各モニタ端子５１〜５４の後端
部に導かれる。
図を図４に示す。また、図４のＡ−Ａ矢視断面図を図５
に示す。真空チェンバー２２の上下面に略々円形の穴３
８，４０を形成し、その内周面に座付加工を施し、略々
円形のモニタベース４２，４４をはめ込んで全周に溶接
４３，４５をして取り付けている。モニタベース４２，
４４には、左右２箇所ずつにモニタ端子装着用穴４６〜
４９が形成され、それぞれモニタ端子５１〜５４が挿入
されて、電子ビーム溶接またはろう付け５６〜５９によ
り取り付けられて、モニタベース４２，４４と一体構成
とされている。モニタ端子５１の先端には電極６１〜６
４が取り付けられ、真空チェンバー２２内に臨んでい
る。電極６１〜６４に誘起された信号は真空チェンバー
２２と絶縁された状態で各モニタ端子５１〜５４の後端
部に導かれる。
【０００７】ビーム位置モニタによる検出精度を高める
ためには、ビーム位置モニタが電磁石位置等の粒子加速
器の位置基準に対して上下、左右および軸方向に正確に
位置決めされていなければならない。このため、図４で
はビーム位置モニタ３０を上下から固定枠６６，６８で
挾み込んで、これらをピン７４，７６（図５）で相互に
連結し、さらにリーマピン７０，７２を固定枠６６、真
空チェンバー２２、固定枠６８に通して固定枠６６，６
８と真空チェンバー２２を固定し、さらに基礎８０上に
固定されて加速器の位置基準となっている収束電磁石２
３と固定枠６６，６８とをロッド８１〜８４で連結する
ことにより、ビーム位置モニタ３０を位置基準に対して
固定している。
ためには、ビーム位置モニタが電磁石位置等の粒子加速
器の位置基準に対して上下、左右および軸方向に正確に
位置決めされていなければならない。このため、図４で
はビーム位置モニタ３０を上下から固定枠６６，６８で
挾み込んで、これらをピン７４，７６（図５）で相互に
連結し、さらにリーマピン７０，７２を固定枠６６、真
空チェンバー２２、固定枠６８に通して固定枠６６，６
８と真空チェンバー２２を固定し、さらに基礎８０上に
固定されて加速器の位置基準となっている収束電磁石２
３と固定枠６６，６８とをロッド８１〜８４で連結する
ことにより、ビーム位置モニタ３０を位置基準に対して
固定している。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前記従来のビーム位置
モニタでは、モニタ端子５１〜５４がモニタベース４
２，４４に対して溶接５６〜５９により一体に取り付け
られ、モニタベース４２，４４が真空チェンバー２２に
対して溶接４３，４５で一体に取り付けられているた
め、モニタ端子５１〜５４のうちの１本だけが不具合に
なった場合でもその近辺の真空チェンバー２２の全体を
取替えるかあるいはその近辺の真空チェンバー２２を取
り外してビーム位置モニタ全体を加工しなければなら
ず、交換に時間がかかっていた。また、固定枠６６，６
８と真空チェンバー２２との固定が２本のリーマピン７
０，７２のみで行なわれているため、完全な固定とはい
えず、位置基準（収束電磁石２３の位置）に対してビー
ム位置モニタ３０を高精度に位置決めするのが困難であ
った。また、一度真空チャンバー２２を取り外すと位置
基準に対してずれるので再度位置合わせが必要となって
いた。
モニタでは、モニタ端子５１〜５４がモニタベース４
２，４４に対して溶接５６〜５９により一体に取り付け
られ、モニタベース４２，４４が真空チェンバー２２に
対して溶接４３，４５で一体に取り付けられているた
め、モニタ端子５１〜５４のうちの１本だけが不具合に
なった場合でもその近辺の真空チェンバー２２の全体を
取替えるかあるいはその近辺の真空チェンバー２２を取
り外してビーム位置モニタ全体を加工しなければなら
ず、交換に時間がかかっていた。また、固定枠６６，６
８と真空チェンバー２２との固定が２本のリーマピン７
０，７２のみで行なわれているため、完全な固定とはい
えず、位置基準（収束電磁石２３の位置）に対してビー
ム位置モニタ３０を高精度に位置決めするのが困難であ
った。また、一度真空チャンバー２２を取り外すと位置
基準に対してずれるので再度位置合わせが必要となって
いた。
【０００９】この発明は、前記従来の技術における欠点
を解決して、モニタ端子が不具合になった場合の交換を
容易にし、また加速器の位置基準に対して高精度に位置
決めすることができる粒子加速器のビーム位置モニタを
提供しようとするものである。
を解決して、モニタ端子が不具合になった場合の交換を
容易にし、また加速器の位置基準に対して高精度に位置
決めすることができる粒子加速器のビーム位置モニタを
提供しようとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、粒子
加速器を構成する真空チェンバーの一区間を形成するよ
うにこの真空チェンバーに挿入されたモニタベースと、
このモニタベースに真空チェンバーの内外間に貫通して
形成された複数のモニタ端子挿入用穴と、これらモニタ
端子挿入用穴に端子端部の電極を挿入した状態で前記モ
ニタベースに個々に着脱可能に装着されたモニタ端子と
を具備してなるものである。
加速器を構成する真空チェンバーの一区間を形成するよ
うにこの真空チェンバーに挿入されたモニタベースと、
このモニタベースに真空チェンバーの内外間に貫通して
形成された複数のモニタ端子挿入用穴と、これらモニタ
端子挿入用穴に端子端部の電極を挿入した状態で前記モ
ニタベースに個々に着脱可能に装着されたモニタ端子と
を具備してなるものである。
【００１１】また、請求項２記載の発明は、前記モニタ
ベースが当該モニタベースを粒子加速器の位置基準に連
結するための基準連結部を具備してなるものである。
ベースが当該モニタベースを粒子加速器の位置基準に連
結するための基準連結部を具備してなるものである。
【００１２】さらに請求項３記載の発明は、前記モニタ
ベースの一部にモニタ感度較正用のアンテナを挿入する
較正用穴が形成されてなるものである。
ベースの一部にモニタ感度較正用のアンテナを挿入する
較正用穴が形成されてなるものである。
【００１３】
【作用】請求項１記載の発明によれば、各モニタ端子が
モニタベースに対して個々に着脱可能に装着されている
ので、各モニタ端子ごとに交換することができ、交換作
業が容易になる。
モニタベースに対して個々に着脱可能に装着されている
ので、各モニタ端子ごとに交換することができ、交換作
業が容易になる。
【００１４】また、請求項２記載の発明によれば、モニ
タベースを直接位置基準に連結するので、位置基準に対
してビーム位置モニタを高精度に位置決めすることがで
きる。また、モニタ端子を交換してもベースプレートは
位置基準に対して動かないので、再度位置合せする必要
はない。
タベースを直接位置基準に連結するので、位置基準に対
してビーム位置モニタを高精度に位置決めすることがで
きる。また、モニタ端子を交換してもベースプレートは
位置基準に対して動かないので、再度位置合せする必要
はない。
【００１５】また、請求項３記載の発明によれば、モニ
タ端子を交換した時等に、較正用穴からアンテナを差し
込むことにより、モニタ感度を検出して較正を行なうこ
とができる。
タ端子を交換した時等に、較正用穴からアンテナを差し
込むことにより、モニタ感度を検出して較正を行なうこ
とができる。
【００１６】
（実施例１）この発明の一実施例を図１に示す。また、
図１のＢ−Ｂ矢視断面図を図６に示す。真空チェンバー
２２には、その一区間を形成するように円筒状のモニタ
ベース９０が挿入され、全周が溶接９２，９４で接合さ
れている。モニタベース９０は、例えばアルミニウム合
金で硬度の高いＡ２２１９−Ｔ６（Ｔ８５２）等を使用
し、全体が機械加工で一体加工されている。
図１のＢ−Ｂ矢視断面図を図６に示す。真空チェンバー
２２には、その一区間を形成するように円筒状のモニタ
ベース９０が挿入され、全周が溶接９２，９４で接合さ
れている。モニタベース９０は、例えばアルミニウム合
金で硬度の高いＡ２２１９−Ｔ６（Ｔ８５２）等を使用
し、全体が機械加工で一体加工されている。
【００１７】モニタベース９０には４本のモニタ端子９
６〜９９が着脱可能に取り付けられている。また、モニ
タベース９０の側部には較正用穴１００が開設され、こ
こからアンテナを差し込んでモニタ端子９６〜９９の較
正が行なえるようになっている。較正用穴１００は通常
はフランジ１０１をシール部材１０５を挾んでボルト１
０３で取り付けて塞がれている。
６〜９９が着脱可能に取り付けられている。また、モニ
タベース９０の側部には較正用穴１００が開設され、こ
こからアンテナを差し込んでモニタ端子９６〜９９の較
正が行なえるようになっている。較正用穴１００は通常
はフランジ１０１をシール部材１０５を挾んでボルト１
０３で取り付けて塞がれている。
【００１８】基礎８０上に固定されている架台１０２上
には収束電磁石２３が固定されている。収束電磁石２３
は加速器の位置基準となっており、モニタベース９０の
アーム１０５〜１０６と収束電磁石２３をロッド１０７
〜１１０で連結することにより、ビーム位置モニタ３０
を加速器の上下、左右および軸方向の位置基準に固定す
る。モニタベース９０を直接位置基準に連結するので、
位置精度が向上する。
には収束電磁石２３が固定されている。収束電磁石２３
は加速器の位置基準となっており、モニタベース９０の
アーム１０５〜１０６と収束電磁石２３をロッド１０７
〜１１０で連結することにより、ビーム位置モニタ３０
を加速器の上下、左右および軸方向の位置基準に固定す
る。モニタベース９０を直接位置基準に連結するので、
位置精度が向上する。
【００１９】ここで、モニタ端子９６〜９９の詳細構成
を図７に示す。モニタ端子９６〜９９は、円形のベース
プレート１１２の中央の穴１１３に円形のケーシング１
１４を挿入して全周に溶接１１６をしてベースプレート
１１２とケーシング１１４を一体化している。ケーシン
グ１１４内には、碍子１１８を介してその中央に電極棒
１２０を固定支持し、電極棒１２０の先端に電極１２２
が取り付けられている。電極１２２はモニタベース９０
に開設されたモニタ端子挿入用穴１２４に挿入されて、
真空チェンバー内空間１２６に臨んでいる。電極棒１２
０の後端には信号ケーブルが連結される。
を図７に示す。モニタ端子９６〜９９は、円形のベース
プレート１１２の中央の穴１１３に円形のケーシング１
１４を挿入して全周に溶接１１６をしてベースプレート
１１２とケーシング１１４を一体化している。ケーシン
グ１１４内には、碍子１１８を介してその中央に電極棒
１２０を固定支持し、電極棒１２０の先端に電極１２２
が取り付けられている。電極１２２はモニタベース９０
に開設されたモニタ端子挿入用穴１２４に挿入されて、
真空チェンバー内空間１２６に臨んでいる。電極棒１２
０の後端には信号ケーブルが連結される。
【００２０】モニタ端子９６〜９９はモニタベース９０
に対して、ボルト１３３をベースプレート１１２の穴１
３０を通してモニタベース９０のねじ穴１３２にねじ込
むことにより着脱自在に取り付けられている。モニタベ
ース９０には穴１２４の周りにリング状の凸部１３４が
形成されている。ベースプレート１１２にはこれに合わ
せてリング状の溝１３６が形成されている。モニタ端子
９６〜９９をモニタベース９０に取り付ける場合に凸部
１３４を溝１３６に挿入することにより、位置合わせを
容易にしている。
に対して、ボルト１３３をベースプレート１１２の穴１
３０を通してモニタベース９０のねじ穴１３２にねじ込
むことにより着脱自在に取り付けられている。モニタベ
ース９０には穴１２４の周りにリング状の凸部１３４が
形成されている。ベースプレート１１２にはこれに合わ
せてリング状の溝１３６が形成されている。モニタ端子
９６〜９９をモニタベース９０に取り付ける場合に凸部
１３４を溝１３６に挿入することにより、位置合わせを
容易にしている。
【００２１】また、モニタベース９０には、溝１３６に
つながってその外側にリング状の浅い溝１３８が形成さ
れており、ここにリング状のシール部材１４０を挾み込
んで、真空チェンバー内空間１２６を外気（大気圧）１
４０から真空封止している。シール部材１４０としては
例えばヘリコフレックス（商標）を使用することができ
る。シール部材１４０によるシール構造は、モニタ端子
９６〜９９の軸方向の寸法精度が確保できるように、面
当り方法（ボルト１３３を穴１３２にねじ込んでいって
シール部材１４０がある程度押しつぶされた状態でベー
スプレート１１２とモニタベース９０が当接して停止す
る）を使用し、シール部材１４０がシールするのに必要
な面圧を受けるように溝１３８の深さを決めている。ま
た、このベースプレート１１２とモニタベース９０との
当接面は鏡面加工し、表面硬度を上げるために、ＴｉＮ
（またはＣｒＮ）等の表面処理を行なっている。なお、
前記溝１３６は、ベースプレート１１２とケーシング１
１４とを溶接１１６で接合する時の熱をここで遮断し
て、入熱による変形をシール部に与えないようにする働
きもさせるように、十分深く形成されている。
つながってその外側にリング状の浅い溝１３８が形成さ
れており、ここにリング状のシール部材１４０を挾み込
んで、真空チェンバー内空間１２６を外気（大気圧）１
４０から真空封止している。シール部材１４０としては
例えばヘリコフレックス（商標）を使用することができ
る。シール部材１４０によるシール構造は、モニタ端子
９６〜９９の軸方向の寸法精度が確保できるように、面
当り方法（ボルト１３３を穴１３２にねじ込んでいって
シール部材１４０がある程度押しつぶされた状態でベー
スプレート１１２とモニタベース９０が当接して停止す
る）を使用し、シール部材１４０がシールするのに必要
な面圧を受けるように溝１３８の深さを決めている。ま
た、このベースプレート１１２とモニタベース９０との
当接面は鏡面加工し、表面硬度を上げるために、ＴｉＮ
（またはＣｒＮ）等の表面処理を行なっている。なお、
前記溝１３６は、ベースプレート１１２とケーシング１
１４とを溶接１１６で接合する時の熱をここで遮断し
て、入熱による変形をシール部に与えないようにする働
きもさせるように、十分深く形成されている。
【００２２】以上の構成によれば、モニタ端子９６〜９
９のいずれかが不具合になったら、不具合になったモニ
タ端子についてだけボルト１３３を外して取り外し、新
しいものと交換する。新しいモニタ端子を装着したらフ
ランジ１０１（図６）を外して較正用穴１００からアン
テナを差し込んで真空チェンバー内空間１２６の中心部
から発信し、この時各モニタ端子９６〜９９の出力を検
出して較正値を求め、実際の運転時の較正用に用いる。
較正値が求められたら較正用穴１００をフランジ１０１
で塞ぐ。このように、不具合になったモニタ端子だけ交
換すればよいので交換作業が容易にかつ短時間で行なえ
る。
９のいずれかが不具合になったら、不具合になったモニ
タ端子についてだけボルト１３３を外して取り外し、新
しいものと交換する。新しいモニタ端子を装着したらフ
ランジ１０１（図６）を外して較正用穴１００からアン
テナを差し込んで真空チェンバー内空間１２６の中心部
から発信し、この時各モニタ端子９６〜９９の出力を検
出して較正値を求め、実際の運転時の較正用に用いる。
較正値が求められたら較正用穴１００をフランジ１０１
で塞ぐ。このように、不具合になったモニタ端子だけ交
換すればよいので交換作業が容易にかつ短時間で行なえ
る。
【００２３】（実施例２）この発明の他の実施例を図８
に示す。このビーム位置モニタ３０は真空チェンバー２
２とモニタベース９０とをフランジ１５２，１５４で接
合したものである。前記図１の実施例と共通する部分に
は同一の符号を用いる。これによれば、モニタベース９
０自体をフランジ１５２，１５４で着脱することができ
る。
に示す。このビーム位置モニタ３０は真空チェンバー２
２とモニタベース９０とをフランジ１５２，１５４で接
合したものである。前記図１の実施例と共通する部分に
は同一の符号を用いる。これによれば、モニタベース９
０自体をフランジ１５２，１５４で着脱することができ
る。
【００２４】
【変更例】この発明は、電子シンクロトロンに限らず、
線型、リング型等の各種粒子加速器のビーム位置モニタ
に適用することができる。
線型、リング型等の各種粒子加速器のビーム位置モニタ
に適用することができる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、各モニタ端子がモニタベースに対して個々
に着脱可能に装着されているので、各モニタ端子ごとに
交換することができ、交換作業が容易になる。
明によれば、各モニタ端子がモニタベースに対して個々
に着脱可能に装着されているので、各モニタ端子ごとに
交換することができ、交換作業が容易になる。
【００２６】また、請求項２記載の発明によれば、モニ
タベースを直接位置基準に連結するので、位置基準に対
してビーム位置モニタを高精度に位置決めすることがで
きる。また、モニタ端子を交換してもベースプレートは
位置基準に対して動かないので、再度位置合せする必要
はない。
タベースを直接位置基準に連結するので、位置基準に対
してビーム位置モニタを高精度に位置決めすることがで
きる。また、モニタ端子を交換してもベースプレートは
位置基準に対して動かないので、再度位置合せする必要
はない。
【００２７】また、請求項３記載の発明によれば、モニ
タ端子を交換した時等に、較正用穴からアンテナを差し
込むことにより、モニタ感度を検出して較正を行なうこ
とができる。
タ端子を交換した時等に、較正用穴からアンテナを差し
込むことにより、モニタ感度を検出して較正を行なうこ
とができる。
【図１】この発明の一実施例を示す斜視図である。
【図２】ＳＯＲ装置の概要を示す平面図である。
【図３】電極式ビーム位置モニタの原理図である。
【図４】従来のビーム位置モニタを示す斜視図である。
【図５】図４のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図６】図１のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図７】図６のモニタ端子９６〜９９の詳細構成を示す
断面図である。
断面図である。
【図８】この発明の他の実施例を示す斜視図である。
２０ シンクロトロン（粒子加速器）
２２ 真空チェンバー
２３ 収束電磁石（位置基準）
３０ ビーム位置モニタ
９０ モニタベース
９６，９７，９８，９９ モニタ端子
１００ 較正用穴
１０４，１０５，１０６，１０７ アーム（基準連結
部） １２２ 電極 １２４ モニタ端子挿入用穴
部） １２２ 電極 １２４ モニタ端子挿入用穴
Claims (3)
- 【請求項１】粒子加速器を構成する真空チェンバーの一
区間を形成するようにこの真空チェンバーに挿入された
モニタベースと、 このモニタベースに真空チェンバーの内外間に貫通して
形成された複数のモニタ端子挿入用穴と、 これらモニタ端子押入用穴に端子端部の電極を挿入した
状態で前記モニタベースに個々に着脱可能に装着された
モニタ端子とを具備してなる粒子加速器のビーム位置モ
ニタ。 - 【請求項２】前記モニタベースが当該モニタベースを粒
子加速器の位置基準に連結するための基準連結部を具備
してなる請求項１記載の粒子加速器のビーム位置モニ
タ。 - 【請求項３】前記モニタベースの一部にモニタ感度較正
用のアンテナを挿入する較正用穴が形成されてなる請求
項１または２記載の粒子加速器のビーム位置モニタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20397491A JPH0529100A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | 粒子加速器のビーム位置モニタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20397491A JPH0529100A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | 粒子加速器のビーム位置モニタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0529100A true JPH0529100A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16482711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20397491A Pending JPH0529100A (ja) | 1991-07-18 | 1991-07-18 | 粒子加速器のビーム位置モニタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0529100A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102170744A (zh) * | 2010-11-24 | 2011-08-31 | 无锡爱邦辐射技术有限公司 | 电子加速器电子束流监测装置 |
-
1991
- 1991-07-18 JP JP20397491A patent/JPH0529100A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102170744A (zh) * | 2010-11-24 | 2011-08-31 | 无锡爱邦辐射技术有限公司 | 电子加速器电子束流监测装置 |
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